DE102015005779A1 - Method for calibrating an apparatus for inspecting an optical device and method for inspecting an optical device - Google Patents

Method for calibrating an apparatus for inspecting an optical device and method for inspecting an optical device Download PDF

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Kalibrierung einer Vorrichtung (100) zum Untersuchen einer optischen Einrichtung (270), wobei das Verfahren die folgenden Merkmale aufweist: – Halten (670) einer Abbildungsoptik (210) in einem Strahlengang einer elektromagnetischen Strahlung (106), wobei eine Welleneigenschaft der elektromagnetischen Strahlung (106) durch eine ebene Welle repräsentiert wird; und Bewegen (674) einer Ablenkeinrichtung (104) zum Ablenken der elektromagnetischen Strahlung (106) zwischen einer inaktiven Position und einer aktiven Position, wobei die Ablenkeinrichtung (104) in der inaktiven Position außerhalb des Strahlengangs angeordnet ist und in der aktiven Position in dem Strahlengang vor der Abbildungsoptik (201) angeordnet ist, um einen Einfallwinkel (212) der elektromagnetischen Strahlung (106) auf die Abbildungsoptik (201) einzustellen.The invention relates to a method for calibrating a device (100) for examining an optical device (270), the method having the following features: - holding (670) imaging optics (210) in a beam path of an electromagnetic radiation (106) a wave property of the electromagnetic radiation (106) is represented by a plane wave; and moving (674) a deflector (104) to deflect the electromagnetic radiation (106) between an inactive position and an active position, wherein the deflector (104) is disposed in the inactive position out of the beam path and in the active position in the beam path is arranged in front of the imaging optics (201) in order to set an angle of incidence (212) of the electromagnetic radiation (106) on the imaging optics (201).

Description

Stand der TechnikState of the art

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung und auf ein Verfahren zum Kalibrieren einer Vorrichtung zum Untersuchen einer optischen Einrichtung, beispielsweise eines Objektivs.The present invention relates to an apparatus and method for calibrating a device for inspecting an optical device, such as an objective.

Die zu untersuchende optische Einrichtung, beispielsweise ein Objektiv, kann in Verbindung mit einem Wellenfrontsensor ihrerseits dazu verwendet werden weitere optische Einrichtungen zu vermessen.The optical device to be examined, for example a lens, can in turn be used in conjunction with a wavefront sensor to measure further optical devices.

Die zu untersuchende optische Einrichtung, beispielsweise ein Objektiv, und der Wellenfrontsensor bilden üblicherweise eine Einheit, deren summarische optischen Eigenschaften vor der eigentlichen Verwendung als Messsystem bekannt sein muss.The optical device to be examined, for example a lens, and the wavefront sensor usually form a unit whose summary optical properties must be known before the actual use as a measuring system.

Die DE 197 22 342 A1 beschreibt dazu eine Absolutprüfung von sphärischen Flächen und Objektiven mit teilkohärenter Laserstrahlung unter Verwendung eines Wellenfrontsensors.The DE 197 22 342 A1 describes an absolute test of spherical surfaces and objectives with partially coherent laser radiation using a wavefront sensor.

Offenbarung der ErfindungDisclosure of the invention

Vor diesem Hintergrund werden mit der vorliegenden Erfindung ein verbessertes Verfahren zum Untersuchen einer optischen Einrichtung vorgestellt. Vorteilhafte Ausgestaltungen ergeben sich aus den jeweiligen Unteransprüchen und der nachfolgenden Beschreibung. Dem Verfahren zur Untersuchung einer optischen Einrichtung geht hierbei ein Verfahren zur Kalibrierung einer Vorrichtung zum Untersuchen einer optischen Einrichtung voraus.Against this background, the present invention provides an improved method of inspecting an optical device. Advantageous embodiments emerge from the respective subclaims and the following description. The method for examining an optical device is preceded by a method for calibrating a device for examining an optical device.

Ein Verfahren zum Kalibrieren einer Vorrichtung zum Untersuchen einer optischen Einrichtung weist daher zunächst die folgenden Merkmale auf:
Halten einer Abbildungsoptik in einem Strahlengang einer elektromagnetischen Strahlung, wobei eine Welleneigenschaft der elektromagnetischen Strahlung durch eine ebene Welle repräsentiert wird; und Bewegen einer Ablenkeinrichtung zum Ablenken der elektromagnetischen Strahlung zwischen einer inaktiven Position und einer aktiven Position, wobei die Ablenkeinrichtung in der inaktiven Position außerhalb des Strahlengangs angeordnet ist und in der aktiven Position in dem Strahlengang vor der Abbildungsoptik angeordnet ist, um einen Einfallwinkel der elektromagnetischen Strahlung auf die Abbildungsoptik einzustellen.
A method for calibrating an apparatus for examining an optical device therefore initially has the following features:
Holding an imaging optics in a beam path of an electromagnetic radiation, wherein a wave property of the electromagnetic radiation is represented by a plane wave; and moving a deflector for deflecting the electromagnetic radiation between an inactive position and an active position, wherein the deflector is disposed in the inactive position out of the beam path and in the active position in the beam path in front of the imaging optics, at an angle of incidence of the electromagnetic radiation to adjust the imaging optics.

Die Vorrichtung kann beispielsweise eine Wellenfrontprüfvorrichtung, eine Wellenflächenprüfvorrichtung oder ein Teil einer solchen Vorrichtung darstellen. Die Vorrichtung kann eingesetzt werden, um in weiterer Folge, also nach dem Schritt des Kalibrierens, eine optische Einrichtung zu vermessen. Eine zu untersuchende Eigenschaft der optischen Einrichtung kann beispielsweise eine Oberflächenbeschaffenheit, Materialbeschaffenheit oder die Wellenfrontaberrationen der optischen Einrichtung sein. Unter einer optischen Einrichtung kann beispielsweise ein Objektiv verstanden werden. Allgemein kann unter einer optischen Einrichtung ein optisches Gerät, eine optische Komponente ein optisches Bauelement oder beispielsweise eine Oberfläche verstanden werden. Unter einer elektromagnetischen Strahlung kann beispielsweise ein Lichtstrahl in einem für das menschliche Auge sichtbaren oder unsichtbaren Spektrum verstanden werden. Unter einer ebenen Welle kann eine reale ebene Welle verstanden werden, wie sie beispielsweise unter Verwendung einer Lochblende und einen darauf abgestimmten Kollimator erzeugt werden kann. Eine ebene Welle kann sich durch Wellenfronten auszeichnen, die senkrecht zur Ausbreitungsrichtung der elektromagnetischen Strahlung ausgedehnt sind. Unter einer Wellenfront kann eine Fläche gleichen Phasenwinkels verstanden werden. Unter einem Strahlengang kann ein geometrischer Verlauf der elektromagnetischen Strahlung, beispielsweise von einer Quelle der elektromagnetischen Strahlung zu der optischen Einrichtung und durch die optische Einrichtung hindurch verstanden werden. Die Halteeinrichtung kann ein mechanisches Element sein, an dem die Abbildungsoptik dauerhaft oder wieder entfernbar befestigt werden kann. Die Ablenkeinrichtung kann ein optisches Element sein. Die Ablenkeinrichtung kann ausgebildet sein, um eine Ausbreitungsrichtung der elektromagnetischen Strahlung durch den Effekt der Brechung zu ändern, wenn sich die Ablenkeinrichtung in dem Strahlengang der elektromagnetischen Strahlung befindet. Die Ablenkeinrichtung kann ausgebildet sein, um in einem Einfallwinkel in die Ablenkeinrichtung einfallende elektromagnetische Strahlung in einem für die Ablenkeinrichtung charakteristischen Ausfallwinkel, dem Ablenkwinkel für die elektromagnetische Strahlung, abzugeben. Dabei kann die Ablenkeinrichtung ausgebildet sein, um in dem Einfallwinkel einfallende elektromagnetische Strahlung ausschließlich in dem charakteristischen Ausfallwinkel abzugeben. Somit kann ein azimutaler Richtungsanteil einer Richtung der abgegebenen elektromagnetischen Strahlung abhängig von einer Winkelstellung der Ablenkeinrichtung sein. In der inaktiven Position kann sich die Ablenkeinrichtung an einem Ort befinden, der sich außerhalb des durch die optische Einrichtung verlaufenden Strahlengangs der elektromagnetischen Strahlung befindet. Somit wird ein Verlauf der elektromagnetischen Strahlung zwischen einer Quelle der elektromagnetischen Strahlung und der Abbildungsoptik durch die Ablenkeinrichtung nicht beeinflusst, wenn sich die Ablenkeinrichtung in der inaktiven Position befindet. In der aktiven Position ist die Ablenkeinrichtung in Bezug auf eine Ausbreitungsrichtung der elektromagnetischen Strahlung in dem Strahlengang vor der Abbildungsoptik angeordnet. Durch die Ablenkeinrichtung wird der Verlauf der elektromagnetischen Strahlung zwischen einer Quelle der elektromagnetischen Strahlung und der Abbildungsoptik durch die Ablenkeinrichtung beeinflusst. Somit weist der Strahlengang der elektromagnetischen Strahlung unterschiedliche Verläufe ab, abhängig davon, ob sich die Ablenkeinrichtung in der inaktiven Position oder der aktiven Position befindet. Durch die ablenkende Wirkung der Ablenkeinrichtung ändert sich ein Einfallwinkel der elektromagnetischen Strahlung auf die Abbildungsoptik, abhängig davon, ob sich die Ablenkeinrichtung in der inaktiven Position oder der aktiven Position befindet. Somit kann die optische Einrichtung durch Bewegen der Ablenkeinrichtung zwischen der inaktiven Position und der aktiven Position unter zwei verschiedenen Einfallwinkeln der elektromagnetischen Strahlung vermessen werden. Bei dem Wechsel zwischen aktiver und inaktiver Position treten üblicherweise Positionierungsfehler der Ablenkeinrichtung auf. Die vorgeschlagene Ablenkeinrichtung ermöglicht es trotz dieser Fehler den gewünschten Ablenkwinkel einzustellen.The device may, for example, be a wavefront inspection device, a wavefront inspection device or a part of such a device. The device can be used to measure an optical device subsequently, ie after the step of calibrating. A property of the optical device to be investigated may be, for example, a surface condition, material properties or the wavefront aberrations of the optical device. By an optical device, for example, a lens can be understood. In general, an optical device can be understood as meaning an optical device, an optical component is an optical component or, for example, a surface. By electromagnetic radiation, for example, a light beam in a visible or invisible to the human eye spectrum can be understood. A plane wave may be understood to mean a real plane wave, such as may be generated using a pinhole and a collimator tuned thereto. A plane wave can be characterized by wavefronts that are extended perpendicular to the propagation direction of the electromagnetic radiation. A wavefront can be understood to mean an area of the same phase angle. A beam path may be understood as a geometric course of the electromagnetic radiation, for example from a source of the electromagnetic radiation to the optical device and through the optical device. The holding device may be a mechanical element to which the imaging optics can be permanently or removably attached. The deflector may be an optical element. The deflecting device may be configured to change a direction of propagation of the electromagnetic radiation by the effect of the refraction, when the deflecting device is located in the beam path of the electromagnetic radiation. The deflection device can be designed to emit electromagnetic radiation incident at an angle of incidence into the deflection device in a deflection angle characteristic of the deflection device, the deflection angle for the electromagnetic radiation. In this case, the deflection device can be designed to emit incident electromagnetic radiation at the angle of incidence exclusively in the characteristic angle of reflection. Thus, an azimuthal directional component of a direction of the emitted electromagnetic radiation may be dependent on an angular position of the deflection device. In the inactive position, the deflector may be located at a location external to the beam path of the electromagnetic radiation passing through the optical device. Thus, a trajectory of the electromagnetic radiation between a source of electromagnetic radiation and the imaging optics is not affected by the deflector when the deflector is in the inactive position. In the active position, the deflector is in relation to a propagation direction of the electromagnetic radiation in the Beam path arranged in front of the imaging optics. The deflecting device influences the course of the electromagnetic radiation between a source of the electromagnetic radiation and the imaging optics by the deflecting device. Thus, the beam path of the electromagnetic radiation from different gradients, depending on whether the deflector is in the inactive position or the active position. Due to the deflecting effect of the deflection device, an angle of incidence of the electromagnetic radiation on the imaging optics changes, depending on whether the deflection device is in the inactive position or the active position. Thus, the optical device can be measured by moving the deflector between the inactive position and the active position at two different angles of incidence of the electromagnetic radiation. When changing between active and inactive position usually occur positioning errors of the deflector. The proposed deflection device makes it possible to set the desired deflection angle despite these errors.

