DE102016118247A1 - Printed circuit board and method for producing the printed circuit board - Google Patents
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Abstract
Leiterplatte (1) mit auf zumindest einer Oberfläche (11) der Leiterplatte (1) angeordneten Leiterbahnen (2), wobei die Oberfläche (11) zwischen den Leiterbahnen (2) angeordnete Lötstopplack (3) aufweisende Bereiche (4) umfasst, wobei die Bereiche (4) einen die Leiterbahnen (2) gegeneinander isolierenden Isolationswiderstand (RISO) aufweisen, und wobei die Oberfläche der Leiterplatte (1) im Wesentlichen frei, insbesondere befreit, von Polyethylenglykolen (PEG) und/oder anderen in dem Lötstopplack (3) angereicherten und/oder anreicherbaren hygroskopischen Polymeren ist.Printed circuit board (1) with conductor tracks (2) arranged on at least one surface (11) of the printed circuit board (1), wherein the surface (11) comprises areas (4) arranged between the conductor tracks (2), comprising solder resist (3) (4) have an insulation resistance (RISO) insulating the interconnects (2) against each other, and wherein the surface of the circuit board (1) substantially free, in particular freed, of polyethylene glycols (PEG) and / or other enriched in the solder resist (3) / or enrichable hygroscopic polymers.
Description
Die Erfindung betrifft eine Leiterplatte sowie ein Verfahren zur Herstellung der Leiterplatte, wobei die Leiterplatte Lötstopplack auf zu isolierenden Bereichen der Oberfläche der Leiterplatte zwischen den Leiterbahnen aufweist.The invention relates to a printed circuit board and a method for producing the printed circuit board, wherein the printed circuit board has solder mask on areas of the surface of the printed circuit board to be insulated between the printed conductors.
Im Stand der Technik wird bei der Herstellung von Leiterplatten Lötstopplack (auch als Lötstoppmaske bezeichnet) eingesetzt. Der Lötstopplack dient dabei zunächst dem Schutz der Leiterbahnen vor dem flüssigen Lot während der späteren Verarbeitung der Leiterplatte (d. h. dem Löten von Bauelementen auf die Oberfläche der Leiterplatte). Der Lötstopplack verhindert das Benetzen der mit ihm überzogenen Bereiche auf der Oberfläche der Leiterplatte und bewirkt dadurch, dass das flüssige Lot keine Brücken zwischen voneinander zu isolierenden Leiterbahnen ausbilden kann. Der Lötstopplack ist nur in den der elektrischen Isolation dienenden Bereichen der Oberfläche der Leiterplatte (kurz: isolierende Bereiche) vorhanden, und muss daher selektiv aufgebracht werden. Der Lötstopplack wird hierzu zunächst vollflächig auf die gesamte Oberfläche der Leiterplatte aufgebracht und anschließend in den isolierenden Bereichen selektiv ausgehärtet, beispielsweise mittels phototechnischer Methoden. Anschließend wird der nicht-ausgehärtete Lötstopplack von der Oberfläche der Leiterplatte entfernt.In the prior art solder resist (also referred to as solder mask) is used in the manufacture of printed circuit boards. The solder resist initially serves to protect the tracks from the liquid solder during later processing of the board (i.e., soldering devices to the surface of the board). The solder mask prevents the wetting of the areas coated with it on the surface of the circuit board, thereby causing the liquid solder to form bridges between interconnects to be insulated from one another. The solder resist is only present in the areas of the surface of the printed circuit board serving as electrical insulation (in short: insulating areas), and therefore has to be applied selectively. For this purpose, the solder resist is first applied over the entire surface of the entire surface of the circuit board and then selectively cured in the insulating regions, for example by means of phototechnical methods. Subsequently, the uncured solder resist is removed from the surface of the circuit board.
