DE102015208170A1 - Irradiation device with a plurality of laser sources - Google Patents
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Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Bestrahlungsvorrichtung (1) mit einer Strahlungseinheit (2) aus einer Mehrzahl Laserquellen, einem Leuchtstoffelement (9) zur Konversion der Strahlung, einer Optik (6,7), welche die Strahlenbündel (5) in einer Bestrahlungsfläche (8) des Leuchtstoffelements (9) überlagert, wobei in dem Pfad der Strahlung von der Strahlungseinheit (2) zu der Bestrahlungsfläche (8) eine für die Strahlung reflektive Reflexionsfläche (11) dort angeordnet ist, wo die Strahlenbündel (5) überlappfrei sind, sodass die Strahlenbündel (5) der Laserquellen auf dem Strahlungspfad an der Reflexionsfläche (11) vorbeigehen, ein an dem Leuchtstoffelement (9) zurückreflektierter Teil der Strahlung jedoch zumindest zum Teil auf die Reflexionsfläche (11) fällt und so erneut zur Bestrahlungsfläche (8) geführt wird.The present invention relates to an irradiation device (1) comprising a radiation unit (2) comprising a plurality of laser sources, a phosphor element (9) for converting the radiation, an optic (6, 7) which illuminates the radiation beams (5) in an irradiation surface (8). superimposed on the phosphor element (9), wherein in the path of the radiation from the radiation unit (2) to the irradiation surface (8) a reflection surface (11) reflective for the radiation is arranged where the radiation beams (5) are free of overlap, so that the radiation beams (5) of the laser sources on the radiation path pass the reflection surface (11), but a part of the radiation reflected back on the phosphor element (9) at least partially falls on the reflection surface (11) and is guided again to the irradiation surface (8).
Description
Technisches GebietTechnical area
Die Erfindung betrifft eine Bestrahlungsvorrichtung mit einer Strahlungseinheit, die aus einer Mehrzahl Laserquellen aufgebaut ist.The invention relates to an irradiation device with a radiation unit, which is constructed from a plurality of laser sources.
Stand der TechnikState of the art
Lichtquellen hoher Leuchtdichte können bspw. im Bereich der Endoskopie oder bei Projektionsgeräten Anwendung finden. Wenngleich dabei Gasentladungslampen gegenwärtig noch am weitesten verbreitet sind, gehen jüngere Entwicklungen dahin, eine Strahlungsquelle hoher Leistungsdichte, etwa einen Laser, mit einem die davon emittierte Strahlung konvertierenden Leuchtstoffelement zu kombinieren. Das Leuchtstoffelement wird zu der Strahlungsquelle beabstandet angeordnet und konvertiert dann im Betrieb bspw. blaue oder ultraviolette Pumpstrahlung zu sichtbarem Konversionslicht.Light sources of high luminance can be used, for example, in the field of endoscopy or in projection devices. Although gas discharge lamps are still the most prevalent at this time, recent developments have been to combine a high power density radiation source, such as a laser, with a phosphor element that converts the radiation emitted therefrom. The phosphor element is arranged at a distance from the radiation source and then converts blue or ultraviolet pump radiation into visible conversion light during operation, for example.
Darstellung der ErfindungPresentation of the invention
Der vorliegenden Erfindung liegt das technische Problem zugrunde, eine besonders vorteilhafte Bestrahlungsvorrichtung anzugeben.The present invention is based on the technical problem of specifying a particularly advantageous irradiation device.
Erfindungsgemäß wird dieses Problem gelöst mit einer Bestrahlungsvorrichtung mit einer aus einer Mehrzahl Laserquellen aufgebauten Strahlungseinheit, welche Laserquellen jeweils zur Emission von Strahlung in Form eines Strahlenbündels ausgelegt sind, einem Leuchtstoffelement zur Konversion der Strahlung, einer Optik, welche die Strahlenbündel in einer Bestrahlungsfläche des Leuchtstoffelements überlagert, und einer für die Strahlung reflektiven Reflexionsfläche, welche in einem Pfad der Strahlung von der Strahlungseinheit zu der Bestrahlungsfläche dort angeordnet ist, wo die Strahlenbündel überlappfrei sind, sich also zwischen nächstbenachbarten Strahlenbündeln jeweils ein Zwischenraum findet, wobei die Reflexionsfläche in den Zwischenräumen angeordnet ist, sodass die Strahlenbündel auf dem Strahlungspfad an der Reflexionsfläche vorbeigehen, ein an dem Leuchtstoffelement zurückreflektierter Teil der Strahlung jedoch zumindest zum Teil auf die Reflexionsfläche fällt und so erneut zur Bestrahlungsfläche geführt wird.According to the invention, this problem is solved with an irradiation device having a radiation unit constructed from a plurality of laser sources, which laser sources are each designed to emit radiation in the form of a beam, a phosphor element for converting the radiation, an optic which superimposes the radiation beam in an irradiation surface of the phosphor element and a reflective surface reflective for the radiation, which is arranged in a path of the radiation from the radiation unit to the irradiation surface where the radiation beams are free of overlap, ie there is a space between adjacent adjacent radiation beams, wherein the reflection surface is arranged in the intermediate spaces, so that the radiation beams pass on the radiation path on the reflection surface, but a part of the radiation reflected back on the phosphor element at least partly falls onto the reflection surface and is led again to the irradiation area.
Bevorzugte Ausführungsformen finden sich in den abhängigen Ansprüchen und der gesamten übrigen Offenbarung, wobei in der Darstellung nicht immer im Einzelnen zwischen Vorrichtungs- und Verwendungsaspekten unterschieden wird; jedenfalls implizit ist die Offenbarung hinsichtlich sämtlicher Anspruchskategorien zu lesen.Preferred embodiments are to be found in the dependent claims and the rest of the remaining disclosure, wherein the presentation is not always distinguished in detail between device and use aspects; In any case, implicitly, the disclosure must be read with regard to all categories of claims.
