DE102014007152A1 - Apparatus and method for tilt angle measurement on surfaces - Google Patents

Apparatus and method for tilt angle measurement on surfaces Download PDF

Info

Publication number
DE102014007152A1
DE102014007152A1 DE102014007152.9A DE102014007152A DE102014007152A1 DE 102014007152 A1 DE102014007152 A1 DE 102014007152A1 DE 102014007152 A DE102014007152 A DE 102014007152A DE 102014007152 A1 DE102014007152 A1 DE 102014007152A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
measuring beam
measuring
optical axis
path
angle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE102014007152.9A
Other languages
German (de)
Inventor
Jean-Michel Asfour
Niklas Andermahr
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dioptic GmbH
Original Assignee
Dioptic GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dioptic GmbH filed Critical Dioptic GmbH
Priority to DE102014007152.9A priority Critical patent/DE102014007152A1/en
Publication of DE102014007152A1 publication Critical patent/DE102014007152A1/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/26—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring angles or tapers; for testing the alignment of axes
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02—Interferometers
    • G01B9/02015—Interferometers characterised by the beam path configuration
    • G01B9/02017—Interferometers characterised by the beam path configuration with multiple interactions between the target object and light beams, e.g. beam reflections occurring from different locations
    • G01B9/02019—Interferometers characterised by the beam path configuration with multiple interactions between the target object and light beams, e.g. beam reflections occurring from different locations contacting different points on same face of object
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B2290/00—Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
    • G01B2290/65—Spatial scanning object beam
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Neigungswinkelmessung auf Oberflächen, wobei ein zur Entfernungsbestimmung geeignetes Interferometer verwendet wird und mindestens eine Strahlablenkungseinheit, die dazu ausgelegt ist, den Messstrahl des Interferometers abzulenken und längs einer vorgegebenen Bahn zu bewegen, wobei auf dieser Bahn mehrere Messpunkte an verschiedenen Positionen aufgenommen werden.The invention relates to an apparatus and a method for tilt angle measurement on surfaces, wherein an interferometer suitable for determining the distance is used and at least one beam deflection unit which is designed to deflect the measuring beam of the interferometer and to move along a predetermined path, wherein on this track several measuring points be recorded in different positions.

Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Messung eines Neigungswinkels auf Oberflächen, welche insbesondere reflektierende Eigenschaften haben.The invention relates to a device and a method for measuring an angle of inclination on surfaces, which in particular have reflective properties.

Herkömmliche optische Vorrichtungen zur Winkelmessung, z. B. Differenzielle Planspiegel-Interferometer, oder elektronische Winkelmessautomaten messen Winkelabweichungen eines Zielspiegels mit einem Fehler von etwas weniger als 0,1 Winkelsekunden. Interferometrische Verfahren arbeiten meist mit einem zwei Löcher aufweisenden Referenz-Winkelspiegel, wobei die Löcher so angeordnet sind, dass die Strahlen beim zweiten Durchlauf zum gegenüberliegenden Spiegel gelenkt werden, von dem sie beim ersten Durchlauf reflektierten. Ein elektronische Winkelmessautomat wie der ELWIMAT® arbeitet nach dem Prinzip des vignettierenden Feldblendenverfahrens. Dabei wird ein den Winkeländerungen unterworfener Messspiegel von einem speziellen, divergenten Lichtkegel beleuchtet. Die Strahlenbündel des Lichtkegels werden am Spiegel reflektiert, wobei ein Teil des Lichtes wieder in den Winkelsensor eintritt. Dort entsteht durch die vignettiert abgebildete Leuchtfläche auf einem positionsempfindlichen Detektor ein heller Lichtpunkt. Aus der Lageverschiebung dieses Punktes kann die Winkeländerung des Spiegels ermittelt werden.Conventional optical devices for angle measurement, z. B. Differential plane mirror interferometers, or electronic angle measuring machines measure angular deviations of a target mirror with an error of a little less than 0.1 angular seconds. Interferometric methods usually operate with a two-hole reference angle mirror, with the holes arranged so that the beams are directed on the second pass to the opposite mirror from which they reflected on the first pass. An electronic angle measuring machine such as the ELWIMAT ® works on the principle of the vignetting field diaphragm method. In this case, a measuring mirror subjected to the changes in angle is illuminated by a special, divergent beam of light. The beams of the cone of light are reflected at the mirror, wherein a portion of the light enters the angle sensor again. There is created by the vignettiert pictured luminous area on a position sensitive detector, a bright spot of light. From the positional shift of this point, the change in the angle of the mirror can be determined.

Nachteil des Standes der Technik ist eine für einige Anwendungen zu ungenaue Winkelmessung. Des Weiteren lassen sich einzig plane Oberflächen vermessen. Ein weiterer Nachteil des Standes der Technik ist eine fehlende Absolutwinkelmessung relativ zu einer optischen Achse. Es können im Allgemeinen nur Winkeländerungen hochgenau gemessen werden.Disadvantage of the prior art is an inaccurate for some applications angle measurement. Furthermore, only flat surfaces can be measured. Another disadvantage of the prior art is a lack of absolute angle measurement relative to an optical axis. In general, only angular changes can be measured with high precision.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung war es, die Nachteile des Standes der Technik zu überwinden und eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Verfügung zu stellen, die einen Benutzer in die Lage versetzen, Winkel einer reflektierenden Oberfläche mit einer sehr hohen Genauigkeit und einem sehr geringen Messfehler zu messen.The object of the present invention was to overcome the disadvantages of the prior art and to provide an apparatus and a method which enable a user to measure angles of a reflecting surface with a very high accuracy and a very small measuring error ,

Diese Aufgabe wird durch eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Neigungswinkelmessung auf reflektierenden Oberflächen gemäß den Ansprüchen gelöst.This object is achieved by a device and a method for tilt angle measurement on reflective surfaces according to the claims.

