HINTERGRUNDBACKGROUND
Bei organischen, lichtemittierenden (OLED-)Anzeigevorrichtungen handelt es sich um eine selbstleuchtende Bauart von Anzeigevorrichtungen. Weil eine OLED-Anzeigevorrichtung keine externe Lichtquelle benötigt, können die OLED-Anzeigevorrichtungen von geringem Gewicht und ultradünn sein. Darüber hinaus hat die OLED-Anzeigevorrichtung im Vergleich zu einer LCD-Anzeigevorrichtung einen weiten Betrachtungswinkel, einen hohen Kontrast und ein schnelles Ansprechverhalten. Im Zuge der Entwicklung der Anzeigetechnologie sind OLED-Anzeigevorrichtungen mehr und mehr auf breiter Basis eingesetzt worden.Organic light emitting (OLED) display devices are a self-luminous type of display devices. Because an OLED display device does not require an external light source, the OLED display devices can be lightweight and ultra-thin. Moreover, the OLED display device has a wide viewing angle, a high contrast, and a fast response as compared with an LCD display device. As display technology has evolved, OLED display devices have become more widely used.
Derzeit umfassen OLED-Anzeigevorrichtungen zwei Bauarten. Eine Bauart der OLED-Anzeigevorrichtungen umfasst mehrere Teilpixel; und ein Teilpixel emittiert nur eine aus mehreren Farben. Weil das von einem jeweiligen Teilpixel der OLED-Anzeigevorrichtung emittierte Licht ein monochromatisches Licht ist, benötigt eine OLED-Anzeigevorrichtung keine Farbschicht. Die andere Bauart von OLED-Anzeigevorrichtungen umfasst ferner mehrere Teilpixel, wobei jedes Teilpixel weißes Licht aussendet. Infolgedessen benötigt sie eine Farbschicht, um zum Erhalt von monochromatischem Licht das weiße Licht zu filtern.Currently, OLED display devices include two types. One type of OLED display device includes multiple subpixels; and a subpixel emits only one of several colors. Because the light emitted from a respective subpixel of the OLED display device is a monochromatic light, an OLED display device does not require a color layer. The other type of OLED display device further includes a plurality of sub-pixels, each sub-pixel emitting white light. As a result, it needs a coat of paint to filter the white light to obtain monochromatic light.
1 stellt eine bestehende Anordnung von Foto-Abstandshaltern dar; und 2 stellt eine andere bestehende Anordnung von Foto-Abstandshaltern dar. In 1 sind die Foto-Abstandshalter 115 zwischen Ecken benachbarter Teilpixel angeordnet. Das heißt, dass ein kreisförmiger Foto-Abstandshalter 115 nahe an einer Ecke der Öffnung 117 angeordnet ist. In 2 sind die Foto-Abstandshalter 116 zwischen Seiten von benachbarten Teilpixeln 118 angeordnet. Das heißt, dass ein kreisförmiger Foto-Abstandshalter 116 nahe der Mitte einer Seite des Teilpixels 118 angeordnet ist. Die Foto-Abstandshalter (115 oder 116) sind während eines Verdampfungsprozesses mit einer Maske in Kontakt; und tragen die Maske. 1 Fig. 12 illustrates an existing arrangement of photo spacers; and 2 represents another existing arrangement of photo spacers. In 1 are the photo spacers 115 arranged between corners of adjacent subpixels. That is, a circular photo spacer 115 near a corner of the opening 117 is arranged. In 2 are the photo spacers 116 between pages of neighboring subpixels 118 arranged. That is, a circular photo spacer 116 near the middle of a side of the subpixel 118 is arranged. The photo spacers ( 115 or 116 ) are in contact with a mask during an evaporation process; and wear the mask.
Die lichtemittierende Schicht in einer OLED-Anzeigevorrichtung wird üblicherweise mittels eines Verdampfungsprozesses gebildet. Während des Verdampfungsprozesses können Überlappungsbereiche von lichtemittierenden Materialien entstehen. Wenn jedes Teilpixel eine andere Farbe in der OLED-Anzeigevorrichtung aussendet, würden die sich überlappenden, lichtemittierenden Materialien Farbmischprobleme hervorrufen. Infolgedessen ist die Anzeigequalität der OLED-Anzeigevorrichtung beeinträchtigt.The light-emitting layer in an OLED display device is usually formed by means of an evaporation process. During the evaporation process, overlapping areas of light emitting materials may arise. If each subpixel emits a different color in the OLED display device, the overlapping light emitting materials would cause color mixing problems. As a result, the display quality of the OLED display device is impaired.
Aus der US 2008/0164810 A1 ist ein organischer Bildschirm bekannt, der eine Isolationsschicht aufweist, die Unregelmäßigen umfasst, um eine bei der Herstellung auftretende Feuchte zu unterdrücken.From the US 2008/0164810 A1 For example, an organic screen is known that has an insulating layer that includes irregularities to suppress moisture that occurs during manufacture.
Die WO 2015/131515 A1 und die US 2003/0123018 A1 zeigen jeweils Herstellungsverfahren zur Herstellung von Bildschirmen.The WO 2015/131515 A1 and the US 2003/0123018 A1 each show production processes for the production of screens.
Die offenbarten Vorrichtungen und Verfahren zielen darauf ab, eines oder mehrere der vorstehend angeführten Probleme sowie weitere Probleme zu lösen.The disclosed apparatus and methods are directed to solving one or more of the above problems as well as other problems.
KURZE ZUSAMMENFASSUNG DER OFFENBARUNGBRIEF SUMMARY OF THE DISCLOSURE
Ein Aspekt der vorliegenden Offenbarung umfasst eine organische, lichtemittierende Anzeigevorrichtung. Die organische, lichtemittierende Anzeigevorrichtung umfasst ein Substrat; eine Vorrichtungskomponentenschicht, die über dem Substrat angeordnet ist; mehrere erste Elektroden, die über der Vorrichtungskomponentenschicht angeordnet sind; eine Pixelbildungsschicht mit mehreren Öffnungsbereichen, um die über der Vorrichtungskomponentenschicht gebildeten ersten Elektroden freizulegen; mehrere Foto-Abstandshalter, die nicht miteinander verbunden und auf der Pixelbildungsschicht angeordnet sind und zumindest einen Öffnungsbereich umgeben, um eine erste Foto-Abstandshaltergruppe entlang des mindestens einen Öffnungsbereichs in einer ersten Richtung bereitzustellen und eine zweite Foto-Abstandshaltergruppe entlang des mindestens einen Öffnungsbereichs in einer zweiten Richtung bereitzustellen; eine organische, lichtemittierende Schicht, die in dem mindestens einen Öffnungsbereich der Pixelbildungsschicht angeordnet ist und in Kontakt mit den ersten Elektroden steht; und eine zweite Elektrode, die auf der lichtemittierenden Schicht angeordnet ist. Die erste Foto-Abstandshaltergruppe hat eine durchgehende Projektion auf die erste Richtung, und die zweite Foto-Abstandshaltergruppe hat eine durchgehende Projektion auf die zweite Richtung.One aspect of the present disclosure includes an organic light emitting display device. The organic light emitting display device comprises a substrate; a device component layer disposed over the substrate; a plurality of first electrodes disposed over the device component layer; a pixel forming layer having a plurality of opening portions to expose the first electrodes formed over the device component layer; a plurality of photo-spacers that are unconnected and disposed on the pixel-forming layer and surround at least one opening portion to provide a first photo-spacer group along the at least one opening portion in a first direction and a second photo-spacer group along the at least one opening portion in one to provide the second direction; an organic light-emitting layer disposed in the at least one opening portion of the pixel-forming layer and in contact with the first electrodes; and a second electrode disposed on the light-emitting layer. The first photo-spacer group has a continuous projection in the first direction, and the second photo-spacer group has a continuous projection in the second direction.
Ein anderer Aspekt der vorliegenden Offenbarung umfasst ein Verfahren zur Herstellung einer organischen, lichtemittierenden Vorrichtung . Das Verfahren umfasst: Bereitstellen eines Substrats; Bilden einer Vorrichtungskomponentenschicht über dem Substrat; Bilden mehrerer erster Elektroden über der Vorrichtungskomponentenschicht; Bilden einer Pixelbildungsschicht über der Vorrichtungskomponentenschicht in einer ersten organischen Materialschicht auf den ersten Elektroden und Bilden mehrerer Öffnungsbereiche, um die mehreren ersten Elektroden freizulegen; Bilden mehrerer Foto-Abstandshalter, die nicht miteinander verbunden sind, mit vorbestimmten Verteilungsmustern um zumindest einen der mehreren Öffnungsbereiche über der Pixelbildungsschicht in einer zweiten organischen Materialschicht auf der Pixelbildungsschicht, wobei die mehreren Foto-Abstandshalter eine erste Foto-Abstandshaltergruppe entlang der ersten Richtung und eine zweite Foto-Abstandshaltergruppe entlang einer zweiten Richtung bilden, wobei die erste Foto-Abstandshaltergruppe eine durchgehende Projektion auf die erste Richtung und die zweite Foto-Abstandshaltergruppe eine zweite durchgehende Projektion auf die zweite Richtung hat; Bilden einer organischen, lichtemittierenden Schicht auf den ersten Elektroden in den Öffnungsbereichen; und Bilden einer zweiten Elektrode über der organischen, lichtemittierenden Schicht.Another aspect of the present disclosure includes a method of making an organic light emitting device. The method comprises: providing a substrate; Forming a device component layer over the substrate; Forming a plurality of first electrodes over the device component layer; Forming a pixel formation layer over the device component layer in a first organic material layer on the first electrodes and forming a plurality of opening regions to expose the plurality of first electrodes; Forming multiple photo spacers that are not interconnected with predetermined distribution patterns around at least one of the plurality of opening areas above the pixel-forming layer in a second organic material layer on the pixel-forming layer, the plurality of photo-spacers forming a first photo-spacer group along the first direction and a second photo-spacer group along a second direction the first photo-spacer group has a continuous projection in the first direction and the second photo-spacer group has a second continuous projection in the second direction; Forming an organic light-emitting layer on the first electrodes in the opening areas; and forming a second electrode over the organic light-emitting layer.
Ein weiterer Aspekt der vorliegenden Offenbarung umfasst ein anderes Verfahren zur Herstellung einer organischen lichtemittierenden Vorrichtung. Das Verfahren umfasst: Bereitstellen eines Substrats; Bilden einer Vorrichtungskomponentenschicht über dem Substrat; Bilden mehrerer erster Elektroden über der Vorrichtungskomponentenschicht; gleichzeitiges Bilden einer Pixelbildungsschicht und mehrerer Foto-Abstandshalter über der Vorrichtungskomponentenschicht, wobei die Pixelbildungsschicht mehrere Öffnungsbereiche aufweist, wobei die mehreren Foto-Abstandshalter nicht miteinander verbunden sind und zumindest einen Öffnungsbereich umgeben, um eine erste Foto-Abstandshaltergruppe entlang der mindestens einen Öffnung in der ersten Richtung bereitzustellen und eine zweite Foto-Abstandshaltergruppe entlang des mindestens einen Öffnungsbereichs in einer zweiten Richtung bereitzustellen, wobei die erste Foto-Abstandshaltergruppe eine durchgehende Projektion auf die erste Richtung und die zweite Foto-Abstandshaltergruppe eine zweite durchgehende Projektion auf die zweite Richtung hat; Bilden einer organischen, lichtemittierenden Schicht auf den ersten Elektroden in den Öffnungsbereichen; und Bilden einer zweiten Elektrode über der organischen, lichtemittierenden Schicht.Another aspect of the present disclosure includes another method of making an organic light emitting device. The method comprises: providing a substrate; Forming a device component layer over the substrate; Forming a plurality of first electrodes over the device component layer; simultaneously forming a pixel forming layer and a plurality of photo spacers over the device component layer, wherein the pixel forming layer has a plurality of opening areas, wherein the plurality of photo spacers are not connected to each other and surround at least one opening area to a first photo spacer group along the at least one opening in the first Providing direction and providing a second photo spacer group along the at least one opening area in a second direction, the first photo spacer group having a continuous projection in the first direction and the second photo spacer group having a second continuous projection in the second direction; Forming an organic light-emitting layer on the first electrodes in the opening areas; and forming a second electrode over the organic light-emitting layer.
