DE102012212394A1

DE102012212394A1 - Device for separating regions and/or optical elements in projection exposure system, has feed line and return line for conducting fluid, which are arranged to fluid in separating area for forming fluid curtain

Info

Publication number: DE102012212394A1
Application number: DE201210212394
Authority: DE
Inventors: Günther Dengel; Bernhard Sitek; Maik-René Piatkowski; Joachim Hartjes
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2012-07-16
Filing date: 2012-07-16
Publication date: 2013-05-29

Abstract

The device has a feed line (303) and return line (304) for conducting fluid, which are arranged to the fluid in the separating area for forming the fluid curtain (310). The separation region has a separating surface or dividing plane, along which the fluid for formation of the fluid curtain flows. The feed line comprises a discharge opening (305) and the return line suction comprises a receiving opening (306), so that the fluid curtain is formed between the discharge opening and the receiving opening. Independent claims are included for the following: (1) projection exposure system; and (2) method for separation of optical elements in projection exposure.

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNGBACKGROUND OF THE INVENTION

GEBIET DER ERFINDUNGFIELD OF THE INVENTION

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Abtrennung von ersten optischen Elementen in einer Projektionsbelichtungsanlage von zweiten optischen Elementen, wobei mindestens ein Trennbereich definiert ist, in dem die Abtrennung erfolgt. Außerdem betrifft die Erfindung ein entsprechendes Abtrennverfahren und eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer entsprechenden Abtrennvorrichtung.The present invention relates to a device for separating first optical elements in a projection exposure apparatus of second optical elements, wherein at least one separation region is defined in which the separation takes place. In addition, the invention relates to a corresponding separation method and a projection exposure apparatus for microlithography with a corresponding separation device.

STAND DER TECHNIKSTATE OF THE ART

Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlagen dienen zur Herstellung von mikrostrukturierten Bauelementen mittels eines photolithographischen Verfahrens. Dabei wird eine strukturtragende Maske, das sogenannte Retikel, mit Hilfe einer Lichtquelleneinheit und einer Beleuchtungsoptik beleuchtet und mit Hilfe einer Projektionsoptik auf eine photosensitive Schicht abgebildet. Dabei stellt die Lichtquelleneinheit eine Strahlung zur Verfügung, die in die Beleuchtungsoptik geleitet wird. Die Beleuchtungsoptik dient dazu, am Ort der strukturtragenden Maske eine gleichmäßige Ausleuchtung mit einer vorbestimmten winkelabhängigen Intensitätsverteilung zur Verfügung zu stellen. Hierzu sind innerhalb der Beleuchtungsoptik verschiedene geeignete optische Elemente vorgesehen. Die so ausgeleuchtete strukturtragende Maske wird mit Hilfe der Projektionsoptik auf eine photosensitive Schicht abgebildet. Dabei wird die minimale Strukturbreite, die mit Hilfe einer solchen Projektionsoptik abgebildet werden kann, unter anderem durch die Wellenlange der verwendeten Strahlung bestimmt. Je kleiner die Wellenlange der Strahlung ist, desto kleinere Strukturen können mit Hilfe der Projektionsoptik abgebildet werden. Aus diesem Grund ist es vorteilhaft Strahlung mit der Wellenlänge 5 nm bis 15 nm zu verwenden, also Licht im Wellenlängenspektrum des extrem ultravioletten (EUV) Lichts, so dass derartige Projektionsbelichtungsanlagen auch als EUV-Projektionsbelichtungsanlagen bezeichnet werden.Microlithography projection exposure equipment is used for the production of microstructured components by means of a photolithographic process. In this case, a structure-carrying mask, the so-called reticle, is illuminated with the aid of a light source unit and an illumination optical system and imaged onto a photosensitive layer with the aid of projection optics. In this case, the light source unit provides radiation which is conducted into the illumination optics. The illumination optics serve to provide a uniform illumination with a predetermined angle-dependent intensity distribution at the location of the structure-supporting mask. For this purpose, various suitable optical elements are provided within the illumination optics. The thus-exposed structure-bearing mask is imaged onto a photosensitive layer with the aid of the projection optics. In this case, the minimum structure width that can be imaged with the aid of such projection optics is determined inter alia by the wavelength of the radiation used. The smaller the wavelength of the radiation, the smaller the structures can be imaged using the projection optics. For this reason, it is advantageous to use radiation with the wavelength 5 nm to 15 nm, ie light in the wavelength spectrum of extreme ultraviolet (EUV) light, so that such projection exposure systems are also referred to as EUV projection exposure systems.

Um jedoch Strahlung der Wellenlänge 5 nm bis 15 nm zu verwenden, ist es erforderlich ein leuchtendes Quellplasma als Lichtquelle einzusetzen. Eine derartige Lichtquelleneinheit kann zum Beispiel als eine Laserplasmaquelle (LPP Laser Pulsed Plasma) ausgebildet sein. Bei diesem Quelltyp wird ein eng begrenztes Quellplasma erzeugt, indem ein kleines Materialtröpfchen mit einem Tröpfchengenerator hergestellt wird und an einen vorbestimmten Ort verbracht wird. Dort wird das Materialtröpfchen mit einem hochenergetischen Laser bestrahlt, so dass das Material in einen Plasmazustand übergeht und Strahlung im Wellenlängenbereich 5 nm bis 15 nm emittiert. Als Laser kommt z. B. ein Infrarotlaser mit der Wellenlänge 10 μm zum Einsatz. Alternativ kann die Lichtquelleneinheit auch als eine Entladungsquelle ausgebildet sein, bei der das Quellplasma mit Hilfe einer Entladung erzeugt wird. In beiden Fällen tritt neben der gewünschten Strahlung mit einer ersten Wellenlänge im Bereich von 5 nm bis 15 nm, die vom Quellplasma emittiert wird, auch Strahlung mit einer zweiten, unerwünschten Wellenlänge auf. Hierbei handelt es sich z. B. um von Quellplasma emittierte Strahlung außerhalb des gewünschten Bereiches von 5 nm bis 15 nm oder insbesondere bei der Verwendung einer Laserplasmaquelle um Laserstrahlung, die vom Quellplasma reflektiert wurde. Damit liegt die zweite Wellenlänge typischerweise im Infrarotbereich mit Wellenlängen von 0,78 μm bis 1000 μm, insbesondere im Bereich von 3 μm bis 50 μm. Beim Betrieb der Projektionsbelichtungsanlage mit einer Laserplasmaquelle entspricht die zweite Wellenlänge insbesondere der Wellenlänge des zur Erzeugung des Quellplasmas verwendeten Lasers. Beim Einsatz eines CO₂ Lasers ist dies z. B. die Wellenlänge 10,6 μm. Die Strahlung mit der zweiten Wellenlänge kann nicht zur Abbildung der strukturtragenden Maske verwendet werden, da die Wellenlänge zur Abbildung der Maskenstrukturen im Nanometer – Bereich zu groß ist. Die Strahlung mit der zweiten Wellenlänge führt daher nur zu einer unerwünschten Untergrundhelligkeit in der Bildebene. Weiterhin führt die Strahlung der zweiten Wellenlänge zu einer Erwärmung der optischen Elemente der Beleuchtungsoptik und der Projektionsoptik. Aus diesen beiden Gründen wird ein Filterelement zur Unterdrückung von Strahlung mit der zweiten Wellenlänge vorgesehen.However, to use radiation of wavelength 5 nm to 15 nm, it is necessary to use a bright source plasma as a light source. Such a light source unit may be formed, for example, as a laser plasma source (LPP laser pulsed plasma). In this type of source, a narrow source plasma is created by making a small droplet of material with a droplet generator and placing it in a predetermined location. There, the material droplet is irradiated with a high-energy laser, so that the material passes into a plasma state and emits radiation in the wavelength range 5 nm to 15 nm. As a laser comes z. B. an infrared laser with the wavelength of 10 microns for use. Alternatively, the light source unit may be formed as a discharge source in which the source plasma is generated by means of a discharge. In both cases, in addition to the desired radiation having a first wavelength in the range of 5 nm to 15 nm, which is emitted from the source plasma, radiation having a second, undesired wavelength occurs. These are z. For example, radiation emitted by source plasma is outside the desired range of 5 nm to 15 nm, or more particularly when using a laser plasma source for laser radiation reflected from the source plasma. Thus, the second wavelength is typically in the infrared range with wavelengths of 0.78 μm to 1000 μm, in particular in the range of 3 μm to 50 μm. During operation of the projection exposure apparatus with a laser plasma source, the second wavelength corresponds in particular to the wavelength of the laser used to generate the source plasma. When using a CO ₂ laser, this is z. B. the wavelength 10.6 microns. The radiation at the second wavelength can not be used to image the structure-bearing mask, since the wavelength for imaging the mask structures in the nanometer range is too large. The radiation with the second wavelength therefore only leads to an undesirable background brightness in the image plane. Furthermore, the radiation of the second wavelength leads to a heating of the optical elements of the illumination optics and the projection optics. For these two reasons, a filter element for suppressing radiation at the second wavelength is provided.