Die isolierenden Bereiche weisen einen die Leiterbahnen gegeneinander elektrisch isolierenden Widerstand auf, welcher als Isolationswiderstand bezeichnet wird. Der Isolationswiderstand wird dabei prinzipiell durch die Geometrie der Leiterbahnen bzw. des isolierenden Bereichs bestimmt; bei zwei parallel verlaufenden Leiterbahnen beispielsweise durch die Länge der parallel verlaufenden Leiterbahnen und den Abstand der Leiterbahnen zueinander. Der Isolationswiderstand wird jedoch auch durch das Material zwischen den Leiterbahnen bestimmt. Bei vorgegebener Geometrie der Leiterbahnen wird der Isolationswiderstand daher im Wesentlichen durch die Materialeigenschaften des Lötstopplacks bestimmt.The insulating regions have a conductor against each other electrically insulating resistor, which is referred to as insulation resistance. The insulation resistance is determined in principle by the geometry of the conductor tracks or of the insulating region; in the case of two parallel conductor tracks, for example, by the length of the parallel conductor tracks and the spacing of the conductor tracks from one another. However, the insulation resistance is also determined by the material between the tracks. For a given geometry of the interconnects, the insulation resistance is therefore essentially determined by the material properties of the solder resist.
Besonders hohe Anforderungen an die isolierenden Eigenschaften des Lötstopplacks liegen dann vor, wenn die Leiterplatte Teil eines Feldgeräts der Prozess- und Automatisierungstechnik ist, welches für den Einsatz in explosionsgefährdeten Bereichen vorgesehen ist. Der Zünd- bzw. Explosionsschutz wird hier dadurch erzielt, dass der Isolationswiderstand oberhalb eines in entsprechenden Normen geforderten Mindestwiderstands liegt. Dadurch ist ein Kurzschluss auch im Fehlerfall ausgeschlossen.Particularly high demands are placed on the insulating properties of the solder resist when the printed circuit board is part of a field instrument of process and automation technology intended for use in potentially explosive atmospheres. The ignition or explosion protection is achieved here by the fact that the insulation resistance is above a minimum resistance required in corresponding standards. As a result, a short circuit is excluded even in the event of a fault.
Hierbei ist ferner sicherzustellen ist, dass der Isolationswiderstand auch im Falle von schwankenden Umgebungsbedingungen wie beispielsweise Temperatur- und/oder Feuchtigkeitsschwankungen oberhalb des Mindestwiderstands liegt. Um dies zu erreichen, sollte der Isolationswiderstand daher deutlich, beispielsweise um eine Größenordnung, oberhalb des Mindestwiderstands liegen.It should also be ensured that the insulation resistance is above the minimum resistance even in the case of fluctuating environmental conditions such as temperature and / or humidity fluctuations. In order to achieve this, the insulation resistance should therefore be significantly higher, for example by an order of magnitude, above the minimum resistance.
Es zeigt sich die folgende Problematik: Bei der Herstellung der Leiterplatte und/oder bei der Verarbeitung der Leiterplatte bzw. dem Löten von Bauelementen auf die Leiterplatte kommen oftmals Chemikalien zum Einsatz, welche mit dem Lötstopplack in unvorhergesehener Art und Weise wechselwirken. Dadurch können die Materialeigenschaften des Lötstopplacks, insbesondere die isolierenden Eigenschaften, ungünstig beeinflusst werden. Hierbei ist eine Reduktion des Isolationswiderstands prinzipiell unerwünscht.The following problem arises: In the production of the printed circuit board and / or in the processing of the printed circuit board or the soldering of components to the printed circuit board chemicals are often used, which interact with the solder mask in an unforeseen way. As a result, the material properties of the solder resist, in particular the insulating properties, can be unfavorably influenced. In this case, a reduction of the insulation resistance is in principle undesirable.
Es ist daher die Aufgabe der Erfindung, eine Leiterplatte anzugeben, welche Lötstopplack auf isolierenden Bereichen der Oberfläche zwischen den Leiterbahnen aufweist, wobei der Isolationswiderstand möglichst hoch ist. Ferner ist die Aufgabe, ein Verfahren zur Herstellung einer derartigen Leiterplatte anzugeben.It is therefore an object of the invention to provide a printed circuit board, which has solder resist on insulating areas of the surface between the conductor tracks, wherein the insulation resistance is as high as possible. Furthermore, the object is to provide a method for producing such a printed circuit board.
