DE102014005671A1 - Optical arrangement for adjusting beam distribution and / or changing pulse profile - Google Patents

Optical arrangement for adjusting beam distribution and / or changing pulse profile Download PDF

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Abstract

Diese vorliegende Erfindung betrifft eine Anordnung zur Formung der Intensitätsverteilung und/oder zur Modifikation von Pulsprofilen eines Strahlungsfeldes eines kurzen oder ultrakurzen Pulslasers mit einer Pulsdauer τ und einer Kohärenzlänge τc, wobei das Strahlungsfeld mittels optischer Komponenten mindestens in zwei Strahlungsanteile aufgeteilt wird und mindestens eine der optische Komponenten auf einer Translations- oder Rotationsachse montiert wird, sodass die Strahlungsanteile zeitabhängig zueinander relative zeitliche oder/und räumliche Versatze gemäß Vorgaben aufweisen, wobei die Strahlungsanteile zu einem Ausgangsstrahlungsfeld mit einer zeitlich veränderbaren Intensitätsverteilung und/oder mit einem zeitlich veränderbaren Pulsprofil überlagert werden.This present invention relates to an arrangement for shaping the intensity distribution and / or modifying pulse profiles of a radiation field of a short or ultrashort pulse laser with a pulse duration τ and a coherence length τc, wherein the radiation field is split by means of optical components at least into two radiation components and at least one of the optical Components is mounted on a translational or rotational axis, so that the radiation components time-dependent relative temporal and / or spatial offsets according to specifications, wherein the radiation components are superimposed to an output radiation field with a time-variable intensity distribution and / or with a temporally variable pulse profile.

Description

Kurzpulslaser und Ultrakurzpulslaser haben in den vergangenen Jahren verstärkt Anwendung z. B. in der Materialbearbeitung gefunden. Eine schnelle Entwicklung haben in den letzten Jahren insbesondere ultrakurze Pulslaser erfahren. Als typische Anwendungsgebiete sind die Mikro- und Präzisionsmaterialbearbeitung via Ablation zu nennen.Short-pulse laser and ultrashort pulse lasers have been increasingly used in recent years z. B. found in material processing. In recent years, ultrashort pulse lasers have experienced rapid development in particular. Typical applications include micro and precision material processing via ablation.

Es gibt zwei Faktoren, die entscheidende Rollen bei der Bearbeitungsqualität und bei der Produktivität spielen. Zum einen ist da die Intensitätsverteilung und zum anderem ist da das Pulsprofil. Aufgrund unterschiedlicher Materialeigenschaften wie Absorption, Schwellintensität, Wärmeleitfähigkeit, Schmelztemperatur und Relaxationszeit hängen die Bearbeitungsqualität und die Prozesseffektivität entscheidend von der Intensitätsverteilung und vom Pulsprofil ab. So kann z. B. beim Abtrag von dünnen Schichten mit einem Laserstrahl, der eine homogene Intensitätsverteilung hat, eine Prozesseffektivität erreicht werden, die um einen Faktor 3 höher als die mit einem Laserstrahl, der eine Gauß'sche Intensitätsverteilung hat. Auf anderer Seite kann mit einem Gauß'schen Strahl eine höhere Auflösung bzw. Präzision erreicht werden.There are two factors that play critical roles in machining quality and productivity. On the one hand there is the intensity distribution and on the other hand there is the pulse profile. Due to different material properties such as absorption, threshold intensity, thermal conductivity, melting temperature and relaxation time, the processing quality and the process efficiency depend crucially on the intensity distribution and the pulse profile. So z. B. in the removal of thin layers with a laser beam having a homogeneous intensity distribution, a process efficiency can be achieved, which is higher by a factor of 3 than that with a laser beam having a Gaussian intensity distribution. On the other hand, with a Gaussian beam, a higher resolution or precision can be achieved.