Der beschriebene Ansatz kann beispielsweise im Zusammenhang mit der Kalibrierung von Wellenfrontprüfstationen zur Messung von optischen Einrichtungen in Form von Objektiven unter Feldwinkeln eingesetzt werden. Dabei kommen als Anwendungsgebiet beispielsweise alle Wellenflächenprüfstände zur Objektivprüfung in Betracht.The approach described can be used, for example, in connection with the calibration of wavefront inspection stations for measuring optical devices in the form of field angle objectives. As a field of application, for example, all Wellenflächenprüfstände for lens testing come into consideration.

Wellenflächenprüfstände werden vor ihrer Verwendung kalibriert. Dazu ist üblicherweise eine bekannte, der späteren Prüfung angepasste Wellenfront notwendig. Der beschriebene Ansatz eignet sich, um solche Kalibrierwellenfronten für verschiedene aber genau bekannte Feldwinkel zu erzeugen. Dies ermöglicht es, die optische Einrichtung, beispielsweise ein zu messendes Objektiv, genau unter diesen Feldwinkeln zu vermessen.Wave surface test stands are calibrated before use. This usually requires a known wavefront adapted to the later test. The approach described is suitable for generating such calibration wavefronts for different but exactly known field angles. This makes it possible to measure the optical device, for example an objective to be measured, just below these field angles.

Vorteilhafterweise kann unter Verwendung des beschriebenen Ansatzes darauf verzichtet werden, ein Kalibrierobjektiv einzusetzen, welches die gleichen Abbildungseigenschaften wie die optische Einrichtung, beispielsweise ein später zu messender Prüfling, besitzt. Um eine gute Kalibrierung der Vorrichtung, beispielsweise als Teil eines Prüfstandes zu erreichen, ist es daher nicht erforderlich, eine zur Kalibrierung verwendete optische Einrichtung, beispielsweise ein Kalibrierobjektiv, annähernd perfekt und fehlerfrei bereitzustellen, wie es in der Praxis auch schwierig zu bewerkstelligen ist. Mit der vorgeschlagenen Ablenkeinrichtung ist es möglich, eine annähernd perfekte und fehlerfreie Wellenfront zu erzeugen. Diese Eigenschaft wird durch die Einfachheit der Bauform der Ablenkeinrichtung begünstigt.Advantageously, using the described approach, it is possible to dispense with the use of a calibration objective which has the same imaging properties as the optical device, for example a test object to be measured later. In order to achieve a good calibration of the device, for example as part of a test stand, it is therefore not necessary to provide an optical device used for calibration, for example a calibration lens, approximately perfectly and error-free, as is also difficult to achieve in practice. With the proposed deflection device, it is possible to produce an approximately perfect and error-free wavefront. This property is favored by the simplicity of the design of the deflector.

Auch ist es unter Verwendung des beschriebenen Ansatzes zum Umgehen eines sogenannten „off-axis”-Kalibrier-Problems nicht mehr erforderlich die komplette Vorrichtung, beispielsweise in Form einer Messeinrichtung, zu schwenken, um immer zentriert entlang der optischen Achse messen zu können, wodurch die Kalibrierung an Feldwinkeln entfällt. Vorteilhafterweise entfällt somit das Erfordernis zusätzlicher Bewegungen der Vorrichtung. Dadurch kann der technische Aufwand reduziert werden und zusätzliche Stellzeiten können entfallen.Also, using the approach described for overcoming a so-called "off-axis" calibration problem, it is no longer necessary to pivot the entire device, for example in the form of a measuring device, in order to always be able to measure centered along the optical axis Calibration at field angles is omitted. Advantageously, thus eliminating the need for additional movements of the device. As a result, the technical complexity can be reduced and additional operating times can be omitted.

Somit bietet der beschriebene Ansatz die Vorteile, dass auf perfekte, schwer realisierbare Kalibrierobjektive sowie auf aufwendige Bewegungen verzichtet werden kann.Thus, the described approach has the advantages that it can be dispensed with perfect, difficult to implement calibration lenses and complex movements.

Gemäß einer Ausführungsform umfasst die Vorrichtung zum Untersuchen einer optischen Einrichtung eine Strahlungseinrichtung zum Aussenden der elektromagnetischen Strahlung. Die Strahlungseinrichtung kann eine Strahlungsquelle, beispielsweise ein Leuchtmittel, einen Laser oder eine Leuchtdiode darstellen oder umfassen. Eine solche Strahlungsquelle kann bereits ausgebildet sein, um die elektromagnetische Strahlung mit einer der ebenen Welle entsprechenden Charakteristik bereitzustellen. Alternativ kann die Charakteristik einer ebenen Welle durch zumindest ein optisches Element erzielt werden, das ausgebildet ist, die von einer Strahlungsquelle abgestrahlte elektromagnetische Strahlung so zu beeinflussen, dass die Charakteristik der ebenen Welle erreicht wird. Somit kann die Strahlungseinrichtung zusätzlich oder alternativ zu einer Strahlungsquelle ein optisches Element aufweisen, das geeignet ist, um eine empfangene elektromagnetische Strahlung als ebene Welle auszusenden. Unter Verwendung einer je nach Ausführungsform passiven oder aktiven Strahlungseinrichtung kann eine elektromagnetische Strahlung mit einer zur Untersuchung der optischen Einrichtung geeigneten Eigenschaft bereitgestellt werden.According to one embodiment, the device for examining an optical device comprises a radiation device for emitting the electromagnetic radiation. The radiation device can represent or comprise a radiation source, for example a light source, a laser or a light-emitting diode. Such a radiation source can already be designed to provide the electromagnetic radiation with a characteristic corresponding to the plane wave. Alternatively, the characteristic of a plane wave may be achieved by at least one optical element configured to influence the electromagnetic radiation radiated from a radiation source so as to obtain the characteristic of the plane wave. Thus, in addition to or as an alternative to a radiation source, the radiation device can have an optical element which is suitable for emitting a received electromagnetic radiation as a plane wave. By using a passive or active radiation device according to the embodiment, electromagnetic radiation having a property suitable for examining the optical device can be provided.

Beispielsweise kann die Strahlungseinrichtung einen Kollimator aufweisen. Unter Verwendung eines Kollimators, der beispielsweise in Kombination mit einer Lochblende eingesetzt werden kann, kann ein paralleler Strahlenverlauf einer von einer Lichtquelle erzeugten elektromagnetischen Strahlung erzeugt werden. Ein solch paralleler Strahlenverlauf kann die Charakteristik einer ebenen Welle aufweisen.For example, the radiation device may have a collimator. Using a collimator, which can be used for example in combination with a pinhole, a parallel beam path of an electromagnetic radiation generated by a light source can be generated. Such a parallel beam path can have the characteristic of a plane wave.

Die Strahlungseinrichtung kann ausgebildet sein, um die elektromagnetische Strahlung mit einer parallel zu einer optischen Achse der optischen Abbildungsoptik ausgerichteten Ausbreitungsrichtung auszusenden. Dadurch kann erreicht werden, dass die elektromagnetische Strahlung parallel zu der optischen Achse auf die Abbildungsoptik auftrifft.The radiation device can be designed to emit the electromagnetic radiation with a propagation direction oriented parallel to an optical axis of the optical imaging optics. This can be achieved that the electromagnetic radiation in parallel to the optical axis impinges on the imaging optics.

Gemäß einer Ausführungsform kann die Ablenkeinrichtung in der aktiven Position zwischen einer ersten Winkelstellung und zumindest einer zweiten Winkelstellung drehbar um eine Drehachse angeordnet sein, um einen Azimutwinkel der elektromagnetischen Strahlung einzustellen. Die Drehachse kann dabei parallel zu einem auf die Oberfläche der Ablenkeinrichtung auftreffenden Abschnitt des Strahlengangs der elektromagnetischen Strahlung sein. Gemäß einer Ausführungsform kann die Drehachse der optischen Achse der optischen Abbildungsoptik entsprechen. Durch die unterschiedlichen Winkelstellungen der Ablenkeinrichtung kann der Strahlengang der elektromagnetischen Strahlung vor dem Auftreffen auf die Abbildungsoptik in unterschiedliche Richtungen abgelenkt werden. Dadurch können unterschiedliche Azimutwinkel eingestellt werden, in denen die elektromagnetische Strahlung auf die Abbildungsoptik trifft. Vorteilhafterweise kann die Ablenkeinrichtung so ausgeführt sein, dass sich durch die Drehung der Ablenkeinrichtung nur der Azimutwinkel jedoch nicht der Einfallwinkel der elektromagnetischen Strahlung auf die optische Einrichtung verändert. Diese Eigenschaft ist ein herausragendes Merkmal der vorgeschlagenen Vorrichtung.According to one embodiment, in the active position between a first angular position and at least one second angular position, the deflection device can be arranged to be rotatable about an axis of rotation in order to set an azimuth angle of the electromagnetic radiation. The axis of rotation may be parallel to an incident on the surface of the deflector portion of the beam path of the electromagnetic radiation. According to one embodiment, the axis of rotation of the optical axis may correspond to the optical imaging optics. Due to the different angular positions of the deflecting device, the beam path of the electromagnetic radiation can be deflected in different directions before impinging on the imaging optics. As a result, different azimuth angles can be set in which the electromagnetic radiation strikes the imaging optics. Advantageously, the deflection device can be designed such that only the azimuth angle, but not the angle of incidence of the electromagnetic radiation on the optical device, changes as a result of the rotation of the deflection device. This feature is an outstanding feature of the proposed device.

Das Verfahren zur Kalibrierung einer Vorrichtung zur Untersuchung einer optischen Einrichtung kann einen Schritt des Drehens der Ablenkeinrichtung um eine Drehachse der Ablenkeinrichtung umfassen. Die Drehachse kann beispielsweise parallel zu der optischen Achse der Abbildungsoptik ausgerichtet sein oder der optischen Achse entsprechen. Der Schritt des Drehens kann ausgeführt werden, wenn die Ablenkeinrichtung in der aktiven Position angeordnet ist. Alternativ kann der Schritt des Drehens auch ausgeführt werden, wenn sich die Ablenkeinrichtung in der inaktiven Position befindet. Durch ein Verdrehen der Ablenkeinrichtung können, wie bereits ausgeführt, unterschiedliche Azimutwinkel der elektromagnetischen Strahlung eingestellt werden.The method of calibrating an optical device inspection apparatus may include a step of rotating the deflector about an axis of rotation of the deflector. The axis of rotation may, for example, be aligned parallel to the optical axis of the imaging optics or correspond to the optical axis. The step of rotating may be performed when the deflector is located in the active position. Alternatively, the step of turning may also be performed when the deflector is in the inactive position. By rotating the deflection device, as already stated, different azimuth angles of the electromagnetic radiation can be set.