Die Aufgabe wird durch den Gegenstand der Erfindung gelöst. Gegenstand der Erfindung ist eine Leiterplatte mit auf zumindest einer Oberfläche der Leiterplatte angeordneten Leiterbahnen, wobei die Oberfläche zwischen den Leiterbahnen angeordnete, Lötstopplack aufweisende Bereiche umfasst, wobei die Bereiche einen die Leiterbahnen gegeneinander isolierenden Isolationswiderstand aufweisen, und wobei die Oberfläche der Leiterplatte im Wesentlichen frei, insbesondere befreit, von Polyethylenglykolen und/oder anderen in dem Lötstopplack angereicherten und/oder anreicherbaren hygroskopischen Polymeren ist.The object is achieved by the subject matter of the invention. The invention relates to a printed circuit board with interconnects arranged on at least one surface of the printed circuit board, wherein the surface comprises solder resist areas between the interconnects, the regions having an insulation resistance insulating the interconnects, and the surface of the printed circuit board being substantially free, especially freed, of polyethylene glycols and / or other in the solder mask enriched and / or enrichable hygroscopic polymers.
Hygroskopische Polymere werden bei der Herstellung und/oder der Verarbeitung von Leiterplatten eingesetzt, insbesondere in Flussmitteln. Die hygroskopischen Polymere weisen resorptive Eigenschaften und können sich im Lötstopplack anreichern. Dies gilt insbesondere für Polyethylenglykole (PEG), welche eine spezielle Klasse von hygroskopischen Polymeren bezeichnen.Hygroscopic polymers are used in the manufacture and / or processing of printed circuit boards, especially in fluxes. The hygroscopic polymers have resorptive properties and can accumulate in the solder resist. This is especially true for polyethylene glycols (PEG), which are a special class of hygroscopic polymers.
Die Vorteile der Erfindung sind die folgenden:
- – Es wird erreicht, dass sich das PEG und/oder die anderen hygroskopischen Polymere nicht im Lötstopplack anreichen können. Dadurch wird auch die Einlagerung von Wasser im Lötstopplack verhindert. Darüber hinaus wird so verhindert, dass gegebenenfalls anderen Chemikalien im Lötstopplack eingelagert werden.
- – Damit ist der Isolationswiderstand auch bei wird bei hoher Umgebungsfeuchtigkeit und/oder -temperatur, bei welcher die Wahrscheinlichkeit für das Auftreten von Wassereinlagerungen im Lötstopplack deutlich erhöht ist, stabil. Dies wurde in Untersuchungen der Anmelderin gezeigt.
- – Aufgrund des höheren und stabileren Isolationswiderstands können gegebenenfalls auch Lackschichten geringerer Dicke eine ausreichende Isolation bewirken. Dies bedeutet, dass die Lackschichtstärke des Lötstopplacks geringer ausgelegt werden kann; was eine oftmals technisch bedingte Forderung darstellt.
- - It is achieved that the PEG and / or the other hygroscopic polymers can not be present in the solder resist. This also prevents the storage of water in the solder resist. In addition, this prevents any other chemicals from being stored in the solder mask.
- - Thus, the insulation resistance is also at high ambient humidity and / or temperature at which the probability of the occurrence of water retention in the solder resist is significantly increased, stable. This was shown in investigations of the applicant.
- - Due to the higher and more stable insulation resistance, lacquer layers of lesser thickness can, if appropriate, also provide sufficient insulation. This means that the paint layer thickness of the solder resist can be made smaller; which is often a technical requirement.
Bezüglich der Aufgabe der Herstellung der Leiterplatte wird die Aufgabe durch das in Anspruch 2 angegebene Verfahren gelöst. Gemäß dem Verfahren nach Anspruch 2 wird Lötstopplack auf die isolierenden Bereiche aufgebracht, und die Oberfläche der Leiterplatte zumindest einem Reinigungsvorgang unterzogen. In dem Reinigungsvorgang werden Polyethylenglykole (PEG) und/oder andere in dem Lötstopplack angereicherte und/oder anreicherbare hygroskopische Polymere von der Oberfläche der Leiterplatte entfernt.With regard to the task of producing the printed circuit board, the object is achieved by the method specified in
Durch den zumindest einen Reinigungsvorgang wird die Leiterplatte erhalten, welche frei, insbesondere befreit, von Polyethylenglykolen und/oder von anderen in dem Lötstopplack angereicherten und/oder anreicherbaren hygroskopischen Polymeren ist.By the at least one cleaning process, the circuit board is obtained, which is free, in particular freed from polyethylene glycols and / or other enriched in the Lötstopplack and / or enrichable hygroscopic polymers.