Weitere Aspekte der vorliegenden Offenbarung können von Fachleuten vor dem Hintergrund der Beschreibung, der Ansprüche und der Zeichnungen der vorliegenden Offenbarung nachvollzogen werden.Other aspects of the present disclosure may be understood by those skilled in the art in light of the description, claims, and drawings of the present disclosure.
Figurenlistelist of figures
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- 1 stellt eine Draufsicht einer bestehenden OLED-Anzeigevorrichtung dar;- 1 Fig. 12 is a plan view of an existing OLED display device;
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- 2 stellt eine Draufsicht einer anderen bestehenden OLED-Anzeigevorrichtung dar;- 2 Fig. 12 is a plan view of another existing OLED display device;
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- 3 stellt eine Draufsicht einer beispielhaften OLED-Anzeigevorrichtung dar, die mit den offenbarten Ausführungsformen konsistent ist;- 3 FIG. 12 illustrates a top view of an exemplary OLED display device that is consistent with the disclosed embodiments; FIG.
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- 4 stellt eine Projektion der in 3 dargestellten Foto-Abstandshalter dar;- 4 represents a projection of the in 3 illustrated photo spacer is;
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- 5 stellt eine Querschnittsansicht der in 3 dargestellten Anordnung entlang der Richtung A-A dar;- 5 represents a cross-sectional view of in 3 illustrated arrangement along the direction A - A group;
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- 6 stellt eine Querschnittsansicht der in 3 dargestellten Anordnung entlang der Richtung B-B dar;- 6 represents a cross-sectional view of in 3 illustrated arrangement along the direction B - B group;
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- 7 stellt eine Draufsicht einer weiteren beispielhaften OLED-Anzeigevorrichtung dar, die mit den offenbarten Ausführungsformen konsistent ist;- 7 FIG. 12 illustrates a top view of another exemplary OLED display device consistent with the disclosed embodiments; FIG.
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- 8 stellt eine Draufsicht von Wiederholungseinheiten einer weiteren beispielhaften OLED-Anzeigevorrichtung dar, die mit den offenbarten Ausführungsformen konsistent ist;- 8th FIG. 12 illustrates a plan view of repeat units of another exemplary OLED display device consistent with the disclosed embodiments; FIG.
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- 9 stellt eine Draufsicht von Wiederholungseinheiten einer weiteren beispielhaften OLED-Anzeigevorrichtung dar, die mit den offenbarten Ausführungsformen konsistent ist;- 9 FIG. 12 illustrates a plan view of repeat units of another exemplary OLED display device consistent with the disclosed embodiments; FIG.
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- 10 stellt eine Draufsicht von Wiederholungseinheiten einer weiteren beispielhaften OLED-Anzeigevorrichtung dar, die mit den offenbarten Ausführungsformen konsistent ist;- 10 FIG. 12 illustrates a plan view of repeat units of another exemplary OLED display device consistent with the disclosed embodiments; FIG.
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- 11 stellt eine Draufsicht von Wiederholungseinheiten einer weiteren beispielhaften OLED-Anzeigevorrichtung dar, die mit den offenbarten Ausführungsformen konsistent ist;- 11 FIG. 12 illustrates a plan view of repeat units of another exemplary OLED display device consistent with the disclosed embodiments; FIG.
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- 12 stellt einen beispielhaften Herstellprozess einer OLED-Anzeigevorrichtung dar, die mit den offenbarten Ausführungsformen konsistent ist;- 12 FIG. 10 illustrates an example manufacturing process of an OLED display device that is consistent with the disclosed embodiments; FIG.
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- in den 13a -13f sind Anordnungen dargestellt, die bestimmten Stadien des in 12 dargestellten, beispielhaften Herstellprozesses entsprechen;- in the 13a - 13f Arrangements are shown that represent certain stages of the in 12 correspond to illustrated, exemplary manufacturing process;
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- 14 stellt einen weiteren beispielhaften Herstellprozess einer OLED-Anzeigevorrichtung dar, die mit den offenbarten Ausführungsformen konsistent ist; und- 14 FIG. 12 illustrates another example manufacturing process of an OLED display device that is consistent with the disclosed embodiments; FIG. and
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- in den 15a - 15e sind Anordnungen dargestellt, die bestimmten Stadien des in 14 dargestellten, beispielhaften Herstellprozesses entsprechen.- in the 15a - 15e Arrangements are shown that represent certain stages of the in 14 represented, exemplary manufacturing process correspond.
AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNGDETAILED DESCRIPTION
Es wird nun im Einzelnen Bezug auf beispielhafte Ausführungsformen der Erfindung genommen, die in den begleitenden Zeichnungen dargestellt sind. Soweit möglich, werden in den Zeichnungen durchgängig dieselben Bezugszahlen verwendet, um auf gleiche oder ähnliche Teile zu verweisen.Reference will now be made in detail to exemplary embodiments of the invention, which are illustrated in the accompanying drawings. As far as possible, in the drawings consistently use the same reference numbers to refer to the same or similar parts.
3 stellt eine Draufsicht einer beispielhaften OLED-Anzeigevorrichtung dar, die mit den offenbarten Ausführungsformen konsistent ist. 5 stellt eine Querschnittsansicht der in 3 dargestellten Anordnung entlang der Richtung A-A dar; und 6 stellt eine Querschnittsansicht der in 3 dargestellten Anordnung entlang der Richtung B-B dar. 3 FIG. 12 illustrates a top view of an exemplary OLED display device that is consistent with the disclosed embodiments. 5 represents a cross-sectional view of in 3 shown arrangement along the direction AA; and 6 represents a cross-sectional view of in 3 illustrated arrangement along the direction BB.
Zu Darstellungszwecken ist eine Anordnung gezeigt, die über einen Dünnschichttransistor verfügt. In bestimmten anderen Ausführungsformen kann ein Pixel der OLED-Anzeigevorrichtung mehreren Transistoren zugeordnet sein.For purposes of illustration, an arrangement is shown having a thin film transistor. In certain other embodiments, one pixel of the OLED display device may be associated with multiple transistors.
Wie in 3, 5 und 6 gezeigt ist, kann die OLED-Anzeigevorrichtung ein Substrat 1 und eine auf dem Substrat 1 gebildete Vorrichtungskomponentenschicht 3 aufweisen. In einer Ausführungsform kann die Vorrichtungskomponentenschicht 3 einen oder mehrere Dünnschichttransistoren (TFTs) aufweisen. Die Vorrichtungskomponentenschicht 3 kann eine Pufferschicht 20, eine Halbleiterschicht 12, ein Gate 14, eine Source 18, ein Drain 16, eine erste Isolierschicht 22, eine zweite Isolierschicht 24 und eine dritte Isolierschicht 26 aufweisen. Die OLED-Anzeigevorrichtung kann auch eine erste Elektrode 28, die über der Vorrichtungskomponentenschicht 3 gebildet ist; und eine Pixelbildungsschicht 32 umfassen, die über der ersten Elektrode 28 und dritten Isolierschicht 26 gebildet ist. Die Pixelbildungsschicht 32 kann über einen Öffnungsbereich 217 (entsprechend einem Pixelbereich) verfügen, durch den die erste Elektrode 28 freigelegt ist. Des Weiteren kann die OLED-Anzeigevorrichtung auch mehrere Foto-Abstandshalter 215, die über der Pixelbildungsschicht 32 angeordnet sind; und eine organische, lichtemittierende Schicht 34 aufweisen, die im Öffnungsbereich 217 angeordnet und mit der ersten Elektrode 28 elektrisch verbunden ist. Die OLED-Anzeigevorrichtung kann des Weiteren auch eine zweite Elektrode 36, die auf der organischen, lichtemittierenden Schicht 34 angeordnet ist; und eine Glasabdeckplatte 2 zum Verkapseln der OLED-Anzeigevorrichtung aufweisen.As in 3 . 5 and 6 is shown, the OLED display device, a substrate 1 and one on the substrate 1 formed device component layer 3 exhibit. In an embodiment, the device component layer 3 comprise one or more thin film transistors (TFTs). The device component layer 3 can be a buffer layer 20 , a semiconductor layer 12 , a gate 14 , a source 18 , a drain 16 , a first insulating layer 22 , a second insulating layer 24 and a third insulating layer 26 exhibit. The OLED display device may also include a first electrode 28 above the device component layer 3 is formed; and a pixel formation layer 32 include that over the first electrode 28 and third insulating layer 26 is formed. The pixel formation layer 32 can have an opening area 217 (corresponding to a pixel area) through which the first electrode 28 is exposed. Furthermore, the OLED display device can also have multiple photo spacers 215 that over the pixelization layer 32 are arranged; and an organic light-emitting layer 34 have in the opening area 217 arranged and with the first electrode 28 electrically connected. The OLED display device may further include a second electrode 36 on the organic, light-emitting layer 34 is arranged; and a glass cover plate 2 for encapsulating the OLED display device.
In bestimmten anderen Ausführungsformen kann das Substrat 1 ein flexibles Substrat sein, das gebildet wird, indem organisches Material auf ein Glassubstrat aufgezogen wird. Die OLED-Anzeigevorrichtung kann mittels mehrerer organischer Schichten und/oder mehrerer anorganischer Schichten ohne die Glasabdeckplatte verkapselt sein.In certain other embodiments, the substrate may be 1 a flexible substrate formed by growing organic material on a glass substrate. The OLED display device may be encapsulated by means of multiple organic layers and / or multiple inorganic layers without the glass cover plate.
Die Foto-Abstandshalter 215 können mindestens einen Öffnungsbereich 217 umgeben; und können entlang einer ersten Richtung zu ersten Abstandshaltergruppen ausgebildet sein; und können entlang einer zweiten Richtung zu zweiten Foto-Abstandshaltergruppen ausgebildet sein. Die Projektionen der ersten Foto-Abstandshaltergruppen auf die erste Richtung können durchgehend sein; und die Projektionen der zweiten Foto-Abstandshaltergruppen auf die zweite Richtung können durchgehend sein.The photo spacers 215 can have at least one opening area 217 surround; and may be formed along a first direction to first spacer groups; and may be formed along a second direction to second photo spacer groups. The projections of the first photo-spacer groups in the first direction may be continuous; and the projections of the second photo spacer groups in the second direction may be continuous.
Insbesondere dann, wenn die organische Lichtemissionsschicht 34 in zwei benachbarten Öffnungsbereichen 217 verschiedene Lichtfarben aussendet, können die Foto-Abstandshalter 215 jeden der beiden benachbarten Öffnungsbereiche 217 umgeben.In particular, when the organic light emission layer 34 in two adjacent opening areas 217 can send out different light colors, the photo spacers 215 each of the two adjacent opening areas 217 surround.