Das Verfahren zur Kalibrierung einer Vorrichtung zur Untersuchung einer optischen Vorrichtung kann einen Schritt des Erfassens einer Charakteristik einer Wellenfront der elektromagnetischen Strahlung nach Passieren der Abbildungsoptik umfassen. Der Schritt des Erfassens kann mehrmals wiederholt ausgeführt werden. Beispielsweise kann der Schritt des Erfassens ausgeführt werden, während sich die Ablenkeinrichtung in der inaktiven Position befindet, um eine der inaktiven Position zugeordnete Kalibriercharakteristik zu erfassen. Ferner kann der Schritt des Erfassens ausgeführt werden, während sich die Ablenkeinrichtung in der aktiven Position befindet, um eine der aktiven Position zugeordnete Kalibriercharakteristik zu erfassen. Auf diese Weise können Charakteristika von aus unterschiedlichen Richtungen auf die Abbildungsoptik einfallende elektromagnetische Strahlungen erfasst werden.The method of calibrating an optical device inspection apparatus may include a step of detecting a characteristic of a wavefront of the electromagnetic radiation after passing through the imaging optics. The step of detecting may be repeatedly performed several times. For example, the step of detecting may be performed while the deflector is in the inactive position to detect a calibration characteristic associated with the inactive position. Further, the step of sensing may be performed while the deflector is in the active position to detect a calibration characteristic associated with the active position. In this way, characteristics of electromagnetic radiation incident on the imaging optics from different directions can be detected.

Vorteilhafterweise kann dabei der Schritt des Erfassens ausgeführt werden, während sich die Ablenkeinrichtung in der aktiven Position in einer ersten Winkelstellung befindet, um eine der ersten Winkelstellung zugeordnete Kalibriercharakteristik zu erfassen. Ferner kann der Schritt des Erfassens ausgeführt werden, während sich die Ablenkeinrichtung in der aktiven Position in einer zweiten Winkelstellung befindet, um eine der zweiten Winkelstellung zugeordnete Kalibriercharakteristik zu erfassen. In weiteren Schritten des Erfassens können weitere Kalibriercharakteristiken, die weiteren Winkelstellungen der Ablenkeinrichtung zugeordnet sind, erfasst werden. Eine Kalibriercharakteristik kann dabei wie bereits ausgeführt die Wellenfront der elektromagnetischen Strahlung betreffen.Advantageously, the step of detecting can be carried out while the deflecting device is in the active position in a first angular position in order to detect a calibration characteristic assigned to the first angular position. Further, the step of sensing may be performed while the deflector is in a second angular position in the active position to detect a calibration characteristic associated with the second angular position. In further steps of the detection, further calibration characteristics associated with further angular positions of the deflection device can be detected. As already stated, a calibration characteristic can relate to the wavefront of the electromagnetic radiation.

Zum Bewegen der Ablenkeinrichtung kann die Vorrichtung eine Bewegungseinrichtung aufweisen. Die Bewegungseinrichtung kann ausgebildet sein, um die Ablenkeinrichtung ansprechend auf ein Steuersignal zwischen der aktiven Position und der inaktiven Position zu bewegen. Ferner kann die Bewegungseinrichtung ausgebildet sein, um die Ablenkeinrichtung ansprechend auf ein weiteres Steuersignal in der aktiven Position zwischen der ersten azimutalen Winkelstellung und der zumindest einen zweiten azimutalen Winkelstellung zu drehen. Die Bewegungseinrichtung kann beispielsweise eine elektromechanische Einrichtung sein, durch die die Ablenkeinrichtung automatisiert in eine gewünschte Stellung verfahren werden kann. Alternativ kann eine rein mechanische Bewegungseinrichtung eingesetzt werden, die es beispielsweise einem Bediener der Vorrichtung ermöglicht, die Ablenkeinrichtung in eine gewünschte Stellung zu bewegen.In order to move the deflection device, the device may have a movement device. The moving means may be configured to move the deflector between the active position and the inactive position in response to a control signal. Furthermore, the movement device can be designed to rotate the deflection device in the active position between the first azimuthal angular position and the at least one second azimuthal angular position in response to a further control signal. The movement device can be, for example, an electromechanical device by means of which the deflection device can be automatically moved to a desired position. Alternatively, a purely mechanical movement device can be used which, for example, allows an operator of the device to move the deflection device into a desired position.

Die Ablenkeinrichtung kann eine Eintrittsfläche für die elektromagnetische Strahlung und eine Austrittsfläche für die elektromagnetische Strahlung aufweisen. Die Eintrittsfläche und die Austrittsfläche können als ebene Flächen ausgeführt sein. Die Eintrittsfläche und die Austrittsfläche können einander gegenüberliegend und geneigt zueinander ausgerichtet sind. Durch eine geeignete Wahl eines Materials der Ablenkeinrichtung und eine geeignete Wahl eines Neigungswinkels zwischen der Eintrittsfläche und der Austrittsfläche kann ein gewünschter Ablenkungswinkel für die auf die Ablenkeinrichtung einfallende elektromagnetische Strahlung vorgegeben werden.The deflection device may have an entrance surface for the electromagnetic radiation and an exit surface for the electromagnetic radiation. The entrance surface and the exit surface can be designed as flat surfaces. The entrance surface and the exit surface may be aligned opposite each other and inclined to each other. By a suitable choice of a material of the deflection device and a suitable choice of a tilt angle between the entry surface and the exit surface, a desired deflection angle for the incident on the deflection electromagnetic radiation can be specified.

Beispielsweise kann die Ablenkeinrichtung als eine Keilplatte ausgeführt sein. Eine solche Ablenkeinrichtung kann kostengünstig mit einer hohen Güte hergestellt werden und ist einfach zu handhaben. Alternativ kann die Ablenkeinrichtung auch als sogenanntes DOE (Diffraktives optisches Element) oder als Flüssigkeitskristall ausgeführt sein.For example, the deflection can be designed as a wedge plate. Such a deflector can be manufactured inexpensively with a high quality and is easy to handle. Alternatively, the deflection device can also be designed as a so-called DOE (Diffractive Optical Element) or as a liquid crystal.

Mit der Erfindung wird auch ein Verfahren zum Untersuchen einer optischen Einrichtung vorgestellt, wobei das Verfahren die folgenden Merkmale aufweist:

  • – Kalibrieren einer Vorrichtung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6;
  • – Bereitstellen der zu untersuchenden optischen Einrichtung in einem Strahlengang einer elektromagnetischen Strahlung, wobei eine Welleneigenschaft der elektromagnetischen Strahlung durch eine ebene Welle repräsentiert wird;
  • – Bereitstellen der Abbildungsoptik im Strahlengang nach der zu untersuchenden optischen Einrichtung;
  • – Erfassen einer Charakteristik einer Wellenfront der elektromagnetischen Strahlung nach Passieren der Abbildungsoptik;
  • – Berücksichtigen einer Kalibriercharakteristik gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6.
The invention also provides a method for examining an optical device, the method having the following features:
  • - Calibrating a device according to one of claims 1 to 6;
  • - Providing the optical device to be examined in a beam path of an electromagnetic radiation, wherein a wave property of the electromagnetic radiation is represented by a plane wave;
  • - Providing the imaging optics in the beam path after the optical device to be examined;
  • Detecting a characteristic of a wavefront of the electromagnetic radiation after passing through the imaging optics;
  • - Considering a calibration characteristic according to one of claims 1 to 6.

Vorteilhafterweise umfasst der Schritt des Erfassens einer Charakteristik einer Wellenfront der elektromagnetischen Strahlung ein erstes Erfassen, wobei in diesem Schritt die elektromagnetische Strahlung keinen Einfallwinkel mit der Abbildungsoptik einschließt und ein zweites Erfassen, wobei die elektromagnetische Strahlung in diesem Schritt einen Einfallwinkel mit der Abbildungsoptik einschließt. Erfindungsgemäß wird unter dem technischen Merkmal „kein Einfallwinkel” ein Winkel von annähernd 0°, bevorzugt genau 0°, verstanden.Advantageously, the step of detecting a characteristic of a wavefront of the electromagnetic radiation comprises a first detection, wherein in this step the electromagnetic radiation does not include an angle of incidence with the imaging optic and a second detection, wherein the electromagnetic radiation in this step includes an angle of incidence with the imaging optic. According to the invention, the technical feature "no angle of incidence" is understood to mean an angle of approximately 0 °, preferably exactly 0 °.

In einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform wird der Schritt des zweiten Erfassens durch eine Bewegung der Quelle der elektromagnetischen Strahlung realisiert. In einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform wird der Schritt des zweiten Erfassens nicht durch eine Bewegung der Quelle der elektromagnetischen Strahlung erreicht, sondern durch eine Mehrzahl von Strahlungsquellen. Beispielsweise kann diese Mehrzahl von Strahlungsquellen als eine Platine mit einer Mehrzahl von LEDs ausgeführt sein.In a further advantageous embodiment, the step of the second detection is realized by a movement of the source of the electromagnetic radiation. In a further advantageous embodiment, the step of second detection is achieved not by a movement of the source of the electromagnetic radiation, but by a plurality of radiation sources. For example, this plurality of radiation sources may be embodied as a board with a plurality of LEDs.

1 eine schematische Darstellung einer Vorrichtung zur Untersuchung einer optischen Einrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung im Zustand des Kalibrierens; 1 a schematic representation of an apparatus for examining an optical device according to an embodiment of the present invention in the state of calibration;

2 eine schematische Darstellung einer Vorrichtung zur Untersuchung einer optischen Einrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung im Zustand des Kalibrierens; 2 a schematic representation of an apparatus for examining an optical device according to an embodiment of the present invention in the state of calibration;

3a eine schematische Darstellung einer Vorrichtung zur Untersuchung einer optischen Einrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung im Zustand des Kalibrierens; 3a a schematic representation of an apparatus for examining an optical device according to an embodiment of the present invention in the state of calibration;

3b eine weitere schematische Darstellung einer Vorrichtung zur Untersuchung einer optischen Einrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung im Zustand des Kalibrierens; 3b a further schematic representation of an apparatus for examining an optical device according to an embodiment of the present invention in the state of calibration;

4 eine Draufsicht auf eine Ablenkeinrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung; 4 a plan view of a deflector according to an embodiment of the present invention;

5 ein Ablaufdiagramm eines Verfahrens zur Kalibrierung einer Vorrichtung zur Untersuchung einer optischen Einrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung; 5 a flowchart of a method for calibrating an apparatus for examining an optical device according to an embodiment of the present invention;

6 eine schematische Darstellung einer Vorrichtung zur Untersuchung einer optischen Einrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung; und 6 a schematic representation of an apparatus for inspecting an optical device according to an embodiment of the present invention; and

7 eine weitere schematische Darstellung einer Vorrichtung zur Untersuchung einer optischen Einrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. 7 a further schematic representation of an apparatus for examining an optical device according to an embodiment of the present invention.

In der nachfolgenden Beschreibung günstiger Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung werden für die in den verschiedenen Figuren dargestellten und ähnlich wirkenden Elemente gleiche oder ähnliche Bezugszeichen verwendet, wobei auf eine wiederholte Beschreibung dieser Elemente verzichtet wird.In the following description of favorable embodiments of the present invention, the same or similar reference numerals are used for the elements shown in the various figures and similar acting, with a repeated description of these elements is omitted.

1 zeigt eine schematische Darstellung einer Vorrichtung 100 zur Untersuchung einer optischen Einrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung, wobei zunächst auf die Kalibrierung der Vorrichtung näher eingegangen werden soll. Die Vorrichtung 100 weist eine Halteeinrichtung 102 und eine Ablenkeinrichtung 104 auf. 1 shows a schematic representation of a device 100 for investigating an optical device according to an exemplary embodiment of the present invention, wherein first of all the calibration of the device should be discussed. The device 100 has a holding device 102 and a deflector 104 on.