Bei dem Reinigungsvorgang werden zum einen die auf der Oberfläche der Leiterplatte vorhandenen, in dem Lötstopplack anreicherbaren PEG und/oder anderen hygroskopischen Polymere entfernt. Zum anderen werden auch die bereits in dem Lötstopplack angereicherten PEG und/oder anderen hygroskopischen Polymere entfernt. Im Rahmen dieser Entfernung wird/werden auch Wasser und ggf. auch andere Chemikalien, welche/s etwa mittels der im Lötstopplack angereicherten PEG und/oder anderen hygroskopischen Polymere bereits im Lötstopplack vorhanden ist/sind, entfernt. Dabei wird ausgenutzt, dass es sich bei der Einlagerung der im Lötstopplack angereicherten PEG und/oder anderen hygroskopischen Polymere um einen reversiblen Vorgang handelt, welcher durch den erfindungsgemäßen Reinigungsvorgang im Wesentlichen rückgängig gemacht wird.During the cleaning process, on the one hand, the PEG and / or other hygroscopic polymers present on the surface of the printed circuit board which can be enriched in the solder resist are removed. On the other hand, the already enriched in the solder mask PEG and / or other hygroscopic polymers are removed. Within the scope of this removal, water and optionally also other chemicals which are already present in the solder mask, for example by means of the PEG enriched in the solder mask and / or other hygroscopic polymers, are / is removed. It is exploited that the incorporation of the PEG enriched in the solder resist and / or other hygroscopic polymers is a reversible process which is essentially reversed by the cleaning process according to the invention.
In einer Ausgestaltung ist die Leiterplatte bei deren Herstellung und/oder bei dem Auflöten von Bauelementen auf die Oberfläche der Leiterplatte einem Verfahrensschritt ausgesetzt, bei dem die Oberfläche mit einer Substanz in Kontakt kommt, welche Substanz Polyethylenglykole und/oder andere in dem Lötstopplack anreicherbare hygroskopische Polymere enthält. Nach der Ausführung des Verfahrensschritts werden auf der Oberfläche der Leiterplatte verbleibende und/oder im Lötstopplack angereicherte Polyethylenglykole (PEG) und/oder andere hygroskopische Polymere durch den Reinigungsvorgang entfernt.In one embodiment, the printed circuit board during its manufacture and / or during the soldering of components to the surface of the printed circuit board is subjected to a process step in which the surface comes into contact with a substance, which substance is polyethylene glycols and / or other hygroscopic polymers which can be accumulated in the solder mask contains. After carrying out the method step, polyethylene glycols (PEG) remaining on the surface of the printed circuit board and / or enriched in the solder mask and / or other hygroscopic polymers are removed by the cleaning process.
Insbesondere handelt es sich bei der Substanz um ein Flussmittel. Flussmittel werden in der Regel bei der Herstellung der Leiterplatte und/oder dem Auflöten von Bauelementen auf die Oberfläche der Leiterplatte eingesetzt. Durch die Flussmittel werden die Oberflächenoxide reduziert, und auch die Fließ- und Benetzungseigenschaften des flüssigen Lotes verbessert. Durch den nachfolgenden Reinigungsvorgang werden die aufgrund dieses Kontakts gegebenenfalls auf der Oberfläche verbliebenen Rückstände, welche PEG und/oder anderen hygroskopischen Polymere enthalten entfernt und/oder die im Lötstopplack angereicherten Polyethylenglykole (PEG) und/oder anderen hygroskopischen Polymere entfernt.In particular, the substance is a flux. Fluxes are typically used in the manufacture of the circuit board and / or the soldering of components on the surface of the circuit board. The fluxes reduce the surface oxides and also improve the flow and wetting properties of the liquid solder. As a result of the subsequent cleaning process, the residues possibly remaining on the surface due to this contact, which contain PEG and / or other hygroscopic polymers, are removed and / or the polyethylene glycols (PEG) and / or other hygroscopic polymers enriched in the solder resist are removed.