Bei der erfindungsgemäßen Bestrahlungsvorrichtung wird also eine für die Strahlung reflektive Reflexionsfläche derart zwischen der Strahlungseinheit und der Bestrahlungsfläche vorgesehen, dass zunächst die Strahlenbündel auf dem Strahlungspfad daran vorbeigehen. Der „Strahlungspfad“ bezieht sich auf den Weg von der Strahlungseinheit zur Bestrahlungsfläche. Der Erfinder hat festgestellt, dass an der Bestrahlungsfläche ein gewisser Teil der Strahlung zurückreflektiert werden kann, bspw. aufgrund von Streueffekten. Dieser zurückreflektierte Teil der Strahlung nimmt einen dem Strahlungspfad entgegengesetzten Rückstrahlungspfad von der Bestrahlungsfläche zu der Strahlungseinheit. Bei der Rückreflexion kann der Öffnungswinkel der einzelnen Strahlenbündel bspw. auch vergrößert werden, sodass also die zurückreflektierte Strahlung dann vergleichsweise großflächig auf die Reflexionsfläche fallen kann, daran reflektiert und damit erneut zu der Bestrahlungsfläche geführt wird. In the case of the irradiation device according to the invention, therefore, a reflection surface reflective for the radiation is provided between the radiation unit and the irradiation surface in such a way that initially the ray bundles pass by on the radiation path. The "radiation path" refers to the path from the radiation unit to the irradiation surface. The inventor has found that a certain part of the radiation can be reflected back at the irradiation surface, for example due to scattering effects. This back-reflected part of the radiation takes a return path, which is opposite to the radiation path, from the irradiation surface to the radiation unit. In the case of the return reflection, the opening angle of the individual ray bundles can also be increased, for example, so that the reflected-back radiation can then fall onto the reflection surface over a comparatively large area, is reflected thereon and thus guided again to the irradiation surface.
Im Ergebnis wird ein größerer Teil der von der Strahlungseinheit emittierten Strahlung tatsächlich auch genutzt, also die Effizienz erhöht. In Modellrechnungen hat der Erfinder für eine im Kontext der Ausführungsbeispiele dann im Detail erläuterte Anordnung mit der Reflexionsfläche eine Erhöhung des Anteils der tatsächlich in das Leuchtstoffelement eingetragenen Strahlung von 84,6 % ohne Reflexionsfläche auf 91,1 % mit Reflexionsfläche beobachtet (jeweils von der von der Strahlungseinheit emittierten Strahlung). Dies ist bereits einem idealen Wert von 93,4 % nahe, der sich bei einer Rechnung ohne Leuchtstoffelement ergibt (ein Verlust von 6,6 % tritt im übrigen optischen Aufbau auf).As a result, a greater part of the radiation emitted by the radiation unit is actually also used, thus increasing the efficiency. In model calculations, the inventor has observed for an in the context of the embodiments then explained in detail arrangement with the reflection surface an increase of the proportion of actually registered in the phosphor element radiation of 84.6% without reflection surface to 91.1% with reflection surface (each of the the radiation unit emitted radiation). This is already close to an ideal value of 93.4%, which results in a calculation without phosphor element (a loss of 6.6% occurs in the rest of the optical design).
Dabei wird die für die Strahlung reflektive Reflexionsfläche dort im Strahlungspfad angeordnet, wo die Strahlenbündel nicht überlappen und es dementsprechend Zwischenräume dazwischen gibt. In diesen Zwischenräumen und damit zwischen den Strahlenbündeln ist die Reflexionsfläche angeordnet, sodass die Strahlenbündel auf dem Strahlungspfad an der Reflexionsfläche vorbeigehen. Zwei nächstbenachbarte Strahlenbündel sind „überlappfrei“, wenn sich ihre Mantelflächen nicht schneiden oder berühren, also zueinander beabstandet sind. Bevorzugt ist ein kleinster von Mantelfläche zu Mantelfläche genommener Abstand von mindestens 1/10, 1/5, 3/10, 2/5, 1/2, 3/5, 7/10, 4/5 bzw. 9/10 des mittleren Durchmessers der beiden betrachteten Strahlenbündel in der Ebene der Reflexionsfläche. Der Durchmesser eines Strahlenbündels ergibt sich als Mittelwert dessen kleinster und größter Erstreckung senkrecht zur Hauptausbreitungsrichtung des Strahlenbündels. Der „mittlere Durchmesser“ ist der Mittelwert der beiden Strahlbündeldurchmesser.In this case, the reflection surface reflective for the radiation is arranged there in the radiation path where the radiation beams do not overlap and there are correspondingly intermediate spaces between them. In these intermediate spaces and thus between the radiation beams, the reflection surface is arranged, so that the radiation beams pass on the radiation path on the reflection surface. Two nearest adjacent radiation beams are "overlapping-free" if their lateral surfaces do not intersect or touch, ie are spaced apart from one another. Preferably, a minimum taken from lateral surface to lateral surface distance of at least 1/10, 1/5, 3/10, 2/5, 1/2, 3/5, 7/10, 4/5 and 9/10 of the middle Diameter of the two considered bundles of rays in the plane of the reflection surface. The diameter of a beam results as the average value of its smallest and largest extent perpendicular to the main propagation direction of the beam. The "mean diameter" is the average of the two beam diameter.