In 4 ist eine Projektion der Foto-Abstandshalter 215 dargestellt. Wie in den 3 - 4 gezeigt ist, kann jeder der Foto-Abstandshalter 215 linienförmig sein. Die mehreren Foto-Abstandshalter 215 können den Öffnungsbereich 217 umgeben. Die Foto-Abstandshalter 215 können entlang der ersten Richtung „X“ in einer einzelnen Reihe angelegt sein und erste Foto-Abstandshaltergruppen 211 bilden. Des Weiteren können benachbarte Foto-Abstandshalter 215 entlang der ersten Richtung „X“ eventuell nicht miteinander verbunden sein; und die Projektion der Foto-Abstandshalter 215 entlang der ersten Richtung „X“ kann durchgehend sein. Die Foto-Abstandshalter 215 können zum Beispiel entlang der gesamten, auf die „X“-Richtung projizierten Reihe durchgehend angelegt sein, wie in den 3-4 gezeigt ist.In 4 is a projection of the photo spacers 215 shown. As in the 3 - 4 Shown is any of the photo spacers 215 be linear. The several photo spacers 215 can the opening area 217 surround. The photo spacers 215 can along the first direction " X "Set up in a single row and first photo spacer groups 211 form. In addition, adjacent photo spacers 215 along the first direction " X "May not be connected to each other; and the projection of the photo spacers 215 along the first direction " X "Can be continuous. The photo spacers 215 for example, along the entire, on the " X "Direction projected series be laid out continuously, as in the 3-4 is shown.
Ebenso können die mehreren Foto-Abstandshalter 215 entlang der zweiten Richtung „Y“ in einer einzelnen Spalte angelegt sein und zweite Foto-Abstandshaltergruppen 213 bilden. Foto-Abstandshalter 215, die entlang der zweiten Richtung „Y“ benachbart sind, können eventuell nicht miteinander verbunden sein; und die Projektion der Foto-Abstandshalter 215 entlang der zweiten Richtung „Y“ kann entlang der gesamten Spalte in „Y“-Richtung durchgehend sein, wie in den 3 - 4 gezeigt ist.Likewise, the multiple photo spacers 215 along the second direction " Y "In a single column and second photo spacer groups 213 form. Photo spacers 215 along the second direction " Y "Neighbors may not be connected; and the projection of the photo spacers 215 along the second direction " Y "Can go along the entire column in" Y "Direction to be consistent, as in the 3 - 4 is shown.
Wie in 4 gezeigt, sind drei Foto-Abstandshalter 2151, 2152 und 2153 dargestellt. Die Projektion des Foto-Abstandshalters 2151 kann durch folgendes Verfahren erhalten werden. Zunächst kann eine zur ersten Richtung X senkrechte Linie h1 ausgehend von einem Ende des Foto-Abstandshalters 2151 gezogen werden; und eine andere zur ersten Richtung X senkrechte Linie h2 kann ausgehend vom anderen Ende des Foto-Abstandshalters 2151 gezogen werden. Die Linie h1 und die Linie h2 können sich mit der ersten Richtung X überkreuzen; und der Abstand zwischen den beiden Kreuzungspunkten kann als Projektion d1 des Foto-Abstandshalters 2151 auf die erste Richtung X bezeichnet werden. Durch ein ähnliches Verfahren kann die Projektion des Foto-Abstandshalters 2152 auf die erste Richtung X als d2 erhalten werden; und die Projektion des Foto-Abstandshalters 2153 auf die erste Richtung X kann als d3 erhalten werden, wobei d1, d2 und d3 verbunden sein oder bestimmte Überlappungen aufweisen können. Das heißt, dass d1, d2, und d3 eventuell nicht unterbrochen sein können. In einer Ausführungsform können die Projektion der ersten Foto-Abstandshaltergruppen 211 auf die erste Richtung X und die Projektion der zweiten Foto-Abstandshaltergruppen 213 auf die zweite Richtung Y miteinander verbunden sein.As in 4 shown are three photo spacers 2151 . 2152 and 2153 shown. The projection of the photo spacer 2151 can be obtained by the following method. First, one can go to the first direction X vertical line h1 starting from one end of the photo spacer 2151 to be pulled; and another to the first direction X vertical line h2 can start from the other end of the photo spacer 2151 to be pulled. The line h1 and the line h2 can be with the first direction X intersect; and the distance between the two crossing points can be used as a projection d1 Photo spacer 2151 in the first direction X be designated. By a similar process, the projection of the photo spacer 2152 in the first direction X as d2 to be obtained; and the projection of the photo spacer 2153 in the first direction X can as d3 to be obtained, d1 . d2 and d3 be connected or may have certain overlaps. It means that d1 . d2 , and d3 may not be interrupted. In one embodiment, the projection of the first photo spacer groups 211 in the first direction X and the projection of the second photo spacer groups 213 in the second direction Y be connected to each other.
In einer Ausführungsform kann die Projektion der ersten Foto-Abstandshaltergruppe 211 auf die erste Richtung X länger sein als die Länge des entsprechenden Öffnungsbereichs 217 entlang der ersten Richtung X. Die Projektion der zweiten Foto-Abstandshaltergruppe 213 auf die zweite Richtung Y kann länger sein als die Länge des entsprechenden Öffnungsbereichs 217 entlang der zweiten Richtung Y. Die Projektion der ersten Foto-Abstandshaltergruppe 211 auf die erste Richtung X und die Projektion der zweiten Foto-Abstandshaltergruppe 213 können eventuell nicht verbunden sein.In one embodiment, the projection of the first photo spacer group 211 in the first direction X be longer than the length of the corresponding opening area 217 along the first direction X , The projection of the second photo spacer group 213 in the second direction Y may be longer than the length of the corresponding opening area 217 along the second direction Y , The projection of the first photo spacer group 211 in the first direction X and the projection of the second photo spacer group 213 may not be connected.
Darüber hinaus kann, wie in 5 gezeigt ist, an jeder Seite eines Öffnungsbereichs 217 jeweils ein Foto-Abstandshalter 215 vorhanden sein. Wie in 6 gezeigt ist, können an jeder Seite des Öffnungsbereichs 217 auch zwei Foto-Abstandshalter 215 vorhanden sein. Dies kann darüber hinaus anzeigen, dass die Projektion der zweiten Foto-Abstandshaltergruppe 213 auf die zweite Richtung Y bestimmte Überlappungen aufweisen kann; und die benachbarten Foto-Abstandshalter 215 eventuell nicht verbunden sein können.In addition, as in 5 is shown on each side of an opening area 217 one photo spacer each 215 to be available. As in 6 can be shown on each side of the opening area 217 also two photo spacers 215 to be available. This may also indicate that the projection of the second photo spacer group 213 in the second direction Y may have certain overlaps; and the adjacent photo spacers 215 may not be connected.
Derartige Querschnittsansichten dienen lediglich zu Darstellungszwecken. Je nach den Positionen der Querschnitte können auch andere Querschnittsansichten erhalten werden. Zum Beispiel kann eine Seite des Öffnungsbereichs 217 über einen Foto-Abstandshalter verfügen; und die andere Seite des Öffnungsbereichs kann zwei Foto-Abstandshalter aufweisen.Such cross-sectional views are for illustrative purposes only. Depending on the positions of the cross-sections, other cross-sectional views can be obtained. For example, one side of the opening area 217 have a photo spacer; and the other side of the opening area may have two photo spacers.
Die Projektionen der Foto-Abstandshalter 215 auf die erste Richtung X können durchgehend sein; die Projektionen der Foto-Abstandshalter 215 auf die zweite Richtung Y können durchgehend sein; und die Projektionen der Foto-Abstandshalter 215 auf die erste Richtung X und die Projektionen der Foto-Abstandshalter 215 auf die zweite Richtung Y können einander überkreuzen. Wenn die lichtemittierende Schicht 34 durch einen Verdampfungsprozess gebildet wird, können die Foto-Abstandshalter 215 folglich in der Lage sein, zu verhindern, dass sich die lichtemittierende Schicht 34, die in dem von den Foto-Abstandshaltern 215 umgebenen Öffnungsbereich 217 ausgebildet werden muss, mit den lichtemittierenden Schichten mischt, die in allen benachbarten Öffnungsbereichen 217 ausgebildet werden müssen. Dementsprechend kann das Farbmischproblem der OLED-Anzeigevorrichtung verhindert werden.The projections of the photo spacers 215 in the first direction X can be continuous; the projections of the photo spacers 215 in the second direction Y can be continuous; and the projections of the photo spacers 215 in the first direction X and the projections of the photo spacers 215 in the second direction Y can cross each other. When the light-emitting layer 34 formed by an evaporation process, the photo spacers can 215 thus be able to prevent the light-emitting layer 34 In the photo of the spacers 215 surrounded opening area 217 must be formed with the light-emitting layers, which in all adjacent opening areas 217 must be trained. Accordingly, the color mixing problem of the OLED display device can be prevented.
In einer Ausführungsform sind die die Öffnungsbereiche 217 umgebenden Foto-Abstandshalter 215 nicht verbunden; und dort bestehen bestimmte Abstände zwischen benachbarten Foto-Abstandshaltern 215. Durch eine solche Ausgestaltung kann sichergestellt werden, dass die zweite Elektrode 36 elektrisch durchgängig ist. Wenn die benachbarten Foto-Abstandshalter 215 verbunden sind, kann die zweite Elektrode 36 durch die Foto-Abstandshalter 215 einen Bruchschaden erleiden, auch wenn diese das Farbmischproblem zu verhindern in der Lage sind; und sie ist möglicherweise elektrisch nicht durchgängig. Demzufolge kann die zweite Elektrode 36 eventuell nicht in der Lage sein, die OLED-Anzeigevorrichtung so anzusteuern, dass sie ordnungsgemäß funktioniert.In one embodiment, these are the opening areas 217 surrounding photo spacers 215 not connected; and there are certain gaps between adjacent photo spacers 215 , Such a configuration can ensure that the second electrode 36 electrically continuous. If the neighboring photo spacers 215 connected, the second electrode 36 through the photo spacers 215 suffer breakage, even if they are able to prevent the color mixing problem; and it may not be electrically continuous. As a result, the second electrode 36 may not be able to control the OLED display device to function properly.
Des Weiteren können die Foto-Abstandshalter 215 auch über andere geeignete Verteilungen und Ausgestaltungen verfügen, die hierin ohne jegliche Beschränkungen umfasst sind, obwohl die oben beschriebenen Foto-Abstandshalter 215 jeden Öffnungsbereich 217 umgeben können. Bei der bestehenden Pixelverteilung können die lichtemittierenden Schichten, die benachbarten Öffnungsbereichen zugeordnet sind, verschiedene Lichtfarben oder aber dieselbe Lichtfarbe emittieren. Der Sinn der Verteilung der Foto-Abstandshalter 215 mit offenbarten Mustern kann darin bestehen, die Farbmischprobleme von benachbarten Pixeln, die benachbarten Öffnungen entsprechen, zu verhindern. Wenn die lichtemittierenden Schichten 34, die benachbarten Öffnungsbereichen 217 entsprechen, dieselbe Lichtfarbe emittieren, kann es somit überflüssig sein, die benachbarten Öffnungsbereiche 217 mittels der Foto-Abstandshalter 215 in Bezug aufeinander zu isolieren.Furthermore, the photo spacers 215 also have other suitable distributions and embodiments, which are included herein without any limitations, although the photo-spacers described above 215 every opening area 217 can surround. In the existing pixel distribution, the light emitting layers associated with adjacent aperture areas may emit different light colors or the same light color. The sense of distribution of photo spacers 215 with patterns disclosed may be to prevent the color mixing problems of adjacent pixels corresponding to adjacent apertures. When the light-emitting layers 34 , the adjacent opening areas 217 Therefore, it can be unnecessary to use the adjacent opening areas 217 by means of the photo spacers 215 isolate with respect to each other.