Des Weiteren sind höhere Qualitäten und Präzision mit kürzerer Pulslänge erreichen. So zum Beispiel sind die Oberflächenrauheit und die thermische Beeinflussung bei Abtrag mit Pikosekunden-Lasern geringer im Vergleich mit Nanosekunden Lasern. Auf der anderen Seite steigert sich z. B. die Bearbeitungsgeschwindigkeit und somit die Produktivität mit der Pulslänge. Es gilt also, die maßgeschneiderte Intensitätsverteilung und das maßgeschneiderte Pulsprofil hinsichtlich der Qualität und der Produktivität für die jeweilige Anwendung zu schaffen.Furthermore, higher quality and precision with shorter pulse length are achieved. For example, the surface roughness and the thermal influence on removal with picosecond lasers are lower in comparison with nanosecond lasers. On the other hand, z. As the processing speed and thus the productivity with the pulse length. It is therefore necessary to create the tailor-made intensity distribution and tailor-made pulse profile in terms of quality and productivity for the respective application.

Da für eine effiziente Nutzung der Pulsenergie in der Abbildungsebene, d. h. beispielsweise auf der Werkstückoberfläche, bestimmte Strahl-Geometrien, Intensitätsverteilungen und Pulsprofile gefordert werden, muss die Strahlung, die von einem Laser abgegeben wird, entsprechend in Abhängigkeit von der Bestrahlungszeit geführt und geformt werden.Because for efficient utilization of the pulse energy in the imaging plane, i. H. For example, on the workpiece surface, certain beam geometries, intensity distributions and pulse profiles are required, the radiation emitted by a laser must be guided and shaped accordingly depending on the irradiation time.

Ausgehend vom vorstehend angeführten Stand der Technik und oder beschriebenen Problematik liegt der vorliegenden Erfindung die Aufgabe zugrunde optische Anordnungen anzugeben, mit denen die von Kurzpulslasern oder Ultrakurzpulslasern abgegebene Strahlung zu einem Ausgangsstrahlungsfeld einer zeitlich veränderbaren Intensitätsverteilung und/oder eines zeitlich einstellbaren Pulsprofils transformiert werden kann.Based on the above-mentioned prior art and or described problem, the present invention has the object of specifying optical arrangements, with which the radiation emitted by short-pulse lasers or ultrashort pulse lasers can be transformed to an output radiation field of a time-variable intensity distribution and / or a time-adjustable pulse profile.

Die vorstehende Aufgabe wird bei einer Anordnung zur Formung und Führung eines Strahlungsfeldes der eingangs beschriebenen Art dadurch gelöst, dass das Strahlungsfeld in mindestens zwei Strahlungsanteile gemäß einer Vorgabe mittels optischen Komponenten gruppiert wird und die Eigenschaften der verwendeten optischen Komponenten wie Brechungsindex, Reflexion, Position und/oder Orientierung zeitlich so angesteuert werden, dass die Strahlungsanteile nach Brechung, Reflexion und/oder Beugung eine relative und zeitabhängigen Verzögerung und/oder Versatz zueinander, aufweisen. Die Strahlungsanteile werden mittels optischen Komponenten in ein Ausgangsstrahlungsfeld, das die gewünschte Intensitätsverteilung und/oder das gewünschte Pulsprofil hat, überlagert.The above object is achieved in an arrangement for shaping and guiding a radiation field of the type described above in that the radiation field is grouped into at least two radiation components according to a specification by means of optical components and the properties of the optical components used such as refractive index, reflection, position and / or orientation are timed so that the radiation components after refraction, reflection and / or diffraction have a relative and time-dependent delay and / or offset from each other. The radiation components are superimposed by means of optical components into an output radiation field having the desired intensity distribution and / or the desired pulse profile.

Im Folgenden wird die vorliegende Erfindung unter Bezugnahme auf die bevorzugten Ausführungsformen detaillierter beschrieben.In the following, the present invention will be described in more detail with reference to the preferred embodiments.