In einer Ausgestaltung des Verfahrens wird die Substanz bei einer Heißluftverzinnung eingesetzt. Insbesondere handelt es sich bei der Substanz um ein Flussmittel, welches bei der Heißluftverzinnung eingesetzt wird. Die Heißluftverzinnung erfolgt dabei im Rahmen der Endbeschichtung der vorgefertigten und unbestückten Leiterplatte. Der Reinigungsvorgang schließt sich in dieser Ausgestaltung an den Verfahrensschritt der Endbeschichtung der vorgefertigten Leiterplatte an d. h. er erfolgt nach der Endbeschichtung der vorgefertigten und unbestückten Leiterplatte.In one embodiment of the method, the substance is used in a Heißluftverzinnung. In particular, the substance is a flux, which is used in the hot-air tinning. The hot-air tinning takes place in the context of the final coating of the prefabricated and unpopulated printed circuit board. The cleaning process closes in this embodiment of the process step of the final coating of the prefabricated circuit board to d. H. It takes place after the final coating of the prefabricated and unpopulated printed circuit board.
In einer Ausgestaltung des Verfahrens wird die Substanz, insbesondere ein Flussmittel, bei dem Löten von Bauelementen auf zumindest eine der Oberflächen der Leiterplatte eingesetzt. Der Reinigungsvorgang schließt sich an das Löten der Bauelementen auf die Oberfläche/n der Leiterplatte an d. h. er erfolgt also nach dem Löten der Bauelemente auf die Oberfläche/n.In one embodiment of the method, the substance, in particular a flux, is used in the soldering of components on at least one of the surfaces of the printed circuit board. The cleaning process follows the soldering of the components on the surface / s of the circuit board to d. H. it thus takes place after the components have been soldered onto the surface (s).
In einer Ausgestaltung wird der Reinigungsvorgang wiederholt durchgeführt.In one embodiment, the cleaning process is performed repeatedly.
In einer Ausgestaltung wird die Leiterplatte nach dem Reinigungsvorgang einem oder mehreren weiteren Verfahrensschritten unterzogen, bei denen die Leiterplatte ausschließlich mit solchen Substanzen in Kontakt kommt, welche Polyethylenglykol(PEG)-frei und/oder frei von anderen in dem Lötstopplack anreicherbaren hygroskopischen Polymeren sind.In one embodiment, after the cleaning process, the printed circuit board is subjected to one or more further process steps in which the printed circuit board comes into contact exclusively with substances which are polyethylene glycol (PEG) -free and / or free of other hygroscopic polymers which can be accumulated in the solder mask.
Selbstverständlich ist es Rahmen der Erfindung auch möglich, nach dem Reinigungsvorgang eine erneute Beschichtung aufzubringen.Of course, it is within the scope of the invention also possible to apply a new coating after the cleaning process.
In einer Ausgestaltung umfasst der Reinigungsvorgang zumindest einen Spül- und/oder Wischvorgang. Selbstverständlich kann der Reinigungsvorgang auch mehrere Spül- und/oder Wischvorgänge umfassen.In one embodiment, the cleaning process comprises at least one rinsing and / or wiping process. Of course, the Cleaning process also include several rinsing and / or wiping operations.