Die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Neigungswinkelmessung auf Oberflächen umfasst ein zur Entfernungsbestimmung geeignetes Interferometer und eine Strahlablenkungseinheit, die dazu ausgelegt ist, den Messstrahl des Interferometers abzulenken und längs einer vorgegebenen Bahn zu bewegen.The device according to the invention for measuring inclination angle on surfaces comprises an interferometer suitable for distance determination and a beam deflection unit which is designed to deflect the measuring beam of the interferometer and move it along a predetermined path.

Das erfindungsgemäße Verfahren zur Neigungswinkelmessung auf Oberflächen mittels eines Interferometers umfasst die Schritte:

  • – Ausrichtung eines Messstrahls auf die zu vermessende Oberfläche bzw. Ausrichtung der Oberfläche relativ zum Messstrahl,
  • – Erfassung der Entfernung des Auftreffpunktes des Messstrahls auf dieser Oberfläche,
  • – Bewegen des Messstrahls über die zu vermessende Oberfläche, längs einer vorgegebenen Bahn,
  • – Erfassung der Entfernung mindestens zwei weiterer Auftreffpunkte des Messstrahls auf dieser Oberfläche während der Bewegung an unterschiedlichen Positionen.
The method according to the invention for measuring the inclination angle on surfaces by means of an interferometer comprises the steps:
  • Alignment of a measuring beam on the surface to be measured or alignment of the surface relative to the measuring beam,
  • Detecting the distance of the impact point of the measuring beam on this surface,
  • Moving the measuring beam over the surface to be measured, along a predetermined path,
  • - Detecting the distance of at least two other points of impact of the measuring beam on this surface during movement at different positions.

Interferometer sind dem Fachmann bekannt. Die Funktionsweise der gängigen Interferometer ist im Wesentlichen gleich: Mindestens zwei Lichtbündel werden mithilfe von Strahlteilern (z. B. Spiegeln oder halbdurchlässigen Platten) auf getrennten optischen Bahnen geführt, nach einer gewissen Laufstrecke reflektiert und am Ende wieder zusammengeführt. Bei der Entfernungsmessung dient einer der beiden Strahlen als Messstrahl und der andere als Referenzstrahl. Der Referenzstrahl wird durch einen Spiegel oder ein entsprechendes optisches Element reflektiert oder gebeugt, welches im Folgenden als „Referenzreflektor” bezeichnet wird. Die Reflexion des Messstrahls wird bei der Entfernungsmessung durch ein zusätzliches reflektierendes optisches Element oder die Oberfläche des zu vermessenden Gegenstandes erreicht. Durch das Interferenzmuster der beiden zusammengeführten Strahlen (Referenzstrahl und Messstrahl) kann die Entfernung (oder die Entfernungsänderung) des zu vermessenden Gegenstandes, bzw. der Abstand des Auftreffpunktes des Messstrahls auf diesem Gegenstand sehr genau bestimmt werden. Diese Bestimmung geschieht oftmals mittels zweier Detektoren, welche unabhängig voneinander polarisiertes Licht, insbesondere zirkular polarisiertes Licht in linear unabhängigen Polarisationsrichtungen messen. Durch Verwendung eines zirkular polarisierten Strahls werden Entfernungsmessungen optimiert, wobei es insbesondere ermöglicht wird, das Vorzeichen der Entfernungsänderung zu erfassen. Für die erfindungsgemäße Vorrichtung werden Weglängeninterferometer bevorzugt, insbesondere das Michelson-Interferometer oder das daraus weiterentwickelte Twyman-Green-Interferometer.Interferometers are known to the person skilled in the art. The functioning of the common interferometers is essentially the same: at least two light bundles are guided by means of beam splitters (eg mirrors or semipermeable plates) on separate optical paths, reflected after a certain distance and finally brought together again. In the distance measurement, one of the two beams serves as a measuring beam and the other as a reference beam. The reference beam is reflected or diffracted by a mirror or a corresponding optical element, which is referred to below as the "reference reflector". The reflection of the measuring beam is achieved in the distance measurement by an additional reflective optical element or the surface of the object to be measured. Due to the interference pattern of the two converged beams (reference beam and measuring beam), the distance (or change in distance) of the object to be measured or the distance of the point of impact of the measuring beam on this object can be determined very accurately. This determination is often done by means of two detectors which independently measure polarized light, in particular circularly polarized light in linearly independent polarization directions. By using a circularly polarized beam, range measurements are optimized, in particular making it possible to detect the sign of the range change. Path length interferometers are preferred for the device according to the invention, in particular the Michelson interferometer or the Twyman-Green interferometer developed therefrom.

Der Messstrahl wird während der Messung durch die Strahlablenkungseinheit bewegt und dadurch von seinem ursprünglichen Verlauf, bzw. von seinem ursprünglichen Auftreffpunkt auf der Oberfläche, abgelenkt. Bezüglich der optischen Achse des unabgelenkten Strahls (im Folgenden als „ursprüngliche optische Achse” bezeichnet) umfasst die Ablenkung des Messstrahls auf dessen optische Achse bezogen (im Folgenden auch als „abgelenkte optische Achse” bezeichnet) eine Verkippung und/oder eine laterale Verschiebung der verkippten oder parallelen optischen Achse orthogonal zu der ursprünglichen optischen Achse.The measuring beam is moved during the measurement by the beam deflection unit and thereby deflected from its original course, or from its original impact point on the surface. With respect to the optical axis of the undeflected beam (hereinafter referred to as "original optical axis"), the deflection of the measuring beam on the optical Axis (hereinafter also referred to as "deflected optical axis") tilting and / or a lateral displacement of the tilted or parallel optical axis orthogonal to the original optical axis.