Insbesondere können, wie in 7 gezeigt ist, bei der es sich um eine Draufsicht einer anderen beispielhaften organischen, lichtemittierenden Vorrichtung handelt, die mit den offenbarten Ausführungsformen konsistent ist, die Foto-Abstandshalter 215 die beiden benachbarten Öffnungsbereiche 217 umgeben, wenn die organischen, lichtemittierenden Schichten 34 in zwei benachbarten Öffnungen 217 dieselbe Lichtfarbe emittieren. Wie in 7 gezeigt ist, können die organischen, lichtemittierenden Schichten 34 im Öffnungsbereich 2171 und im Öffnungsbereich 2172 dieselbe Lichtfarbe emittieren. Die Lichtfarbe, die von den organischen, lichtemittierenden Schichten 34 im Öffnungsbereich 2173, Öffnungsbereich 2174, Öffnungsbereich 2175 und Öffnungsbereich 2176 emittiert wird, kann jeweils eine andere als die Lichtfarbe sein, die von den lichtemittierenden Schichten 34 im Öffnungsbereich 2171 und Öffnungsbereich 2172 emittiert wird. Die Lichtfarbe, die von der organischen, lichtemittierenden Schicht 34 im Öffnungsbereich 2171 emittiert wird, kann sich von der Lichtfarbe unterscheiden, die von der organischen, lichtemittierenden Schicht 34 im Öffnungsbereich 2174 emittiert wird. Die Lichtfarbe, die von der organischen, lichtemittierenden Schicht 34 im Öffnungsbereich 2175 emittiert wird, kann eine andere sein als die Lichtfarbe, die von der organischen, lichtemittierenden Schicht 34 im Öffnungsbereich 2176 emittiert wird. Folglich können zwischen dem Öffnungsbereich 2171 und dem Öffnungsbereich 2172 eventuell keine Foto-Abstandshalter vorhanden sein. Foto-Abstandshalter 215 können zwischen dem Öffnungsbereich 2173 und dem Öffnungsbereich 2174, zwischen dem Öffnungsbereich 2175 und dem Öffnungsbereich 2176, zwischen dem Öffnungsbereich 2171 und dem Bereich mit dem Öffnungsbereich 2173 und dem Öffnungsbereich 2174 und zwischen dem Öffnungsbereich 2172 und dem Bereich mit dem Öffnungsbereich 2174 und dem Öffnungsbereich 2176 angeordnet sein.In particular, as in 7 which is a top view of another exemplary organic light-emitting device consistent with the disclosed embodiments, the photo-spacers 215 the two adjacent opening areas 217 surrounded when the organic, light-emitting layers 34 in two adjacent openings 217 emit the same light color. As in 7 is shown, the organic, light-emitting layers 34 in the opening area 2171 and in the opening area 2172 emit the same light color. The light color of the organic, light-emitting layers 34 in the opening area 2173 , Opening area 2174 , Opening area 2175 and opening area 2176 each may be other than the light color emitted from the light-emitting layers 34 in the opening area 2171 and opening area 2172 is emitted. The light color, that of the organic, light-emitting layer 34 in the opening area 2171 may be different from the light color of the organic, light-emitting layer 34 in the opening area 2174 is emitted. The light color of the organic, light-emitting layer 34 in the opening area 2175 may be other than the light color of the organic light-emitting layer 34 in the opening area 2176 is emitted. Consequently, between the opening area 2171 and the opening area 2172 There may not be any photo spacers. Photo spacers 215 can between the opening area 2173 and the opening area 2174 , between the opening area 2175 and the opening area 2176 , between the opening area 2171 and the area with the opening area 2173 and the opening area 2174 and between the opening area 2172 and the area with the opening area 2174 and the opening area 2176 be arranged.
Infolgedessen können, wenn die lichtemittierenden Schichten 34 in mehreren benachbarten Öffnungsbereichen 217 auf die erste Richtung X oder die zweite Richtung Y dieselbe Lichtfarbe aussenden, die Foto-Abstandshalter 315 den Bereich umgeben, der die mehreren benachbarten Öffnungsbereiche 217 aufweist. Das heißt, dass mit Bezugnahme auf 7 die Anzahl von benachbarten Öffnungsbereichen 217, die dieselbe Lichtfarbe emittieren, größer als zwei sein kann.As a result, when the light-emitting layers 34 in several adjacent opening areas 217 in the first direction X or the second direction Y emit the same light color, the photo spacers 315 Surround the area surrounding the several adjacent opening areas 217 having. That is, with reference to 7 the number of adjacent opening areas 217 that emit the same light color may be greater than two.
8 stellt eine Draufsicht von Wiederholungseinheiten einer weiteren beispielhaften OLED-Anzeigevorrichtung dar, die mit den offenbarten Ausführungsformen konsistent ist. Im Vergleich zu den 3 - 6 kann die Form der Foto-Abstandshalter verändert sein; aber andere Anordnungen können ähnlich sein. 8th FIG. 12 illustrates a plan view of repeating units of another exemplary OLED display device that is consistent with the disclosed embodiments. FIG. Compared to the 3 - 6 the shape of the photo spacers can be changed; but other arrangements may be similar.
Wie in 8 gezeigt ist, können die Foto-Abstandshalter 315 in Form mehrerer Linien vorliegen. Zwei benachbarte Foto-Abstandshalter 315 können ineinandergreifen. Des Weiteren können die mehreren Foto-Abstandshalter 315 den Pixelbereich 317 umgeben. Die Foto-Abstandshalter 315 können entlang einer ersten Richtung X in einer ersten Foto-Abstandshaltergruppe 311 ausgerichtet sein; und die Projektion der Foto-Abstandshalter 315 auf die erste Richtung X kann durchgehend sein. Die Foto-Abstandshalter 315 können entlang einer zweiten Richtung Y in einer zweiten Foto-Abstandshaltergruppe 313 ausgerichtet sein; und die Projektion der zweiten Foto-Abstandshaltergruppe 313 auf die zweite Richtung Y kann durchgehend sein. Die Projektion der ersten Foto-Abstandshaltergruppe 311 auf die erste Richtung X kann mit der Projektion der zweiten Foto-Abstandshaltergruppe 313 auf die zweite Richtung Y verbunden sein.As in 8th shown can be the photo spacers 315 in the form of several lines. Two adjacent photo spacers 315 can mesh. Furthermore, the multiple photo spacers 315 the pixel area 317 surround. The photo spacers 315 can go along a first direction X in a first photo spacer group 311 be aligned; and the projection of the photo spacers 315 in the first direction X can be continuous. The photo spacers 315 can go along a second direction Y in a second photo spacer group 313 be aligned; and the projection of the second photo spacer group 313 in the second direction Y can be continuous. The projection of the first photo spacer group 311 in the first direction X can with the projection of the second photo spacer group 313 in the second direction Y be connected.
Des Weiteren können die beiden ineinandergreifenden Foto-Abstandshalter 315 in der ersten Foto-Abstandshaltergruppe 311 zueinander spiegelsymmetrisch sein; und sie können bestimmte Abstände aufweisen, was dazu führt, dass sie entlang der zweiten Richtung Y nicht verbunden sind. Die beiden ineinandergreifenden Foto-Abstandshalter 315 in der zweiten Foto-Abstandshaltergruppe 313 können zueinander spiegelsymmetrisch sein; und sie können bestimmte Abstände aufweisen, was dazu führt, dass sie entlang der ersten Richtung X nicht verbunden sind.Furthermore, the two interlocking photo spacers 315 in the first photo spacer group 311 be mirror-symmetrical to each other; and they may have certain distances, which causes them to move along the second direction Y are not connected. The two interlocking photo spacers 315 in the second photo spacer group 313 can be mirror-symmetrical to each other; and they may have certain distances, resulting in that they are not connected along the first direction X.
In bestimmten anderen Ausführungsformen können die Foto-Abstandshalter über andere geeignete Gestaltungen verfügen, bei denen benachbarte Foto-Abstandshalter in der Lage sein können, ineinander einzugreifen. 9 stellt eine Draufsicht der Wiederholungseinheiten einer weiteren beispielhaften OLED-Anzeigevorrichtung dar, die mit den offenbarten Ausführungsformen konsistent ist. Im Vergleich zu 3 - 8 kann die Form der Foto-Abstandshalter verändert sein; aber andere Anordnungen können ähnlich ausfallen.In certain other embodiments, the photo spacers may have other suitable configurations in which adjacent photo spacers may be able to intermesh. 9 FIG. 12 illustrates a top view of the repeating units of another exemplary OLED display device that is consistent with the disclosed embodiments. FIG. Compared to 3 - 8th the shape of the photo spacers can be changed; but other arrangements may be similar.
Wie in 9 gezeigt ist, können die Foto-Abstandshalter 415 S-förmig sein. Zwei benachbarte Foto-Abstandshalter 415 können ineinandergreifen. Des Weiteren können die mehreren Foto-Abstandshalter 415 den Öffnungsbereich oder Pixelbereich 417 umgeben. Die Foto-Abstandshalter 415 können entlang einer ersten Richtung X in einer ersten Foto-Abstandshaltergruppe 411 ausgerichtet sein; und die Projektion der ersten Foto-Abstandshaltergruppe 411 auf die erste Richtung X kann durchgehend sein. Die Foto-Abstandshalter 415 können entlang einer zweiten Richtung Y in einer zweiten Foto-Abstandshaltergruppe 413 ausgerichtet sein; und die Projektion der zweiten Foto-Abstandshaltergruppe 413 auf die zweite Richtung Y kann durchgehend sein. Die Projektion der ersten Foto-Abstandshaltergruppe 411 auf die erste Richtung X und die Projektion der zweiten Foto-Abstandshaltergruppe 413 auf die zweite Richtung Y können verbunden sein. Zwischen benachbarten Foto-Abstandshaltern 415 können bestimmte Abstände vorliegen; und es kann sein, dass sie nicht verbunden sind.As in 9 shown can be the photo spacers 415 Be S-shaped. Two adjacent photo spacers 415 can mesh. Furthermore, the multiple photo spacers 415 the opening area or pixel area 417 surround. The photo spacers 415 can go along a first direction X in a first photo spacer group 411 be aligned; and the projection of the first photo spacer group 411 in the first direction X can be continuous. The photo spacers 415 can go along a second direction Y in a second photo spacer group 413 be aligned; and the projection of the second photo spacer group 413 in the second direction Y can be continuous. The projection of the first photo spacer group 411 in the first direction X and the projection of the second photo spacer group 413 in the second direction Y can be connected. Between adjacent photo spacers 415 there may be certain distances; and they may not be connected.