Bild 1 zeigt eine erste Ausführung dieser vorliegenden Erfindung, bei der ein teilreflektierendes Element (21) und ein hochreflektierendes Element (26) verwendet werden. Die beiden Reflexionselemente werden mit einem Abstand d voneinander angeordnet und so orientiert, dass die von ihnen reflektierten Strahlen im Wesentlichen die gleiche Ausbreitungsrichtung haben. Dabei wird mindestens eines der beiden Elemente auf einer Translationsachse montiert. Damit kann der Abstand d zwischen den beiden Reflexionselementen verändert bzw. angesteuert werden. In dem dargestellten Fall wird das hochreflektierende Element (26) auf einer Translationsachse (27) montiert. Der Eingangspuls (11) trifft zuerst unter einem spitzen Einfallswinkel das teilreflektierende Element (21). Dabei wird ein Teil des Pulses reflektiert. Der durchgelassene Teil des Pulses wird von dem hochreflektierenden Element (26) reflektiert. Ein Teil des von dem hochreflektierenden Element reflektierten Pulses wird von dem teilreflektierenden Element (21) durchgelassen. So wird der Puls mehrfach zwischen den beiden Elementen reflektiert und jedes Mal ein Teil des Pulses mit einer Zeitverzögerung als Ausgangspuls austreten. Damit wird das Pulsprofil verändert und die Pulsdauer des Ausgangsstrahls (91) verlängert. Um eine Verringerung der Strahlqualität zu minimieren, werden die Reflexionselemente parallel zueinander eingerichtet. Die Translationsachse kann beispielsweise mittels einer Piezo-Achse realisiert werden.1 shows a first embodiment of this present invention, in which a partially reflecting element (FIG. 21 ) and a highly reflective element ( 26 ) be used. The two reflection elements are arranged at a distance d from each other and oriented so that the rays reflected by them have substantially the same direction of propagation. At least one of the two elements is mounted on a translational axis. Thus, the distance d between the two reflection elements can be changed or controlled. In the illustrated case, the highly reflective element ( 26 ) on a translation axis ( 27 ) assembled. The input pulse ( 11 ) first hits the partially reflecting element at an acute angle of incidence ( 21 ). In this case, part of the pulse is reflected. The transmitted part of the pulse is emitted by the highly reflective element ( 26 ) reflected. A part of the pulse reflected by the high-reflection element is emitted by the partially reflecting element (FIG. 21 ). Thus, the pulse is reflected several times between the two elements and each time a part of the pulse with a time delay as an output pulse emerge. This changes the pulse profile and the pulse duration of the output beam ( 91 ) extended. In order to minimize a reduction in the beam quality, the reflection elements are set up in parallel. The translation axis can be realized for example by means of a piezo-axis.

Bild 2 zeigt eine Ausführung gemäß dieser vorliegenden Erfindung. Dabei ist der Eingangspuls linear polarisiert. Ein polarisierendes Element (31) und ein polarisationsänderndes Element (32) werden zur Trennung des Ausgangspulses (91) von dem Eingangspuls (11) verwendet. Auch hier wird das hochreflektierende Element (26) auf der Translationsachse (27) zur Einstellung bzw. Ansteuerung des Abstandes d montiert. Der linear polarisierte Eingangspuls läuft durch das polarisierende Element (31) durch und der reflektierte Puls läuft zwei Male durch das polarisationsändernde Element (32). Danach haben die reflektierten Pulse eine Polarisation, die linear ist und senkrecht zu der vom Eingangspuls steht. Das polarisierende Element reflektiert die von den Reflexionselementen reflektierten Pulse und somit wird der Ausgangspuls (91) (Summe der von den Reflexionselementen reflektierten Pulse) von dem Eingangspuls (11) getrennt. Beispiele für das polarisierende Element sind Dünnschichtpolarisatoren und doppelbrechende Kristalle. Weiter verbreitete polarisationsändernde Elemente sind z. B. lambda/4-Verzögerungsplatten, Rotator und Faraday-Rotator, etc.Figure 2 shows an embodiment according to this present invention. The input pulse is linearly polarized. A polarizing element ( 31 ) and a polarization-altering element ( 32 ) are used to separate the output pulse ( 91 ) from the input pulse ( 11 ) used. Again, the highly reflective element ( 26 ) on the translation axis ( 27 ) for setting or controlling the Distance d mounted. The linearly polarized input pulse passes through the polarizing element ( 31 ) and the reflected pulse passes through the polarization-changing element twice ( 32 ). Thereafter, the reflected pulses have a polarization which is linear and perpendicular to that of the input pulse. The polarizing element reflects the pulses reflected by the reflection elements and thus the output pulse ( 91 ) (Sum of the pulses reflected by the reflection elements) from the input pulse ( 11 ) separated. Examples of the polarizing element are thin-film polarizers and birefringent crystals. More widespread polarization-changing elements are z. Lambda / 4 retardation plates, rotator and Faraday rotator, etc.