Die Strahlablenkungseinheit umfasst insbesondere ein reflektierendes, brechendes oder beugendes optisches Element zur Ablenkung des Messstrahls und eine Bewegungseinheit, die zur Bewegung dieses optischen Elements und/oder der Lichtquelle des Interferometers ausgebildet ist. In einer bevorzugten Ausführungsform umfasst die Strahlablenkungseinheit mindestens einen Akustooptischen Modulator (AOM) und/oder mindestens einen Spatial light Modulator (SLM) zur Ablenkung des Messstrahls. Es können auch mehrere Strahlablenkungseinheiten vorhanden sein. Genauso kann eine Strahlablenkungseinheit auch mehrere optische Elemente und/oder mehrere Bewegungseinheiten umfassen.In particular, the beam deflection unit comprises a reflective, refractive or diffractive optical element for deflecting the measurement beam and a movement unit which is designed to move this optical element and / or the light source of the interferometer. In a preferred embodiment, the beam deflection unit comprises at least one acousto-optical modulator (AOM) and / or at least one spatial light modulator (SLM) for deflecting the measurement beam. There may also be a plurality of beam deflection units. Likewise, a beam deflection unit can also comprise a plurality of optical elements and / or a plurality of movement units.

In einer bevorzugten Ausführungsform verläuft die abgelenkte optische Achse unter einem Winkel > 0° verkippt zur ursprünglichen optischen Achse. Dies wird bevorzugt mittels eines reflektierenden oder beugenden optischen Elements (z. B. Spiegel oder Prisma) erreicht, welches in dem Strahlengang des Messstrahls angeordnet ist und den Messstrahl ablenkt. Dieser Ablenkungswinkel liegt bevorzugt zwischen 0,001° und 10°, besonders bevorzugt zwischen 0,1° und 3°. Durch Rotation dieses optischen Elements kann sehr einfach das Erfordernis der Bewegung des Messstrahls erfüllt werden. Beispielsweise würde sich der Messstrahl bei Drehung des Spiegels oder Prismas um die ursprüngliche optische Achse entlang einer Ellipse oder Kreisbahn bewegen.In a preferred embodiment, the deflected optical axis is tilted at an angle> 0 ° to the original optical axis. This is preferably achieved by means of a reflecting or diffractive optical element (eg mirror or prism), which is arranged in the beam path of the measuring beam and deflects the measuring beam. This deflection angle is preferably between 0.001 ° and 10 °, more preferably between 0.1 ° and 3 °. By rotation of this optical element, the requirement of movement of the measuring beam can be easily met. For example, as the mirror or prism rotates, the measuring beam would move along the original optical axis along an ellipse or orbit.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform verläuft die abgelenkte optische Achse parallel zur ursprünglichen optischen Achse und ist relativ zu dieser orthogonal verschoben. Dies wird bevorzugt mittels einer durchsichtigen Platte mit zwei planparallelen Flächen (Planplatte) erreicht, welche in dem Strahlengang des Messstrahls angeordnet ist und deren Flächennormale bezüglich der ursprünglichen optischen Achse nicht parallel ausgerichtet ist, sondern zu dieser um einen bestimmten Winkel verkippt ist. Dieser Verkippungswinkel liegt bevorzugt zwischen 0,1° und 45°, besonders bevorzugt zwischen 0,1° und 10°. Diese Ausführungsform ist unabhängig vom Abstand der zu vermessenden Oberfläche. Durch Rotation dieser Planplatte kann sehr einfach das Erfordernis der Bewegung des Messstrahls erfüllt werden. Der Messstrahl bewegt sich in diesem Fall entlang einer Ellipse oder Kreisbahn. In einer bevorzugten Ausführungsform ist der Verkippungswinkel der Planplatte so gewählt, dass der (oder ein) Radius dieser Ellipse oder Kreisbahn im Bereich zwischen 0,1 mm bis 10 cm, insbesondere im Bereich zwischen 0,2 mm bis 4 mm, liegt.In a further preferred embodiment, the deflected optical axis is parallel to the original optical axis and is orthogonally displaced relative thereto. This is preferably achieved by means of a transparent plate with two plane-parallel surfaces (plane plate), which is arranged in the beam path of the measuring beam and whose surface normal with respect to the original optical axis is not aligned parallel, but is tilted to this by a certain angle. This tilt angle is preferably between 0.1 ° and 45 °, more preferably between 0.1 ° and 10 °. This embodiment is independent of the distance of the surface to be measured. By rotating this plane plate can be easily met the requirement of movement of the measuring beam. The measuring beam in this case moves along an ellipse or circular path. In a preferred embodiment, the tilt angle of the plane plate is selected so that the (or a) radius of this ellipse or circular path is in the range between 0.1 mm to 10 cm, in particular in the range between 0.2 mm to 4 mm.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform bewegt sich die Lichtquelle des Interferometers relativ zum Strahlteiler. Das optische Element der Strahlablenkungseinheit wäre somit der Strahlteiler und die für die Bewegung der Lichtquelle sorgende Bewegungseinheit eine Bewegungseinheit der Strahlablenkungseinheit.In a further preferred embodiment, the light source of the interferometer moves relative to the beam splitter. The optical element of the beam deflection unit would thus be the beam splitter and the movement unit providing the movement of the light source would be a moving unit of the beam deflection unit.

In einer bevorzugten Ausführungsform ist die Strahlablenkungseinheit relativ zum Verlauf des Messstrahls hinter dem Strahlteiler angeordnet, so dass der Messstrahl nach dem Verlassen des Strahlteilers von dem Strahlablenkungselement abgelenkt wird, insbesondere ohne davor durch ein anderes optisches Element hindurchgegangen zu sein. In dem Falle, dass der Messstrahl durch eine Optik, z. B. eine Kollimationslinse oder Fokussierlinse, läuft, ist es bevorzugt, das Strahlablenkungselement zwischen Strahlteiler und dieser Optik oder hinter dieser Optik zu positionieren.In a preferred embodiment, the beam deflection unit is arranged behind the beam splitter relative to the course of the measuring beam, so that the measuring beam is deflected by the beam deflecting element after leaving the beam splitter, in particular without being passed through by another optical element. In the case that the measuring beam by an optic, z. As a collimating lens or focusing lens runs, it is preferable to position the beam deflecting element between the beam splitter and this optics or behind this optics.