Als Filterelemente werden somit Spektralfilter eingesetzt, die unerwünschte Lichtbestandteile herausfiltern sollen und Membranfolien umfassen, die aus einem Material hergestellt sind, welches Strahlung mit der ersten gewünschten Wellenlänge durchlässt und Strahlung mit einer zweiten Wellenlänge absorbiert bzw. reflektiert. Beispielsweise kann dies eine Zirkonfolie mit einer Dicke im Bereich von kleiner oder gleich 500 nm sein oder der Filter kann aus abwechselnden Zirkon- und Siliziumschichten aufgebaut sein. Spektralfilter, sogenannte Spectral-Purity-Filter sind im Stand der Technik bekannt und beispielsweise in der EP 1 708 031 A2 beschrieben.Spectral filters which are intended to filter out unwanted light components and comprise membrane films made of a material which transmits radiation at the first desired wavelength and absorbs or reflects radiation at a second wavelength are thus used as filter elements. For example, this may be a zirconia film having a thickness in the range of less than or equal to 500 nm, or the filter may be constructed of alternating zirconia and silicon layers. Spectral filters, so-called spectral purity filters are known in the art and for example in the EP 1 708 031 A2 described.

Filter mit dünnen Folien besitzen jedoch den Nachteil, dass sie bei entsprechenden thermischen Belastungen durch die Strahlung und/oder sonstigen mechanischen Belastungen, wie Erschütterungen oder Druckschwankungen, im Betrieb zerstört werden können.However, filters with thin foils have the disadvantage that they can be destroyed in operation with corresponding thermal loads from the radiation and / or other mechanical stresses, such as vibrations or pressure fluctuations.

Die WO 2007/107783 A1 beschreibt entsprechend ein Reparaturverfahren für einen Spektralfilter, bei welchem kohlenstoffhaltiges Material zur Reparatur des Filters in eine entsprechende Kammer eingefüllt wird, an deren Ende ein Spektralfilter angeordnet ist, wenn festgestellt wird, dass über den Filter aus der Kammer Gas entweicht, sodass darauf zu schließen ist, dass der Filter eine Beschädigung aufweist. Hierzu sind Gassensoren vorgesehen, die den entsprechenden Gasfluss ermitteln können. The WO 2007/107783 A1 describes a repair method for a spectral filter in which carbonaceous material is filled to repair the filter in a corresponding chamber at the end of a spectral filter is arranged, if it is determined that escapes through the filter from the chamber gas, so it is to be concluded in that the filter is damaged. For this purpose, gas sensors are provided which can determine the corresponding gas flow.

Durch die Zerstörung eines entsprechenden Spektralfilters besteht jedoch das Problem, dass es zu einer Verunreinigung von benachbarten Bereichen der Projektionsbelichtungsanlage kommen kann. Insbesondere in Bereichen, die unter Ultrahochvakuum betrieben werden, wie dies in angrenzenden Bereichen des Beleuchtungssystems einer Projektionsbelichtungsanlage der Fall ist, wo die entsprechenden Spektralfilter üblicherweise eingesetzt werden, führt eine Zerstörung des Spektralfilters zu einer erheblichen Verschmutzung des Systems. Da zudem die Schwierigkeit besteht, dass derartige Systeme oft schwer zugänglich sind, führt die erforderliche Reinigung zu einem sehr hohen Aufwand.By destroying a corresponding spectral filter, however, there is the problem that contamination of adjacent areas of the projection exposure apparatus may occur. Particularly in areas operating under ultrahigh vacuum, as is the case in adjacent areas of the illumination system of a projection exposure apparatus where the corresponding spectral filters are commonly used, destruction of the spectral filter results in significant system fouling. Since there is also the difficulty that such systems are often difficult to access, the required cleaning leads to a very high cost.

Die beschriebene Problematik tritt nicht nur bei den oben beschriebenen Spektralfiltern auf, sondern kann allgemein bei entsprechenden Filtern mit dünnen Membranfolien auftreten, die beispielsweise auch zum Filtern von Debris oder dergleichen eingesetzt werden können.The problem described does not only occur in the spectral filters described above, but can generally occur in corresponding filters with thin membrane films, which can be used for example for filtering debris or the like.

OFFENBARUNG DER ERFINDUNGDISCLOSURE OF THE INVENTION

AUFGABE DER ERFINDUNGOBJECT OF THE INVENTION

Es ist deshalb Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Vorrichtung und ein Verfahren bereitzustellen, mit denen die wirksame Abtrennung von optischen oder mechanischen Komponenten in einer Projektionsbelichtungsanlage möglich ist, wobei insbesondere eine Abtrennung von Spektralfiltern von benachbarten Komponenten ermöglicht werden soll, um eine Kontaminierung der Projektionsbelichtungsanlage oder von Teilen davon durch Zerstörungsprodukte eines Spektralfilters zu vermeiden, wenn dieser im Betrieb zerstört werden sollte. Eine entsprechende Vorrichtung soll einfach aufgebaut und ein Verfahren soll einfach und zuverlässig durchführbar sein.It is therefore an object of the present invention to provide an apparatus and a method with which the effective separation of optical or mechanical components in a projection exposure system is possible, in particular a separation of spectral filters of adjacent components should be made possible to contamination of the projection exposure or to avoid parts of it by the destruction products of a spectral filter, if this should be destroyed during operation. A corresponding device should be simple and a method should be simple and reliable feasible.

TECHNISCHE LÖSUNGTECHNICAL SOLUTION

Diese Aufgabe wird gelöst mit einer Vorrichtung zur Abtrennung eines ersten Bereichs einer Projektionsbelichtungsanlage von mindestens einem zweiten Bereich einer Projektionsbelichtungsanlage, insbesondere zur Abtrennung von ersten optischen Elementen in einer Projektionsbelichtungsanlage von zweiten optischen Elementen mit den Merkmalen des Anspruchs 1 sowie einem entsprechenden Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 14. Darüber hinaus wird eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer Abtrennvorrichtung im Anspruch 8 definiert. Vorteilhafte Ausgestaltungen sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche.This object is achieved with a device for separating a first region of a projection exposure apparatus from at least one second region of a projection exposure apparatus, in particular for separating first optical elements in a projection exposure apparatus of second optical elements having the features of claim 1 and a corresponding method having the features of Claim 14. In addition, a projection exposure apparatus for microlithography with a separating device is defined in claim 8. Advantageous embodiments are the subject of the dependent claims.

Die Erfindung geht aus von der Idee, dass eine wirksame Abtrennung von optischen oder mechanischen Elementen in einer Projektionsbelichtungsanlage bzw. eines ersten Bereichs von mindestens einem zweiten Bereich durch Ausbildung eines Fluidvorhangs erzielt werden kann, wobei der Fluidvorhang durch einen Fluidstrom gebildet wird. Der Fluidvorhang kann sich hierbei flächig in einem Trennbereich erstrecken, der die Abtrennung zwischen den optischen Elementen definiert. Beispielsweise kann der Trennbereich entlang einer Ebene zwischen zwei optischen Elementen vorliegen oder auch beliebige dreidimensionale Formen aufweisen, wobei dann unter Umständen mehrere Fluidvorhänge zur Ausbildung des Trennbereichs erforderlich sind. Das verwendete Fluid zur Bildung des Fluidvorhangs kann Luft oder ein inertes Gas sein.The invention is based on the idea that an effective separation of optical or mechanical elements in a projection exposure system or a first region of at least one second region can be achieved by forming a fluid curtain, wherein the fluid curtain is formed by a fluid flow. In this case, the fluid curtain can extend in a planar manner in a separation region which defines the separation between the optical elements. For example, the separation region can be present along a plane between two optical elements or also have any three-dimensional shapes, in which case several fluid curtains may be required to form the separation region. The fluid used to form the fluid curtain may be air or an inert gas.