Die Halteeinrichtung 102 ist ausgebildet, um eine Abbildungsoptik 210 zu halten. Die Abbildungsoptik 210 ist in 2 dargestellt. Dazu kann die Halteeinrichtung 102 beispielsweise wiederlösbare Befestigungseinrichtungen zum Befestigen der Abbildungsoptik 210 an der Halteeinrichtung 102 aufweisen. Die Halteeinrichtung 102 ist ausgebildet, um die Abbildungsoptik so halten zu können, dass die Abbildungsoptik in einem Strahlengang einer elektromagnetischen Strahlung 106 gehalten wird. Wenn die Abbildungsoptik von der Halteeinrichtung 104 gehalten wird, trifft die elektromagnetische Strahlung 106 beim Betrieb der Vorrichtung 100 in einem Referenzwinkel auf die Abbildungsoptik. Beispielsweise kann die Halteeinrichtung 104 ausgebildet sein, um die Abbildungsoptik so zu halten, dass die elektromagnetische Strahlung 106 parallel zu der optischen Achse der Abbildungsoptik auf die Abbildungsoptik auftrifft.The holding device 102 is designed to be an imaging optic 210 to keep. The imaging optics 210 is in 2 shown. For this purpose, the holding device 102 For example, detachable fastening devices for attaching the imaging optics 210 on the holding device 102 exhibit. The holding device 102 is designed to hold the imaging optics so that the imaging optics in a beam path of electromagnetic radiation 106 is held. If the imaging optics of the holding device 104 is held, the electromagnetic radiation hits 106 during operation of the device 100 in a reference angle to the imaging optics. For example, the holding device 104 be formed to hold the imaging optics so that the electromagnetic radiation 106 impinges on the imaging optics parallel to the optical axis of the imaging optics.

Die Ablenkeinrichtung 104 ist bewegbar angeordnet. In 1 ist die Ablenkeinrichtung 104 in einer inaktiven Position gezeigt, in der die Ablenkeinrichtung 104 außerhalb des Strahlengangs der elektromagnetischen Strahlung 104 angeordnet ist. Somit wird die elektromagnetische Strahlung 106 vor dem Auftreffen auf eine in der Halteeinrichtung 102 anordenbare Abbildungsoptik nicht durch die Ablenkeinrichtung 104 beeinflusst. Wie durch einen Pfeil 108 angedeutet, kann die Ablenkeinrichtung 106 ausgehend von der inaktiven Position in eine aktive Position bewegt werden. In der aktiven Position ist die Ablenkeinrichtung 104, wie es in den 2 und 3 gezeigt ist, in dem Strahlengang der elektromagnetischen Strahlung 106 angeordnet.The deflection device 104 is arranged movable. In 1 is the deflection device 104 shown in an inactive position in which the deflector 104 outside the beam path of the electromagnetic radiation 104 is arranged. Thus, the electromagnetic radiation 106 before hitting one in the holding device 102 Anordenbare imaging optics not by the deflection 104 affected. As if by an arrow 108 indicated, the deflection can 106 moving from the inactive position to an active position. In the active position is the deflector 104 as it is in the 2 and 3 is shown in the beam path of the electromagnetic radiation 106 arranged.

2 zeigt eine schematische Darstellung einer Vorrichtung 100 zur Untersuchung einer optischen Einrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung im Zustand des Kalibrierens, wobei die optische Einrichtung in dieser Darstellung nicht gezeigt ist. Bei der Vorrichtung 100 kann es sich um ein Ausführungsbeispiel der anhand von 1 beschriebenen Vorrichtung handeln. Im Unterschied zu der in 1 beschriebenen Vorrichtung ist die Ablenkeinrichtung 104 der in 2 gezeigten Vorrichtung 100 in der aktiven Position gezeigt, in der die Ablenkeinrichtung 104 in dem Strahlengang der elektromagnetischen Strahlung 106 angeordnet ist. Ferner ist die Abbildungsoptik 210 gezeigt, die von der Halteeinrichtung 102 in dem Strahlengang der elektromagnetischen Strahlung 106 gehalten wird. Die Ablenkeinrichtung 104 ist ausgebildet, um die elektromagnetische Strahlung 106 um einen Ablenkwinkel 212, auch Feldwinkel genannt, abzulenken. Auf diese Weise trifft die elektromagnetische Strahlung 106 in einem von dem anhand von 1 genannten Referenzwinkel abweichenden Einfallwinkel auf die optische Einrichtung 210 auf. Eine Größe des Einfallwinkels entspricht gemäß diesem Ausführungsbeispiel einer Größe des Ablenkwinkels 212. 2 shows a schematic representation of a device 100 for examining an optical device according to an embodiment of the present invention in the state of calibration, wherein the optical device is not shown in this illustration. In the device 100 it can be an embodiment of the basis of 1 act described device. Unlike the in 1 The device described is the deflection device 104 the in 2 shown device 100 shown in the active position in which the deflector 104 in the beam path of the electromagnetic radiation 106 is arranged. Furthermore, the imaging optics 210 shown by the holding device 102 in the beam path of the electromagnetic radiation 106 is held. The deflection device 104 is designed to absorb the electromagnetic radiation 106 around a deflection angle 212 , also called field angle, distract. In this way, the electromagnetic radiation hits 106 in one of that, based on 1 said reference angle deviating angle of incidence on the optical device 210 on. A size of the angle of incidence corresponds to a size of the deflection angle according to this embodiment 212 ,

Gemäß einem Ausführungsbeispiel ist die Ablenkeinrichtung 104 drehbar um eine Drehachse angeordnet, die in weiterer Folge der optischen Achse 214 der optischen Einrichtung entsprechen kann. Gemäß diesem Ausführungsbeispiel entspricht die optische Achse 214 einer Richtung der elektromagnetischen Strahlung 106 vor dem Auftreffen auf die Ablenkeinrichtung 104. Durch Drehen der Ablenkeinrichtung 104 kann die Ablenkeinrichtung 104 eine Drehbewegung ausführen, wie sie durch einen weiteren Pfeil 216 angedeutet ist. Durch eine Drehung der Ablenkeinrichtung 104 von einer ersten Winkelstellung zu einer zweiten Winkelstellung ändert sich eine Richtung, in der die elektromagnetische Strahlung 106 auf die Abbildungsoptik 210 trifft. Dabei ändert sich ein Horizontalwinkel, auch Azimut, Azimutwinkel oder Azimutalwinkel genannt, des Strahlengangs der elektromagnetischen Strahlung 106 zwischen der Ablenkeinrichtung 104 und der Halteeinrichtung 102 bzw. der Abbildungsoptik 210. Bei dem Horizontalwinkel handelt es sich gemäß diesem Ausführungsbeispiel um einen Winkel, der in einer Ebene gemessen wird, auf die die optische Achse 214 lotrecht steht. Der entsprechende Ablenkwinkel 212 ändert sich bei der Drehbewegung der Ablenkeinrichtung 104 nicht.According to one embodiment, the deflection device 104 rotatably disposed about an axis of rotation, which is subsequently the optical axis 214 may correspond to the optical device. According to this embodiment, the optical axis corresponds 214 a direction of electromagnetic radiation 106 before hitting the deflector 104 , By turning the deflector 104 can the deflector 104 perform a rotary motion as indicated by another arrow 216 is indicated. By a rotation of the deflector 104 from a first angular position to a second angular position, a direction changes in which the electromagnetic radiation 106 on the imaging optics 210 meets. In this case, a horizontal angle, also called azimuth, azimuth angle or azimuthal angle, changes the beam path of the electromagnetic radiation 106 between the deflector 104 and the holding device 102 or the imaging optics 210 , The horizontal angle according to this embodiment is an angle which is measured in a plane to which the optical axis 214 is perpendicular. The corresponding deflection angle 212 changes during the rotary motion of the deflector 104 Not.

In 2 sind ferner eine Mehrzahl optionaler Einrichtungen 220, 222, 226, 230, 234 der Vorrichtung 100 gezeigt, die im Folgenden beschrieben werden. Die Vorrichtung 100 kann dabei gemäß unterschiedlicher Ausführungsbeispiele eine, mehrere oder alle dieser optionalen Einrichtungen 220, 222, 226, 230, 234 aufweisen.In 2 are also a plurality of optional devices 220 . 222 . 226 . 230 . 234 the device 100 shown, which are described below. The device 100 can according to different embodiments, one, several or all of these optional devices 220 . 222 . 226 . 230 . 234 exhibit.

So ist in 2 eine Strahlungseinrichtung 220 zum Aussenden der elektromagnetischen Strahlung 106 gezeigt. Gemäß einem Ausführungsbeispiel ist die Strahlungseinrichtung 220 ausgebildet, um die elektromagnetische Strahlung 106 als eine ebene Welle oder im Bereich des technisch Realisierbaren als eine angenäherte ebene Welle, eine sogenannte reale ebene Welle, auszusenden. Die Ablenkeinrichtung 104 ist ausgebildet, um die eingangsseitig in die Ablenkeinrichtung 104 einfallende ebene Welle ausgangsseitig als abgelenkte ebene Welle abzugeben. Somit trifft die elektromagnetische Strahlung 106 als ebene Welle auf die Abbildungsoptik 210 auf. Die Strahlungseinrichtung 220 und die Halteeinrichtung 102 können so zueinander ausgerichtet sein, dass die von der Strahlungseinrichtung 220 ausgesendete elektromagnetische Strahlung 106 parallel zu der optischen Achse 214 der Abbildungsoptik 210 ausgesendet wird, wenn die Abbildungsoptik 210 von der Halteeinrichtung 102 gehalten wird.So is in 2 a radiation device 220 for emitting the electromagnetic radiation 106 shown. According to one embodiment, the radiation device 220 trained to the electromagnetic radiation 106 as a plane wave or, in the realm of the technically feasible, as an approximate plane wave, a so-called real plane wave. The deflection device 104 is formed to the input side in the deflection 104 incoming plane wave output on the output side as a deflected plane wave. Thus, the electromagnetic radiation hits 106 as a plane wave on the imaging optics 210 on. The radiation device 220 and the holding device 102 can be aligned with each other, that of the radiation device 220 emitted electromagnetic radiation 106 parallel to the optical axis 214 the imaging optics 210 is emitted when the imaging optics 210 from the holding device 102 is held.