Die Mantelfläche eines Strahlenbündels soll in einer zur Hauptausbreitungsrichtung des Strahlenbündels senkrechten Schnittebene betrachtet dort liegen, wo die Strahlungsleistung auf die Hälfte des Maximums abgefallen ist; diese Definition ist bevorzugt, im Allgemeinen könnte der Rand bspw. auch dorthin gelegt werden, wo die Strahlungsleistung auf 1/e abgefallen ist. Die „Hauptrichtung“ eines Strahlenbündels ergibt sich im jeweilig betrachteten Abschnitt als Mittelwert sämtlicher Richtungsvektoren des Strahlenbündels, wobei bei dieser Mittelwertbildung jeder Richtungsvektor mit der ihm zugehörigen Strahlstärke gewichtet wird.The lateral surface of a beam should in a direction of the main propagation of the Seen beam bundle vertical sectional plane considered where the radiation power has dropped to half of the maximum; this definition is preferred, in general the edge could, for example, also be placed where the radiation power has fallen to 1 / e. The "main direction" of a ray bundle results in the respectively considered section as the mean value of all the direction vectors of the ray bundle, wherein in this averaging each direction vector is weighted with its associated beam strength.
Im Allgemeinen muss ein Strahlenbündel im Bereich der Reflexionsfläche nicht mit sämtlichen ihm nächstbenachbarten Strahlenbündeln überlappfrei vorliegen, sondern kann bspw. im Falle einer matrixförmigen Anordnung (siehe unten im Detail) die Überlappfreiheit z. B. auch nur zwischen den Zeilen, aber nicht innerhalb der Zeilen oder zwischen den Spalten, aber nicht innerhalb der Spalten bestehen. Vorzugsweise sind jedoch sämtliche Strahlenbündel überlappfrei.In general, a bundle of rays in the region of the reflection surface does not have to be present without overlap with all the bundles of rays nearest to it, but can, for example, in the case of a matrix-like arrangement (see below in detail), be free of overlap. Also only between the rows, but not within the rows or between the columns, but not within the columns. Preferably, however, all the radiation beams are free of overlaps.
Es können bspw. per definitionem jene Strahlenbündel als „nächstbenachbart“ zu einem Strahlenbündel betrachtet werden, die von einem Kreis geschnitten werden, der in einer zur Mittenachse des Strahlenbündels senkrechten Ebene um diese Mittenachse gezogen wird. Die „Mittenachse“ liegt parallel zur Hauptausbreitungsrichtung des Strahlenbündels im betrachteten Abschnitt und erstreckt sich mittig im Strahlenbündel, liegt also in einer zur Hauausbreitungsrichtung senkrechten Schnittebene betrachtet im Flächenschwerpunkt (der Querschnittfläche des Strahlenbündels, genommen bis zur Mantelfläche). Der Radius des Kreises soll dabei dem 1,5-fachen des kleinsten Abstands entsprechen, der sich bei einem Vergleich der jeweils von der Mittenachse des betrachteten Strahlenbündels zu den Mittenachsen der umgebenden Strahlenbündel genommenen Abstände ergibt.For example, by definition, those beams may be considered to be "nearest" to a beam that is intersected by a circle drawn about that center axis in a plane perpendicular to the center axis of the beam. The "center axis" is parallel to the main direction of propagation of the beam in the considered section and extends centrally in the beam, so in a plane perpendicular to the Hauausbreitungsbene cutting plane viewed in the centroid (the cross-sectional area of the beam, taken to the outer surface). The radius of the circle should correspond to 1.5 times the smallest distance, which results in a comparison of the distances taken in each case from the center axis of the observed beam to the central axes of the surrounding beam.
Der Reflexionsgrad der Reflexionsfläche soll (gemittelt über den Spektralbereich der Strahlung, also der Laserstrahlung) bspw. bei mindestens 85 %, in dieser Reihenfolge zunehmend bevorzugt bei mindestens 86 %, 87 %, 88 %, 89 %, 90 %, 91 %, 92 %, 93 %, 94 % bzw. 95 %, liegen. Vorzugweise bildet ein metallisches Material die Reflexionsfläche, etwa Aluminium oder Silber.The reflectance of the reflection surface should (at least over the spectral range of the radiation, ie the laser radiation) at least 85%, in this order increasingly preferably at least 86%, 87%, 88%, 89%, 90%, 91%, 92 %, 93%, 94% and 95%, respectively. Preferably, a metallic material forms the reflective surface, such as aluminum or silver.
In bevorzugter Ausgestaltung ist die Reflexionsfläche plan, also eben. Weiter bevorzugt liegt die plane Reflexionsfläche in einer Ebene, auf welcher jedes der Strahlenbündel mit seiner jeweiligen Hauptausbreitungsrichtung senkrecht steht.In a preferred embodiment, the reflection surface is flat, that is flat. More preferably, the planar reflection surface lies in a plane on which each of the radiation beams is perpendicular with its respective main propagation direction.
Bei einer bevorzugten Ausfünrungsform ist die Reflexionsfläche eine zusammenhängende Fläche, welche für zumindest einen Teil der Strahlenbündel jeweils lochförmig unterbrochen ist, nämlich zumindest für die mittig liegenden Strahlenbündel. Eine „lochförmige Unterbrechung“ wird umlaufend von der Reflexionsfläche eingefasst (in Bezug auf deren Flächenrichtungen), also in der Ebene der Reflexionsfläche umlaufend von dieser begrenzt. Die außenliegenden Strahlenbündel müssen im Allgemeinen nicht notwendigerweise vollständig von der Reflexionsfläche eingefasst sein; vorzugsweise ist die Reflexionsfläche jedoch für jedes der Strahlenbündel jeweils lochförmig unterbrochen. Die Form und Orientierung einer lochförmigen Unterbrechung entspricht vorzugsweise der Form und Orientierung des jeweiligen Strahlenbündels (in einer die Reflexionsfläche der Reflexionsschicht beinhaltenden Ebene), was eine möglichst großflächige Reflexionsschicht ermöglicht.In a preferred embodiment, the reflection surface is a contiguous surface which is interrupted in each case in a hole-shaped manner for at least a part of the radiation bundles, namely at least for the centrally located radiation bundles. A "hole-shaped interruption" is peripherally bordered by the reflection surface (with respect to their surface directions), that is, bounded in the plane of the reflection surface circumferentially thereof. The outboard beams generally need not be completely enclosed by the reflective surface; Preferably, however, the reflection surface is interrupted in each case in a hole-shaped manner for each of the ray bundles. The shape and orientation of a hole-shaped interruption preferably corresponds to the shape and orientation of the respective beam (in a plane containing the reflection surface of the reflection layer), which allows a reflection layer of the largest possible area.