Eine entsprechende Vorrichtung zur Abtrennung von optischen Elementen bzw. Bereichen in einer Projektionsbelichtungsanlage (Abtrennvorrichtung) kann so ausgebildet sein, dass mindestens eine Zuführleitung und mindestens eine Absaugleitung vorgesehen sind, wobei jede Zuführleitung mindestens eine Abgabeöffnung und jede Absaugleitung mindestens eine Aufnahmeöffnung aufweist. Der oder die Fluidvorhänge werden dann zwischen der mindestens einen Abgabeöffnung und der mindestens einen Aufnahmeöffnung ausgebildet, wenn ein Fluid von der Abgabeöffnung der Zuführleitung zur Aufnahmeöffnung der Absaugleitung strömt und einen entsprechenden Fluidstrom ausbildet. Durch mehrere Zuführleitungen und/oder mehrere Absaugleitungen sowie mehrere Abgabeöffnungen und/oder mehrere Absaugleitungen pro Zuführleitung bzw. pro Absaugleitung können Fluidvorhänge mit entsprechender Ausdehnung in unterschiedlicher Formgebung erzeugt werden, so dass durch die Fluidvorhänge in geeigneter Weise eine Abtrennung erfolgen kann.A corresponding device for separating optical elements or regions in a projection exposure apparatus (separating device) can be designed such that at least one supply line and at least one suction line are provided, each supply line having at least one discharge opening and each suction line having at least one receiving opening. The one or more fluid curtains are then formed between the at least one dispensing opening and the at least one receiving opening when a fluid flows from the dispensing opening of the supply line to the receiving opening of the suction line and forms a corresponding fluid flow. By means of a plurality of supply lines and / or a plurality of suction lines and a plurality of discharge openings and / or several suction lines per supply line or per suction line fluid curtains can be generated with a corresponding extent in different shapes, so that a separation can be carried out by the fluid curtains in a suitable manner.

Der oder die Fluidvorhänge führen nicht nur dazu, dass Partikel oder Gasströme den Trennbereich nicht durchdringen können, sondern weisen zudem den Vorteil auf, dass mit dem Fluidstrom auch die entsprechenden Fremdkörper bzw. Gasströme abgeführt werden können.The one or more fluid curtains not only lead to particles or gas streams can not penetrate the separation area, but also have the advantage that with the fluid flow and the corresponding foreign body or gas streams can be removed.

Um diesen Effekt des Einsaugens in den Fluidstrom, der auch als Venturi-Effekt bezeichnet werden kann, weiter zu verstärken, kann die Strömungsgeschwindigkeit des Fluids im Bereich des Fluidvorhangs verstärkt werden, was beispielsweise durch eine Verengung des Strömungsquerschnitts im Bereich der Abgabeöffnung der Zuführleitung bewirkt werden kann.In order to further enhance this effect of the suction into the fluid flow, which may also be referred to as Venturi effect, the flow velocity of the fluid in the region of the fluid curtain can be amplified, which for example can be effected by a narrowing of the flow cross-section in the region of the discharge opening of the supply line.

Da in der Absaugleitung somit Fremdstoffe, wie Partikel und dergleichen, enthalten sein können, kann die Absaugleitung einen Partikelabscheider und/oder Partikelfilter aufweisen, um so die Partikel aus dem Fluidstrom zu entfernen. Das gereinigte Fluid kann dann wieder zur Ausbildung eines Fluidvorhangs verwendet werden und kann somit im Kreis geführt werden.Since foreign substances, such as particles and the like, can thus be contained in the suction line, the suction line can have a particle separator and / or particle filter so as to remove the particles from the fluid flow. The purified fluid can then be reused to form a fluid curtain and thus can be recirculated.

Die Abtrennvorrichtung bzw. das Trennverfahren zur Abtrennung von optischen Elementen in einer Projektionsbelichtungsanlage kann insbesondere im Zusammenhang mit einem Spektralfilter, der wiederum vorzugsweise im Beleuchtungssystem angeordnet ist, eingesetzt werden, da derartige Spektralfilter besonders anfällig für Beschädigungen oder Zerstörungen sind und somit eine potenzielle Quelle von Kontaminationen darstellen.The separation device or the separating method for separating optical elements in a projection exposure apparatus can be used in particular in connection with a spectral filter, which in turn is preferably arranged in the illumination system, since such spectral filters are particularly susceptible to damage or destruction and thus a potential source of contamination represent.

Insbesondere kann ein Fluidvorhang zur Abtrennung des Spektralfilters von in Strahlrichtung des Nutzlichts nachfolgenden optischen Komponenten des Beleuchtungssystems eingesetzt werden.In particular, a fluid curtain for separating the spectral filter from downstream in the beam direction of the useful light optical components of the illumination system can be used.

Im Zusammenhang mit dem Einsatz der Abtrennvorrichtung bzw. des Trennverfahrens zur Abtrennung von Spektralfiltern können die Vorrichtung oder das Verfahren um die Maßnahme ergänzt werden, dass ein zusätzlicher oder mehrere zusätzliche Fluidströme zum Spülen des Spektralfilters vorgesehen werden. Die dafür vorgesehenen Spülleitungen zur Erzeugung von Spülfluidströmen dienen dazu, bei Bedarf in gezielter Weise einen direkten Fluidstrom auf den Spektralfilter richten zu können, um bei einem bereits zerstörten oder beschädigten Spektralfilter am Spektralfilter noch anhaftende lose Teile zu entfernen oder bei einem zwar möglicherweise leicht vorgeschädigten, aber insgesamt noch intakten Spektralfilter diesen gezielt durch die Spülfluidströmung zerstören zu können, um so ein definiertes Ende des Spektralfilters zu bewirken.In connection with the use of the separating device or the separation method for separating spectral filters, the device or the method can be supplemented by the measure that an additional or several additional fluid streams are provided for rinsing the spectral filter. The purge lines provided for generating purge fluid streams serve to be able to direct a direct fluid flow to the spectral filter in a targeted manner, in order to remove loose parts still adhering to the spectral filter in the case of an already destroyed or damaged spectral filter or in a possibly slightly pre-damaged, but in total still intact spectral filter to destroy this targeted by the flushing fluid flow, so as to cause a defined end of the spectral filter.

Entsprechend kann eine Überwachungseinrichtung für den Spektralfilter sowie eine Steuer- und/oder Regelungseinheit vorgesehen sein, die bei der Ermittlung einer Schädigung oder Zerstörung des Spektralfilters einen entsprechenden Spülfluidstrom einstellt. Gleichzeitig kann die Ausbildung der Fluidvorhänge in geeigneter Weise abgeändert werden, um den Spülvorgang zu unterstützen. Dabei ist es möglich, dass die Zuführleitung mit ihrer Abgabeöffnung verstellbar ausgebildet ist, um den Fluidstrom zur Ausbildung eines Fluidvorhangs in einen Spülfluidstrom zum Spülen der Anlage im Bereich des Spektralfilters umzuwandeln. Entsprechend kann unter Umständen auch auf die Ausbildung zusätzlicher Spülleitungen verzichtet werden.Accordingly, a monitoring device for the spectral filter as well as a control and / or regulating unit can be provided, which adjusts a corresponding flushing fluid flow in the determination of a damage or destruction of the spectral filter. At the same time, the formation of the fluid curtains can be suitably modified to assist the flushing process. It is possible that the supply line is designed to be adjustable with its discharge opening in order to convert the fluid flow to form a fluid curtain into a flushing fluid flow for flushing the system in the region of the spectral filter. Accordingly, it may be possible to dispense with the formation of additional purge lines under certain circumstances.

Neben der Überwachungseinrichtung für den Spektralfilter können unabhängig davon oder in Kombination weitere Sensoren zur Überwachung der Fluidvorhänge vorgesehen sein, die ebenfalls mit einer separaten Steuer- und/oder Regelungseinheit oder der Steuer- und/oder Regelungseinheit für die Spüleinrichtung verbunden sind, so dass die entsprechenden Fluidströme eingestellt werden können.In addition to the monitoring device for the spectral filter, further sensors for monitoring the fluid curtains can be provided independently of or in combination, which are also connected to a separate control and / or regulating unit or the control and / or regulating unit for the flushing device, so that the corresponding Fluid flows can be adjusted.