Eine Erweiterung der optischen Anordnung zur Modifikation des Pulsprofils zeigt Bild 3. Bei dieser Ausführung werden 4 teilreflektierende Elemente (51, 52, 53, 54) und ein hochreflektierende Element (59) verwendet werden. Das hochreflektierende Element wird durch eine hochreflektierende Beschichtung auf einer Platte realisiert. Zur Veränderung der zeitlichen Verzögerung wird mindestens eines der reflektierenden Elemente auf einer Translationsachse montiert. Damit kann mindestens einer der Abstände zwischen den Reflexionselemente (d1, d2, d3 und d4) zeitlich angesteuert werden. Durch die Wahl der Reflexion und durch die Veränderung der Abstände kann das gewünschte Pulsprofil eingestellt werden.An extension of the optical arrangement for modifying the pulse profile is shown in FIG. 3. In this embodiment, four partially reflecting elements (FIG. 51 . 52 . 53 . 54 ) and a highly reflective element ( 59 ) be used. The highly reflective element is realized by a highly reflective coating on a plate. To change the time delay, at least one of the reflective elements is mounted on a translation axis. Thus, at least one of the distances between the reflection elements (d1, d2, d3 and d4) can be timed. By choosing the reflection and changing the distances, the desired pulse profile can be set.

Bild 4 zeigt eine Ausführung gemäß der vorliegenden Erfindung für Erzeugung von maßgeschneiderten Intensitätsverteilungen und/oder von maßgeschneiderten Pulsprofilen. Dabei besteht die optische Anordnung aus einem teilreflektierenden Element (21) und einem hochreflektierenden Element (26). Die beiden Reflexionselemente werden mit einem Abstand d voneinander angeordnet. Das Strahlungsfeld (11) trifft zuerst unter einem Einfallswinkel das teilreflektierende Element (21). Dabei wird ein Teil des Strahlungsfeldes zu dem Strahlungsanteil (61) reflektiert. Der durchgelassene Teil des Strahlungsfeldes wird von dem hochreflektierenden Element (26) zu dem Strahlungsanteil (62) reflektiert. Der Einfallswinkel und der Abstand werden so gewählt, dass der Versatz zwischen den beiden Strahlungsanteilen (61, 62) vergleichbar oder größer als die Abmessung des Strahlungsfeldes (11) gilt. Damit wird die Abschattung durch das teilflektierende Element (26) und weiter die Verlust minimiert. Darüber hinaus ist dabei zu beachten, dass die zeitliche Verzögerung vergleichbar oder länger als die Kohärenzlänge τc ist, um dem interferenzbedingten Problem aus dem Weg zu gehen. Um eine unnötige Verringerung der Strahlqualität zu minimieren, werden die beiden Reflexionselemente (21) und (26) parallel zueinander eingerichtet. Zur Veränderung des räumlichen Versatzes und/oder der zeitlichen Verzögerung der beiden Strahlungsanteile (61) und (62) wird wiederum das Reflexionselement (26) auf einer Translationsachse (27) montiert. Damit können die Intensitätsverteilung und/oder der zeitliche Verlauf des Ausgangsstrahls (91) geformt werden.Figure 4 shows an embodiment according to the present invention for generating tailored intensity distributions and / or tailor-made pulse profiles. In this case, the optical arrangement consists of a partially reflecting element ( 21 ) and a highly reflective element ( 26 ). The two reflection elements are arranged at a distance d from each other. The radiation field ( 11 ) first hits the partially reflecting element at an angle of incidence ( 21 ). In this case, part of the radiation field becomes the radiation component ( 61 ) reflected. The transmitted part of the radiation field is emitted by the highly reflective element ( 26 ) to the proportion of radiation ( 62 ) reflected. The angle of incidence and the distance are chosen so that the offset between the two radiation components ( 61 . 62 ) comparable or larger than the dimension of the radiation field ( 11 ) applies. Thus, the shading by the partially reflecting element ( 26 ) and further minimize the loss. Moreover, it should be noted that the time delay is comparable or longer than the coherence length τ c in order to avoid the interference-related problem. In order to minimize an unnecessary reduction of the beam quality, the two reflection elements ( 21 ) and ( 26 ) set up parallel to each other. For changing the spatial offset and / or the time delay of the two radiation components ( 61 ) and ( 62 ), the reflection element ( 26 ) on a translation axis ( 27 ) assembled. Thus, the intensity distribution and / or the time profile of the output beam ( 91 ) are formed.