In einer weiteren Ausgestaltung umfasst der Reinigungsvorgang einen Stripping-Prozess. In dem Stripping-Prozess werden die Polyethylenglykole (PEG) und/oder die anderen in dem Lötstopplack angereicherten und/oder anreicherbaren hygroskopischen Polymere mittels mindestens eines organischen Lösungsmittels abgezogen. Hierzu eignen sich insb. organische Lösungsmittel, die Diethylenglykol enthalten. Dieses unterscheidet sich von den PEG in der Kettenlänge, wodurch unterschiedliche physikalische Eigenschaften hervorgerufen werden. Dadurch ist es möglich, das PEG und/oder die anderen in dem Lötstopplack angereicherten und/oder anreicherbaren hygroskopischen Polymere mittels eines Diethylenglykols zu entfernen. Des Weiteren eignen sich Lösungsmittel, welche einen modifizierten Alkohol enthalten. Letztere sind häufig stark polar und damit in der Lage, die PEG und/oder die anderen hygroskopische Polymere zu entfernen.In a further embodiment, the cleaning process comprises a stripping process. In the stripping process, the polyethylene glycols (PEG) and / or the other hygroscopic polymers enriched and / or enriched in the solder mask are stripped off by means of at least one organic solvent. Particularly suitable for this purpose are organic solvents which contain diethylene glycol. This differs from the PEG in chain length, which causes different physical properties. As a result, it is possible to remove the PEG and / or the other hygroscopic polymers enriched and / or enriched in the solder mask by means of a diethylene glycol. Furthermore, solvents which contain a modified alcohol are suitable. The latter are often highly polar and thus able to remove the PEG and / or the other hygroscopic polymers.
In einer weiteren Ausgestaltung umfasst der Reinigungsvorgang ein thermisches Verfahren. Mittels des thermischen Verfahrens werden die Polyethylenglykole (PEG) und/oder die anderen in dem Lötstopplack angereicherten und/oder anreicherbaren hygroskopischen Polymere entfernt.In a further embodiment, the cleaning process comprises a thermal process. By means of the thermal process, the polyethylene glycols (PEG) and / or the other hygroscopic polymers enriched and / or enriched in the solder resist are removed.
In einer Ausgestaltung des Verfahrens werden Substanzen verwendet, welche Polyethylenglykole (PEG) mit einer molekularen Masse von unter 1000 g/mol enthalten. Ab einer Molekülmasse von größer gleich etwa 1000 g/mol handelt es sich im Wesentlichen um feste PEG. Als Flussmittel eigenen sich dabei vor allem die flüssigen PEG. Die PEG sind jedoch in Abhängigkeit von der Molekülmasse bzw. Kettenlänge des Polymers hygroskopisch, wobei die Fähigkeit, Wasser aufzunehmen, mit steigender Molekülmasse abnimmt.In one embodiment of the method, substances are used which contain polyethylene glycols (PEG) having a molecular mass of less than 1000 g / mol. From a molecular weight of greater than or equal to about 1000 g / mol, these are essentially solid PEGs. In particular, the liquid PEG are suitable as flux. However, the PEGs are hygroscopic, depending on the molecular weight or chain length of the polymer, and the ability to absorb water decreases with increasing molecular weight.
In einer weiteren Ausgestaltung werden Substanzen verwendet, welche Polyethylenglykole (PEG) mit einer molekularen Masse von unter 500 g/mol enthalten.In a further embodiment, substances are used which contain polyethylene glycols (PEG) with a molecular mass of less than 500 g / mol.
In einer weiteren Ausgestaltung werden Substanzen verwendet, welche Polyethylenglykole (PEG) mit einer molekularen Masse zwischen 300–500 g/mol enthalten.In a further embodiment, substances are used which contain polyethylene glycols (PEG) with a molecular mass of between 300-500 g / mol.
Die Erfindung wird anhand der nachfolgenden Figuren näher erläutert. Es zeigt:The invention will be explained in more detail with reference to the following figures. It shows:
Der Isolationswiderstand RISO sollte dabei möglichst groß, insbesondere größer als ein gegebenenfalls geforderter Mindestwiderstands RG sein. Der Mindestwiderstand RG zwischen den beiden parallelen Leiterbahnen
Die Oberfläche
Hierbei wurde eine Leiterplatte nach dem Stand der Technik A mit zwei erfindungsgemäßen Leiterplatten B und C verglichen. Die Leiterplatte A nach dem Stand der Technik und die erfindungsgemäßen Leiterplatten B, C wurden, abgesehen von dem erfindungsgemäßen Reinigungsvorgang, im Wesentlichen identisch hergestellt bzw. sie sind in einem im Wesentlichen identischen Verfahren erhalten. Bei der Herstellung der Leiterplatten A, B, C wurde im Rahmen der Heißluftverzinnung ein Flussmittel eingesetzt, welches als Trägersubstanz PEG mit einer eine molekulare Masse von etwa 400 g/mol aufweist. Bei den Leiterplatten B und C wurde zusätzlich, anschließend zu der Heißluftverzinnung, das PEG von der Oberfläche
Anschließend wurden alle Leiterplatten, d. h. die Leiterplatte nach dem Stand der Technik A sowie die erfindungsgemäßen Leiterplatten B, C Temperatur- und Feuchtigkeitsschwankungen ausgesetzt. Der Isolationswiderstand RISO wurde dabei jeweils in regelmäßigen Abständen, d. h. bei verschiedenen Temperaturen und unterschiedlicher Feuchtigkeit gemessen.Subsequently, all printed circuit boards, i. H. the printed circuit board according to the prior art A and the circuit boards B, C according to the invention exposed to temperature and humidity fluctuations. The insulation resistance RISO was in each case at regular intervals, d. H. measured at different temperatures and different humidity.