Unter Abtrennung wird bei der vorliegenden Erfindung ganz allgemein eine Trennung oder Abteilung von Bereichen oder Räumen zum Schutz oder zur Abschirmung der Bereiche oder der Räume und darin enthaltener Komponenten verstanden, wie sie vorstehend beschrieben worden ist und nachfolgend anhand der Beschreibung der Ausführungsbeispiele weiter erläutert wird. Andere Bedeutungen des Begriffs Abtrennung spielen für die vorliegende Erfindung keine Rolle.Separation in the present invention is generally understood to mean a separation or division of areas or spaces for protecting or shielding the areas or spaces and components contained therein, as described above and further explained below with reference to the description of the embodiments. Other meanings of the term separation are not relevant to the present invention.

KURZBESCHREIBUNG DER FIGURENBRIEF DESCRIPTION OF THE FIGURES

Die beigefügten Zeichnungen zeigen in rein schematischer Weise inThe accompanying drawings show in a purely schematic manner in FIG

1 eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie nach dem Stand der Technik, wie sie bei der vorliegenden Erfindung Verwendung finden kann; 1 a prior art microlithography projection exposure apparatus as may be used in the present invention;

2 einen Spektralfilter, wie er in der Projektionsbelichtungsanlage der 1 eingesetzt werden kann; 2 a spectral filter, as in the projection exposure of the 1 can be used;

3 eine Darstellung einer Überwachungseinrichtung, wie sie gemäß der vorliegenden Erfindung Verwendung finden kann; 3 an illustration of a monitoring device, as it can be used according to the present invention;

4 eine Darstellung einer Vorrichtung zur Abtrennung eines Spektralfilters von im Strahlengang des Beleuchtungssystems einer Projektionsbelichtungsanlage nachfolgenden optischen Komponenten; 4 a representation of an apparatus for separating a spectral filter of the optical path in the beam path of the illumination system of a projection exposure system following optical components;

5 eine Darstellung einer weiteren Ausführungsform einer Vorrichtung zur Abtrennung eines Spektralfilters von im Strahlengang des Beleuchtungssystems einer Projektionsbelichtungsanlage nachfolgenden optischen Komponenten und von der Strahlungsquelle; und in 5 a representation of a further embodiment of an apparatus for separating a spectral filter of optical components following in the beam path of the illumination system of a projection exposure apparatus and of the radiation source; and in

6 eine Darstellung einer dritten Ausführungsform einer Vorrichtung zur Abtrennung eines Spektralfilters von im Strahlengang des Beleuchtungssystems einer Projektionsbelichtungsanlage nachfolgenden optischen Komponenten und von der Strahlungsquelle mit einer zusätzlichen Einrichtung zur Entfernung von Teilen des Spektralfilters. 6 a representation of a third embodiment of an apparatus for separating a spectral filter of in the beam path of the illumination system of a projection exposure system subsequent optical components and of the radiation source with an additional device for removing parts of the spectral filter.

AUSFÜHRUNGSBEISPIELEEMBODIMENTS

Weitere Vorteile, Kennzeichen und Merkmale der vorliegenden Erfindung werden bei der nachfolgenden detaillierten Beschreibung von Ausführungsbeispielen anhand der beigefügten Zeichnungen deutlich. Die Erfindung ist jedoch nicht auf diese Ausführungsbeispiele beschränkt.Further advantages, characteristics and features of the present invention will become apparent in the following detailed description of embodiments with reference to the accompanying drawings. However, the invention is not limited to these embodiments.

Die 1 zeigt eine Ausgestaltung einer erfindungsgemäßen Projektionsbelichtungsanlage 1 mit einer Beleuchtungsoptik 3 und einer Projektionsoptik 5. Die Beleuchtungsoptik 3 umfasst dabei ein erstes optisches Element 7 mit einer Mehrzahl von reflektiven ersten Facettenelementen 9 und ein zweites optisches Element 11 mit einer Mehrzahl von zweiten reflektiven Facettenelementen 13. Im Lichtweg nach dem zweiten optischen Element 11 sind ein erster Teleskopspiegel 15 und ein zweiter Teleskopspiegel 17 angeordnet, die beide unter senkrechtem Einfall betrieben werden, d. h. die Strahlung trifft unter einem Einfallswinkel zwischen 0° und 45° auf beide Spiegel. Unter dem Einfallswinkel wird dabei der Winkel zwischen einfallender Strahlung und der Normalen zur reflektiven optischen Fläche verstanden. Nachfolgend im Strahlengang ist ein Umlenkspiegel 19 angeordnet, der die auf ihn treffende Strahlung auf das Objektfeld 21 in der Objektebene 23 lenkt. Der Umlenkspiegel 19 wird unter streifendem Einfall betrieben, d. h. die Strahlung trifft unter einem Einfallswinkel zwischen 45° und 90° auf den Spiegel.The 1 shows an embodiment of a projection exposure apparatus according to the invention 1 with a lighting look 3 and a projection optics 5 , The illumination optics 3 comprises a first optical element 7 with a plurality of reflective first facet elements 9 and a second optical element 11 with a plurality of second reflective facet elements 13 , In the light path after the second optical element 11 are a first telescope mirror 15 and a second telescope mirror 17 arranged, both of which are operated under normal incidence, ie the radiation impinges at an angle of incidence between 0 ° and 45 ° on both mirrors. The angle of incidence is understood to mean the angle between incident radiation and the normal to the reflective optical surface. Following in the beam path is a deflection mirror 19 arranged, the radiation striking him on the object field 21 in the object plane 23 directs. The deflection mirror 19 is operated under grazing incidence, ie the radiation hits the mirror at an angle of incidence between 45 ° and 90 °.

Am Ort des Objektfeldes 21 ist eine reflektive strukturtragende Maske angeordnet, die mit Hilfe der Projektionsoptik 5 in die Bildebene 25 abgebildet wird. Die Projektionsoptik 5 umfasst sechs Spiegel 27, 29, 31, 33, 35 und 37. Alle sechs Spiegel der Projektionsoptik 5 weisen jeweils eine reflektive optische Fläche auf, die entlang einer um die optische Achse 39 rotationssymmetrischen Fläche verläuft.At the place of the object field 21 is a reflective structure-bearing mask arranged using the projection optics 5 into the picture plane 25 is shown. The projection optics 5 includes six mirrors 27 . 29 . 31 . 33 . 35 and 37 , All six mirrors of the projection optics 5 each have a reflective optical surface which extends along one about the optical axis 39 rotationally symmetric surface extends.

Die Projektionsbelichtungsanlage nach 1 umfasst ferner eine Lichtquelleneinheit 43, die Strahlung auf das erste optische Element 7 lenkt. Die Lichtquelleneinheit 43 umfasst dabei ein Quellplasma 45 und einen Kollektorspiegel 47. Die Lichtquelleneinheit 43 kann in verschiedenen Ausführungsformen ausgebildet sein. Dargestellt ist eine Laserplasmaquelle (LPP Laser Pulsed Plasma). Bei diesem Quelltyp wird ein eng begrenztes Quellplasma 45 erzeugt, indem ein kleines Materialtröpfchen mit einem Tröpfchengenerator 49 hergestellt wird und an einen vorbestimmten Ort verbracht wird. Dort wird das Materialtröpfchen mit einem hochenergetischen Laser 51 bestrahlt, so dass das Material in einen Plasmazustand übergeht und Strahlung im Wellenlängenbereich von 5 nm bis 15 nm emittiert. Der Laser 51 kann dabei so angeordnet sein, dass die Laserstrahlung durch eine Öffnung 53 in dem Kollektorspiegel fällt, bevor sie auf das Materialtröpfchen trifft. Als Laser 51 kommt z. B. ein Infrarotlaser mit der Wellenlänge 10 μm zum Einsatz. Alternativ kann die Lichtquelleneinheit 43 auch als eine Entladungsquelle ausgebildet sein, bei der das Quellplasma 45 mit Hilfe einer Entladung erzeugt wird. In beiden Fällen tritt neben der gewünschten Strahlung mit einer ersten Wellenlänge im Wellenlängenbereich von 5 nm bis 15 nm, die vom Quellplasma emittiert wird, auch Strahlung mit einer zweiten, unerwünschten Wellenlänge auf. Hierbei handelt es sich z. B. um vom Quellplasma emittierte Strahlung außerhalb des gewünschten Wellenlängenbereiches von 5 nm bis 15 nm oder insbesondere bei der Verwendung einer Laserplasmaquelle um Laserstrahlung, die vom Quellplasma reflektiert wurde. Damit liegt die zweite Wellenlänge typischerweise im Infrarotbereich mit einer Wellenlänge von 0,78 μm bis 1000 μm, insbesondere im Bereich von 3 μm bis 50 μm. Beim Betrieb der Projektionsbelichtungsanlage mit einer Laserplasmaquelle entspricht die zweite Wellenlänge insbesondere der Wellenlänge des zur Erzeugung des Quellplasmas 45 verwendeten Lasers 51. Beim Einsatz eines CO₂ Lasers ist dies z. B. die Wellenlänge 10,6 μm.The projection exposure system according to 1 further comprises a light source unit 43 , the radiation on the first optical element 7 directs. The light source unit 43 includes a source plasma 45 and a collector mirror 47 , The light source unit 43 may be formed in various embodiments. Shown is a laser plasma source (LPP laser pulsed plasma). This source type becomes a narrow source plasma 45 generated by placing a small droplet of material with a droplet generator 49 is made and placed in a predetermined location. There, the material droplets with a high-energy laser 51 irradiated, so that the material passes into a plasma state and emits radiation in the wavelength range of 5 nm to 15 nm. The laser 51 can be arranged so that the laser radiation through an opening 53 in the collector mirror falls before it hits the droplets of material. As a laser 51 comes z. B. an infrared laser with the wavelength of 10 microns for use. Alternatively, the light source unit 43 also be designed as a discharge source in which the source plasma 45 is generated by means of a discharge. In both cases, in addition to the desired radiation having a first wavelength in the wavelength range of 5 nm to 15 nm, which is emitted from the source plasma, radiation having a second, undesired wavelength occurs. These are z. For example, radiation emitted by the source plasma is outside the desired wavelength range of 5 nm to 15 nm, or more particularly when using a laser plasma source for laser radiation reflected from the source plasma. Thus, the second wavelength is typically in the infrared range with a wavelength of 0.78 μm to 1000 μm, in particular in the range of 3 μm to 50 μm. During operation of the projection exposure apparatus with a laser plasma source, the second wavelength corresponds in particular to the wavelength of the source plasma 45 used laser 51 , When using a CO ₂ laser, this is z. B. the wavelength 10.6 microns.