Bei den Laserquellen handelt es sich vorzugsweise um Laserdioden. In der Strahlungseinheit sind die Laserquellen bevorzugt gemeinsam gehäust, also bspw. auf einem gemeinsamen Träger montiert und vorzugsweise gemeinsam in einem nach außen hin mit bspw. einer (transmissiven) Deckplatte abgeschlossenen Volumen gehalten.The laser sources are preferably laser diodes. In the radiation unit, the laser sources are preferably housed together, that is, for example, mounted on a common carrier and preferably held together in a volume closed off to the outside with, for example, a (transmissive) cover plate.
Bei einer bevorzugten Ausführungsform sind die Laserquellen matrixförmig angeordnet und sind auch die lochförmigen Unterbrechungen in der Reflexionsfläche entsprechend matrixförmig angeordnet. „Matrixförmig“ meint in Zeilen und Spalten mit jeweils mindestens zwei Laserquellen bzw. zwei lochförmigen Unterbrechungen; vorzugsweise ist je Zeile und Spalte die Anzahl der lochförmigen Unterbrechungen gleich der Anzahl der Laserquellen (siehe vorne).In a preferred embodiment, the laser sources are arranged in the form of a matrix and also the hole-shaped interruptions in the reflection surface are arranged corresponding to a matrix. "Matrix-shaped" means in rows and columns, each with at least two laser sources or two hole-shaped interruptions; Preferably, the number of hole-shaped interruptions per row and column is equal to the number of laser sources (see above).
Im Allgemeinen muss die matrixförmige Anordnung nicht zwingend regelmäßig sein, vorzugsweise sind die Zeilen gerade und/oder die Spalten gerade, besonders bevorzugt beides. Vorzugsweise sind die Zeilenabstände (die Abstände unmittelbar aufeinander folgender Zeilen) untereinander und/oder die Spaltenabstände (die Abstände unmittelbar aufeinander folgender Spalten) untereinander konstant, besonders bevorzugt gilt beides. Im Falle der Laserquellen wird hierbei, also etwa zur Ermittlung der Zeilen-/Spaltenabstände, je Laserquelle der Flächenschwerpunkt der jeweiligen Lichtabstrahlfläche zugrunde gelegt. Im Falle der lochförmigen Unterbrechungen wird jeweils deren Mittelpunkt zugrunde gelegt; der Mittelpunkt einer lochförmigen Unterbrechung ist gleich dem Flächenschwerpunkt einer gedachten, die lochförmige Unterbrechung bis zu deren Einfassung ausfüllenden Fläche.In general, the matrix-shaped arrangement does not necessarily have to be regular, preferably the rows are straight and / or the columns are straight, particularly preferably both. Preferably, the line spacing (the distances of immediately consecutive lines) with each other and / or the column spacing (the distances of immediately consecutive columns) are constant with each other, particularly preferably both. In the case of the laser sources, in this case, ie for determining the row / column distances, the center of mass of the respective light emission surface is used as the basis for each laser source. In the case of hole-shaped interruptions, the center of each is used; the center of a hole-shaped interruption is equal to the centroid of an imaginary, the hole-shaped interruption filling up to their border surface.
Bei einer bevorzugten Ausführungsform ist die Reflexionsfläche an einem Grundkörper ausgebildet, der mit den lochförmigen Unterbrechungen deckungsgleich gelocht ist, vorzugsweise als Stanzteil. Dabei kann der Grundkörper selbst, also eine Oberfläche davon, die Reflexionsfläche bilden, etwa im Falle eines gelochten Aluminiumblechs. Andererseits kann auf den Grundkörper auch eine weitere, in der Regel im Vergleich zum Grundkörper dünnere Schicht als Reflexionsschicht aufgebracht sein, bspw. eine Silberschicht, deren Oberfläche dann die Reflexionsfläche bildet. Jedenfalls ist der deckungsgleich mit den lochförmigen Unterbrechungen unterbrochene Grundkörper bevorzugt nicht transmissiv für die Strahlung.In a preferred embodiment, the reflection surface is formed on a base body which is perforated congruently with the hole-shaped interruptions, preferably as a stamped part. In this case, the main body itself, so a Surface thereof, the reflection surface form, such as in the case of a perforated aluminum sheet. On the other hand, it is also possible to apply a further thinner layer, as a rule thinner compared to the main body, to the base body as a reflection layer, for example a silver layer whose surface then forms the reflection surface. In any case, the basic body which is congruent with the hole-shaped interruptions is preferably not transmissive to the radiation.