Die Halteeinrichtung 102 kann so ausgeformt sein, dass eine Abbildungsoptik 210 in die Halteeinrichtung 102 eingesetzt und nach der Kalibrierung unter Verwendung der elektromagnetischen Strahlung 106 wieder aus der Halteeinrichtung 102 entnommen werden kann.The holding device 102 can be shaped so that an imaging optics 210 in the holding device 102 used and after calibration using electromagnetic radiation 106 again from the holding device 102 can be removed.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel weist die Vorrichtung 100 eine Bewegungseinrichtung 222 auf. Die Bewegungseinrichtung 222 ist mit der Ablenkeinrichtung 104 gekoppelt und ausgebildet, um die Ablenkeinrichtung 104 von der aktiven Position in die inaktive Position zu bewegen. Gemäß einem Ausführungsbeispiel ist die Bewegungseinrichtung 222 ferner ausgebildet, um die Ablenkeinrichtung 104 um eine Drehachse der Ablenkeinrichtung 104 zu drehen, beispielsweise wie es durch den Pfeil 216 angedeutet ist. Die Bewegungseinrichtung 222 kann eine zur Bewegung der Ablenkeinrichtung 104 geeignete Mechanik aufweisen. Gemäß einem Ausführungsbeispiel weist die Bewegungseinrichtung 222 einen Antrieb, beispielsweise einen Stellmotor zum Bewegen der Ablenkeinrichtung 104 auf. Dabei kann die Bewegungseinrichtung 222 oder die Vorrichtung 100 eine Schnittstelle zum Empfangen eines Steuersignals 224 aufweisen und ausgebildet sein, um eine Bewegung der Ablenkeinrichtung 104 ansprechend auf einen Empfang des Steuersignals 224 auszuführen. Entsprechend kann die Vorrichtung 100 eine Steuereinrichtung 226 zum Bereitstellen des Steuersignals 224 aufweisen. Die Steuereinrichtung 226 kann ausgebildet sein, um eine Mehrzahl von Steuersignalen 224 an die Bewegungseinrichtung 222 bereitzustellen, um die Ablenkeinrichtung 104 nacheinander beispielsweise von der inaktiven Position in die aktive Position zu bewegen und in der aktiven Position ein oder mehrmals zu drehen, um die Ablenkeinrichtung 104 nacheinander in eine Mehrzahl von Winkelstellungen zu versetzen. Anschließend kann die Ablenkeinrichtung 104, wie durch einen Pfeil 228 angedeutet, wieder in die inaktive Position bewegt werden. Die Bewegungseinrichtung 222 kann der in 4 genannten Dreheinrichtung entsprechen oder eine solche Dreheinrichtung umfassen.According to one embodiment, the device 100 a movement device 222 on. The movement device 222 is with the deflector 104 coupled and configured to the deflector 104 move from the active position to the inactive position. According to one embodiment, the movement device 222 further formed to the deflecting device 104 about an axis of rotation of the deflector 104 to turn, for example, as indicated by the arrow 216 is indicated. The movement device 222 can a for moving the deflector 104 have appropriate mechanics. According to one embodiment, the movement device 222 a drive, such as a servomotor for moving the deflector 104 on. In this case, the movement device 222 or the device 100 an interface for receiving a control signal 224 and be adapted to a movement of the deflector 104 in response to receipt of the control signal 224 perform. Accordingly, the device 100 a control device 226 for providing the control signal 224 exhibit. The control device 226 may be configured to a plurality of control signals 224 to the movement device 222 provide to the deflector 104 for example, moving from the inactive position to the active position, and rotating one or more times in the active position, to the deflector 104 one after the other in a plurality of angular positions. Subsequently, the deflection can 104 as if by an arrow 228 indicated to be moved back to the inactive position. The movement device 222 can the in 4 correspond to rotating means or include such a rotating device.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel weist die Vorrichtung 100 eine Sensoreinrichtung 230 auf, die nach der Abbildungsoptik 210 in dem Strahlengang der elektromagnetischen Strahlung 106 angeordnet ist. Die elektromagnetische Strahlung 106 wird nach Passieren der Abbildungsoptik 210 von der Sensoreinrichtung 230 erfasst. Die Sensoreinrichtung 230 ist ausgebildet, um eine Charakteristik der auf eine Sensorfläche der Sensoreinrichtung 230 auftreffenden elektromagnetischen Strahlung 106 zu erfassen und ein die erfasste Charakteristik repräsentierendes Sensorsignal 232 bereitzustellen. Gemäß einem Ausführungsbeispiel ist die Sensoreinrichtung 230 als ein Wellenfrontsensor ausgeführt, der ausgebildet ist, um eine Charakteristik einer Wellenfront der als Welle aufgefassten elektromagnetischen Strahlung 106 nach dem Austreten aus der Abbildungsoptik 210 zu erfassen. Somit kann das von der Sensoreinrichtung 230 bereitgestellte Sensorsignal 232 verwendet werden, um einen Wellenfrontfehler der Abbildungsoptik 210 zu erkennen.According to one embodiment, the device 100 a sensor device 230 on, after the imaging optics 210 in the beam path of the electromagnetic radiation 106 is arranged. The electromagnetic radiation 106 becomes after passing the imaging optics 210 from the sensor device 230 detected. The sensor device 230 is adapted to a characteristic of a sensor surface of the sensor device 230 incident electromagnetic radiation 106 and to detect a sensor signal representing the detected characteristic 232 provide. According to one embodiment, the sensor device 230 is implemented as a wavefront sensor configured to detect a characteristic of a wavefront of the electromagnetic radiation perceived as a wave 106 after exiting the imaging optics 210 capture. Thus, that of the sensor device 230 provided sensor signal 232 used to generate a wavefront error of the imaging optics 210 to recognize.

Die Vorrichtung 100 weist gemäß einem Ausführungsbeispiel eine Bestimmungseinrichtung 234 auf oder ist über eine Schnittstelle mit der Bestimmungseinrichtung 234 gekoppelt. Die Bestimmungseinrichtung 234 ist ausgebildet, um das Sensorsignal 232 von der Sensoreinrichtung 230 zu empfangen und auszuwerten. Gemäß einem Ausführungsbeispiel ist die Bestimmungseinrichtung 234 ausgebildet, um eine Mehrzahl von Sensorsignalen 232 zu empfangen. Die Sensorsignale 232 unterscheiden sich darin, dass sie elektromagnetischen Strahlungen 106 zugeordnet sind, die in unterschiedlichen Richtungen auf die Abbildungsoptik 210 eingefallen sind. Beispielsweise kann ein erstes Sensorsignal 232 einem ersten Zeitpunkt zugeordnet sein, zu dem sich die Ablenkeinrichtung 104 in der inaktiven Position befindet. Ein zweites Sensorsignal 232 kann einem zweiten Zeitpunkt zugeordnet sein, zu dem sich die Ablenkeinrichtung 104 in der aktiven Position in einer ersten Winkelstellung befindet. Ein drittes Sensorsignal kann einem dritten Zeitpunkt zugeordnet sein, zu dem sich die Ablenkeinrichtung 104 in der aktiven Position in einer von der ersten Winkelstellung abweichenden zweiten Winkelstellung befindet. Entsprechend können weitere Sensorsignale 232 weiteren Zeitpunkten zugeordnet werden, die weiteren Stellungen der Ablenkeinrichtung 104 und somit weiteren Einfallrichtungen der elektromagnetischen Strahlung 106 auf die Abbildungsoptik 210 zugeordnet sind. Die Bestimmungseinrichtung 234 kann ausgebildet sein, um ein basierend auf einem oder mehreren Sensorsignalen 232 basierendes Untersuchungsergebnissignal 236 bereitzustellen.The device 100 according to one embodiment, a determination device 234 on or is via an interface with the determining device 234 coupled. The determining device 234 is designed to receive the sensor signal 232 from the sensor device 230 to receive and evaluate. According to one embodiment, the determining device 234 configured to a plurality of sensor signals 232 to recieve. The sensor signals 232 differ in that they have electromagnetic radiation 106 are assigned in different directions to the imaging optics 210 have fallen. For example, a first sensor signal 232 be associated with a first time to which the deflection 104 is in the inactive position. A second sensor signal 232 may be associated with a second time at which the deflector 104 is in the active position in a first angular position. A third sensor signal may be associated with a third time to which the deflection device 104 is in the active position in a deviating from the first angular position second angular position. Accordingly, further sensor signals 232 be assigned to other times, the other positions of the deflection 104 and thus further directions of incidence of the electromagnetic radiation 106 on the imaging optics 210 assigned. The determining device 234 may be configured to be based on one or more sensor signals 232 based examination signal 236 provide.

Das Untersuchungsergebnissignal 236 kann beispielsweise eine Information über einen oder mehrere Wellenfrontfehler der Abbildungsoptik 210 umfassen. Das Untersuchungsergebnissignal 236 kann vorteilhafterweise dazu verwendet werden die Vorrichtung zu kalibrieren und als Referenz für nachfolgende Messungen zu verwenden. Bei diesen Messungen wird üblicherweise die Ablenkeinrichtung 104 durch die zu messende optische Einrichtung 270 ersetzt. Bei der optischen Einrichtung kann es sich beispielsweise um ein Objektiv handeln. Durch Abzug des vorher aufgenommenen Untersuchungsergebnissignals von der Messung des Wellenfrontfehlers des zu messenden Objektivs, erhält man den tatsächlichen Fehler des Objektivs ohne den Einfluss der übrigen Komponenten der Vorrichtung, also der Abbildungsoptik 210, der Halteeinrichtung 102 und der Sensoreinrichtung 230.The examination result signal 236 For example, information about one or more wavefront errors of the imaging optics 210 include. The examination result signal 236 can be advantageously used to calibrate the device and use it as a reference for subsequent measurements. In these measurements, usually the deflection device 104 through the optical device to be measured 270 replaced. The optical device may be, for example, a lens. By subtracting the previously recorded examination result signal from the measurement of the wavefront error of the objective to be measured, one obtains the actual error of the objective without the influence of the other components of the device, ie the imaging optics 210 , the holding device 102 and the sensor device 230 ,

Gemäß einem Ausführungsbeispiel ist die Steuereinrichtung 226 ausgebildet, um ein Triggersignal 238 an die Bestimmungseinrichtung 234 oder die Sensoreinrichtung 230 bereitzustellen. Das Triggersignal 238 kann anzeigen, dass die Ablenkeinrichtung 104 eine Stellung eingenommen hat, in der eine Eigenschaft der die Abbildungsoptik 210 passierten elektromagnetischen Strahlung 106 zu erfassen ist. Beispielsweise kann die Bestimmungseinrichtung 234 ausgebildet sein, um ansprechend auf einen Empfang des Triggersignals 238 das Sensorsignal 232 aus der Sensoreinrichtung 230 auszulesen oder die Sensoreinrichtung 230 kann ausgebildet sein, um ansprechend auf einen Empfang des Triggersignals 238 eine Wellenfront-Charakteristik der auf die Sensoreinrichtung 230 einfallenden elektromagnetischen Strahlung 106 zu erfassen und über das Sensorsignal 232 bereitzustellen.According to one embodiment, the control device 226 designed to be a trigger signal 238 to the determination device 234 or the sensor device 230 provide. The trigger signal 238 can indicate that the deflector 104 has taken a position in which a property of the imaging optics 210 passed electromagnetic radiation 106 is to capture. For example, the determination device 234 be configured to be responsive to receipt of the trigger signal 238 the sensor signal 232 from the sensor device 230 read out or the sensor device 230 may be configured to be responsive to receipt of the trigger signal 238 a wavefront characteristic of the sensor device 230 incident electromagnetic radiation 106 and via the sensor signal 232 provide.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel kann die Vorrichtung 100 eine Trägerstruktur 240 aufweisen, durch die beispielsweise die Strahlungseinrichtung 220, die Bewegungseinrichtung 222, die Halteeinrichtung 102 und die Sensoreinrichtung 230 gehalten werden. Beispielsweise können die Einrichtungen 220, 222, 102, 230 unter Verwendung der Trägerstruktur 240 gegeneinander ausgerichtet sein, sodass der Strahlengang der elektromagnetischen Strahlung 106 von der Strahlungseinrichtung 220 durch die Ablenkeinrichtung 104 und die Abbildungsoptik 210 zu der Sensoreinrichtung 230 verläuft. Die Trägerstruktur 240 kann als Gehäuse oder Teil eines Gehäuses der Vorrichtung 100 ausgeführt sein. According to one embodiment, the device 100 a carrier structure 240 by which, for example, the radiation device 220 , the movement device 222 , the holding device 102 and the sensor device 230 being held. For example, the facilities may 220 . 222 . 102 . 230 using the support structure 240 be aligned with each other, so that the beam path of the electromagnetic radiation 106 from the radiation device 220 through the deflector 104 and the imaging optics 210 to the sensor device 230 runs. The support structure 240 can as a housing or part of a housing of the device 100 be executed.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel ist zumindest eine weitere Ablenkeinrichtung 104 vorgesehen, oder es kann die gezeigte Ablenkeinrichtung 104 durch zumindest eine weitere Ablenkeinrichtung ersetzt werden. Auf diese Weise kann die elektromagnetische Strahlung 106 unter zumindest einem weiteren Einfallwinkel, der durch einen durch die weitere Ablenkeinrichtung 104 vorgegebenen weiteren Ablenkwinkel definiert wird, auf die Abbildungsoptik 210 gelenkt werden.According to one embodiment, at least one further deflection device 104 provided, or it may be the deflection shown 104 be replaced by at least one other deflector. In this way, the electromagnetic radiation 106 under at least one further angle of incidence, passing through one through the further deflector 104 defined further deflection angle is defined on the imaging optics 210 be steered.