Die Strahlung mit der zweiten Wellenlänge kann nicht zur Abbildung der strukturtragenden Maske am Ort des Objektfeldes 21 verwendet werden, da die Wellenlänge zur Abbildung der Maskenstrukturen im Nanometer-Bereich zu groß ist. Die Strahlung mit der zweiten Wellenlänge führt daher insbesondere im Wellenlängenbereich von 100 nm bis 300 nm (DUV deep ultraviolet) zu einer unerwünschten Untergrundhelligkeit in der Bildebene 25. Weiterhin führt die Strahlung der zweiten Wellenlänge insbesondere im Infrarotbereich zu einer Erwärmung der optischen Elemente der Beleuchtungsoptik und der Projektionsoptik. Aus diesen beiden Gründen ist erfindungsgemäß ein Filterelement 55 zur Unterdrückung von Strahlung mit der zweiten Wellenlänge vorgesehen.The radiation at the second wavelength can not be used to image the structure-bearing mask at the location of the object field 21 be used because the wavelength for imaging the mask structures in the nanometer range is too large. The radiation with the second wavelength therefore leads, in particular in the wavelength range from 100 nm to 300 nm (DUV deep ultraviolet), to an undesirable background brightness in the image plane 25 , Furthermore, the radiation of the second wavelength, in particular in the infrared range, leads to a heating of the optical elements of the illumination optics and of the projection optics. For these two reasons, a filter element according to the invention 55 provided for suppression of radiation of the second wavelength.

Das Filterelement 55 ist im Strahlengang zwischen der Lichtquelleneinheit 43 und dem ersten reflektiven optischen Element 7 der Beleuchtungsoptik 3 angeordnet. Auf diese Weise wird die Strahlung der zweiten Wellenlänge so frühzeitig wie möglich unterdrückt. Alternativ kann das Filterelement 55 auch an anderen Positionen im Strahlengang angeordnet sein. Das Filterelement kann eine Folie mit einer Dicke von weniger als 500 nm umfassen, wobei Material und Dicke der Folie derart ausgeführt sind, dass die Folie einen Anteil von mindestens 90% der Strahlung der zweiten Wellenlänge absorbiert und ein Anteil von 70% der Strahlung der ersten Wellenlänge transmittiert.The filter element 55 is in the beam path between the light source unit 43 and the first reflective optical element 7 the illumination optics 3 arranged. In this way, the radiation of the second wavelength is suppressed as early as possible. Alternatively, the filter element 55 be arranged at other positions in the beam path. The filter element may comprise a film having a thickness of less than 500 nm, wherein the material and thickness of the film are designed such that the film absorbs a proportion of at least 90% of the radiation of the second wavelength and a proportion of 70% of the radiation of the first Wavelength transmitted.

Die nun so spektral bereinigte Strahlung beleuchtet das erste reflektive optische Element 7. Der Kollektorspiegel 49 und die ersten reflektiven Facettenelemente 9 haben eine derartige optische Wirkung, dass sich Bilder des Quellplasmas 45 an den Orten der zweiten reflektiven Facettenelemente 13 des zweiten optischen Elements 11 ergeben. Hierzu werden einerseits die Brennweite des Kollektorspiegels 49 und der ersten Facettenelemente 9 entsprechend der räumlichen Abstände gewählt. Dies geschieht z. B. indem die reflektiven optischen Flächen der ersten reflektiven Facettenelemente 9 mit geeigneten Krümmungen versehen werden. Andererseits weisen die ersten reflektiven Facettenelemente 9 eine reflektive optische Fläche auf mit einem Normalenvektor, dessen Richtung die Orientierung der reflektiven optischen Fläche im Raum festlegt, wobei die Normalenvektoren der reflektiven Flächen der ersten Facettenelemente 9 derart orientiert sind, dass die von einem ersten Facettenelement 9 reflektierte Strahlung auf ein zugeordnetes zweites reflektives Facettenelement 13 trifft. Das zweite reflektive Facettenelement 11 ist in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 3 angeordnet, die mit Hilfe der Spiegel 15, 17 und 19 auf die Austrittspupillenebene abgebildet wird. Dabei entspricht die Austrittspupillenebene der Beleuchtungsoptik 3 gerade der Eintrittspupillenebene 57 der Projektionsoptik 5. Somit liegt das zweite optische Element 11 in einer Ebene, die optisch konjugiert zur Eintrittspupillenebene 57 der Projektionsoptik 5 ist. Aus diesem Grund steht die Intensitätsverteilung der Strahlung auf dem zweiten optischen Element 11 in einem einfachen Zusammenhang zur winkelabhängigen Intensitätsverteilung der Strahlung im Bereich des Objektfeldes 21. Dabei ist die Eintrittspupillenebene der Projektionsoptik 5 definiert als die Ebene senkrecht zur optischen Achse 39, in der der Hauptstrahl 59 zum Mittelpunkt des Objektfeldes 21 die optische Achse 39 schneidet. The now so spectrally corrected radiation illuminates the first reflective optical element 7 , The collector mirror 49 and the first reflective facet elements 9 have such an optical effect that images of the source plasma 45 at the locations of the second reflective facet elements 13 of the second optical element 11 result. For this purpose, on the one hand, the focal length of the collector mirror 49 and the first facet elements 9 chosen according to the spatial distances. This happens z. B. by the reflective optical surfaces of the first reflective facet elements 9 be provided with suitable curvatures. On the other hand, the first reflective facet elements 9 a reflective optical surface having a normal vector whose direction defines the orientation of the reflective optical surface in space, the normal vectors of the reflective surfaces of the first facet elements 9 are oriented such that from a first facet element 9 reflected radiation to an associated second reflective facet element 13 meets. The second reflective facet element 11 is in a pupil plane of the illumination optics 3 arranged with the help of the mirror 15 . 17 and 19 is mapped to the exit pupil plane. In this case, the exit pupil plane corresponds to the illumination optics 3 just the entrance pupil level 57 the projection optics 5 , Thus, the second optical element is located 11 in a plane that is optically conjugate to the entrance pupil plane 57 the projection optics 5 is. For this reason, the intensity distribution of the radiation is on the second optical element 11 in a simple relationship to the angle-dependent intensity distribution of the radiation in the area of the object field 21 , The entrance pupil plane is the projection optics 5 defined as the plane perpendicular to the optical axis 39 in which the main beam 59 to the center of the object field 21 the optical axis 39 cuts.