Bei bestimmten anderen Ausführungsformen kann es sein, dass die Projektion der die Mehrlinienform oder S-Form aufweisenden Foto-Abstandshalter auf die erste Richtung X nicht mit der Projektion der die Mehrlinienform oder S-Form aufweisenden Foto-Abstandshalter auf die zweite Richtung Y verbunden ist. Die Projektion auf die erste Richtung X kann jedoch größer sein als die Länge der Öffnung entlang der ersten Richtung. Während der Verdampfung des lichtemittierenden Materials können die Foto-Abstandshalter mit der Mehrlinienform oder S-Form immer noch in der Lage sein, die Vermischung des organischen, lichtemittierenden Materials zu verhindern, weil die Projektion der Foto-Abstandshalter auf die erste Richtung X durchgehend sein kann; und die Projektion der Foto-Abstandshalter auf die zweite Richtung Y durchgehend sein kann. Gleichzeitig kann durch die bestimmten Abstände zwischen den benachbarten Foto-Abstandshaltern sichergestellt werden, dass die zweite Elektrode eine durchgehend elektrische Verbindung hat.In certain other embodiments, the projection of the multi-line or S-shape photo spacers may be in the first direction X not with the projection of the multi-line or S-shape photo spacers in the second direction Y connected is. The projection in the first direction X however, may be greater than the length of the opening along the first direction. During the evaporation of the light-emitting material, the multi-line or S-form photo spacers may still be able to withstand the Mixing of the organic, light-emitting material to prevent, because the projection of the photo-spacer in the first direction X can be continuous; and the projection of the photo spacers in the second direction Y can be continuous. At the same time it can be ensured by the specific distances between the adjacent photo-spacers that the second electrode has a continuous electrical connection.
In 10 ist eine Draufsicht der Wiederholungseinheiten einer weiteren beispielhaften OLED-Anzeigevorrichtung dargestellt, die mit den offenbarten Ausführungsformen konsistent ist. Im Vergleich zu 3 - 9 kann die Verteilung der Foto-Abstandshalter eine andere sein; aber andere Anordnungen können ähnlich ausfallen.In 10 Figure 12 is a plan view of the repeating units of another exemplary OLED display device that is consistent with the disclosed embodiments. Compared to 3 - 9 the distribution of photo spacers may be different; but other arrangements may be similar.
Wie in 10 gezeigt ist, können die Foto-Abstandshalter 515 kreisförmig sein. Die mehreren Foto-Abstandshalter 515 können den Öffnungsbereich 517 umgeben. Die Foto-Abstandshalter 515 können entlang der ersten Richtung X in zwei Reihen ausgerichtet sein, um eine erste Foto-Abstandshaltergruppe 511 zu bilden; und die Projektion der Foto-Abstandshaltergruppe 511 auf die erste Richtung X kann durchgehend sein. Die Foto-Abstandshalter 515 können entlang der zweiten Richtung Y in zwei Spalten ausgerichtet sein, um entlang einer zweiten Richtung Y eine zweite Foto-Abstandshaltergruppe 513 zu bilden; und die Projektion der zweiten Foto-Abstandshaltergruppe 513 auf die zweite Richtung Y kann durchgehend sein. Die Foto-Abstandshalter 515 in zwei benachbarten Reihen oder zwei benachbarten Spalten können ein versetztes Muster aufweisen; und die von Mittelpunkt zu Mittelpunkt verlaufenden Verbindungslinien der Mittelpunkte von benachbarten drei Foto-Abstandshaltern 515 können ein Dreieck 519 bilden. Jede Seite des Dreiecks 519 kann größer sein als der Durchmesser der Foto-Abstandshalter 515. Darüber hinaus können benachbarte Foto-Abstandshalter 515 bestimmte Abstände aufweisen; und es kann sein, dass sie nicht miteinander verbunden sind.As in 10 shown can be the photo spacers 515 be circular. The several photo spacers 515 can the opening area 517 surround. The photo spacers 515 can go along the first direction X be aligned in two rows to a first photo spacer group 511 to build; and the projection of the photo spacer group 511 in the first direction X can be continuous. The photo spacers 515 can go along the second direction Y be aligned in two columns, along a second direction Y a second photo spacer group 513 to build; and the projection of the second photo spacer group 513 in the second direction Y can be continuous. The photo spacers 515 in two adjacent rows or two adjacent columns may have a staggered pattern; and the center-to-center connecting lines of the centers of adjacent three photo spacers 515 can a triangle 519 form. Each side of the triangle 519 may be larger than the diameter of the photo spacers 515 , In addition, adjacent photo spacers 515 have certain distances; and it may be that they are not connected.
In bestimmten anderen Ausführungsformen können die Foto-Abstandshalter andere geschlossene Muster darstellen. In 11 ist eine Draufsicht der Wiederholungseinheiten einer weiteren beispielhaften OLED-Anzeigevorrichtung dargestellt, die mit den offenbarten Ausführungsformen konsistent ist.In certain other embodiments, the photo-spacers may represent other closed patterns. In 11 Figure 12 is a plan view of the repeating units of another exemplary OLED display device that is consistent with the disclosed embodiments.
Wie in 11 gezeigt ist, sind die Foto-Abstandshalter 615 rechteckig. Die mehreren Foto-Abstandshalter 615 können den Öffnungsbereich 617 umgeben. Die Foto-Abstandshalter 615 können entlang der ersten Richtung X in zwei Reihen ausgerichtet sein, um eine erste Foto-Abstandshaltergruppe 611 zu bilden; und die Projektion der ersten Foto-Abstandshaltergruppe 611 auf die erste Richtung X kann durchgehend sein. Die Foto-Abstandshalter 615 können entlang der zweiten Richtung Y in zwei Spalten ausgerichtet sein, um entlang der zweiten Richtung Y eine zweite Foto-Abstandshaltergruppe 613 zu bilden; und die Projektion der zweiten Foto-Abstandshaltergruppe 613 auf die zweite Richtung Y kann durchgehend sein. Die Foto-Abstandshalter 615 in zwei benachbarten Reihen oder zwei benachbarten Spalten können ein versetztes Muster aufweisen; und die Verbindungslinien der Kreuzungspunkte der Diagonalen von benachbarten drei Foto-Abstandshaltern 615 können ein Dreieck 619 bilden. Benachbarte Foto-Abstandshalter 615 können bestimmte Abstände aufweisen; und es kann der Fall sein, dass sie nicht miteinander verbunden sind oder einander nicht überlappen.As in 11 Shown are the photo spacers 615 rectangular. The several photo spacers 615 can the opening area 617 surround. The photo spacers 615 can go along the first direction X be aligned in two rows to a first photo spacer group 611 to build; and the projection of the first photo spacer group 611 in the first direction X can be continuous. The photo spacers 615 may be aligned along the second direction Y in two columns to along the second direction Y a second photo spacer group 613 to build; and the projection of the second photo spacer group 613 in the second direction Y can be continuous. The photo spacers 615 in two adjacent rows or two adjacent columns may have a staggered pattern; and the connecting lines of the crossing points of the diagonals of adjacent three photo spacers 615 can a triangle 619 form. Adjacent photo spacers 615 can have certain distances; and it may be the case that they are not connected or overlapping each other.
Im Vergleich zu den Foto-Abstandshaltern mit der Linienform, Mehrlinienform und S-Form kann die Herstellung der kreisförmigen Foto-Abstandshalter 515 und rechteckigen Foto-Abstandshalter 615 relativ einfach vonstatten gehen. Die kreisförmigen Foto-Abstandshalter 515 und die rechteckigen Foto-Abstandshalter 615 können ein ähnliches Abblockverhalten wie andere Formen von Foto-Abstandshaltern haben. Des Weiteren kann durch die versetzten Muster der kreisförmigen Foto-Abstandshalter 515 und rechteckigen Foto-Abstandshalter 615 auch die elektrische Durchgängigkeit der zweiten Elektrode sichergestellt werden.Compared to the photo spacers with the line shape, multi-line shape and s-shape can be the production of circular photo spacers 515 and rectangular photo spacers 615 relatively easy to do. The circular photo spacers 515 and the rectangular photo spacers 615 can have a similar blocking behavior as other forms of photo spacers. Furthermore, the staggered pattern of the circular photo spacers 515 and rectangular photo spacers 615 also the electrical continuity of the second electrode can be ensured.
Bei bestimmten anderen Ausführungsformen können die Foto-Abstandshalter in der ersten Foto-Abstandshaltergruppe und/oder der zweiten Foto-Abstandshaltergruppe in drei oder mehr Reihen und/oder Spalten ausgerichtet sein, solange die Projektion der Foto-Abstandshalter in der ersten Foto-Abstandshaltergruppe auf die erste Richtung X durchgehend sein kann; die Projektion der Foto-Abstandshalter in der zweiten Foto-Abstandshaltergruppe auf die zweite Richtung Y durchgehend sein kann; und die erste Foto-Abstandshaltergruppe und zweite Foto-Abstandshaltergruppe nicht verbunden sind.In certain other embodiments, the photo spacers in the first photo spacer group and / or the second photo spacer group may be aligned in three or more rows and / or columns as long as the projection of the photo spacers in the first photo spacer group onto the first photo spacer group first direction X can be continuous; the projection of the photo spacers in the second photo spacer group may be continuous in the second direction Y; and the first photo spacer group and second photo spacer group are not connected.
Darüber hinaus wird gemäß den offenbarten Ausführungsformen ein Verfahren zur Herstellung einer OLED-Anzeigevorrichtung bereitgestellt. Das Verfahren zur Bildung einer OLED-Anzeigevorrichtung kann umfassen: Bilden eines Anordnungssubstrats; Bilden eines Lichtemissionsmoduls; und Verkapseln. Zu Darstellungszwecken werden hier die Herstellung des Anordnungssubstrats und des Lichtemissionsmoduls beschrieben. Auf den Verkapselungsprozess kann sich ein beliebiger geeigneter Prozess anschließen.Moreover, according to the disclosed embodiments, a method of manufacturing an OLED display device is provided. The method of forming an OLED display device may include: forming an array substrate; Forming a light emission module; and encapsulating. For illustrative purposes, the fabrication of the array substrate and the light emitting module will be described herein. The encapsulation process can be followed by any suitable process.
In 12 ist eine beispielhafte Herstellung einer OLED-Anzeigevorrichtung dargestellt, die mit den offenbarten Ausführungsformen konsistent ist. In den 13a - 13f sind Halbleiteranordnungen dargestellt, die bestimmten Stadien des beispielhaften Herstellprozesses entsprechen.In 12 FIG. 3 illustrates an exemplary fabrication of an OLED display device that is consistent with the disclosed embodiments. In the 13a - 13f are semiconductor devices which correspond to certain stages of the exemplary manufacturing process.
Wie in 12 gezeigt ist, wird zu Beginn des Herstellprozesses ein Substrat bereitgestellt; und eine Vorrichtungskomponente kann auf dem Substrat gebildet werden (S101). In 13a ist eine entsprechende Anordnung dargestellt.As in 12 is shown, a substrate is provided at the beginning of the manufacturing process; and a device component may be formed on the substrate ( S101 ). In 13a a corresponding arrangement is shown.