Zur relativen Veränderung der Abstrahlrichtung der Strahlungsanteile wird mindestens ein reflektierendes Element auf einer Rotationsachse montiert. Somit kann die Winkelverteilung des gesamten Ausgangsstrahlungsfeld gemäß Vorgabe verändert werden.For the relative change of the emission direction of the radiation components, at least one reflective element is mounted on a rotation axis. Thus, the angular distribution of the entire output radiation field can be changed as specified.

Bild 5a und Bild 5b zeigt eine optische Anordnung aus zwei reflektierenden Elementen (77) und (76), die parallel zu einander angeordnet sind. Dabei ist das hintere Element (76) hochreflektierend, während das vordere Element (77) in Zonen (79, 75, 74, 73, 72, 78) aufgeteilt wird, die jeweils unterschiedliche Reflexionen bzw. Transmissionen aufweisen. Vorzugsweise wird der Abstand d so gewählt, dass die relative Zeitverzögerung der reflektierten Pulse vergleichbar oder größer als die Kohärenzlänge τc ist. Beim Beispiel eines ps-Lasers mit einer Kohärenzlänge τc = 10 ps, beträgt Abstand bei einem Einfallswinkel von 45° um 1 mm. Dann ist die Verzögerung vergleichbar mit der Kohärenzlänge τc.Figure 5a and Figure 5b shows an optical arrangement of two reflective elements ( 77 ) and ( 76 ), which are arranged parallel to each other. Where the back element ( 76 ) highly reflecting, while the front element ( 77 ) in zones ( 79 . 75 . 74 . 73 . 72 . 78 ), each having different reflections or transmissions. Preferably, the distance d is chosen such that the relative time delay of the reflected pulses is comparable or greater than the coherence length τ c . In the example of a ps laser with a coherence length τ c = 10 ps, the distance is 1 mm at an angle of incidence of 45 °. Then the delay is comparable to the coherence length τ c .

Bild 6 zeigt eine Anordnung mit zwei reflektierenden Elementen (76) und (77). Dabei dringt das Strahlungsfeld (1) zuerst durch die transmittierende (79) Zone des vorderen Elementes (77) durch und wird von dem hinteren Element (76) in Richtung der Zone (75) reflektiert wird. Die Zone (75) ist teiltransmittierend, so dass ein Strahlungsanteil (63) aus dem Element (71) austritt. Der von Zone (75) reflektierte Strahlungsanteil wird wiederum von der hinteren Fläche (76) in Richtung der Zone (74) reflektiert. Von Zone (74) wird ein Strahlungsanteil (64) durchgelassen und ein Strahlungsanteil reflektiert. So entstehen weiter die Strahlungsanteile (65) und (66). Die Addition der Strahlungsanteile (63, 64, 65, 66) bildet dann das Ausgangsstrahlungsfeld (91).Figure 6 shows an arrangement with two reflective elements ( 76 ) and ( 77 ). The radiation field ( 1 ) first by the transmitting ( 79 ) Zone of the front element ( 77 ) and is from the rear element ( 76 ) in the direction of the zone ( 75 ) is reflected. The zone ( 75 ) is partially transmissive, so that a radiation fraction ( 63 ) from the element ( 71 ) exit. That of Zone ( 75 ) reflected radiation component is in turn from the rear surface ( 76 ) in the direction of the zone ( 74 ) reflected. From Zone ( 74 ) a proportion of radiation ( 64 ) and reflects a proportion of radiation. This will continue to produce the radiation components ( 65 ) and ( 66 ). The addition of the radiation components ( 63 . 64 . 65 . 66 ) then forms the output radiation field ( 91 ).