Der zeitliche Verlauf des gemessenen Isolationswiderstands RSIO ist in
Der Isolationswiderstand RISO der Leiterplatte nach dem Stand der Technik A und die Isolationswiderstände RISO der erfindungsgemäßen Leiterplatten B und C liegen anfänglich alle deutlich einige Größenordnungen oberhalb des hier geforderten Mindestwiderstands RG, wobei der Isolationswiderstand RISO der erfindungsgemäßen Leiterplatten B und C bereits zu Beginn leicht höher ist.The insulation resistance RISO of the printed circuit board according to the prior art A and the insulation resistors RISO of printed circuit boards B and C according to the invention are initially all a few orders of magnitude above the minimum resistance RG required here, the insulation resistance RISO of the circuit boards B and C according to the invention is already slightly higher at the beginning ,
Allerdings zeigt sich ein deutlich verschiedenes zeitliches Verhalten d. h. unter verschiedenen Temperaturen und unterschiedlicher Feuchtigkeit. Während der Isolationswiderstand RISO der Leiterplatte nach dem Stand der Technik A mit der Zeit drastisch abnimmt, und dadurch in die Nähe des Mindestwiderstands RG rückt, führen die Temperatur- und Feuchtigkeitsschwankungen der erfindungsgemäßen Leiterplatten B, C zu einer verhältnismäßig deutlich geringen Reduktion des Isolationswiderstands RISO. Dadurch ist der Isolationswiderstand RISO der erfindungsgemäßen Leiterplatten B, C wesentlich höher. Er liegt dabei immer zumindest eine Größenordnung oberhalb des Isolationswiderstand RISO der Leiterplatte nach dem Stand der Technik A, und insbesondere auch immer zumindest eine Größenordnung oberhalb des geforderten Mindestwiderstands RG.However, a distinctly different temporal behavior d. H. under different temperatures and different humidity. While the insulation resistance RISO of the printed circuit board according to the prior art A drastically decreases over time, and thus comes close to the minimum resistance RG, the temperature and humidity fluctuations of the printed circuit boards B, C according to the invention lead to a relatively markedly small reduction of the insulation resistance RISO. As a result, the insulation resistance RISO of the circuit boards B, C according to the invention is substantially higher. It is always at least an order of magnitude above the insulation resistance RISO of the printed circuit board according to the prior art A, and in particular also always at least one order of magnitude above the required minimum resistance RG.
BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS
- 11
- Leiterplattecircuit board
- 1111
- Oberfläche der LeiterplatteSurface of the circuit board
- 22
- Leiterbahnenconductor tracks
- 33
- Lötstopplacksolder resist
- 44
-
zu isolierende Bereiche von
11 to be isolated areas of11 - PEGPEG
- Polyethylenglykolepolyethylene glycols
- BEBE
- Bauelementmodule
- AA
- Abstand der LeiterDistance of the ladder
- ll
- Länge der parallelen LeiterLength of parallel conductors
- RGRG
- Mindestwiderstandminimum resistance
- RISORISO
- Isolationswiderstandinsulation resistance
- AA
- Leiterplatten nach dem Stand der TechnikPrinted circuit boards according to the prior art
- B, CB, C
- erfindungsgemäße Leiterplatteninventive printed circuit boards
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