Gangunterschiede bezüglich des Messstrahls, die durch eine Bewegung der Strahlablenkungseinheit hervorgerufen werden könnten, können durch eine einfache Testmessung an einem planen Spiegel, der mit dem Neigungswinkel von 0° montiert wurde, erfasst und rechnerisch eliminiert werden. Es ist bei einigen Anwendungen auch bevorzugt, dass die Vorrichtung eine Haltestruktur aufweist, die dazu ausgelegt ist die Vorrichtung relativ zur ursprünglichen optischen Achse um diese um einen vorgegebenen Winkel, vorzugsweise 90° oder 180° zu drehen. Mittels zwei unabhängiger Messungen derselben Oberfläche, bzw. desselben Bereichs der Oberfläche, bei unterschiedlichen Winkeln können Fehler, die durch Gangunterschiede oder thermische Effekte auftreten, leicht kompensiert werden.Gap differences with respect to the measuring beam which could be caused by a movement of the beam deflection unit can be detected and mathematically eliminated by a simple test measurement on a plane mirror which was mounted with the inclination angle of 0 °. It is also preferred in some applications that the device has a support structure designed to rotate the device relative to the original optical axis by a predetermined angle, preferably 90 ° or 180 °. By means of two independent measurements of the same surface, or of the same area of the surface, at different angles, it is easy to compensate for errors caused by gait differences or thermal effects.

Obwohl die Bewegung des Messstrahls auf einer elliptischen Bahn oder einer Kreisbahn bevorzugt ist, da auf diese Weise eine Bewegung einfach realisiert werden kann und gleichzeitig zwei linear unabhängige Neigungswinkel der zu vermessenden Oberfläche bestimmt werden können, kann der Messstrahl auch je nach Anwendung auf beliebigen Bahnen geführt werden. Für einige Anwendungen ist bevorzugt, den Messstrahl längs einer Geraden zu bewegen (um einen einzigen Neigungswinkel zu bestimmen), längs des Umrisses eines drei- oder Mehrecks oder längs eines Rasters oder Zickzacks. Auch sind Bahnen bevorzugt, die ähnlich einer Spirale den oben genannten Formen folgend kleiner oder größer werdend verlaufen.Although the movement of the measuring beam on an elliptical path or a circular path is preferred, since in this way a movement can be easily realized and simultaneously two linearly independent angles of inclination of the surface to be measured can be determined, the measuring beam can also be guided on arbitrary tracks, depending on the application become. For some applications, it is preferable to move the measuring beam along a straight line (to determine a single tilt angle), along the outline of a 3 or polygon, or along a raster or zigzag. Also preferred are webs which, similar to a spiral, follow the above-mentioned shapes to become smaller or larger.

Auch wenn für einige Anwendungen die Aufnahme von drei Messpunkten ausreichend sein kann, ist dennoch bevorzugt, eine große Zahl von Messpunkten während der Bewegung an unterschiedlichen Positionen aufzunehmen. Je mehr Messpunkte aufgenommen werden, desto geringer ist der Messfehler und desto genauer kann der Winkel gemessen werden. Insbesondere bei rauen oder unebenen Oberflächen ist es von Vorteil mehr als 10, insbesondere mehr als 100 oder gar mehr als 1000 Messpunkte aufzunehmen. Mit einer schnellen Datennahme an der Detektoreinheit des Interferometers können sogar mehr als 10000 Datensätze (Messpunkte) aufgenommen werden. Da die Auslese der Detektoren eines Interferometers mit modernen ADCs (Analog-Digital-Converter) oder einfacher Komparatoren schneller als innerhalb einer Mikrosekunde erfolgen kann, selbst bei einer USB-Übertragung der Daten, kann eine große Anzahl von Daten bereits innerhalb einer Sekunde aufgenommen werden, die Bewegung des Messstrahls durch die Bewegungseinheit kann somit vergleichsweise schnell erfolgen. Bevorzugt wird die vorgegebene Bahn (z. B. die Ellipse oder Kreisbahn) innerhalb von höchstens drei Sekunden durchlaufen, bevorzugt innerhalb höchstens einer Sekunde. Dies hat den Vorteil, dass äußere Einflüsse (z. B. Vibrationen, Temperaturunterschiede) nur einen geringen Einfluss auf die Messung haben. Die Bewegungseinheit der Strahlablenkungseinheit und deren optische Elemente sind also insbesondere dazu ausgestaltet, dass der Messstrahl innerhalb dieser Zeit auf seiner Bahn bewegt werden kann.Although the inclusion of three measurement points may be sufficient for some applications, it is still preferable to have a large number of To record measuring points at different positions during the movement. The more measurement points are recorded, the lower the measurement error and the more accurate the angle can be measured. Especially with rough or uneven surfaces, it is advantageous to record more than 10, in particular more than 100 or even more than 1000 measuring points. With a fast data acquisition at the detector unit of the interferometer even more than 10000 data sets (measuring points) can be recorded. Since the readout of detectors of an interferometer can be done faster with modern ADCs (Analog to Digital Converter) or simple comparators than within a microsecond, even with a USB transmission of the data, a large amount of data can be recorded within one second, the movement of the measuring beam through the moving unit can thus be done comparatively quickly. Preferably, the predetermined path (eg the ellipse or circular path) is traversed within a maximum of three seconds, preferably within at most one second. This has the advantage that external influences (eg vibrations, temperature differences) have only a minor influence on the measurement. The movement unit of the beam deflection unit and its optical elements are thus designed in particular so that the measuring beam can be moved on its path within this time.

Jeder Messpunkt stellt selbstverständlich eine Entfernung dar, da ein Interferometer gerade die Länge des Messstrahls relativ zur Länge des Referenzstrahls misst.Of course, each measuring point represents a distance, since an interferometer is just measuring the length of the measuring beam relative to the length of the reference beam.