Ferner ist es in einem weiteren Ausführungsbeispiel möglich, die Vorrichtung ohne die Abbildungsoptik 210 zu kalibrieren. In diesem Ausführungsbeispiel würde somit lediglich die Sensoreinrichtung 230 kalibriert und als Referenz für nachfolgende Messungen verwendet.Furthermore, it is possible in a further embodiment, the device without the imaging optics 210 to calibrate. In this embodiment, therefore, only the sensor device would 230 calibrated and used as a reference for subsequent measurements.

3a zeigt eine schematische Darstellung einer Vorrichtung 100 zur Untersuchung einer optischen Einrichtung im Zustand des Kalibrierens der Vorrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. Bei der Vorrichtung 100 kann es sich um eine Ausführungsform der anhand der vorangegangenen Figuren beschriebenen Vorrichtung handeln. 3a shows a schematic representation of a device 100 for examining an optical device in the state of calibrating the device according to an embodiment of the present invention. In the device 100 it may be an embodiment of the device described with reference to the preceding figures.

Gemäß dem in 3a gezeigten Ausführungsbeispiel umfasst die Strahlungseinrichtung 220 eine Punktlichtquelle 350 zum Bereitstellen der elektromagnetischen Strahlung 106 und einen Kollimator 352 zur Erzeugung eines parallelen Strahlenverlaufs der elektromagnetischen Strahlung 106.According to the in 3a embodiment shown includes the radiation device 220 a point light source 350 for providing the electromagnetic radiation 106 and a collimator 352 for generating a parallel beam path of the electromagnetic radiation 106 ,

Die Vorrichtung 100 weist eine Strahlungseinrichtung 220 zum Aussenden einer elektromagnetischen Strahlung 106, bei der es sich gemäß diesem Ausführungsbeispiel um eine ebene Welle entlang einer optischen Achse handelt. Die elektromagnetische Strahlung 106 durchstrahlt die Abbildungsoptik 210, die gemäß diesem Ausführungsbeispiel als eine Wellenfrontsensor-Abbildungsoptik ausgeführt ist, entlang der optischen Achse. Nach der Durchstrahlung der Abbildungsoptik 210 trifft die elektromagnetische Strahlung 106 auf eine Wellenfrontsensor-Bildebene, in der gemäß diesem Ausführungsbeispiel eine Sensoreinrichtung 230 in Form eines Wellenfrontsensors angeordnet ist. Gemäß diesem Ausführungsbeispiel wird die elektromagnetische Strahlung 106 durch die Abbildungsoptik 210 auf die Wellenfrontsensor-Bildebene gebracht, insbesondere fokussiert.The device 100 has a radiation device 220 for emitting electromagnetic radiation 106 , which according to this embodiment is a plane wave along an optical axis. The electromagnetic radiation 106 radiates the imaging optics 210 which is implemented as a wavefront sensor imaging optical system according to this embodiment, along the optical axis. After the radiation of the imaging optics 210 meets the electromagnetic radiation 106 to a wavefront sensor image plane in which according to this embodiment, a sensor device 230 is arranged in the form of a wavefront sensor. According to this embodiment, the electromagnetic radiation 106 through the imaging optics 210 brought to the wavefront sensor image plane, in particular focused.

3b zeigt eine weitere schematische Darstellung der in 3a gezeigten Vorrichtung 100 zur Untersuchung einer optischen Einrichtung 210 gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung im Zustand des Kalibrierens der Vorrichtung. In der in 3b gezeigten Darstellung ist die Ablenkeinrichtung 104 in dem Strahlengang der elektromagnetischen Strahlung 106 zwischen dem Kollimator 352 und der Abbildungsoptik 210 angeordnet. Die auf die Ablenkeinrichtung 104 auftreffende ebene Welle wird durch die Ablenkeinrichtung 104 abgelenkt und verläuft als ebene Welle entlang eines Feldwinkels, in 2 auch als Ablenkwinkel bezeichnet, auf die Abbildungsoptik 210 zu. Aufgrund der Ablenkung durch die Ablenkeinrichtung 104 wird die Abbildungsoptik 210, hier die Wellenfrontsensor-Abbildungsoptik, entlang des Feldwinkels durchstrahlt. Nach Durchstrahlung der Abbildungsoptik 210 trifft die elektromagnetische Strahlung 106 wiederum auf die Sensoreinrichtung 230. 3b shows a further schematic representation of in 3a shown device 100 for investigating an optical device 210 according to an embodiment of the present invention in the state of calibrating the device. In the in 3b The representation shown is the deflection device 104 in the beam path of the electromagnetic radiation 106 between the collimator 352 and the imaging optics 210 arranged. The on the deflector 104 impinging plane wave is caused by the deflector 104 deflected and runs as a plane wave along a field angle, in 2 Also referred to as deflection angle, on the imaging optics 210 to. Due to the deflection by the deflector 104 becomes the imaging optics 210 , here the wavefront sensor imaging optics, irradiates along the field angle. After irradiation of the imaging optics 210 meets the electromagnetic radiation 106 again to the sensor device 230 ,

Die Ablenkeinrichtung 104 ist gemäß diesem Ausführungsbeispiel als eine Keilplatte ausgeführt. Die Ablenkeinrichtung 104 weist somit eine Eintrittsfläche und eine zu der Eintrittsfläche geneigte Austrittsfläche auf. Gemäß diesem Ausführungsbeispiel steht die optische Achse, die hier der Ausbreitungsrichtung der elektromagnetischen Strahlung 106 nach dem Kollimator 352 entspricht, annähernd senkrecht zu der Eintrittsfläche der Ablenkeinrichtung 104. Anhand der 3a und 3b wird der beschriebene Ansatz im Folgenden anhand von konkreten Ausführungsbeispielen beschrieben. Der beschriebene Ansatz bietet die Möglichkeit unabhängig von perfekten Kalibrierobjektiven und ohne Drehungen der Sensoreinheit 230 eine optische Einrichtung 270, beispielsweise ein Objektiv, entlang der optischen Achse und in genau definierten zur optischen Achse geneigten Winkeln bezüglich Wellenfrontfehler zu messen. Ein darauf basierendes Kalibrierverfahren ist insbesondere anwendbar, wenn mindestens eine Seite der zu messenden optischen Einrichtung 270 eine ebene Welle als Eingangswelle erfordert. Dies ist bei sogenannten Kollimatoren oder afokalen Teleskopen der Fall. Mikroskop-Objektive fallen auch in diese Kategorie.The deflection device 104 is designed according to this embodiment as a wedge plate. The deflection device 104 thus has an entrance surface and an exit surface inclined to the entry surface. According to this embodiment, the optical axis, here the propagation direction of the electromagnetic radiation 106 after the collimator 352 corresponds approximately perpendicular to the entrance surface of the deflector 104 , Based on 3a and 3b the approach described will be described below with reference to specific embodiments. The described approach offers the possibility of independent of perfect calibration lenses and without rotation of the sensor unit 230 an optical device 270 , For example, a lens, along the optical axis and at exactly defined angles inclined to the optical axis with respect to wavefront error to measure. A calibration method based thereon is particularly applicable if at least one side of the optical device to be measured 270 requires a plane wave as input shaft. This is the case with so-called collimators or afocal telescopes. Microscope lenses also fall into this category.

Zur Erzeugung der ebenen Welle entlang der optischen Achse der zu messenden optischen Einrichtung und zur Erzeugung der ebenen Welle entlang der schiefen Feldrichtungen wird die Ablenkeinrichtung 104, hier eine optische Keilplatte 104, auf einer Dreheinrichtung verwendet. Die Keilplatte 104 hat die Eigenschaft, dass der Ablenkwinkel des durchtretenden Strahls 106 nahezu unabhängig vom Einfallwinkel des Strahls 106 auf die erste Fläche der Keilplatte 104 ist. Mit dieser Eigenschaft kann auch bei relativ entspannten mechanischen Fehlertoleranzen eine sehr definierte und stabile Strahlablenkung durch die Keilplatte 104 erzeugt werden. Insbesondere muss an die Bewegungsmechanik 222 keine großen Genauigkeitsanforderungen gestellt werden, bezüglich Einfallswinkel auf die Keilplatte 104.To generate the plane wave along the optical axis of the optical device to be measured and to generate the plane wave along the oblique field directions, the deflecting device 104 , here an optical wedge plate 104 , on used a rotating device. The wedge plate 104 has the property that the deflection angle of the passing beam 106 almost independent of the angle of incidence of the beam 106 on the first surface of the wedge plate 104 is. With this property, even with relatively relaxed mechanical fault tolerances a very defined and stable beam deflection by the wedge plate 104 be generated. In particular, to the movement mechanics 222 no great accuracy requirements are made regarding angle of incidence on the wedge plate 104 ,

Gemäß einem Ausführungsbeispiel wird der beschriebene Ansatz zur Kalibrierung eines Wellenflächenprüfstandes verwendet. Die ebene Welle zur Kalibrierung des Wellenflächenprüfstandes wird auf die übliche Weise durch eine Lochblende, ein sogenanntes kleines „pin-hole”, die als Punktlichtquelle 350 dient, und einen darauf abgestimmten Kollimator 352 erzeugt. Diese ebene Welle wird zuerst ohne die Keilplatte 104 und die zu messende optische Einrichtung 270 durch die Vorrichtung geleitet. Durch eine dabei durchgeführte Messung unter Verwendung der Sensoreinrichtung 230 ist die optische Achse der Vorrichtung 100 in Form eines Prüfstandes und der zu messenden optischen Einrichtung festgelegt. Daraufhin wird die Keilplatte 104 eingangsseitig in den Strahlengang der Strahlung 106 eingebracht, um die ebene Kalibrierwelle der Strahlung 106 unter dem gewünschten Feldwinkel in die Abbildungsoptik fallen zu lassen. Durch Drehen der Keilplatte 104 um die optische Achse kann jeder beliebige Azimutwinkel 216 zur Kalibrierung erreicht werden.According to one embodiment, the approach described is used to calibrate a wave surface test rig. The plane wave for calibrating the Wellenflächenprüfstandes is in the usual way by a pinhole, a so-called small "pin-hole", the point light source 350 serves, and a matched collimator 352 generated. This plane wave will be without the wedge plate first 104 and the optical device to be measured 270 passed through the device. By doing a measurement using the sensor device 230 is the optical axis of the device 100 determined in the form of a test bench and the optical device to be measured. Then the wedge plate 104 on the input side in the beam path of the radiation 106 introduced to the plane calibration wave of the radiation 106 fall under the desired field angle in the imaging optics. By turning the wedge plate 104 Any azimuth angle can be around the optical axis 216 for calibration.

4 zeigt eine Draufsicht auf eine Ablenkeinrichtung 104, wie sie anhand der vorangegangenen Figuren bereits beschrieben wurde, gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. 4 shows a plan view of a deflector 104 as already described with reference to the preceding figures, according to an embodiment of the present invention.

Wenn sich die Ablenkeinrichtung 104 in der aktiven Position befindet, trifft die elektromagnetische Strahlung 106 gemäß diesem Ausführungsbeispiel lotrecht auf eine Eintrittsfläche der Ablenkeinrichtung 104. Wenn sich die Ablenkeinrichtung 104 in der inaktiven Position befindet, trifft die elektromagnetische Strahlung 106 gemäß diesem Ausführungsbeispiel somit ebenfalls lotrecht, also mit einem Feldwinkel von 0°, auf die zu untersuchende optische Einrichtung.When the deflector 104 in the active position, the electromagnetic radiation hits 106 according to this embodiment, perpendicular to an entrance surface of the deflector 104 , When the deflector 104 In the inactive position, the electromagnetic radiation hits 106 according to this embodiment thus also perpendicular, ie with a field angle of 0 °, to the optical device to be examined.