Die Aufgabe der zweiten Facettenelemente 13 und der nachfolgenden Optik, die die Spiegel 15, 17 und 19 umfasst, ist es die ersten Facettenelemente 9 überlagernd auf das Objektfeld 21 abzubilden. Dabei versteht man unter überlagernder Abbildung, dass Bilder der ersten reflektiven Facettenelemente 9 in der Objektebene entstehen und dort zumindest teilweise überlappen. Hierzu weisen die zweiten reflektiven Facettenelemente 13 eine reflektive optische Fläche mit einem Normalenvektor auf, dessen Richtung die Orientierung der reflektiven optischen Fläche im Raum festlegt. Für jedes zweite Facettenelement 13 ist die Richtung des Normalenvektors so gewählt, dass das ihm zugeordnete erste Facettenelement 9 auf das Objektfeld 21 in der Objektebene 23 abgebildet wird. Da die ersten Facettenelemente 9 auf das Objektfeld 21 abgebildet werden, entspricht die Form des ausgeleuchteten Objektfeldes 21 der äußeren Form der ersten Facettenelemente 9. Die äußere Form der ersten Facettenelemente 9 wird daher üblicherweise derart bogenförmig gewählt, dass die langen Berandungslinien des ausgeleuchteten Objektfeldes 21 im Wesentlichen kreisbogenförmig um die optische Achse 39 der Projektionsoptik 5 verlaufen.The task of the second facet elements 13 and the subsequent optics that the mirrors 15 . 17 and 19 it is the first facet elements 9 superimposed on the object field 21 map. By superimposing the image, we mean that images of the first reflective facet elements 9 arise in the object plane and overlap there at least partially. For this purpose, the second reflective facet elements 13 a reflective optical surface with a normal vector whose direction determines the orientation of the reflective optical surface in space. For every second facet element 13 the direction of the normal vector is chosen so that the first facet element associated with it 9 on the object field 21 in the object plane 23 is shown. Because the first facet elements 9 on the object field 21 be imaged corresponds to the shape of the illuminated object field 21 the outer shape of the first facet elements 9 , The outer shape of the first facet elements 9 is therefore usually chosen arcuate such that the long boundary lines of the illuminated object field 21 substantially circular arc around the optical axis 39 the projection optics 5 run.

Zwischen dem Filter 55 und dem ersten reflektiven Element 7 wird mittels einer in 1 nicht näher, aber in den 3 bis 6 detailliert beschriebenen Vorrichtung ein erster Fluidvorhang 60 gemäß der vorliegenden Erfindung ausgebildet, so dass Zerstörungsprodukte, die bei der Zerstörung des Filters 55 entstehen, nicht zum ersten reflektiven Element 7 gelangen können. Zusätzlich wird zwischen Filter 55 und der Lichtquelleneinheit 43 ein weiterer Fluidvorhang 61 ausgebildet, um einerseits, wie nachfolgend ebenfalls noch detailliert beschrieben werden wird, den Spektralfilter 55 vor einem quellenseitigen Leckstrom zu schützen und andererseits ebenfalls zu verhindern, dass Partikel von dem Spektralfilter in Richtung der Lichtquelleneinheit 43 gelangen. Ein weiterer Fluidvorhang 62 kann zwischen den Spiegeln 17 und 19 vorgesehen sein.Between the filter 55 and the first reflective element 7 is by means of a in 1 not closer, but in the 3 to 6 described in detail a first fluid curtain 60 formed in accordance with the present invention, so that destructive products resulting in the destruction of the filter 55 not the first reflective element 7 can reach. In addition, between filters 55 and the light source unit 43 another fluid curtain 61 designed, on the one hand, as will also be described in detail below, the spectral filter 55 to protect against a source-side leakage current and on the other hand also to prevent particles from the spectral filter in the direction of the light source unit 43 reach. Another fluid curtain 62 can between the mirrors 17 and 19 be provided.

Die 2 zeigt einen Filter 111, wie er beispielsweise in der Projektionsbelichtungsanlage der 1 eingesetzt werden kann. Der Filter 111 weist einen kreisförmigen Rahmen 132 auf, in welchem der eigentliche Filter aus einer Vielschichtstruktur mit alternierenden Zirkon- und Siliziumschichten 131 aufgenommen ist. Zur Stabilisierung der Zirkon-/Siliziumschichten 131 ist zusätzlich ein Gitter 130 in einer Honigwabenstruktur vorgesehen, welches optional ist.The 2 shows a filter 111 , as in the projection exposure apparatus of the 1 can be used. The filter 111 has a circular frame 132 in which the actual filter consists of a multilayer structure with alternating zirconium and silicon layers 131 is included. For stabilization of the zirconium / silicon layers 131 is additionally a grid 130 provided in a honeycomb structure, which is optional.

Allerdings besteht bei derartigen Filtern weiterhin das Problem, dass trotz der Stabilisierung der Schichtstruktur mittels einer Wabenstruktur der Filter reißen kann, sodass nicht nur ungehindert das Licht der Lichtquelleneinheit 43 hindurch treten und in das Beleuchtungssystem eintreten kann, sondern dass auch Zerstörungsprodukte des Filters bei einer Zerstörung in das System der Projektionsbelichtungsanlage und insbesondere zu den dort angeordneten optischen Elementen gelangen können.However, such filters still have the problem that, despite the stabilization of the layer structure by means of a honeycomb structure, the filter may break, so that not only the light of the light source unit unhindered 43 can pass through and enter the lighting system, but that also destruction of the filter can be destroyed in the system of the projection exposure system and in particular to the optical elements arranged there.

Die Projektionsbelichtungsanlage, wie sie in der 1 beschrieben ist, wird mit gepulstem Licht betrieben, also mit wiederkehrend maximal hoher Lichtintensität unterbrochen von Zeiten geringer Lichtintensität, wobei die Maxima der Lichtintensität über der Zeit in einem zeitlichen Abstand dT vorliegen. Die Pulsdauer beträgt beispielsweise etwa 50 ns und die Impulsfrequenz der Lichtquelle kann zwischen 6 kHz und etwa 60 kHz betrieben werden, sodass der Abstand dT zwischen 0,2 ms bis 2 ms beträgt. In den Pausen zwischen zwei Pulsen, die auch als sogenannte Idle Time bezeichnet wird, kann eine Überwachungseinrichtung den Filter prüfen, sodass auch die Überwachungseinrichtung in einem entsprechend gepulsten Betrieb betrieben wird.The projection exposure machine, as used in the 1 is operated with pulsed light, so with recurring maximum high light intensity interrupted by periods of low light intensity, the maximum light intensity over time at a time interval dT are present. For example, the pulse duration is about 50 ns, and the pulse frequency of the light source can be operated between 6 kHz and about 60 kHz, so that the distance dT is between 0.2 ms to 2 ms. In the pauses between two pulses, which is also referred to as idle time, a monitoring device can check the filter, so that the monitoring device is operated in a correspondingly pulsed operation.

Die 3 zeigt eine Überwachungseinrichtung, wie sie bezüglich eines Filters 211, der in der Projektionsbelichtungsanlage aus 1 eingesetzt werden kann, verwendet wird. Die Überwachungseinrichtung umfasst eine Lichtquelle 251, welches Licht 252 aussendet, das über eine optische Anordnung, dargestellt durch eine Sammellinse 253, gebündelt wird, um einen definierten Überwachungslichtstrahl 254 zu bilden, der auf den Filter 211 gerichtet wird. Der Überwachungslichtstrahl 254 kann in seinem Querschnitt so groß dimensioniert sein, dass der gesamte Filter 211 bestrahlt wird. Alternativ kann der Strahlungsquerschnitt des Überwachungslichtstrahls 254 auch kleiner als der Filter 211 sein, sodass über eine Ablenkungseinrichtung (nicht gezeigt) der Überwachungslichtstrahl 254 über die Oberfläche des Filters 211 geführt (gescannt) werden kann. Ferner ist es auch möglich den Filter 211 in zwei oder mehr Bereiche zu unterteilen, nämlich den Filterbereich 211a und den Filterbereich 211b und für jeden der Filterbereiche 211a, 211b eine eigene Überwachungseinrichtung vorzusehen, die dann wiederum so ausgebildet sein kann, dass der Überwachungslichtstrahl 254 den gesamten Filterbereich 211a, 211b überdeckt oder über den Filterbereich 211a, 211b in einer Scanbewegung geführt wird. The 3 shows a monitoring device, as with respect to a filter 211 Turning off in the projection exposure machine 1 can be used. The monitoring device comprises a light source 251 which light 252 emits that via an optical arrangement, represented by a condenser lens 253 , is bundled to a defined monitoring beam 254 to form on the filter 211 is directed. The monitoring beam 254 can be so large in its cross-section that the entire filter 211 is irradiated. Alternatively, the radiation cross section of the monitoring light beam 254 also smaller than the filter 211 be such that via a deflection device (not shown) of the monitoring light beam 254 over the surface of the filter 211 can be guided (scanned). Furthermore, it is also possible the filter 211 into two or more areas, namely the filter area 211 and the filter area 211b and for each of the filter areas 211 . 211b provide a separate monitoring device, which in turn can then be designed so that the monitoring light beam 254 the entire filter area 211 . 211b covered or over the filter area 211 . 211b is guided in a scanning movement.