Aus der Vielzahl der erfassten Entfernungen (Messpunkte) an unterschiedlichen Positionen der oben genannten Bahn kann der Neigungswinkel auf der Oberfläche im Bereich der vorgegebenen Bahn des Messstrahls mittels bekannter Methoden (z. B. Trigonometrie, Mittelwertberechnungen) bestimmt werden. In dem bevorzugten Falle, in dem die Vorrichtung zusätzlich eine Recheneinheit aufweist, insbesondere einen Prozessor/Mikrocontroller und einen elektronischen Speicher, umfasst das Verfahren vorzugsweise auch den Schritt:

  • – Berechnung des Neigungswinkels auf der Oberfläche im Bereich der vorgegebenen Bahn des Messstrahls aus den erfassten Entfernungen.
From the plurality of detected distances (measuring points) at different positions of the above-mentioned path, the angle of inclination on the surface in the region of the predetermined path of the measuring beam can be determined by known methods (eg trigonometry, mean value calculations). In the preferred case in which the device additionally has a computing unit, in particular a processor / microcontroller and an electronic memory, the method preferably also includes the step:
  • - Calculation of the angle of inclination on the surface in the range of the predetermined path of the measuring beam from the detected distances.

Bewegt sich der Messstrahl auf einer Kreisbahn mit der Frequenz f und dem Durchmesser D so lassen sich die beiden Neigungswinkel α und φ mit Hilfe einer nicht linearen Sinus-Fit Routine an die gemessenen zeitveränderlichen Weglängen lgemessen(t) wie folgt berechnen: l(t) = dLmax·sin(2·π·f·t – φ) mit α = 2·dLmax/D und Σ(l(t) – l(t)gemessen)2 = Minimum The measuring beam moves on a circular path with the frequency f and the diameter D so the two inclination angles may be α and φ by using a non-linear sine-Fit measured routine to the measured time-varying path lengths l (t) calculated as follows: l (t) = dL max · sin (2 · π · f · t - φ) With α = 2 · dL max / D and Σ (l (t) - l (t) measured ) 2 = minimum

Durch die große Zahl der Messpunkte insbesondere bei einer zwei- oder mehrfachen Wiederholung der Bahnbewegung des Messstrahls, erhält man eine sehr hohe Genauigkeit des Ergebnisses bei einem sehr geringen statistischen Fehler. Mit der Annahme eines binomialverteilten Fehlers erhält man beispielsweise bei einer bei Interferometern normalen Messauflösung von Einzelmessungen von 0,1 nm und einer Datennahme von 80.000 Messpunkten pro Durchlauf des Messstrahls längs einer Kreisbahn mit 1 mm Kreisdurchmesser für beide Ebenenwinkel des entsprechenden kreisförmigen Oberflächenbereiches jeweils eine theoretische Genauigkeit Δφ von: Δφ = 0,1 nm/1 mm/sqrt(40.000) = 5·10e-10. Due to the large number of measuring points, in particular with a two or more repetition of the path movement of the measuring beam, one obtains a very high accuracy of the result with a very small statistical error. With the assumption of a binomially distributed error, for example, with a normal measuring resolution of 0.1 nm and a data acquisition of 80,000 measuring points per run of the measuring beam along a circular path with a circle diameter of 1 mm, a theoretical accuracy is obtained for both plane angles of the corresponding circular surface area Δφ of: Δφ = 0.1 nm / 1 mm / sqrt (40,000) = 5 x 10 e-10 .

Die ermittelten Winkel bei dieser Winkelmessung basieren dabei auf einer Absolutmessung des Winkels relativ zur ursprünglichen optischen Achse mit einem einzigen Abtaststrahl.The determined angles in this angle measurement are based on an absolute measurement of the angle relative to the original optical axis with a single scanning beam.

Durch die Möglichkeit der einfachen Aufnahme vieler Messpunkte an unterschiedlichen Messpositionen lassen sich auch unebene und raue Oberflächen ohne weiteres vermessen.Due to the possibility of easily recording many measuring points at different measuring positions, even uneven and rough surfaces can be easily measured.

Beispiele für bevorzugte Ausführungsformen der erfindungsgemäßen Vorrichtung sind in den Abbildungen dargestellt.Examples of preferred embodiments of the device according to the invention are shown in the figures.

1 zeigt schematisch ein herkömmliches Interferometer. 1 schematically shows a conventional interferometer.

2 und 3 zeigen eine bevorzugte Ausführungsform der Vorrichtung in zwei Messpositionen. 2 and 3 show a preferred embodiment of the device in two measuring positions.

4 stellt die Werte einer Vielzahl von Weglängenmessungen dar, aus denen sich die beiden Neigungswinkel der Messebene relativ zur optischen Achse des Laserstrahls berechnen lassen. 4 represents the values of a plurality of path length measurements, from which the two inclination angles of the measurement plane relative to the optical axis of the laser beam can be calculated.