Bei einer anderen bevorzugten Ausführungsform ist ein für die Strahlung transmissiver Grundkörper vorgesehen, auf welchem eine die Reflexionsfläche bildende Reflexionsschicht angeordnet ist. Der Grundkörper ist in diesem Fall im Bereich der lochförmigen Unterbrechungen der Reflexionsfläche nicht unterbrochen, sondern durchgehend ausgebildet, wird also im Betrieb von den Strahlenbündeln durchstrahlt. Bevorzugt ist der Grundkörper in diesem Fall aus Glas vorgesehen; auf den Grundkörper kann die Reflexionsschicht abgeschieden sein, bspw. aufgedampft oder aufgesputtert.In another preferred embodiment, a body transmissive to the radiation is provided, on which a reflection surface forming reflection layer is arranged. The base body is not interrupted in this case in the region of the hole-shaped interruptions of the reflection surface, but formed continuously, is thus irradiated by the beams in operation. Preferably, the base body is provided in this case made of glass; On the main body, the reflective layer may be deposited, for example. Vapor deposited or sputtered.
Bei einer bevorzugten Ausführungsform weist die Optik, welche die Strahlenbündel in der Bestrahlungsfläche überlagert, zur Überlagerung der Strahlenbündel eine Sammellinse auf. Vorzugsweise ist dieser Sammellinse, welche sämtliche Strahlenbündel durchsetzen, eine Mikrolinsen-Anordnung mit einer Vielzahl nebeneinander angeordneter Mikrosammellinsen (im Folgenden auch nur „Mikrolinsen“) vorgelagert (in Bezug auf den Strahlungspfad). Die Mikrolinsen der Mikrolinsen-Anordnung sind in Bezug auf den Strahlungspfad „nebeneinander“ angeordnet, also parallel geschaltet; auf dem Strahlungspfad durchsetzt die durch eine Mikrolinse gefallene Strahlung also keine andere der nebeneinander angeordneten Mikrolinsen.In a preferred embodiment, the optics, which superimposed on the radiation beam in the irradiation surface, for superimposing the beam on a converging lens. Preferably, this convergent lens, which penetrate all the beam bundles, a micro-lens array with a plurality of juxtaposed micro-collection lenses (hereinafter also only "microlenses") upstream (with respect to the radiation path). The microlenses of the microlens array are arranged "side by side" with respect to the radiation path, ie connected in parallel; on the radiation path, therefore, the radiation which has fallen through a microlens does not penetrate another of the microlenses arranged next to one another.
Die auf die Mikrolinsen-Anordnung fallende Strahlung wird davon in Teil-Strahlenbündel untergliedert, und zwar in ein Teil-Strahlenbündel je Mikrolinse. Mit jedem Strahlenbündel werden jeweils mehrere Mikrolinsen gleichzeitig durchstrahlt, es liegen dann also jeweils mehrere Teil-Strahlenbündel vor. Die Sammellinse überlagert die Teil-Strahlenbündel dann in der Bestrahlungsfläche, vorzugsweise deckungsgleich. So lässt sich eine gleichmäßige Bestrahlungsstärkeverteilung erreichen. Dies kann ein wesentlicher Vorteil der Kombination aus Mikrolinsen-Anordnung und Sammellinse sein.The radiation falling on the microlens array is subdivided by it into sub-beams, into a sub-beam per microlens. With each beam, several microlenses are irradiated at the same time, so there are then each several sub-beams before. The converging lens then superimposes the partial beam bundles in the irradiation surface, preferably congruently. Thus, a uniform irradiance distribution can be achieved. This can be a significant advantage of the combination of microlens array and condenser lens.
Die „Bestrahlungsfläche“ des Leuchtstoffelements ist übrigens der tatsächlich bestrahlte Bereich davon, kann also bspw. ein Teilbereich einer flächenmäßig größeren Bestrahlungsseite des Leuchtstoffelements sein.Incidentally, the "irradiation surface" of the phosphor element is actually the irradiated region thereof, that is, it may be, for example, a subregion of a surface area of the phosphor element which is larger in terms of surface area.
„Mikrolinsen-Anordnung“ kann sowohl auf eine einfache als auch auf eine zweifache Mikrolinsen-Anordnung zu lesen sein, wobei im Falle letzterer die Mikrolinsen jeweils paarweise zusammenwirkend in Serie geschaltet sind. Die zweifache Mikrolinsen-Anordnung ist also insoweit aus zwei nacheinander angeordneten einfachen Mikrolinsen-Anordnungen aufgebaut, wobei die Mikrolinsen der zweiten Anordnung jenen der ersten hinsichtlich Größe, Form, Relativanordnung zueinander (innerhalb der jeweiligen Mikrolinsen-Anordnung) und Brennweite entsprechen sollen. Die Mikrolinsen-Anordnungen sind dann derart vorgesehen, dass jede Mikrolinse der ersten Anordnung mit jeweils einer Mikrolinse der zweiten Anordnung paarweise zusammenwirkt, also jedes eben beschriebene Teil-Strahlenbündel genau eine Mikrolinse der ersten und genau eine Mikrolinse der zweiten Anordnung durchsetzt (innerhalb des Akzeptanzwinkelbereichs). "Microlens array" can be read on both a single and a double microlens array, in the latter case, the microlenses are each pairwise connected in series in series. The two-fold microlens arrangement is so far constructed of two successively arranged simple microlens arrays, the microlenses of the second arrangement should correspond to those of the first in terms of size, shape, relative to each other (within the respective microlens array) and focal length. The microlens arrays are then provided in such a way that each microlens of the first array interacts in pairs with one microlens of the second array, ie each sub-beam just described penetrates exactly one microlens of the first and exactly one microlens of the second array (within the acceptance angle range). ,
Je solchem Mikrolinsen-Paar ist bevorzugt die hintere Mikrolinse in der hinteren Brennebene der vorderen Mikrolinse angeordnet und die vordere Mikrolinse in der vorderen Brennebene der hinteren Mikrolinse. Die Angaben „vordere“/„hintere“ und „vorgelagert“/„nachgelagert“ beziehen sich generell im Rahmen dieser Offenbarung auf den Strahlungspfad (von der Strahlungseinheit zur Bestrahlungsfläche).For each pair of microlenses, the rear microlens is preferably located in the back focal plane of the front microlens, and the front microlens in the front focal plane of the rear microlens. The terms "front" / "rear" and "upstream" / "downstream" generally refer in the context of this disclosure to the radiation path (from the radiation unit to the irradiation surface).