Wie in 13a gezeigt ist, ist ein Substrat 1 bereitgestellt; und eine Vorrichtungskomponentenschicht 3 ist auf dem Substrat 1 gebildet. Mit Bezug auf 5 kann der Prozess zur Bildung der Vorrichtungskomponentenschicht 3 umfassen: Bilden einer Pufferschicht 20 auf dem Substrat 1; Bilden einer Halbleiterschicht 12 auf der Pufferschicht 20, indem eine Halbleitermaterialschicht abgeschieden und die Halbleitermaterialschicht dann geätzt wird; Bilden einer ersten Isolierschicht 22 auf der Halbleiterschicht 12; Bilden eines Gates 14 auf der Halbleiterschicht 12, indem eine Gate-Materialschicht abgeschieden und die Gate-Materialschicht dann geätzt wird; Bilden einer zweiten Isolierschicht 24 auf dem Gate 14; Bilden einer Source 18 und eines Drains 16 in der zweiten Isolierschicht 24 und elektrisches Verbinden mit der Halbleiterschicht 12, indem nacheinander Durchgangsöffnungen gebildet werden, welche die Halbleiterschicht 12 in der zweiten Isolierschicht 24 freilegen, eine Source/Drain-Materialschicht in den Durchgangsöffnungen und auf der zweiten Isolierschicht 24 abgeschieden und die Source/Drain-Materialschicht dann geätzt wird; und Bilden einer dritten Isolierschicht 26 auf der zweiten Isolierschicht 24.As in 13a is shown is a substrate 1 provided; and a device component layer 3 is on the substrate 1 educated. Regarding 5 For example, the process of forming the device component layer 3 comprising: forming a buffer layer 20 on the substrate 1 ; Forming a semiconductor layer 12 on the buffer layer 20 by depositing a semiconductor material layer and then etching the semiconductor material layer; Forming a first insulating layer 22 on the semiconductor layer 12 ; Forming a gate 14 on the semiconductor layer 12 by depositing a gate material layer and then etching the gate material layer; Forming a second insulating layer 24 on the gate 14 ; Forming a source 18 and a drain 16 in the second insulating layer 24 and electrically connecting to the semiconductor layer 12 in that successive through openings are formed, which form the semiconductor layer 12 in the second insulating layer 24 expose a source / drain material layer in the through holes and on the second insulating layer 24 deposited and then the source / drain material layer is etched; and forming a third insulating layer 26 on the second insulating layer 24 ,
Mit Bezugnahme auf 12 können nach Bereitstellung des Substrats 1 und der Bildung der Vorrichtungskomponentenschicht 3 mehrere erste Elektroden gebildet werden (S102). 13b stellt eine entsprechende Anordnung dar.With reference to 12 can after provision of the substrate 1 and the formation of the device component layer 3 several first electrodes are formed ( S102 ). 13b represents a corresponding arrangement.
Wie in 13b gezeigt ist, sind mehrere erste Elektroden 28 über der Vorrichtungskomponente 3 gebildet. Jede der mehreren ersten Elektroden 28 kann einem Teilpixelbereich entsprechen.As in 13b are shown are a plurality of first electrodes 28 above the device component 3 educated. Each of the first plurality of electrodes 28 may correspond to a sub-pixel area.
Der Prozess zur Bildung der mehreren ersten Elektroden 28 kann insbesondere umfassen: Bilden einer ersten Elektrodenmaterialschicht auf der Vorrichtungskomponentenschicht 3; Aufziehen einer Fotoresistschicht auf die erste Elektrodenmaterialschicht; Belichten der Fotoresistschicht unter Verwendung einer Maske mit vorgegebenen Mustern, und Entwickeln der belichteten Fotoresistschicht zur Bildung einer strukturierten Fotoresistschicht; und Ätzen der ersten Elektrodenmaterialschicht mittels der strukturierten Fotoresistschicht als Ätzmaske. Auf diese Art lassen sich die mehreren ersten Elektroden 28 bilden.The process of forming the plurality of first electrodes 28 In particular, it may include forming a first electrode material layer on the device component layer 3 ; Applying a photoresist layer to the first electrode material layer; Exposing the photoresist layer using a mask having predetermined patterns, and developing the exposed photoresist layer to form a patterned photoresist layer; and etching the first electrode material layer by means of the patterned photoresist layer as an etching mask. In this way, the multiple first electrodes can be 28 form.
Die ersten Elektroden 28 können aus einem beliebigen geeigneten Material bestehen. In einer Ausführungsform sind die ersten Elektroden 28 aus ITO hergestellt.The first electrodes 28 can be made of any suitable material. In an embodiment, the first electrodes are 28 made of ITO.
Die erste Elektrodenmaterialschicht kann mittels eines beliebigen geeigneten Prozesses geätzt werden. In einer Ausführungsform wird die erste Elektrodenmaterialschicht durch einen Nassätzprozess geätzt, um die mehreren ersten Elektroden 28 zu bilden.The first electrode material layer may be etched by any suitable process. In an embodiment, the first electrode material layer is etched by a wet etching process to form the plurality of first electrodes 28 to build.
Mit erneuter Bezugnahme auf 12 kann nach Bildung der ersten Elektroden 28 eine Pixelbildungsschicht gebildet werden (S103). 13c stellt eine entsprechende Anordnung dar.With renewed reference to 12 can after formation of the first electrodes 28 a pixel formation layer are formed ( S103 ). 13c represents a corresponding arrangement.
Wie in 13c gezeigt, ist eine Pixelbildungsschicht (PDL) 32 auf der Vorrichtungskomponentenschicht 3 und Abschnitten der ersten Elektroden 28 gebildet. Die Pixelbildungsschicht 32 kann mehrere Öffnungsbereiche 217 aufweisen, durch die die ersten Elektroden 28 freigelegt sind. Die Bereiche der freigelegten ersten Elektroden 28 können den Bereichen der im Anschluss gebildeten Teilpixel entsprechen. Somit können die Öffnungsbereiche 217 auch als Pixelbereiche 217 bezeichnet werden.As in 13c shown is a pixelization layer (PDL) 32 on the device component layer 3 and portions of the first electrodes 28 educated. The pixel formation layer 32 can have several opening areas 217 through which the first electrodes 28 are exposed. The areas of the exposed first electrodes 28 may correspond to the areas of the subsequently formed subpixels. Thus, the opening areas 217 also as pixel areas 217 be designated.
Die Pixelbildungsschicht 32 kann gebildet werden, indem eine erste Schicht aus organischem Material auf den ersten Elektroden 28 und der Vorrichtungskomponentenschicht 3 gebildet wird; die erste Schicht aus organischem Material unter Verwendung einer Maske belichtet wird; und die belichtete erste Schicht aus organischem Material entwickelt wird. Auf diese Weise kann die Pixelbildungsschicht 32 gebildet werden.The pixel formation layer 32 can be formed by placing a first layer of organic material on the first electrodes 28 and the device component layer 3 is formed; the first layer of organic material is exposed using a mask; and the exposed first layer of organic material is developed. In this way, the pixelization layer 32 be formed.
Mit Bezugnahme auf 12 können nach Bildung der Pixelbildungsschicht 32 mehrere Foto-Abstandshalter gebildet werden (S104). In 13d ist eine entsprechende Anordnung dargestellt.With reference to 12 can after formation of the pixelization layer 32 several photo spacers are formed ( S104 ). In 13d a corresponding arrangement is shown.
Wie in 13d gezeigt ist, sind mehrere Foto-Abstandshalter 215, die mit vorbestimmten Mustern verteilt sind, auf der Pixelbildungsschicht 32 gebildet. Die Foto-Abstandshalter 215 können die Öffnungsbereiche 217 (oder Pixelbereiche 217) umgeben. Die Foto-Abstandshalter 215 können beliebige geeignete Formen haben, wie zum Beispiel eine Linienform, Mehrlinienform, Kurvenlinienform, Kreisform oder Rechteckform etc., wie beispielhaft in den 3 und 7-11 gezeigt ist. Mit Bezugnahme auf 3 können die Foto-Abstandshalter 215 entlang der ersten Richtung X in einer ersten Foto-Abstandshaltergruppe 211 ausgerichtet sein. Die Foto-Abstandshalter 215 entlang der zweiten Richtung Y können in einer zweiten Foto-Abstandshaltergruppe 213 ausgerichtet sein. Die Projektion der ersten Foto-Abstandshaltergruppe 211 auf die erste Richtung X kann durchgehend sein; und die Projektion der zweiten Foto-Abstandshaltergruppe 213 auf die zweite Richtung Y kann durchgehend sein. Des Weiteren kann sich die Projektion der ersten Foto-Abstandshaltergruppe 211 auf die erste Richtung X mit der Projektion der zweiten Foto-Abstandshaltergruppe 213 auf die zweite Richtung Y überkreuzen.As in 13d shown are several photo spacers 215 which are distributed with predetermined patterns on the pixel forming layer 32 educated. The photo spacers 215 can the opening areas 217 (or pixel areas 217 ) surround. The photo spacers 215 may be any suitable shapes, such as a line shape, a multi-line shape, a curved line shape, a circular shape, or a rectangular shape, etc., as exemplified in FIGS 3 and 7 - 11 is shown. With reference to 3 can the photo spacers 215 along the first direction X in a first photo spacer group 211 be aligned. The photo spacers 215 along the second direction Y can in a second photo spacer group 213 be aligned. The projection of the first photo spacer group 211 in the first direction X can be continuous; and the projection of the second photo spacer group 213 in the second direction Y can be continuous. Furthermore, the projection of the first photo spacer group may be 211 in the first direction X with the projection of the second photo spacer group 213 in the second direction Y cross.
Der Prozess zur Bildung der mehreren mit den vorbestimmten Mustern verteilten Foto-Abstandshalter 215 kann umfassen: Bilden einer zweiten Schicht aus organischem Material auf der Pixelbildungsschicht 32; Belichten der zweiten Schicht aus organischem Material unter Verwendung einer Maske; und Entwickeln der belichteten zweiten Schicht aus organischem Material. Auf diese Art und Weise können die mehreren Foto-Abstandshalter 215 auf der Pixelbildungsschicht 32 gebildet werden.The process of forming the plurality of photo spacers distributed with the predetermined patterns 215 may include forming a second layer of organic material on the pixel-forming layer 32 ; Exposing the second layer of organic material using a mask; and developing the exposed second layer of organic material. In this way, the multiple photo spacers 215 on the pixel formation layer 32 be formed.
Mit erneuter Bezugnahme auf 12 kann nach Bildung der Foto-Abstandshalter 215 eine lichtemittierende Schicht gebildet werden (S105). 13e stellt eine entsprechende Anordnung dar.With renewed reference to 12 can after formation of the photo spacer 215 a light-emitting layer are formed ( S105 ). 13e represents a corresponding arrangement.
Wie in 13e gezeigt ist, ist eine lichtemittierende Schicht 34 auf den ersten Elektroden 28 gebildet, die durch die Öffnungsbereiche 217 der Pixelbildungsschicht 32 freigelegt sind. Die lichtemittierende Schicht 34 kann durch einen beliebigen geeigneten Prozess gebildet werden. In einer Ausführungsform wird die lichtemittierende Schicht 34 durch einen Verdampfungsprozess gebildet.As in 13e is a light emitting layer 34 on the first electrodes 28 formed by the opening areas 217 the pixel formation layer 32 are exposed. The light-emitting layer 34 can be formed by any suitable process. In one embodiment, the light-emitting layer becomes 34 formed by an evaporation process.
Insbesondere kann eine Maske auf der in 13d dargestellten Anordnung angeordnet werden, um die Bereiche zu bedecken, die das lichtemittierende Material nicht aufweisen sollten; und ein lichtemittierendes Material kann verdampft werden, um die in 13e dargestellte lichtemittierende Schicht 34 zu bilden. Während des Verdampfungsprozesses kann die Vermischung zweier unterschiedlicher Materialien verhindert werden, weil die Foto-Abstandshalter 215 eine Abblockfunktion gegenüber dem organischen, lichtemittierenden Material haben können.In particular, a mask on the in 13d arranged arrangement to cover the areas that should not have the light-emitting material; and a light-emitting material may be evaporated to match those in 13e illustrated light-emitting layer 34 to build. During the evaporation process, the mixing of two different materials can be prevented because the photo spacers 215 have a blocking function against the organic, light-emitting material.