Vorausgesetzt hat das Strahlungsfeld (1) eine Gauß'sche Intensitätsverteilung. Dann zeigt Bild 7 die Intensitätsverteilungen der Strahlungsanteile (63, 64, 65, 66). Wenn die Verzögerung der benachbarten Strahlungsanteile vergleichbar oder länger als die einer Kohärenzlänge τc, so ist die Intensitätsverteilung des Ausgangsstrahlungsfeldes (91) die Summe der Intensitätsverteilungen der Strahlungsanteile. Wird z. B. das Reflexionselement (76) auf einer Translationsachse montiert, so kann die Intensitätsverteilung und die Pulsprofil verändert verwenden.Provided the radiation field ( 1 ) a Gaussian intensity distribution. Then Figure 7 shows the intensity distributions of the radiation components ( 63 . 64 . 65 . 66 ). If the delay of the adjacent radiation components is comparable or longer than that of a coherence length τ c , then the intensity distribution of the output radiation field is ( 91 ) the sum of the intensity distributions of the radiation components. If z. B. the reflection element ( 76 ) mounted on a translational axis, the intensity distribution and the pulse profile can be changed.

Um noch homogenere Intensitätsverteilungen zu erhalten, kann die vordere Fläche (77) in beliebig viele, beliebig kleine Zonen aufgeteilt werden. Die Transmission über die Abmessung der vorderen Fläche (77) ist im Wesentlichen eine kontinuierliche Funktion.To obtain even more homogeneous intensity distributions, the front surface ( 77 ) are divided into any number of arbitrarily small zones. The transmission over the dimension of the front surface ( 77 ) is essentially a continuous function.

Als Strahlquelle für die Erzeugung von Laserpulsen kommen z. B. gütegeschaltete Laser, modengekoppelten Laser oder verstärkungsgeschaltete Laser in Frage. Der Laser kann in Form eines Oszillators oder eines Oszillator/Verstärkers realisiert werden.As a beam source for the generation of laser pulses z. B. Q-switched lasers, mode-locked lasers or amplification switched laser in question. The laser can be realized in the form of an oscillator or an oscillator / amplifier.

Zur Steigerung der Pulsenergie bzw. der Leistung können die Ausgangspulse mit einem oder mehreren nachgeschalteten Verstärker verwendet werden.To increase the pulse energy or the power, the output pulses can be used with one or more downstream amplifiers.

Claims (7)