Da der Filter 211 beispielsweise als Spektralfilter ausgebildet ist, wird ein Teil des Überwachungslichtstrahls 254 durch den Filter 211 hindurch treten und als Lichtstrahl 256 auf den zweiten Teil der optischen Anordnung der Überwachungseinrichtung, welche wiederum als Sammellinse 257 dargestellt ist, treffen, um in einem aufbereiteten Strahl 258 auf einen Detektor 259 gelenkt zu werden. Mit dem Detektor 259 kann der Lichtstrahl 258 erfasst werden und beispielsweise die Intensität ermittelt werden.Because the filter 211 For example, is designed as a spectral filter, a part of the monitoring light beam 254 through the filter 211 pass through and as a beam of light 256 on the second part of the optical arrangement of the monitoring device, which in turn as a converging lens 257 is shown, meet in a recycled beam 258 on a detector 259 to be steered. With the detector 259 can the light beam 258 be detected and, for example, the intensity are determined.

Wird nunmehr der Filter 211 beschädigt, so wird sich eine Veränderung des transmittierten Lichts ergeben, was vom Detektor 259 erfasst werden kann, sodass durch einen Vergleich einer aktuell gemessenen Lichtintensität mit einer früheren gemessenen Lichtintensität auf den Zustand des Filters 211 geschlossen werden kann.Will now be the filter 211 damaged, there will be a change in the transmitted light, which is from the detector 259 can be detected, so by comparing a currently measured light intensity with an earlier measured light intensity on the state of the filter 211 can be closed.

Die Überwachungseinrichtung kann hierzu eine entsprechende Steuer- und/oder Regelungseinheit aufweisen, die genauso wie eine Steuer- und/oder Regelungseinheit für eine Abtrennvorrichtung vorzugsweise über eine Datenverarbeitungseinheit mit entsprechender Software realisiert werden kann, um ein Ergebnis für den Zustand des Filters 211 zu ermitteln. Mit dem Überwachungsergebnis kann unmittelbar eine Signalausgabe an ein oder mehrere Eingänge einer Steuerungs- und/oder Regelungseinheit der Abtrennvorrichtung ausgeben, um die Abtrennvorrichtung, wie nachfolgend noch detailliert beschrieben werden wird, in geeigneter Weise zu betreiben. Die nicht dargestellte Steuer- und/oder Regelungseinheit zur Steuerung und/oder Regelung der Überwachungseinrichtung kann zugleich zur Steuerung und/oder Regelung der Abtrennvorrichtung eingesetzt werden und durch eine mit entsprechender Software ausgestattete Datenverarbeitungsanlage gebildet werden.For this purpose, the monitoring device can have a corresponding control and / or regulating unit which, like a control and / or regulating unit for a separating device, can preferably be realized via a data processing unit with appropriate software in order to obtain a result for the condition of the filter 211 to investigate. The monitoring result can directly output a signal output to one or more inputs of a control and / or regulating unit of the separating device in order to operate the separating device in a suitable manner, as will be described in detail below. The control and / or regulating unit, not shown, for controlling and / or regulating the monitoring device can at the same time be used to control and / or regulate the separating device and be formed by a data processing system equipped with appropriate software.

Neben dem transmittierten Strahl 256 des Überwachungslichtstrahls 254 wird ein Teil des Lichts auch am Filter 211 reflektiert und erzeugt einen reflektierten Lichtstrahl 255, der beispielsweise ebenfalls von einem Detektor 261 erfasst werden kann. Es sind auch Fälle vorstellbar, in denen lediglich der reflektierte Strahl 255 zur Erfassung des Zustands des Filters verwendet wird.Next to the transmitted beam 256 of the monitoring light beam 254 Part of the light is also on the filter 211 reflects and produces a reflected light beam 255 for example, also from a detector 261 can be detected. There are also cases imaginable in which only the reflected beam 255 is used to detect the condition of the filter.

Da der Filter im Wesentlichen zum Filtern des Nutzlichts 250 der Projektionsbelichtungsanlage eingesetzt wird, ist die Anordnung der Überwachungseinrichtung so vorzunehmen, dass durch die Überwachungseinrichtung kein Licht in den Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage eingeführt wird. Dies gilt insbesondere bei einem nicht gepulsten Betrieb. Entsprechend sind die Lichtquelle 251 und die Detektoren 259 und 261 so angeordnet, dass der Strahlengang der Überwachungseinrichtung mit dem Überwachungslichtstrahl 254, dem transmittierten Strahl 256 und/oder dem reflektierten Strahl 255 jeweils quer zum Strahlengang bzw. der Lichtausbreitungsrichtung des Nutzlichts 250 der Projektionsbelichtungsanlage gegeben ist. Insbesondere können die Winkel zwischen dem Überwachungslichtstrahl 254 sowie dem transmittierten und/oder reflektierten Lichtstrahl 256, 255 einerseits und der Ausbreitungsrichtung des Nutzlichts 250 durch den Filter 211 andererseits im Bereich von 30° bis 90°, vorzugsweise 45° bis 90° bezogen auf die Ausbreitungsrichtung der Lichtstrahlen gewählt werden.Because the filter is essentially for filtering the useful light 250 the projection exposure system is used, the arrangement of the monitoring device is to be made so that no light is introduced into the beam path of the projection exposure apparatus by the monitoring device. This is especially true in non-pulsed operation. Accordingly, the light source 251 and the detectors 259 and 261 arranged so that the beam path of the monitoring device with the monitoring light beam 254 , the transmitted beam 256 and / or the reflected beam 255 in each case transversely to the beam path or the light propagation direction of the useful light 250 the projection exposure system is given. In particular, the angles between the monitoring light beam 254 as well as the transmitted and / or reflected light beam 256 . 255 on the one hand and the direction of propagation of the useful light 250 through the filter 211 On the other hand, in the range of 30 ° to 90 °, preferably 45 ° to 90 ° relative to the propagation direction of the light beams are selected.

Um zusätzlich zu vermeiden, dass Streulicht oder sonstiges reflektiertes Licht in den Strahlengang des Nutzlichts gelangt, kann die Überwachungseinrichtung mindestens eine Lichtfalle umfassen, die Licht der Lichtquelle oder reflektiertes oder durchgelassenes Licht absorbiert oder vom Eindringen in den Strahlengang des Nutzlichts abhält. Beispielsweise ist in der 3 eine Blendeneinrichtung 260 schematisch dargestellt, die diesem Zweck dient.In order to additionally avoid that scattered light or other reflected light enters the beam path of the useful light, the monitoring device may comprise at least one light trap which absorbs light from the light source or reflected or transmitted light or prevents it from penetrating into the beam path of the useful light. For example, in the 3 an aperture device 260 schematically illustrated, which serves this purpose.

Die 4 zeigt ein erstes Ausführungsbeispiel einer Vorrichtung zum Abtrennen (Abtrennvorrichtung) eines Spektralfilters 300 von benachbarten optischen Elementen oder Abschnitten einer Projektionsbelichtungsanlage. Wie in 4 mit den Pfeilen 307 und 308 für die Strahlrichtung des Nutz- oder Arbeitslichts der Projektionsbelichtungsanlage dargestellt und wie im Zusammenhang mit der 1 deutlich ist, kann ein Spektralfilter 300 bzw. 55 durch die in 4 dargestellte Abtrennvorrichtung von im Strahlengang nachfolgenden optischen Elementen, wie der Spiegelanordnung 7 aus 1, abgeschottet werden. Entsprechend ist nach der Ausführungsform der 4 ausgehend von dem Spektralfilter 300 in Strahlungsrichtung 308 des Nutzlichts in den zu dem Spektralfilter benachbarten Gehäuseteilen 301 eine Zuführleitung 303 für ein Fluid sowie eine Absaugleitung 304 vorgesehen. Die Gehäuseteile 301 sowie die Halterung 302 mit dem Spektralfilter 300 und der Zuführleitung 303 sowie der Absaugleitung 304 kann auch als Baueinheit ausgeführt sein.The 4 shows a first embodiment of an apparatus for separating (separation device) of a spectral filter 300 of adjacent optical elements or sections of a projection exposure apparatus. As in 4 with the arrows 307 and 308 for the beam direction of the useful or working light of the projection exposure system and as related to the 1 is clear, a spectral filter can 300 respectively. 55 through the in 4 shown separating device of optical elements following in the beam path, like the mirror arrangement 7 out 1 to be sealed off. Accordingly, according to the embodiment of the 4 starting from the spectral filter 300 in the direction of radiation 308 of the useful light in the housing parts adjacent to the spectral filter 301 a supply line 303 for a fluid and a suction line 304 intended. The housing parts 301 as well as the holder 302 with the spectral filter 300 and the supply line 303 as well as the suction line 304 can also be designed as a structural unit.