Mit erneuter Bezugnahme auf 12 kann nach Bildung der organischen, lichtemittierenden Schicht 34 eine zweite Elektrode gebildet werden (S106). 13f stellt eine entsprechende Anordnung dar.With renewed reference to 12 can after formation of the organic light-emitting layer 34 a second electrode are formed ( S106 ). 13f represents a corresponding arrangement.
Wie in 13f gezeigt ist, wird eine zweite Elektrode 36 auf der organischen, lichtemittierenden Schicht 34 gebildet. Die zweite Elektrode 36 kann auch die Foto-Abstandshalter 215 überdecken. Die zweite Elektrode 36 und die ersten Elektroden 28 können zusammen die organische, lichtemittierende Schicht 34 ansteuern, um Licht zu emittieren.As in 13f is shown, a second electrode 36 on the organic, light-emitting layer 34 educated. The second electrode 36 can also use the photo spacers 215 cover. The second electrode 36 and the first electrodes 28 Together, the organic, light-emitting layer 34 drive to emit light.
Die zweite Elektrode 36 kann durch einen beliebigen geeigneten Prozess gebildet werden. In einer Ausführungsform wird die zweite Elektrode 36 durch einen Verdampfungsprozess gebildet.The second electrode 36 can be formed by any suitable process. In one embodiment, the second electrode becomes 36 formed by an evaporation process.
Die zweite Elektrode 36 kann aus einem beliebigen geeigneten Material hergestellt sein. In einer Ausführungsform besteht die zweite Elektrode 36 aus einer Mg-Ag-Legierung.The second electrode 36 can be made of any suitable material. In one embodiment, the second electrode is 36 from a Mg-Ag alloy.
Während des Verdampfungsprozesses zur Bildung der zweiten Elektrode 36 kann es leicht geschehen, dass die auf den Oberflächen der Foto-Abstandshalter 215 gebildete zweite Elektrode 36 bricht, weil die Außenfläche der Foto-Abstandshalter 215 ungefähr senkrecht zur Pixelbildungsschicht 32 sein kann. Da jedoch die offenbarten Foto-Abstandshalter 215 durchgehende Projektionen haben können; und eventuell nicht miteinander verbunden sein können, können sich bestimmte Zwischenräume zwischen den benachbarten Foto-Abstandshaltern 215 zur Bildung der zweiten Elektrode 36 befinden. Folglich kann die zweite Elektrode 36 elektrisch durchgehend sein.During the evaporation process to form the second electrode 36 It can easily happen that on the surfaces of the photo spacers 215 formed second electrode 36 breaks because of the outer surface of the photo spacer 215 approximately perpendicular to the pixelization layer 32 can be. However, since the disclosed photo spacers 215 can have continuous projections; and may not be interconnected, there may be certain gaps between the adjacent photo spacers 215 to form the second electrode 36 are located. Consequently, the second electrode 36 be electrically continuous.
Nach Bildung der zweiten Elektrode 36 kann die in 13f dargestellte Anordnung mittels einer Abdeckplatte verkapselt werden. In einer Ausführungsform kann das Substrat 1 ein starres Substrat wie zum Beispiel Glas oder Siliziumdioxid etc. sein.After formation of the second electrode 36 can the in 13f represented arrangement are encapsulated by means of a cover plate. In one embodiment, the substrate 1 a rigid substrate such as glass or silicon dioxide, etc.
In bestimmten anderen Ausführungsformen kann ein organisches flexibles Substrat 1 auf einem starren Glassubstrat gebildet werden. So kann beispielsweise eine Schicht aus Polyimid auf einem Glassubstrat abgeschieden werden, um ein flexibles Substrat 1 zu bilden. Dann können auf dem flexiblen Substrat 1 die Vorrichtungsanordnungen und das lichtemittierende Modul gebildet werden. Danach kann die Anordnung mittels eines Prozesses zur Verkapselung einer flexiblen Vorrichtung verkapselt werden. Dann kann das flexible Substrat 1 vom Glassubstrat gelöst werden; und eine flexible OLED-Anzeige kann gebildet werden.In certain other embodiments, an organic flexible substrate 1 be formed on a rigid glass substrate. For example, a layer of polyimide may be deposited on a glass substrate to form a flexible substrate 1 to build. Then you can on the flexible substrate 1 the device arrangements and the light-emitting module are formed. Thereafter, the assembly may be encapsulated by a process of encapsulating a flexible device. Then the flexible substrate 1 be released from the glass substrate; and a flexible OLED display can be formed.
Des Weiteren wird gemäß den offenbarten Ausführungsformen auch ein anderes Verfahren zur Herstellung einer OLED-Anzeigevorrichtung bereitgestellt. Das Verfahren zur Bildung einer OLED-Anzeigevorrichtung kann umfassen: Bilden eines Anordnungssubstrats; Bilden eines lichtemittierenden Moduls; und Verkapselung. Zu Darstellungszwecken wird hier die Herstellung des Anordnungssubstrats und lichtemittierenden Moduls beschrieben. Auf den Verkapselungsprozess kann sich ein beliebiger geeigneter Prozess anschließen.Furthermore, according to the disclosed embodiments, another method of manufacturing an OLED display device is also provided. The method of forming an OLED display device may include: forming an array substrate; Forming a light-emitting module; and encapsulation. For illustrative purposes, the fabrication of the array substrate and light emitting module will be described herein. The encapsulation process can be followed by any suitable process.
In 14 ist eine weitere beispielhafte Herstellung einer OLED-Anzeige dargestellt, die mit den offenbarten Ausführungsformen konsistent ist. In den 15a - 15e sind Anordnungen dargestellt, die bestimmten Stadien des beispielhaften Herstellprozesses entsprechen.In 14 FIG. 12 illustrates another exemplary fabrication of an OLED display that is consistent with the disclosed embodiments. In the 15a - 15e arrangements are shown which correspond to certain stages of the exemplary manufacturing process.
Wie in 14 gezeigt ist, wird zu Beginn des Herstellprozesses ein Substrat bereitgestellt; und eine Vorrichtungskomponentenschicht kann auf dem Substrat gebildet werden (S201). In 15a ist eine entsprechende Anordnung dargestellt. As in 14 is shown, a substrate is provided at the beginning of the manufacturing process; and a device component layer may be formed on the substrate ( S201 ). In 15a a corresponding arrangement is shown.
Wie in 15a gezeigt, ist ein Substrat 1 bereitgestellt; und eine Vorrichtungskomponentenschicht 3 ist auf dem Substrat 1 gebildet. Mit Bezugnahme auf 5 kann der Prozess zur Bildung der Vorrichtungskomponentenschicht 3 umfassen: Bilden einer Pufferschicht 20 auf dem Substrat 1; Bilden einer Halbleiterschicht 12 auf der Pufferschicht 20, indem eine Halbleitermaterialschicht abgeschieden und die Halbleitermaterialschicht dann geätzt wird; Bilden einer ersten Isolierschicht 22 auf der Halbleiterschicht 12; Bilden eines Gates 14 auf der Halbleiterschicht, indem eine Gate-Materialschicht abgeschieden und die Gate-Materialschicht dann geätzt wird; Bilden einer zweiten Isolierschicht 24 auf dem Gate 14; Bilden einer Source 18 und eines Drains 16 in der zweiten Isolierschicht 24 und elektrisches Verbinden mit der Halbleiterschicht 12, indem nacheinander Durchgangsöffnungen gebildet werden, welche die Halbleiterschicht 12 in der zweiten Isolierschicht 24 freilegen, eine Source/Drain-Materiaischicht in den Durchgangsöffnungen und auf der zweiten Isolierschicht 24 abgeschieden und die Source/Drain-Materialschicht dann geätzt wird; und Bilden einer dritten Isolierschicht 26 auf der zweiten Isolierschicht 24.As in 15a shown is a substrate 1 provided; and a device component layer 3 is on the substrate 1 educated. With reference to 5 For example, the process of forming the device component layer 3 comprising: forming a buffer layer 20 on the substrate 1 ; Forming a semiconductor layer 12 on the buffer layer 20 by depositing a semiconductor material layer and then etching the semiconductor material layer; Forming a first insulating layer 22 on the semiconductor layer 12 ; Forming a gate 14 on the semiconductor layer by depositing a gate material layer and then etching the gate material layer; Forming a second insulating layer 24 on the gate 14 ; Forming a source 18 and a drain 16 in the second insulating layer 24 and electrically connecting to the semiconductor layer 12 in that successive through openings are formed, which form the semiconductor layer 12 in the second insulating layer 24 expose a source / drain material layer in the vias and on the second insulating layer 24 deposited and then the source / drain material layer is etched; and forming a third insulating layer 26 on the second insulating layer 24 ,
Mit erneuter Bezugnahme auf 14 können nach Bereitstellung des Substrats 1 und Bildung der Vorrichtungskomponentenschicht 3 mehrere erste Elektroden gebildet werden (S202). In 15b ist eine Halbleiteranordnung dargestellt.With renewed reference to 14 can after provision of the substrate 1 and forming the device component layer 3 several first electrodes are formed ( S202 ). In 15b a semiconductor device is shown.
Wie in 15b gezeigt ist, sind mehrere erste Elektroden 28 über der Vorrichtungskomponentenschicht 3 gebildet. Jede der mehreren ersten Elektroden 28 kann einem Teilpixelbereich zugeordnet sein.As in 15b are shown are a plurality of first electrodes 28 over the device component layer 3 educated. Each of the first plurality of electrodes 28 may be associated with a subpixel area.
Der Prozess zur Bildung der mehreren ersten Elektroden 28 kann insbesondere umfassen: Bilden einer ersten Elektrodenmaterialschicht auf der Vorrichtungskomponentenschicht 3; Aufziehen einer Fotoresistschicht auf die erste Elektrodenmaterialschicht; Belichten der Fotoresistschicht unter Verwendung einer Maske mit vorgegebenen Mustern, und Entwickeln der belichteten Fotoresistschicht zur Bildung einer strukturierten Fotoresistschicht; und Ätzen der ersten Elektrodenmaterialschicht mittels der strukturierten Fotoresistschicht als Ätzmaske. Auf diese Art lassen sich die mehreren ersten Elektroden 28 bilden.The process of forming the plurality of first electrodes 28 In particular, it may include forming a first electrode material layer on the device component layer 3 ; Applying a photoresist layer to the first electrode material layer; Exposing the photoresist layer using a mask having predetermined patterns, and developing the exposed photoresist layer to form a patterned photoresist layer; and etching the first electrode material layer by means of the patterned photoresist layer as an etching mask. In this way, the multiple first electrodes can be 28 form.
Die ersten Elektroden 28 können aus einem beliebigen geeigneten Material bestehen. In einer Ausführungsform sind die ersten Elektroden 28 aus transparentem ITO hergestellt.The first electrodes 28 can be made of any suitable material. In an embodiment, the first electrodes are 28 made of transparent ITO.
Die erste Elektrodenmaterialschicht kann mittels eines beliebigen geeigneten Prozesses geätzt werden. In einer Ausführungsform wird die erste Elektrodenmaterialschicht durch einen Nassätzprozess geätzt, um die mehreren ersten Elektroden 28 zu bilden.The first electrode material layer may be etched by any suitable process. In an embodiment, the first electrode material layer is etched by a wet etching process to form the plurality of first electrodes 28 to build.