Optische Anordnung zur Formung der Intensitätsverteilung und/oder zur Modifikation von Pulsprofil eines Strahlungsfelds eines kurzen oder ultrakurzen Pulslasers, bei der mindestens ein teilreflektierendes Element (21) und ein hochreflektierendes Element (26) verwendet werden, wobei die beiden Reflexionselemente mit einem Abstand d voneinander angeordnet werden, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein der beiden Elemente auf einer Translationsachse montiert, wobei mit der Translationsachse der Abstand d zwischen den beiden Reflexionselementen nach einer Vorgabe verändert bzw. angesteuert wird.Optical arrangement for shaping the intensity distribution and / or for modifying the pulse profile of a radiation field of a short or ultrashort pulse laser, in which at least one partially reflecting element ( 21 ) and a highly reflective element ( 26 ), wherein the two reflection elements are arranged with a distance d from each other, characterized in that at least one of the two elements mounted on a translation axis, wherein the translation axis of the distance d between the two reflection elements is changed or controlled according to a specification. Optische Anordnung zur Formung der Intensitätsverteilung und/oder zur Modifikation von Pulsprofil eines Strahlungsfelds eines kurzen oder ultrakurzen Pulslasers nach dem Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Translationsachse eine mit Piezo getriebene Achse ist.Optical arrangement for shaping the intensity distribution and / or for modifying the pulse profile of a radiation field of a short or ultrashort pulse laser according to claim 1, characterized in that the translation axis is a piezo-driven axis. Optische Anordnung zur Formung der Intensitätsverteilung und/oder zur Modifikation von Pulsprofil nach dem Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass für linear polarisierte Eingangspulse ein polarisierendes Element (31) und ein polarisationsänderndes Element (32) zur Trennung der Ausgangspulse (91) von den Eingangspulse (11) verwendet werden.Optical arrangement for shaping the intensity distribution and / or for modifying the pulse profile according to claim 1 or 2, characterized in that for linearly polarized input pulses a polarizing element ( 31 ) and a polarization-altering element ( 32 ) for separating the output pulses ( 91 ) from the input pulses ( 11 ) be used. Optische Anordnung zur Formung der Intensitätsverteilung und/oder zur Modifikation von Pulsprofil nach dem Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass ein teilreflektierendes Element (21) und ein hochreflektierendes Element (26) verwendet werden, wobei die beiden Reflexionselemente mit einem Abstand d voneinander angeordnet, wobei das Strahlungsfeld (11) zuerst unter einem Einfallswinkel das teilreflektierende Element (21) trifft, wobei ein Teil des Strahlungsfeldes zu dem Strahlungsanteil (61) reflektiert wird, wobei der durchgelassene Teil des Strahlungsfeldes von dem hochreflektierenden Element (26) zu dem Strahlungsanteil (62) reflektiert wird, wobei der Einfallswinkel und der Abstand so gewählt werden, dass der Versatz zwischen den beiden Strahlungsanteilen (61, 62) vergleichbar oder größer als die Abmessung des Strahlungsfeldes (11) gilt.Optical arrangement for shaping the intensity distribution and / or for modifying the pulse profile according to claim 1 or 2, characterized in that a partially reflecting element ( 21 ) and a highly reflective element ( 26 ), wherein the two reflection elements with a distance d from each other, wherein the radiation field ( 11 ) first at an angle of incidence, the partially reflecting element ( 21 ), whereby a part of the radiation field belongs to the radiation fraction ( 61 ), wherein the transmitted part of the radiation field of the highly reflective element ( 26 ) to the proportion of radiation ( 62 ), wherein the angle of incidence and the distance are chosen such that the offset between the two radiation components ( 61 . 62 ) comparable or larger than the dimension of the radiation field ( 11 ) applies. Optische Anordnung zur Formung der Intensitätsverteilung und/oder zur Modifikation von Pulsprofil nach dem Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass das teilreflektierende Element (77) in Zonen (79, 75, 74, 73, 72, 78) aufgeteilt wird, die unterschiedliche Reflexionen bzw. Transmissionen aufweisen.Optical arrangement for shaping the intensity distribution and / or for modifying the pulse profile according to claim 4, characterized in that the partially reflecting element (FIG . 77 ) in zones ( 79 . 75 . 74 . 73 . 72 . 78 ), which have different reflections or transmissions. Optische Anordnung zur Formung der Intensitätsverteilung und/oder zur Modifikation von Pulsprofil nach dem Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Anzahl der Zonen beliebig groß ist und die Reflexion bzw. Transmission eine kontinuierliche Funktion von Ort ist.Optical arrangement for shaping the intensity distribution and / or for modifying the pulse profile according to claim 4, characterized in that the number of zones is arbitrarily large and the reflection or transmission is a continuous function of location. Optische Anordnung zur Formung der Intensitätsverteilung und/oder zur Modifikation von Pulsprofil nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass ein oder mehrere nachgeschaltete Verstärker wird/werden, um die Energie der Ausgangspulse (91) zu steigern.Optical arrangement for shaping the intensity distribution and / or for modifying the pulse profile according to one of Claims 1 to 6, characterized in that one or more downstream amplifiers is / are used to control the energy of the output pulses ( 91 ) to increase.
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