Wenn sich die Ablenkeinrichtung 104 in der aktiven Position befindet, weist die elektromagnetische Strahlung 106, nach Passieren der Ablenkeinrichtung 104 zum einen einen Feldwinkel auf, wie es anhand von 2 beschrieben ist. Der Feldwinkel ist an jeder azimutalen Winkelstellung 561, 562, 563, 564 der Ablenkeinrichtung 104 derselbe. Beispielhaft sind in 4 vier azimutale Winkelstellungen 561, 562, 563, 564 der Ablenkeinrichtung 104 gezeigt, wobei eine erste Winkelstellung 561 einem Drehwinkel von 0°, eine zweite Winkelstellung 562 einem Drehwinkel von 90°, eine dritte Winkelstellung 563 einem Drehwinkel von 180° und eine vierte Winkelstellung 564 einem Drehwinkel von 270° darstellt. Wie durch die Pfeile in 4 gekennzeichnet ist jeder Winkelstellung 561, 562, 563, 564 eine Horizontalrichtung zugeordnet, in der die elektromagnetische Strahlung 106 nach Passieren der Ablenkeinrichtung 104 ausgerichtet ist. In Bezug auf die erste Winkelstellung 561 weist ein Richtungsvektor der elektromagnetischen Strahlung 106 nach Passieren der Ablenkeinrichtung 104 beispielsweise einen Azimutwinkel von 0° auf. Nach Drehen der Ablenkeinrichtung 104 in die zweite Winkelstellung 562, wie es durch den Pfeil 216 angedeutet ist, weist ein Richtungsvektor der elektromagnetischen Strahlung 106 nach Passieren der Ablenkeinrichtung 104 hier einen Azimutwinkel 565 von 90° auf.When the deflector 104 located in the active position, rejects the electromagnetic radiation 106 after passing the deflector 104 on the one hand a field angle, as it is based on 2 is described. The field angle is at every azimuthal angular position 561 . 562 . 563 . 564 the deflection device 104 the same. Exemplary are in 4 four azimuthal angular positions 561 . 562 . 563 . 564 the deflection device 104 shown, wherein a first angular position 561 a rotation angle of 0 °, a second angular position 562 a rotation angle of 90 °, a third angular position 563 a rotation angle of 180 ° and a fourth angular position 564 represents a rotation angle of 270 °. As indicated by the arrows in 4 is marked each angular position 561 . 562 . 563 . 564 associated with a horizontal direction in which the electromagnetic radiation 106 after passing the deflection device 104 is aligned. In terms of the first angular position 561 has a directional vector of the electromagnetic radiation 106 after passing the deflection device 104 for example, an azimuth angle of 0 °. After turning the deflector 104 in the second angular position 562 as indicated by the arrow 216 is indicated, has a direction vector of the electromagnetic radiation 106 after passing the deflection device 104 here an azimuth angle 565 from 90 ° up.

Gemäß einem Ausführungsbeispiel soll die optische Einrichtung 270 in Form eines Objektivs an fünf Feldpunkten gemessen werden. Zum einen auf der optischen Achse (0° Feldwinkel) und zum anderen unter vier Feldwinkeln (5° Feldwinkel und 0° Azimutwinkel, 5° Feldwinkel und 90° Azimutwinkel, 5° Feldwinkel und 180° Azimutwinkel, 5° Feldwinkel und 270° Azimutwinkel).According to one embodiment, the optical device 270 be measured in the form of a lens at five field points. On the optical axis (0 ° field angle) and under four field angles (5 ° field angle and 0 ° azimuth angle, 5 ° field angle and 90 ° azimuth angle, 5 ° field angle and 180 ° azimuth angle, 5 ° field angle and 270 ° azimuth angle) ,

Dazu wird im Zustand des Kalibrierens die Keilplatte 104 um die gleichen Azimutwinkel azimutal gedreht, also in die Winkelstellungen 561, 562, 563, 564 gedreht. Der Feldwinkel, der dem Ablenkwinkel der Keilplatte 104 entspricht, bleibt unverändert, auch wenn bei der Drehbewegung der Keilplatte 104 geringe mechanische Winkelfehler entstehen.For this purpose, the wedge plate is in the state of calibration 104 rotated azimuthally by the same azimuth angle, ie in the angular positions 561 . 562 . 563 . 564 turned. The field angle, the deflection angle of the wedge plate 104 corresponds, remains unchanged, even if during the rotation of the wedge plate 104 small mechanical angle errors occur.

Dadurch wird ein unabhängiges und stabiles Kalibrierverfahren gewährleistet, das unabhängig von einem Kalibrierobjektiv und stabil aufgrund der Keilplatte 104 ist. Dadurch lassen sich einfachere Prüfstände realisieren, aufgrund der Tatsache, dass außer der Bewegung der Keilplatte 104 keine Bewegungen bei der Messung erforderlich sind. Aufgrund des Fehlens solcher weiteren Bewegungen kann eine hohe Messgeschwindigkeit am Prüfstand erreicht werden.This ensures an independent and stable calibration procedure, independent of a calibration lens and stable due to the wedge plate 104 is. As a result, simpler test stands can be realized, due to the fact that in addition to the movement of the wedge plate 104 no movements in the measurement are required. Due to the lack of such further movements, a high measuring speed can be achieved at the test stand.

5 zeigt ein Ablaufdiagramm eines Verfahrens zum Kalibrieren einer Vorrichtung zur Untersuchung einer optischen Einrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. Das Verfahren kann beispielsweise im Zusammenhang mit einer im vorangegangen beschriebenen Vorrichtung durchgeführt werden. 5 shows a flowchart of a method for calibrating an apparatus for inspecting an optical device according to an embodiment of the present invention. The method can be carried out, for example, in connection with a device described above.

In einem Schritt 670 wird eine Abbildungsoptik in einem Strahlengang einer elektromagnetischen Strahlung gehalten. In einem Schritt 672 wird eine Ablenkeinrichtung bewegt. Die Ablenkeinrichtung dient zum Ablenken der elektromagnetischen Strahlung, bevor die elektromagnetische Strahlung auf die Abbildungsoptik trifft. Je nach Ausgangsstellung der Ablenkeinrichtung kann die Ablenkeinrichtung in dem Schritt 672 von einer inaktiven Position in eine aktive Position, von der aktiven Position in die inaktive Position oder in eine geänderte Winkelstellung bewegt werden. Der Schritt 672 kann somit eine Mehrzahl von Unterschritten 674, 676 umfassen, wobei ein Schritt 674 ausgeführt werden kann, um die Ablenkeinrichtung zwischen der inaktiven und der aktiven Position zu bewegen und ein Schritt 676 ausgeführt werden kann, um die Ablenkeinrichtung zum Einstellen unterschiedlicher Winkelstellungen zu drehen. Die Unterschritte 674, 676 können dabei wiederholt und in einer beliebigen, geeigneten Reihenfolge ausgeführt werden.In one step 670 An imaging optics is held in a beam path of electromagnetic radiation. In one step 672 a deflector is moved. The deflection device serves to deflect the electromagnetic radiation before the electromagnetic radiation hits the imaging optics. Depending on the starting position of the deflection, the deflection in the step 672 from an inactive position to an active position, from the active position to the inactive position, or to a changed angular position. The step 672 can thus a plurality of sub-steps 674 . 676 comprising a step 674 can be performed to move the deflector between the inactive and the active position and a step 676 can be performed to rotate the deflector for setting different angular positions. The substeps 674 . 676 can be repeated and executed in any suitable order.

Gemäß einer Ausführungsform umfasst das Verfahren ferner einen optionalen Schritt 678 des Erfassens einer Charakteristik einer Wellenfront der elektromagnetischen Strahlung nach Passieren der Abbildungsoptik. Der Schritt des Erfassens 678 kann beispielsweise unter Verwendung einer anhand der vorangegangenen Figuren beschriebenen Sensoreinrichtung ausgeführt werden. Der Schritt des Erfassens 678 kann wiederholt ausgeführt werden, beispielsweise jeweils, wenn die Ablenkeinrichtung in eine neue Stellung bewegt wurde. Jede erfasste Charakteristik kann dabei einer Einfallrichtung der elektromagnetischen Strahlung auf die Abbildungsoptik zugeordnet sein.In one embodiment, the method further comprises an optional step 678 detecting a characteristic of a wavefront of the electromagnetic radiation after passing through the imaging optics. The step of grasping 678 can be performed, for example, using a sensor device described with reference to the preceding figures. The step of grasping 678 can be carried out repeatedly, for example, respectively, when the deflector has been moved to a new position. Each detected characteristic can be assigned to a direction of incidence of the electromagnetic radiation on the imaging optics.

Die 6, 7a und 7b zeigen verschiedene Ausführungsformen zur Untersuchung beziehungsweise Charakterisierung einer optischen Einrichtung, nachdem das Verfahren der Kalibrierung abgeschlossen ist. Zunächst soll hierbei auf die 6 und 7a näher eingegangen werden. Wie der 6 zu entnehmen ist, wird bei einem Verfahren zur Untersuchung der optischen Einrichtung die Ablenkeinrichtung 104 durch die zu untersuchende optische Einrichtung 270 ersetzt. Beispielsweise kann es sich bei der zu untersuchenden optischen Einrichtung um ein Objektiv 270 handeln. Dieses Objektiv soll nun an fünf Feldpunkten gemessen werden. Zum einen auf der optischen Achse (0° Feldwinkel) und zum anderen unter vier Feldwinkeln (5° Feldwinkel und 0° Azimutwinkel, 5° Feldwinkel und 90° Azimutwinkel, 5° Feldwinkel und 180° Azimutwinkel, 5° Feldwinkel und 270° Azimutwinkel). Darunter ist zu verstehen, dass die elektromagnetische Strahlung nach Passieren des Objektivs keinen Winkel mit der Abbildungsoptik einschließt (0° Feldwinkel) beziehungsweise einen Winkel mit der Abbildungsoptik einschließt (5° Feldwinkel). Somit wird das Objektiv 270 also genau in den Zuständen gemessen, die zuvor ohne das Objektiv mittels der Ablenkeinrichtung kalibriert wurden.The 6 . 7a and 7b show various embodiments for examining or characterizing an optical device after the calibration procedure is completed. First, it should be on the 6 and 7a be discussed in more detail. Again 6 can be seen, in a method for examining the optical device, the deflection 104 through the optical device to be examined 270 replaced. For example, the optical device to be examined may be an objective 270 act. This lens will now be measured at five field points. On the optical axis (0 ° field angle) and under four field angles (5 ° field angle and 0 ° azimuth angle, 5 ° field angle and 90 ° azimuth angle, 5 ° field angle and 180 ° azimuth angle, 5 ° field angle and 270 ° azimuth angle) , By this is meant that the electromagnetic radiation after passing through the lens does not include an angle with the imaging optics (0 ° field angle) or an angle with the imaging optics includes (5 ° field angle). Thus, the lens becomes 270 so measured exactly in the states that were previously calibrated without the lens by means of the deflector.

Die 6 und die 7a zeigen das Verfahren zur Untersuchung einer optischen Einrichtung, die Licht aus einer Punktlichtquelle 350 in eine nach der optischen Einrichtung 270 ebene Welle 106 transformiert, ein sogenannter Kollimator. Der Kollimator wird geprüft, in den zuvor genannten zwei Zuständen, nämlich in einem ersten Zustand, in dem die elektromagnetische Strahlung nach Passieren der optischen Einrichtung keinen Einfallwinkel mit der Abbildungsoptik 210 einschließt (6) und in einem zweiten Zustand, in dem die elektromagnetische Strahlung nach Passieren der optischen Einrichtung einen Einfallwinkel mit der Abbildungsoptik 210 einschließt. Somit entspricht der erste Zustand des Verfahrens gemäß 6 dem Zustand in der Kalibrierphase gemäß 3a und der zweite Zustand des Verfahrens gemäß 7a dem Zustand in der Kalibrierphase gemäß 3b. Die unterschiedlichen Azimutwinkel werden nun dadurch erreicht, dass die Punktlichtquelle 350 in verschiedene Richtungen gemäß den Pfeilen bewegt wird und zwar derart, dass die vier Bewegungsrichtungen senkrecht auf die optische Achse stehen.The 6 and the 7a show the method for examining an optical device, the light from a point light source 350 in one after the optical device 270 level wave 106 transformed, a so-called collimator. The collimator is tested, in the aforementioned two states, namely in a first state, in which the electromagnetic radiation after passing through the optical device has no angle of incidence with the imaging optics 210 includes ( 6 ) and in a second state in which the electromagnetic radiation after passing through the optical device has an angle of incidence with the imaging optics 210 includes. Thus, the first state of the method according to 6 the condition in the calibration phase according to 3a and the second state of the method according to 7a the condition in the calibration phase according to 3b , The different azimuth angles are now achieved by the point light source 350 is moved in different directions according to the arrows in such a way that the four directions of movement are perpendicular to the optical axis.