In 1 ist ein Interferometer dargestellt, mit dem eine Entfernungsmessung möglich ist. Eine Lichtquelle 1, z. B. eine Laserdiode oder ein monofrequenter/schmalbandiger Laser, sendet einen Lichtstrahl aus, dessen Verlauf (optisch Achse des jeweiligen Lichtstrahls) mit schwarzen Linien dargestellt ist. Dieser Lichtstrahl trifft auf einen Strahlteiler 2 und wird dort in Referenzstrahl und Messstrahl aufgespalten. Der Referenzstrahl läuft durch eine Optik wird von einem Referenzspiegel 3 reflektiert, trifft wieder auf den Strahlteiler 2 und wird von diesem durch eine Lochblende 9 und eine kollimierende Optik in eine Detektionseinheit 10 geleitet. Der Messstrahl läuft durch eine Linse 5, trifft auf die zu vermessende Oberfläche 6, wird dort reflektiert, läuft erneut durch die Linse 5 und den halbdurchlässigen Strahlteiler und erreicht nach dem Durchlaufen der Lochblende 9 und der kollimierenden Optik die Detektionseinheit 10, wo er mit dem Referenzstrahl interferiert. Durch Messung der Phasenverschiebung der beiden Strahlen (Messstrahl und Referenzstrahl), z. B. durch Messung der Intensität, kann dann mit bekannten Verfahren die zurückgelegte Weglänge ermittelt werden. In 1 ist die ursprüngliche optische Achse 7 eingezeichnet, an deren Durchdringungspunkt durch die Oberfläche der Abstand der Oberfläche gemessen wird.In 1 an interferometer is shown, with which a distance measurement is possible. A light source 1 , z. As a laser diode or a monofrequente / narrow-band laser, emits a light beam whose course (optical axis of the respective light beam) is shown in black lines. This beam of light hits a beam splitter 2 and is split there into reference beam and measuring beam. The reference beam passes through an optic being from a reference mirror 3 reflects, hits the beam splitter again 2 and gets from this through a pinhole 9 and a collimating optic in a detection unit 10 directed. The measuring beam passes through a lens 5 , hits the surface to be measured 6 , is reflected there, runs through the lens again 5 and the semitransparent beam splitter and reaches after passing through the pinhole 9 and the collimating optics, the detection unit 10 where it interferes with the reference beam. By measuring the phase shift of the two beams (measuring beam and reference beam), z. B. by measuring the intensity, then the distance traveled can be determined by known methods. In 1 is the original optical axis 7 drawn at the penetration point through the surface of the distance of the surface is measured.

In den 2 und 3 ist eine bevorzugte Ausführungsform der Erfindung dargestellt. In den Strahlengang des Messstrahles eines Interferometers nach 1 wurde eine Planplatte 4 eingebracht und verkippt zur ursprünglichen optischen Achse 7 ausgerichtet. Durch diese Planplatte 4 wird der ursprüngliche Strahlengang dermaßen abgelenkt, dass die abgelenkte optische Achse 8 zwar parallel zu der ursprünglichen optischen Achse 7 verläuft, zu dieser jedoch lateral orthogonal verschoben ist. Der Messpunkt auf der Oberfläche 6 liegt somit bei dem Durchdringungspunkt der abgelenkten optischen Achse 8 durch die Oberfläche 6. 2 und 3 unterscheiden sich durch die Verkippung der Planplatte 4 und damit der Position der abgelenkten optischen Achse 8 relativ zur ursprünglichen optischen Achse 7. Wird die Planplatte 4 relativ zu der ursprünglichen optischen Achse 7 gedreht, würden 2 und 3 jeweils den Zustand der Planplatte 4 nach einer halben Umdrehung darstellen. Die abgelenkte optischen Achse 8 würde in diesem Falle um die ursprüngliche optische Achse 7 kreisen. Auf der Oberfläche 6 wurde somit der Bereich einer Kreisbahn abgetastet werden, und mit einer schnellen Datenerfassung im Detektor 10 könnte eine Vielzahl von Messwerten bei verschiedenen Positionen auf dieser Kreisbahn aufgenommen werden.In the 2 and 3 a preferred embodiment of the invention is shown. In the beam path of the measuring beam of an interferometer after 1 became a plane plate 4 introduced and tilted to the original optical axis 7 aligned. Through this plane plate 4 the original beam path is deflected so much that the deflected optical axis 8th although parallel to the original optical axis 7 runs, but is laterally orthogonal to this. The measuring point on the surface 6 is thus at the penetration point of the deflected optical axis 8th through the surface 6 , 2 and 3 differ by the tilt of the plane plate 4 and thus the position of the deflected optical axis 8th relative to the original optical axis 7 , Will the plane plate 4 relative to the original optical axis 7 turned, would 2 and 3 each state of the plane plate 4 after half a turn. The deflected optical axis 8th in this case would be around the original optical axis 7 circling. On the surface 6 Thus, the area of a circular path was scanned, and with a fast data acquisition in the detector 10 a large number of measured values could be recorded at different positions on this circular path.

Die Messwerte einer Messung auf einer rauen Oberfläche sind in 4 als schwarze Punkte dargestellt. Die Basis dieses Diagramms (X- und Y-Achse) stellt die Führung des Messstrahls auf einer Kreisbahn dar. Die Position des Messstrahls wurde für jeden Messwert berechnet und dieser Messwert nun auf der Z-Achse relativ zu der Messposition auf den Achsen X und Y aufgetragen. Deutlich zu erkennen ist die Form eines verkippten Kreises, der durch die Punkte gebildet wird. Die Streuung dieser Punkte resultiert aus Messfehlern, vor allem jedoch aus Unebenheiten auf der rauen Oberfläche. Durch Mittelwertbildung benachbarter Messpunkte wurde eine Ebene berechnet, die ebenfalls zusammen mit der bei der Messung abgefahrenen Kreisbahn in dem Schaubild dargestellt ist. Die Flächennormale dieser Ebene (durchgezogene, schwarze Linie) ist zu der Z-Achse (strichpunktierte, schwarze Linie) um den Winkel α geneigt und um den Winkel φ um die Z-Achse rotiert, wobei hier α und φ die Neigung der Ebene in Form von Polarkoordinaten (Kugelkoordinaten) angeben könnten. Genauso könnten die jeweiligen Neigungswinkel relativ zur X- und Y-Achse, aber auch zu anderen Raumachsen bestimmt werden.The measured values of a measurement on a rough surface are in 4 shown as black dots. The basis of this diagram (X- and Y-axis) represents the guidance of the measuring beam on a circular path. The position of the measuring beam was calculated for each measured value and this measured value now on the Z-axis relative to the measuring position on the axes X and Y. applied. Clearly recognizable is the shape of a tilted circle formed by the dots. The scattering of these points results from measurement errors, but especially from unevenness on the rough surface. By averaging adjacent measuring points, a plane was calculated which is also shown together with the circular path traveled during the measurement in the graph. The surface normal of this plane (solid black line) is inclined to the Z-axis (dot-dashed black line) by the angle α and rotated by the angle φ about the Z-axis, here α and φ the inclination of the plane in shape from polar coordinates (spherical coordinates). Similarly, the respective tilt angles could be determined relative to the X and Y axes, but also to other spatial axes.