In bevorzugter Ausgestaltung ist die Reflexionsfläche in die Optik integriert. Vorzugsweise ist eine die Reflexionsfläche bildende Reflexionsschicht zwischen der Mikrolinsen-Anordnung und der Sammellinse angeordnet, bspw. auf einer Austrittsfläche der Mikrolinsen-Anordnung. In die Optik „integriert“ meint im Allgemeinen, dass die Reflexionsfläche auf der ersten Eintrittsfläche der Optik oder ihrer letzten Austrittsfläche oder zwischen den beiden angeordnet ist; es kann also bspw. auch ein vorstehend beschriebenes gelochtes Blech, etwa ein Stanzteil, zwischen der Mikrolinsen-Anordnung und der Sammellinse platziert werden. Bevorzugt ist eine Integration der Reflexionsfläche dahingehend, dass eine die Reflexionsfläche bildende Reflexionsschicht auf eine Linse der Optik aufgebracht ist.In a preferred embodiment, the reflection surface is integrated into the optics. Preferably, a reflection layer forming the reflection surface is arranged between the microlens arrangement and the converging lens, for example on an exit surface of the microlens arrangement. Generally, "integrated" in the optics means that the reflective surface is located on the first entrance surface of the optic or its last exit surface, or between the two; Thus, for example, it is also possible for an above-described perforated metal sheet, for example a stamped part, to be placed between the microlens arrangement and the converging lens. Preferably, an integration of the reflection surface is such that a reflection layer forming the reflection surface is applied to a lens of the optics.
In bevorzugter Ausgestaltung ist die Sammellinse ein aus einer Mehrzahl Einzellinsen aufgebautes Linsensystem und ist zumindest eine dieser Einzellinsen plan-konvex. Die Reflexionsfläche ist dann bevorzugt an einer auf der planen Seite dieser plan-konvexen Einzellinse angeordneten Reflexionsschicht ausgebildet. In diesem Fall ist der vorstehend genannte, für die Strahlung transmissive Grundkörper dann also die plan-konvexe Linse. Ein Vorteil dieser Integration kann bspw. darin bestehen, dass weniger Einzelteile relativ zueinander justiert werden müssen.In a preferred embodiment, the converging lens is a lens system constructed from a plurality of individual lenses, and at least one of these individual lenses is plano-convex. The reflection surface is then preferably formed on a reflection layer arranged on the flat side of this plano-convex single lens. In this case, the abovementioned body transmissive to the radiation is then the plano-convex lens. An advantage of this integration may, for example, be that fewer items must be adjusted relative to each other.
Im Folgenden wird auf einen „Gesamthauptstrahl“ der Strahlenbündel Bezug genommen, welcher sich als Mittelwert der jeweils mit ihrer Strahlstärke gewichteten Strahlen der einzelnen Strahlenbündel ergibt. Jedes der Strahlenbündel kann mit einer Vielzahl Strahlen beschrieben werden, und bei der Mittelwertbildung wird ein Mittelwert über die Gesamtheit dieser Stahlen der Strahlenbündel gebildet. Der Gesamthauptstrahl wird dabei in der Ebene der Reflexionsfläche betrachtet. In dieser Ebene kann sich der Fußpunkt des Gesamthauptstrahls bspw. als Flächenschwerpunkt der (in derselben Ebene betrachteten) Querschnittsflächen der Strahlenbündel ergeben, wobei die Querschnittflächen jeweils mit der Bestrahlungsstärke gewichtet werden. Die Richtung des Gesamthauptstrahls kann sich als Mittelwert sämtlicher mit der jeweiligen Strahlstärke gewichteten Hauptausbreitungsrichtungen (der Strahlenbündel) ergeben und steht vorzugsweise senkrecht auf der Ebene der Reflexionsfläche. Der Gesamthauptstrahl kann bspw. auch mit einer Symmetrieachse zusammenfallen, um welche die Querschnittsflächen der Strahlenbündel (in der Ebene der Reflexionsfläche) zueinander drehsymmetrisch sind. In the following, reference is made to a "total principal ray" of the ray bundles, which results as the mean value of the rays of the individual ray bundles weighted in each case with their ray intensity. Each of the beams may be described with a plurality of beams, and in averaging, an average is formed over the entirety of these beams of the beams. The total main beam is considered in the plane of the reflection surface. In this plane, the base point of the overall main beam may, for example, be the centroid of the cross-sectional areas of the radiation beams (considered in the same plane), the cross-sectional areas being weighted in each case with the irradiance. The direction of the overall main beam may be obtained as the average of all the main beam propagation directions weighted by the respective beam strength (the beam) and is preferably perpendicular to the plane of the reflection surface. For example, the overall main beam can also coincide with an axis of symmetry about which the cross-sectional areas of the radiation beams (in the plane of the reflection surface) are rotationally symmetrical to each other.