Eine andere Möglichkeit besteht darin, dass die Punktlichtquelle 350 nicht senkrecht zur optische Achse gemäß 7a bewegt wird, sondern zusammen mit dem Beleuchtungskollimator 352 in einem Winkel 351, der dem Feldwinkel entspricht, gedreht wird. Diese Anordnung ist geeignet optische Einrichtungen 270 zu prüfen, welche ebene Wellen am Eingang in ebenfalls ebene Wellen am Ausgang überführt, sogenannte afokale Anordnungen.Another possibility is that the point light source 350 not perpendicular to the optical axis according to 7a is moved, but together with the illumination collimator 352 at an angle 351 , which corresponds to the field angle, is rotated. This arrangement is suitable optical devices 270 to check which plane waves at the entrance in also plane waves at the output transferred, so-called afocal arrangements.

Die beschriebenen und in den Figuren gezeigten Ausführungsbeispiele sind nur beispielhaft gewählt. Unterschiedliche Ausführungsbeispiele können vollständig oder in Bezug auf einzelne Merkmale miteinander kombiniert werden. Auch kann ein Ausführungsbeispiel durch Merkmale eines weiteren Ausführungsbeispiels ergänzt werden.The embodiments described and shown in the figures are chosen only by way of example. Different embodiments may be combined together or in relation to individual features. Also, an embodiment can be supplemented by features of another embodiment.

Ferner können erfindungsgemäße Verfahrensschritte wiederholt sowie in einer anderen als in der beschriebenen Reihenfolge ausgeführt werden. Umfasst ein Ausführungsbeispiel eine „und/oder”-Verknüpfung zwischen einem ersten Merkmal und einem zweiten Merkmal, so ist dies so zu lesen, dass das Ausführungsbeispiel gemäß einer Ausführungsform sowohl das erste Merkmal als auch das zweite Merkmal und gemäß einer weiteren Ausführungsform entweder nur das erste Merkmal oder nur das zweite Merkmal aufweist.Furthermore, method steps according to the invention can be repeated as well as carried out in a sequence other than that described. If an exemplary embodiment comprises a "and / or" link between a first feature and a second feature, then this is to be read so that the embodiment according to one embodiment, both the first feature and the second feature and according to another embodiment either only first feature or only the second feature.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

100100
Vorrichtungcontraption
102102
Halteeinrichtungholder
104104
AblenkeinrichtungDeflector
106106
elektromagnetische Strahlungelectromagnetic radiation
210 210
Abbildungsoptikoptische EinrichtungOptical imaging device
212212
Ablenkwinkeldeflection
214214
optische Achseoptical axis
216216
Drehbewegungrotary motion
220220
Strahlungseinrichtungradiation device
222222
Bewegungseinrichtungmover
224224
Steuersignalcontrol signal
226226
Steuereinrichtungcontrol device
228228
Bewegungsrichtungmovement direction
230230
Sensoreinrichtungsensor device
232232
Sensorsignalsensor signal
234234
Bestimmungseinrichtungdeterminer
236236
UntersuchungsergebnissignalInvestigation result signal
238238
Triggersignaltrigger signal
240240
Trägerstruktursupport structure
270270
optische Einrichtungoptical device
350350
PunktlichtquellePoint light source
351351
Ablenkwinkeldeflection
352352
Kollimatorcollimator
561561
erste Winkelstellungfirst angular position
562562
zweite Winkelstellungsecond angular position
563563
dritte Winkelstellungthird angular position
564564
vierte Winkelstellungfourth angular position
565565
Azimutwinkelazimuth angle
670670
Schritt des HaltensStep of holding
672672
Schritt des BewegensStep of moving
674674
Schritt des BewegensStep of moving
676676
Schritt des DrehensStep of turning
678678
Schritt des ErfassensStep of grasping

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

  • DE 19722342 A1 [0004] DE 19722342 A1 [0004]

Claims (9)

Verfahren zur Kalibrierung einer Vorrichtung (100) zum Untersuchen einer optischen Einrichtung (270), wobei das Verfahren die folgenden Merkmale aufweist: – Halten (670) einer Abbildungsoptik (210) in einem Strahlengang einer elektromagnetischen Strahlung (106), wobei eine Welleneigenschaft der elektromagnetischen Strahlung (106) durch eine ebene Welle repräsentiert wird; und Bewegen (674) einer Ablenkeinrichtung (104) zum Ablenken der elektromagnetischen Strahlung (106) zwischen einer inaktiven Position und einer aktiven Position, wobei die Ablenkeinrichtung (104) in der inaktiven Position außerhalb des Strahlengangs angeordnet ist und in der aktiven Position in dem Strahlengang vor der Abbildungsoptik (201) angeordnet ist, um einen Einfallwinkel (212) der elektromagnetischen Strahlung (106) auf die Abbildungsoptik (201) einzustellen.Method for calibrating a device ( 100 ) for examining an optical device ( 270 ), the method comprising the following features: - holding ( 670 ) an imaging optics ( 210 ) in a beam path of an electromagnetic radiation ( 106 ), wherein a wave property of the electromagnetic radiation ( 106 ) is represented by a plane wave; and moving ( 674 ) a deflection device ( 104 ) for deflecting the electromagnetic radiation ( 106 ) between an inactive position and an active position, the deflection device ( 104 ) is arranged in the inactive position outside the beam path and in the active position in the beam path in front of the imaging optics ( 201 ) is arranged to provide an angle of incidence ( 212 ) of electromagnetic radiation ( 106 ) on the imaging optics ( 201 ). Verfahren gemäß Anspruch 1, mit einem Schritt (676) des Drehens der Ablenkeinrichtung (104) um eine Drehachse der Ablenkeinrichtung (104).Method according to claim 1, with a step ( 676 ) of turning the deflector ( 104 ) about an axis of rotation of the deflection device ( 104 ). Verfahren gemäß Anspruch 1 oder 2, mit einem Schritt (678) des Erfassens einer Charakteristik einer Wellenfront der elektromagnetischen Strahlung (106) nach Passieren der Abbildungsoptik (210), wobei der Schritt (678) des Erfassens ausgeführt wird, während sich die Ablenkeinrichtung (104) in der inaktiven Position befindet, um eine der inaktiven Position zugeordnete Kalibriercharakteristik zu erfassen, und der Schritt (678) des Erfassens ausgeführt wird, während sich die Ablenkeinrichtung (104) in der aktiven Position befindet, um eine der aktiven Position zugeordnete Kalibriercharakteristik zu erfassen.Method according to claim 1 or 2, comprising a step ( 678 ) of detecting a characteristic of a wavefront of the electromagnetic radiation ( 106 ) after passing through the imaging optics ( 210 ), wherein the step ( 678 ) of detecting while the deflection device ( 104 ) is in the inactive position to detect a calibration characteristic associated with the inactive position, and the step of 678 ) of detecting while the deflection device ( 104 ) is in the active position to detect a calibration characteristic associated with the active position. Verfahren gemäß Anspruch 3, bei dem der Schritt (678) des Erfassens ausgeführt wird, während sich die Ablenkeinrichtung (104) in der aktiven Position in einer ersten Winkelstellung (561) befindet, um eine der ersten Winkelstellung (561) zugeordnete Kalibriercharakteristik zu erfassen, und der Schritt (678) des Erfassens ausgeführt wird, während sich die Ablenkeinrichtung (104) in der aktiven Position in einer zweiten Winkelstellung (562) befindet, um eine der zweiten Winkelstellung (562) zugeordnete Kalibriercharakteristik zu erfassen.Method according to claim 3, wherein the step ( 678 ) of detecting while the deflection device ( 104 ) in the active position in a first angular position ( 561 ) to one of the first angular position ( 561 ) and to detect the calibration characteristic associated with 678 ) of detecting while the deflection device ( 104 ) in the active position in a second angular position ( 562 ) to one of the second angular position ( 562 ) to be assigned associated calibration characteristic. Verfahren gemäß einem der vorangegangenen Ansprüche, bei dem die Ablenkeinrichtung (104) eine Eintrittsfläche für die elektromagnetische Strahlung (106) und eine Austrittsfläche für die elektromagnetische Strahlung (106) aufweist, wobei die Eintrittsfläche und die Austrittsfläche einander gegenüberliegend und schief zueinander ausgerichtet sind.Method according to one of the preceding claims, in which the deflection device ( 104 ) an entrance surface for the electromagnetic radiation ( 106 ) and an exit surface for the electromagnetic radiation ( 106 ), wherein the entrance surface and the exit surface are aligned opposite each other and obliquely to each other. Verfahren gemäß einem der vorangegangenen Ansprüche, bei dem die Ablenkeinrichtung (104) als eine Keilplatte ausgeführt ist.Method according to one of the preceding claims, in which the deflection device ( 104 ) is designed as a wedge plate. Verfahren zum Untersuchen einer optischen Einrichtung (270), wobei das Verfahren die folgenden Merkmale aufweist: – Kalibrieren einer Vorrichtung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6; – Bereitstellen der zu untersuchenden optischen Einrichtung (270) in einem Strahlengang einer elektromagnetischen Strahlung (106), wobei eine Welleneigenschaft der elektromagnetischen Strahlung (106) durch eine ebene Welle repräsentiert wird; – Bereitstellen der Abbildungsoptik (210) im Strahlengang nach der zu untersuchenden optischen Einrichtung (270); – Erfassen einer Charakteristik einer Wellenfront der elektromagnetischen Strahlung (106) nach Passieren der Abbildungsoptik (210); – Berücksichtigen einer Kalibriercharakteristik gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6.Method for examining an optical device ( 270 ), the method comprising the following features: - calibrating a device according to one of claims 1 to 6; Providing the optical device to be examined ( 270 ) in a beam path of an electromagnetic radiation ( 106 ), wherein a wave property of the electromagnetic radiation ( 106 ) is represented by a plane wave; - Providing the imaging optics ( 210 ) in the beam path after the optical device to be examined ( 270 ); Detecting a characteristic of a wavefront of the electromagnetic radiation ( 106 ) after passing through the imaging optics ( 210 ); - Considering a calibration characteristic according to one of claims 1 to 6. Verfahren gemäß Anspruch 7, bei dem der Schritt des Erfassens einer Charakteristik einer Wellenfront der elektromagnetischen Strahlung ein erstes Erfassen umfasst, wobei in diesem Schritt die elektromagnetische Strahlung keinen Einfallwinkel mit der Abbildungsoptik einschließt und ein zweites Erfassen umfasst, wobei die elektromagnetische Strahlung in diesem Schritt einen Einfallwinkel mit der Abbildungsoptik einschließt.The method of claim 7, wherein the step of detecting a characteristic of a wavefront of the electromagnetic radiation comprises a first detection, wherein in this step the electromagnetic radiation includes no angle of incidence with the imaging optic and comprises a second detection, wherein the electromagnetic radiation comprises in this step Incident angle with the imaging optics includes. Verfahren gemäß Anspruch 8, bei dem der Schritt des zweiten Erfassens durch eine Bewegung der Quelle der elektromagnetischen Strahlung realisiert wird.A method according to claim 8, wherein the step of second detecting is realized by movement of the source of electromagnetic radiation.
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