Claims (9)

Vorrichtung zur Neigungswinkelmessung auf Oberflächen, umfassend ein zur Entfernungsbestimmung geeignetes Interferometer und mindestens eine Strahlablenkungseinheit, die dazu ausgelegt ist, den Messstrahl des Interferometers abzulenken und längs einer vorgegebenen Bahn zu bewegen.A device for tilt angle measurement on surfaces, comprising an interferometer suitable for distance determination and at least one beam deflection unit which is designed to deflect the measurement beam of the interferometer and to move along a predetermined path. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass eine Strahlablenkungseinheit mindestens ein reflektierendes, brechendes oder beugendes optisches Element zur Ablenkung des Messstrahls und mindestens eine Bewegungseinheit, die zur Bewegung dieses optischen Elements ausgebildet ist, umfasst.Apparatus according to claim 1, characterized in that a beam deflection unit comprises at least one reflective, refractive or diffractive optical element for deflecting the measuring beam and at least one movement unit which is designed for movement of this optical element. Vorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung dermaßen ausgestaltet ist, dass die abgelenkte optische Achse parallel zur ursprünglichen optischen Achse verläuft und relativ zu dieser orthogonal verschoben ist, wobei die Strahlablenkungseinheit bevorzugt eine durchsichtige Platte mit zwei planparallelen Flächen (Planplatte) als optisches Element aufweist, wobei die Planplatte in dem Strahlengang des Messstrahls angeordnet ist und deren Flächennormale bezüglich der ursprünglichen optischen Achse nicht parallel ausgerichtet ist, sondern zu dieser um einen vorbestimmten Winkel verkippt ist, wobei dieser Verkippungswinkel bevorzugt zwischen 0,01° und 45°, besonders bevorzugt zwischen 1° und 30°, liegt.Device according to one of the preceding claims, characterized in that the device is designed such that the deflected optical axis is parallel to the original optical axis and is displaced orthogonally relative thereto, wherein the beam deflection unit preferably a transparent plate with two plane-parallel surfaces (plane plate) as an optical element, wherein the plane plate is arranged in the beam path of the measuring beam and whose surface normal with respect to the original optical axis is not aligned parallel, but tilted to this by a predetermined angle, said tilt angle preferably between 0.01 ° and 45 ° , more preferably between 1 ° and 30 °. Vorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Messstrahl nach Verlassen des Strahlteilers durch eine Optik, insbesondere umfassend eine Kollimationslinse oder Fokussierlinse, läuft und mindestens eine Strahlablenkungseinheit relativ zum Verlauf des Messstrahls hinter dem Strahlteiler und vor oder hinter dieser Optik angeordnet ist.Device according to one of the preceding claims, characterized in that the measuring beam after leaving the beam splitter by an optics, in particular comprising a collimating lens or focusing lens, running and at least one beam deflection unit is arranged relative to the course of the measuring beam behind the beam splitter and in front of or behind this optics. Vorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung zusätzlich eine Recheneinheit aufweist, insbesondere einen Prozessor/Mikrocontroller und einen elektronischen Speicher.Device according to one of the preceding claims, characterized in that the device additionally comprises a computing unit, in particular a processor / microcontroller and an electronic memory. Verfahren zur Neigungswinkelmessung auf Oberflächen mittels eines Interferometers umfassend die Schritte: – Ausrichtung eines Messstrahls auf die zu vermessende Oberfläche, – Erfassung der Entfernung des Auftreffpunktes des Messstrahls auf dieser Oberfläche, – Bewegen des Messstrahls über die zu vermessende Oberfläche, längs einer vorgegebenen Bahn, – Erfassung der Entfernung mindestens zwei weiterer Auftreffpunkte des Messstrahls auf dieser Oberfläche während der Bewegung an unterschiedlichen Positionen.Method for measuring inclination angle on surfaces by means of an interferometer comprising the steps: - Alignment of a measuring beam to the surface to be measured, - Detection of the distance of the impingement point of the measuring beam on this surface, - Moving the measuring beam over the surface to be measured, along a given path, - Detecting the distance of at least two further points of impact of the measuring beam on this surface while moving in different positions. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Ablenkung des Messstrahls auf dessen optische Achse bezogen eine Verkippung und/oder eine laterale Verschiebung der parallelen oder verkippten Achse orthogonal zu der ursprünglichen optischen Achse darstellt und die Bewegung des Messstrahls bevorzugt längs einer Geraden, längs dem Umriss eines drei- oder Mehrecks, längs eines Rasters oder Zickzacks oder auf einer elliptischen Bahn oder Kreisbahn verläuft.A method according to claim 6, characterized in that the deflection of the measuring beam relative to its optical axis represents a tilting and / or a lateral displacement of the parallel or tilted axis orthogonal to the original optical axis and the movement of the measuring beam preferably along a straight line, along the Outline of a tri or polygon, along a grid or zigzag, or on an elliptical path or circular path. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung eine Haltestruktur aufweist, die dazu ausgelegt ist die Vorrichtung relativ zur ursprünglichen optischen Achse um einen vorgegebenen Winkel, vorzugsweise 90° oder 180° zu drehen und zwei unabhängiger Messungen bei unterschiedlichen Winkeln durchgeführt werden.Method according to one of claims 6 or 7, characterized in that the device comprises a support structure adapted to rotate the device relative to the original optical axis by a predetermined angle, preferably 90 ° or 180 °, and two independent measurements at different angles be performed. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 8, gekennzeichnet durch den zusätzlichen Schritt – Berechnung des Neigungswinkels auf der Oberfläche im Bereich der vorgegebenen Bahn des Messstrahls aus den erfassten Entfernungen.Method according to one of claims 6 to 8, characterized by the additional step - Calculation of the angle of inclination on the surface in the range of the predetermined path of the measuring beam from the detected distances.
DE102014007152.9A 2014-05-15 2014-05-15 Apparatus and method for tilt angle measurement on surfaces Pending DE102014007152A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102014007152.9A DE102014007152A1 (en) 2014-05-15 2014-05-15 Apparatus and method for tilt angle measurement on surfaces