In bevorzugter Ausgestaltung sind eine optische Achse der Sammellinse und der Gesamthauptstrahl zueinander versetzt. Sie erstrecken sich also mit gewissem Abstand zueinander und dabei vorzugsweise parallel zueinander. Etwa im Falle einer vorstehend beschriebenen, matrixförmigen Anordnung der Laserquellen kann sich so bspw. der Anteil, zu dem zurückgestreutes Licht durch eine lochförmige Unterbrechung an der Reflexionsfläche vorbeigeht, z. T. deutlich verringern lassen. Die „optische Achse“ der Sammellinse ist eine Symmetrieachse, zu welcher eine bzw. die gekrümmte(n) lichtbrechende(n) Fläche(n) der Linse zumindest drehsymmetrisch, vorzugsweise rotationssymmetrisch, sind.In a preferred embodiment, an optical axis of the converging lens and the total main beam are offset from each other. They thus extend with a certain distance from one another and preferably parallel to one another. For example, in the case of a matrix-like arrangement of the laser sources described above, the proportion to which the backscattered light passes by a hole-shaped interruption on the reflection surface, for example. T. let reduce significantly. The "optical axis" of the converging lens is an axis of symmetry to which one or the curved refractive surface (s) of the lens is at least rotationally symmetric, preferably rotationally symmetrical.
Der Erfinder hat festgestellt, dass bei der Rückreflexion an der Bestrahlungsfläche ein gerichteter Anteil zumindest enthalten und sogar auch dominant sein kann. In anderen Worten wird also nicht das gesamte zurückreflektierte Licht diffus gestreut, sondern wird ein mitunter erheblicher Teil nach dem Reflexionsgesetz (Einfallswinkel = Ausfallswinkel) reflektiert. Würden der Gesamthauptstrahl und die optische Achse der Sammellinse zusammenfallen, würde im Falle einer regelmäßigen Anordnung der Strahlungsquellen (welche bevorzugt ist) dann der an der Bestrahlungsfläche reflektierte Teil eines Strahlenbündels einen Weg nehmen, der dem Strahlungspfad eines anderen Strahlenbündels genau entgegengesetzt liegt. In der Folge würde die an der Bestrahlungsfläche reflektierte Strahlung bspw. durch eine einem anderen Strahlenbündel zugeordnete lochförmige Unterbrechung an der Reflexionsfläche vorbeigehen. Der Versatz hingegen bewirkt, dass nicht genau von lochförmiger Unterbrechung zu lochförmiger Unterbrechung gespiegelt wird.The inventor has found that in the case of the return reflection at the irradiation surface, a directed portion can at least contain and even be dominant. In other words, not all the light reflected back is scattered diffusely, but a sometimes considerable part is reflected according to the law of reflection (angle of incidence = angle of reflection). If the total principal ray and the optical axis of the condenser lens coincided, in the case of a regular arrangement of the radiation sources (which is preferred) then the part of a radiation beam reflected at the irradiation surface would take a path exactly opposite the radiation path of another radiation beam. As a result, the radiation reflected at the irradiation surface would, for example, pass the reflecting surface through a hole-shaped interruption associated with another beam. The offset, on the other hand, does not accurately mirror from a hole-shaped break to a hole-shaped break.
Vorstehend wurde bereits auf den (in der Ebene der Reflexionsfläche) von Strahlenbündel-Mittenachse zu Strahlenbündel-Mittenachse genommenen Abstand d Bezug genommen, den ein Strahlenbündel jeweils zu einem seiner nächstbenachbarten Strahlenbündel hat. In bevorzugter Ausgestaltung sind die optische Achse der Sammellinse und der Gesamthauptstrahl um mindestens (1/8)·n·d und um höchstens (3/8)·n·d zueinander versetzt, wobei n eine natürliche Zahl ≥ 1 ist. Für die Ober- und Untergrenze wird dabei dieselbe natürliche Zahl zugrunde gelegt. Bevorzugt ist n nicht größer als 10, 5 bzw. 2, vorzugsweise ist n = 1. Bevorzugt ist ein Versatz zwischen Gesamthauptstrahl und optischer Achse der Sammellinse von (1/4)·n·d. Als Abstand d wird bevorzugt der kleinste Abstand zugrunde gelegt, der sich bei Betrachtung aller Abstände zwischen jeweils nächstbenachbarten Strahlenbündeln ergibt.In the foregoing, reference has already been made to the distance d (taken in the plane of the reflection surface) from the beam center axis to the beam center axis, which a radiation beam has in each case to one of its nearest neighboring radiation beams. In a preferred embodiment, the optical axis of the converging lens and the total principal ray are offset by at least (1/8) * n * d and by at most (3/8) * n * d, where n is a natural number ≥ 1. The upper and lower limits are based on the same natural number. Preferably n is not greater than 10, 5 or 2, preferably n = 1. Preferably, an offset between the total principal ray and the optical axis of the converging lens is (1/4) · n · d. As a distance d is preferably based on the smallest distance, which results in consideration of all distances between each next adjacent beam.
In bevorzugter Ausgestaltung sind die optische Achse der Sammellinse und der Gesamthauptstrahl in einer Richtung zueinander versetzt, die parallel zu einer Zeile oder eine Spalte der matrixförmigen Anordnung der lochförmigen Unterbrechungen (siehe vorne) liegt. Vorzugsweise sind die Zeilen und die Spalten jeweils untereinander äquidistant (die Zeilen- und Spaltenabstände werden generell von Mittenachse zu Mittenachse genommen); im Falle des zeilenparallelen Versatzes entspricht der vorstehend in Bezug genommene Abstand d dann dem Abstand der Spalten, wohingegen im Falle des spaltenparallelen Versatzes der Zeilenabstand den Abstand d vorgibt.In a preferred embodiment, the optical axis of the condenser lens and the overall main beam are offset from one another in a direction parallel to a row or column of the matrix-shaped arrangement of the hole-shaped interruptions (see front). Preferably, the rows and columns are mutually equidistant (the row and column distances are generally taken from center axis to center axis); in the case of the line-parallel offset corresponds to the above-referred to distance d then the distance of the columns, whereas in the case of column-parallel offset of the line spacing specifies the distance d.