Mit erneutem Bezug auf 14 können nach Bildung der mehreren ersten Elektroden 28 eine Pixelbildungsschicht und mehrere Foto-Abstandshalter gebildet werden (S203). In 15c ist eine entsprechende Anordnung dargestellt.With renewed reference to 14 can after formation of multiple first electrodes 28 a pixel forming layer and a plurality of photo spacers are formed ( S203 ). In 15c a corresponding arrangement is shown.
Wie in 15c gezeigt, ist eine Pixelbildungsschicht 32 auf Oberflächenabschnitten der Vorrichtungskomponentenschicht 3 gebildet, die durch die ersten Elektroden 28 freigelegt sind. Die Pixelbildungsschicht 32 kann mehrere Öffnungsbereiche 217 aufweisen, die die mehreren ersten Elektroden 28 freilegen. Des Weiteren sind auf der Pixelbildungsschicht 32 mehrere Foto-Abstandshalter 215 gebildet, die mit vorbestimmten Mustern verteilt sind. Die Foto-Abstandshalter 215 können die Öffnungsbereiche 217 (oder Pixelbereiche 217) umgeben. Mit Bezugnahme auf 3 können die Foto-Abstandshalter 215 entlang der ersten Richtung X in einer ersten Foto-Abstandshaltergruppe 211 ausgerichtet sein. Die Foto-Abstandshalter 215 entlang der zweiten Richtung Y können in einer zweiten Foto-Abstandshaltergruppe 213 ausgerichtet sein. Die Projektion der ersten Foto-Abstandshaltergruppe 211 auf die erste Richtung X kann durchgehend sein; und die Projektion der zweiten Foto-Abstandshaltergruppe 213 auf die zweite Richtung Y kann durchgehend sein. Darüber hinaus kann sich die Projektion der ersten Foto-Abstandshaltergruppe 211 auf die erste Richtung X mit der Projektion der zweiten Foto-Abstandshaltergruppe 213 auf die zweite Richtung Y überkreuzen.As in 15c is a pixelization layer 32 on surface portions of the device component layer 3 formed by the first electrodes 28 are exposed. The pixel formation layer 32 can have several opening areas 217 comprising the plurality of first electrodes 28 uncover. Furthermore, on the pixel formation layer 32 several photo spacers 215 formed, which are distributed with predetermined patterns. The photo spacers 215 can the opening areas 217 (or pixel areas 217 ) surround. With reference to 3 can the photo spacers 215 along the first direction X in a first photo spacer group 211 be aligned. The photo spacers 215 along the second direction Y can in a second photo spacer group 213 be aligned. The projection of the first photo spacer group 211 in the first direction X can be continuous; and the projection of the second photo spacer group 213 in the second direction Y can be continuous. In addition, the projection of the first photo spacer group may be 211 in the first direction X with the projection of the second photo spacer group 213 in the second direction Y cross.
Der Prozess zur Bildung der Pixelbildungsschicht 32 und der mehreren, mit den vorbestimmten Mustern verteilten Foto-Abstandshaltern 215 kann umfassen: Bilden einer Schicht aus organischem Material auf den ersten Elektroden 28 und den Abschnitten der Vorrichtungskomponentenschicht 3, die durch die ersten Elektroden 28 freigelegt sind; und Durchführen eines Halbton-Belichtungsprozesses zur Belichtung der Schicht aus organischem Material mittels einer Halbtonmaske; und Entwickeln der belichteten Schicht aus organischem Material. Auf diese Art und Weise können die Pixelbildungsschicht 32 und die mehreren Foto-Abstandshalter 215 gleichzeitig gebildet werden. Das heißt, dass die Pixelbildungsschicht 32 und die mehreren Foto-Abstandshalter 215 durch ein und denselben Belichtungsprozess gebildet werden können.The process of forming the pixelization layer 32 and the plurality of photo spacers distributed with the predetermined patterns 215 may include forming a layer of organic material on the first electrodes 28 and the sections of the device component layer 3 passing through the first electrodes 28 are exposed; and performing a halftone exposure process to expose the layer of organic material by means of a halftone mask; and developing the exposed organic material layer. In this way, the pixelization layer can 32 and the several photo spacers 215 be formed at the same time. That is, the pixelization layer 32 and the several photo spacers 215 can be formed by one and the same exposure process.
Bei bestimmten anderen Ausführungsformen kann zur Belichtung der Schicht aus organischem Material anstelle der Halbtonmaske eine Grautonmaske verwendet werden. Um die in 15c dargestellten Anordnungen der Pixelbildungsschicht 32 und Foto-Abstandshalter 215 zu erhalten, kann die Durchlässigkeit des Graubereichs der Halbtonmaske oder Grautonmaske unter UV-Licht (i-Linie, 365 nm) in einem Bereich von ca. 10 % - 80 % liegen.In certain other embodiments, a gray tone mask may be used to expose the layer of organic material instead of the halftone mask. To the in 15c illustrated arrangements of the pixel formation layer 32 and photo spacers 215 For example, the transmittance of the gray area of the halftone mask or gray-tone mask under UV light (i-line, 365 nm) may be in a range of about 10% -80%.
Mit erneuter Bezugnahme auf 14 kann nach Bildung der Pixelbildungsschicht 32 und der Foto-Abstandshalter 215 eine lichtemittierende Schicht gebildet werden (S204). In 15d ist eine entsprechende Anordnung veranschaulicht.With renewed reference to 14 can after formation of the pixelization layer 32 and the photo spacer 215 a light-emitting layer are formed ( S204 ). In 15d a corresponding arrangement is illustrated.
Wie in 15d gezeigt, ist eine lichtemittierende Schicht 34 auf den ersten Elektroden 28 gebildet, die durch die Öffnungsbereiche 217 der Pixelbildungsschicht 32 freigelegt sind. Die lichtemittierende Schicht 34 kann durch einen beliebigen geeigneten Prozess gebildet werden. In einer Ausführungsform wird die lichtemittierende Schicht durch einen Verdampfungsprozess gebildet.As in 15d is a light-emitting layer 34 on the first electrodes 28 formed by the opening areas 217 the pixel formation layer 32 are exposed. The light-emitting layer 34 can be formed by any suitable process. In one embodiment, the light-emitting layer is formed by an evaporation process.
Insbesondere kann eine Maske auf der in 15c dargestellten Anordnung vorgesehen werden, um die Bereiche zu bedecken, die das lichtemittierende Material nicht aufweisen sollten; und ein lichtemittierendes Material kann verdampft werden, um die in 15d dargestellte lichtemittierende Schicht 34 zu bilden. Während des Verdampfungsprozesses kann die Vermischung zweier unterschiedlicher lichtemittierender Materialien verhindert werden, weil die Foto-Abstandshalter 215 eine Abblockfunktion gegenüber dem organischen, lichtemittierenden Material haben können.In particular, a mask on the in 15c arrangement provided to cover the areas which should not have the light-emitting material; and a light-emitting material may be evaporated to match those in 15d illustrated light-emitting layer 34 to build. During the evaporation process, the mixing of two different light-emitting materials can be prevented because the photo spacers 215 have a blocking function against the organic, light-emitting material.
Mit erneuter Bezugnahme auf 14 kann nach Bildung der organischen, lichtemittierenden Schicht 34 eine zweite Elektrode gebildet werden (S205). In 15e ist eine entsprechende Anordnung dargestellt.With renewed reference to 14 can after formation of the organic light-emitting layer 34 a second electrode are formed ( S205 ). In 15e a corresponding arrangement is shown.
Wie in 15e gezeigt ist, ist eine zweite Elektrode 36 auf der organischen, lichtemittierenden Schicht 34 gebildet. Die zweite Elektrode 36 kann auch die Foto-Abstandshalter 215 überdecken. Die zweite Elektrode 36 und die ersten Elektroden 28 können zusammen die organische, lichtemittierende Schicht 34 zur Aussendung von Licht ansteuern.As in 15e is shown is a second electrode 36 on the organic, light-emitting layer 34 educated. The second electrode 36 can also use the photo spacers 215 cover. The second electrode 36 and the first electrodes 28 Together, the organic, light-emitting layer 34 to control the emission of light.
Die zweite Elektrode 36 kann aus einem beliebigen geeigneten Material bestehen. In einer Ausführungsform ist die zweite Elektrode 36 aus einer Mg-Ag-Legierung hergestellt.The second electrode 36 can be made of any suitable material. In one embodiment, the second electrode is 36 made of a Mg-Ag alloy.
Nach Bildung der zweiten Elektrode 36 kann die in 15e dargestellte Anordnung mittels einer Abdeckplatte verkapselt werden. In bestimmten anderen Ausführungsformen kann ein organisches flexibles Substrat 1 auf einem starren Glassubstrat gebildet werden. Zum Beispiel kann eine Schicht aus Polyimid auf einem Glassubstrat abgeschieden werden, um ein flexibles Substrat 1 zu bilden. Dann können die Vorrichtungsanordnungen und das lichtemittierende Modul auf dem flexiblen Substrat 1 gebildet werden. Danach kann die Anordnung mittels eines Prozesses zur Verkapselung einer flexiblen Vorrichtung verkapselt werden. Dann kann das flexible Substrat 1 vom Glassubstrat abgelöst werden. Auf diese Art kann eine flexible OLED-Anzeigevorrichtung gebildet werden.After formation of the second electrode 36 can the in 15e represented arrangement are encapsulated by means of a cover plate. In certain other embodiments, an organic flexible substrate 1 be formed on a rigid glass substrate. For example, a layer of polyimide may be deposited on a glass substrate to form a flexible substrate 1 to build. Then, the device arrangements and the light-emitting module can be mounted on the flexible substrate 1 be formed. Thereafter, the assembly may be encapsulated by a process of encapsulating a flexible device. Then the flexible substrate 1 be detached from the glass substrate. In this way, a flexible OLED display device can be formed.
Somit können gemäß den offenbarten Anordnungen und Prozessen die in hoher Dichte vorliegenden Foto-Abstandshalter, die mit den vorbestimmten Mustern ausgerichtet sind, während der Verdampfung des organischen, lichtemittierenden Materials zur Bildung der lichtemittierenden Schicht das organische, lichtemittierende Material abblocken. Folglich können Überlappungsbereiche zwischen benachbarten Pixelbereichen verhindert werden. Demzufolge kann das Farbmischproblem an einer OLED-Anzeigevorrichtung vermieden werden.Thus, according to the disclosed arrangements and processes, the high density photo spacers aligned with the predetermined patterns may block the organic light emitting material during evaporation of the organic light emitting material to form the light emitting layer. As a result, overlapping areas between adjacent pixel areas can be prevented. As a result, the color mixing problem on an OLED display device can be avoided.
Des Weiteren können die Projektionen von Foto-Abstandshaltern durchgehend sein; und die Foto-Abstandshalter sind nicht verbunden und/oder überlappen einander nicht. Folglich können sie nicht dazu führen, dass die zweite Elektrode bricht; bzw. können den Widerstand der zweiten Elektrode nicht erhöhen.Furthermore, the projections of photo spacers may be continuous; and the photo spacers are not connected and / or do not overlap one another. Consequently, they can not cause the second electrode to break; or can not increase the resistance of the second electrode.
Fachleute können die Beschreibung als Ganzes nachvollziehen, und technische Merkmale in den verschiedenen Ausführungsformen können zu anderen Ausführungsformen kombiniert werden, die von diesen Durchschnittsfachleuten nachvollzogen werden können.Those skilled in the art may understand the specification as a whole, and technical features in the various embodiments may be combined into other embodiments that may be understood by those of ordinary skill in the art.