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102014007152.9A DE102014007152A1 (en) 2014-05-15 2014-05-15 Apparatus and method for tilt angle measurement on surfaces

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102014007152A1 true DE102014007152A1 (en) 2015-11-19

Family

ID=54361412

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102014007152.9A Pending DE102014007152A1 (en) 2014-05-15 2014-05-15 Apparatus and method for tilt angle measurement on surfaces

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE102014007152A1 (en)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE848717C (en) * 1949-11-16 1952-09-08 Zeiss Opton Optische Werke Obe Interference microscope
EP0092090B1 (en) * 1982-04-17 1985-12-18 Firma Carl Zeiss Optical adjustment element
DE4212438A1 (en) * 1992-04-14 1993-10-21 Dirk Prof Dr Ing Jansen Lateral beam offset generator for trigonometrical distance measurement of workpiece - has laser diode providing point illumination of workpiece, and planar parallel glass plate between workpiece and measuring head, with rotatable axis
DE4115747C2 (en) * 1991-05-14 1998-02-26 Hipp Johann F Device and method for situation, obstacle and object detection
US20050083534A1 (en) * 2003-08-28 2005-04-21 Riza Nabeel A. Agile high sensitivity optical sensor
DE202008017745U1 (en) * 2007-03-13 2010-07-15 Laser- Und Medizin-Technologie Gmbh, Berlin Device for guiding a light beam
DE102004053660B4 (en) * 2004-11-03 2013-01-17 Marius Jurca Method for the contactless detection of geometric properties of an object surface

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE848717C (en) * 1949-11-16 1952-09-08 Zeiss Opton Optische Werke Obe Interference microscope
EP0092090B1 (en) * 1982-04-17 1985-12-18 Firma Carl Zeiss Optical adjustment element
DE4115747C2 (en) * 1991-05-14 1998-02-26 Hipp Johann F Device and method for situation, obstacle and object detection
DE4212438A1 (en) * 1992-04-14 1993-10-21 Dirk Prof Dr Ing Jansen Lateral beam offset generator for trigonometrical distance measurement of workpiece - has laser diode providing point illumination of workpiece, and planar parallel glass plate between workpiece and measuring head, with rotatable axis
US20050083534A1 (en) * 2003-08-28 2005-04-21 Riza Nabeel A. Agile high sensitivity optical sensor
DE102004053660B4 (en) * 2004-11-03 2013-01-17 Marius Jurca Method for the contactless detection of geometric properties of an object surface
DE202008017745U1 (en) * 2007-03-13 2010-07-15 Laser- Und Medizin-Technologie Gmbh, Berlin Device for guiding a light beam

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
H. J. Tiziani, N. Maier, A. Rothe: Scanning differential-heterodyne-interferometer with acousto-optic deflectors. Optics Communications Volume 123, Nr. 1-3 (1996) Seiten 34-40. http://dx.doi.org/10.1016/0030-4018(95)00555-2 *
H. J. Tiziani, N. Maier, A. Rothe: Scanning differential-heterodyne-interferometer with acousto-optic deflectors. Optics Communications Volume 123, Nr. 1–3 (1996) Seiten 34–40. http://dx.doi.org/10.1016/0030-4018(95)00555-2

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0370229B1 (en) Interferometric process for testing optical elements producing aspherical wave fronts
EP2458363B1 (en) Measurement of the positions of curvature midpoints of optical areas of a multi-lens optical system
DE112019002028T5 (en) LIDAR DETECTION ARRANGEMENTS
DE102004037137B4 (en) Method and device for distance measurement
EP3183535B1 (en) Method of reconstructing an original image using a lensless three-dimensional self-interferometer with wavefront inversion
DE10242373B4 (en) Confocal distance sensor
DE102017128158A9 (en) Distance measuring device and method for measuring distances
EP3351893A1 (en) Measuring device and method for measuring at least one length
WO2014023364A1 (en) Measuring unit for measuring a measuring object and method thereto
DE102009028068B4 (en) position measuring device
EP2762832A1 (en) Optical single-point measurement
DE102011083421A1 (en) Method and device for measuring homogeneously reflecting surfaces
DE112018004038T5 (en) Measurement of the position of objects in space
DE2758149B1 (en) Interferometric method with lambda / 4 resolution for distance, thickness and / or flatness measurement
EP2847543B1 (en) Measuring device and method for measuring a measuring object
DE10303659B4 (en) Optical measuring method for determining ideal shape deviations of technically polished surfaces and precision measuring machine for carrying out the measuring method
DE102012008745B4 (en) measuring device
EP3374732B1 (en) Method and device for determining the spatial position of an object by means of interferometric length measurement
WO2020083744A1 (en) Method and apparatus for detecting changes in the direction of a light beam
DE10301607B4 (en) Interference measuring probe
DE102007021953A1 (en) Optical component for use in interferometric measuring device, has diffractive auxiliary unit converting irradiated light into auxiliary waves, where fictitious surface is positioned in auto-collimation position concerning spherical waves
DE102014007152A1 (en) Apparatus and method for tilt angle measurement on surfaces
DE19532767C2 (en) Triangulation method
DE102010001338B3 (en) Method for monitoring stability of adjustment calibration of interferometric measuring device for measuring form of specimen of lens, involves backreflecting comparison radiation such that wavefront of comparison radiation is mirrored
DE19842190C1 (en) Method to determine topography of curved surfaces: involves measuring angle difference of two measurement beams reflected from two separate measurement points

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R016 Response to examination communication
R016 Response to examination communication
R016 Response to examination communication
R016 Response to examination communication