Generell haben die von den Laserquellen emittierten Strahlenbündel bevorzugt einen asphärischen, bspw. elliptischen Strahlbündelquerschnitt (in einer zur jeweiligen Mittenachse senkrechten Schnittebene). Vorzugsweise sind entsprechend auch die lochförmigen Unterbrechungen asphärisch; eine solche asphärische lochförmige Unterbrechung hat eine Achse der größten und eine Achse der kleinsten Erstreckung, welche Achsen etwa im Falle der elliptischen Form senkrecht aufeinander stehen.In general, the radiation beams emitted by the laser sources preferably have an aspherical, for example elliptical beam bundle cross section (in a sectional plane perpendicular to the respective center axis). Preferably, the hole-shaped interruptions are also aspherical; such an aspherical hole-shaped interruption has an axis of the largest and an axis of the smallest extent, which axes are perpendicular to each other, for instance in the case of the elliptical shape.
Bei einer bevorzugten Ausführungsform, welche die asphärischen lochförmigen Unterbrechungen betrifft, sind die optische Achse der Sammellinse und der Gesamthauptstrahl in einer Richtung zueinander versetzt, die parallel zu der Achse der kleinsten Erstreckung liegt. Sind die Zeilenabstände bspw. genauso groß wie die Spaltenabstände, kann so vorteilhafterweise der größere Zwischenraum für die Reflexion genutzt werden.In a preferred embodiment relating to the aspheric hole-shaped interruptions, the optical axis of the condenser lens and the overall main beam are offset from each other in a direction parallel to the axis of the smallest extent. If the line spacings are, for example, the same size as the column spacings, then advantageously the larger interspace can be used for the reflection.
Die Erfindung betrifft auch die Verwendung einer vorliegend offenbarten Bestrahlungsvorrichtung zur Kraftfahrzeug-Außenbeleuchtung. Vorteilhafte Anwendungsgebiete können auch im Bereich der Effektbeleuchtung liegen; andererseits kann die Bestrahlungsvorrichtung auch der Operationsfeld-Beleuchtung dienen; die Bestrahlungsvorrichtung kann ferner als Lichtquelle eines Projektionsgeräts, Endoskops oder auch Bühnenscheinwerfers genutzt werden, etwa zur Szenenbeleuchtung im Film-, Fernseh- bzw. Theaterbereich.The invention also relates to the use of a presently disclosed Irradiation device for automotive exterior lighting. Advantageous fields of application can also be in the field of effect lighting; on the other hand, the irradiation device can also serve surgical field illumination; The irradiation device can also be used as a light source of a projection device, endoscope or stage headlamps, such as scene lighting in the film, television or theater area.
Kurze Beschreibung der ZeichnungenBrief description of the drawings
Im Folgenden wird die Erfindung anhand eines Ausführungsbeispiels näher erläutert, wobei die einzelnen Merkmale im Rahmen der nebengeordneten Ansprüche auch in anderer Kombination erfindungswesentlich sein können und auch weiterhin nicht im Einzelnen zwischen den Anspruchskategorien unterschieden wird. Im Einzelnen zeigtIn the following, the invention will be explained in more detail with reference to an embodiment, wherein the individual features in the context of the independent claims in another combination may be essential to the invention and continue to distinguish not in detail between the claim categories. In detail shows
Bevorzugte Ausführung der ErfindungPreferred embodiment of the invention
Der Strahlungseinheit
Den Kollimationslinsen
Der Mikrolinsen-Anordnung
Nicht die gesamte auf die Bestrahlungsfläche
Bei der erfindungsgemäßen Bestrahlungsvorrichtung
Ferner ist in der Figur ein Gesamthauptstrahl
Aus
Unterstellt man zur Veranschaulichung eine spekulare Reflexion an der Bestrahlungsfläche
Nun werden die Strahlenbündel
Bei der Bestrahlungsvorrichtung
Claims (15)
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DE102015208170.2A DE102015208170A1 (en) | 2015-05-04 | 2015-05-04 | Irradiation device with a plurality of laser sources |
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DE102015208170.2A DE102015208170A1 (en) | 2015-05-04 | 2015-05-04 | Irradiation device with a plurality of laser sources |
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ID=57178800
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DE102015208170.2A Withdrawn DE102015208170A1 (en) | 2015-05-04 | 2015-05-04 | Irradiation device with a plurality of laser sources |
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102008012316A1 (en) * | 2007-09-28 | 2009-04-02 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Semiconductor light source with a primary radiation source and a luminescence conversion element |
DE102010001942A1 (en) * | 2010-02-15 | 2011-08-18 | Osram Gesellschaft mit beschränkter Haftung, 81543 | Light source unit and projector with such a light source unit |
US20140022512A1 (en) * | 2012-07-19 | 2014-01-23 | Wavien, Inc. | Phosphor-based lamps for projection display |
DE102013224691A1 (en) * | 2013-12-02 | 2015-06-03 | Osram Gmbh | Illuminating device for generating light by means of wavelength conversion |
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2015
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102008012316A1 (en) * | 2007-09-28 | 2009-04-02 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Semiconductor light source with a primary radiation source and a luminescence conversion element |
DE102010001942A1 (en) * | 2010-02-15 | 2011-08-18 | Osram Gesellschaft mit beschränkter Haftung, 81543 | Light source unit and projector with such a light source unit |
US20140022512A1 (en) * | 2012-07-19 | 2014-01-23 | Wavien, Inc. | Phosphor-based lamps for projection display |
DE102013224691A1 (en) * | 2013-12-02 | 2015-06-03 | Osram Gmbh | Illuminating device for generating light by means of wavelength conversion |
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