Das Fluid wird entsprechend dem Pfeil 315 in der Zuführleitung zu einer Abgabeöffnung 305 geführt, wo es die Zuführleitung 303 verlässt, um auf der gegenüberliegenden Seite der Gehäuseanordnung von der Aufnahmeöffnung 306 der Absaugleitung 304 wieder aufgenommen zu werden und entsprechend des Pfeils 314 durch die Absaugleitung 304 geführt zu werden. Dadurch entsteht im Bereich zwischen der Abgabeöffnung 305 und der Aufnahmeöffnung 306 ein Fluidvorhang 310, welcher in dem gezeigten Ausführungsbeispiel parallel zur Hauptfläche des Spektralfilters 300 ausgebildet ist, wobei die Hauptfläche des Spektralfilters 300 durch die größte Fläche, also die Fläche definiert ist, die entlang der größten Dimensionen des Spektralfilters 300 aufgespannt ist. Der Fluidvorhang ist in der Darstellung der 4 und den nachfolgenden Figuren als Pfeil 310 dargestellt, um die Fluidströmung zu veranschaulichen.The fluid is according to the arrow 315 in the supply line to a discharge opening 305 led, where there is the supply line 303 leaves to the opposite side of the housing assembly from the receiving opening 306 the suction line 304 to be resumed and according to the arrow 314 through the suction line 304 to be led. This results in the area between the discharge opening 305 and the receiving opening 306 a fluid curtain 310 , which in the embodiment shown parallel to the main surface of the spectral filter 300 is formed, wherein the main surface of the spectral filter 300 is defined by the largest area, that is the area, along the largest dimensions of the spectral filter 300 is stretched. The fluid curtain is in the illustration of 4 and the following figures as an arrow 310 shown to illustrate the fluid flow.

Da sich die Abgabeöffnung 305 und die Aufnahmeöffnung 306 auch in einer Richtung senkrecht zur Bildebene erstrecken können bzw. mehrere Abgabeöffnungen 305 und Aufnahmeöffnungen 306 sowie mehrere Zuführleitungen 303 und Absaugleitungen 304 vorgesehen sein können, kann der Fluidvorhang 310 als ein flächiges Gebilde ausgebildet sein, welches den Bereich des Strahlengangs gemäß der Strahlungsrichtung 308 nach dem Spektralfilter vollständig abschließt. Darüber hinaus ist es auch möglich, statt nur eines einzigen Fluidvorhangs 310 mehrere Fluidvorhänge vorzusehen, die auch in beliebiger Anordnung zueinander, insbesondere winkliger Anordnung, versetzter Anordnung, paralleler Anordnung usw., ausgebildet sein können.As the discharge opening 305 and the receiving opening 306 can also extend in a direction perpendicular to the image plane or more discharge openings 305 and receiving openings 306 as well as several supply lines 303 and suction lines 304 can be provided, the fluid curtain 310 be formed as a planar structure, which the area of the beam path according to the radiation direction 308 completes completely after the spectral filter. In addition, it is also possible, instead of just a single fluid curtain 310 provide several fluid curtains, which can also be in any arrangement to each other, in particular angular arrangement, staggered arrangement, parallel arrangement, etc., may be formed.

Kommt es nun zu einer Beschädigung des Spektralfilters 300, so dass sich entsprechend der gestrichelten Pfeile 309 Partikel von dem Spektralfilter 300 ablösen, so werden diese entsprechend den gestrichelten Pfeilen 309 durch den Sog des Fluidvorhangs in die Absaugleitung 304 eingesaugt und dort entlang der Fluidströmung 314 abtransportiert.If it comes now to a damage of the spectral filter 300 , so according to the dashed arrows 309 Particles from the spectral filter 300 replace, so these are according to the dashed arrows 309 by the suction of the fluid curtain into the suction line 304 sucked in and there along the fluid flow 314 removed.

In der Absaugleitung 314 kann ein Partikelabscheider 312 vorgesehen sein, der beispielsweise durch eine Senke und eine Ablenkplatte 311 gebildet ist, die sich unter dem Winkel α zur Eingangsrichtung der Absaugleitung 304 erstreckt. Dadurch wird der Fluidstrom, wie in der 4 dargestellt ist, abgelenkt und im Fluidstrom enthaltene Partikel können aufgrund der Führung des Fluidstroms in einer Senke 313 abgeschieden werden. Darüber hinaus kann in der Absaugleitung 314 ein Filter 316 vorgesehen sein, der zum Herausfiltern der Partikel aus dem Fluidstrom 314 dient.In the suction line 314 can be a particle separator 312 be provided, for example, by a sink and a baffle plate 311 is formed, which is at the angle α to the input direction of the suction 304 extends. As a result, the fluid flow, as in the 4 is shown, deflected and contained in the fluid flow particles due to the guidance of the fluid flow in a sink 313 be deposited. In addition, in the suction line 314 a filter 316 be provided, which filters out the particles from the fluid stream 314 serves.

Die 5 zeigt eine weitere Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vorrichtung zur Abtrennung von optischen Elementen in einer Projektionsbelichtungsanlage, wobei hier statt eines Fluidvorhangs 310 auf der von der Strahlungsquelle abgewandten Seite des Spektralfilters 300 jeweils auf jeder Seite des Spektralfilters 300 ein Fluidvorhang 310, 320 ausgebildet wird. Entsprechend ist zumindest eine zweite Zuführleitung 323 und eine zweite Absaugleitung 324 vorgesehen, wobei wiederum eine Abgabeöffnung 325 der Zuführleitung 323 und eine Aufnahmeöffnung 326 der Absaugleitung 324 einander gegenüberliegend vorhanden sind. Ähnlich der Ausbildung des Fluidvorhangs 310 werden Partikel des Spektralfilters 300 gemäß der gestrichelten Pfeile 329 durch den Fluidstrom in die Absaugleitung 324 gezogen und dort gemäß dem Fluidstrom 327 geführt, so dass wiederum in einem Partikelabscheider 322 in einer Senke 328 die entsprechenden Partikel abgeschieden werden können. Auch ein Partikelfilter kann wiederum vorgesehen werden. Zusätzlich kann jedoch durch den Fluidvorhang auch verhindert werden, dass ein quellenseitiger Leckstrom von der Strahlungsquelle, der durch die Pfeile 321 angedeutet ist, auf den Spektralfilter 300 treffen kann, so dass durch den Fluidvorhang 320 nicht nur ein Schutz benachbarter Komponenten vor Teilen des Spektralfilters 300 gegeben ist, sondern auch der Spektralfilter 300 selbst geschützt wird.The 5 shows a further embodiment of a device according to the invention for the separation of optical elements in a projection exposure system, in which case instead of a fluid curtain 310 on the side of the spectral filter facing away from the radiation source 300 each on each side of the spectral filter 300 a fluid curtain 310 . 320 is trained. Accordingly, at least one second supply line 323 and a second suction line 324 provided, in turn, a discharge opening 325 the supply line 323 and a receiving opening 326 the suction line 324 are present opposite each other. Similar to the formation of the fluid curtain 310 become particles of the spectral filter 300 according to the dashed arrows 329 through the fluid flow into the suction line 324 pulled and there according to the fluid flow 327 guided, so that in turn in a particle separator 322 in a valley 328 the corresponding particles can be deposited. A particle filter can also be provided. In addition, however, can be prevented by the fluid curtain also that a source-side leakage current from the radiation source, by the arrows 321 is indicated on the spectral filter 300 can hit, so through the fluid curtain 320 not just protection of adjacent components from parts of the spectral filter 300 is given, but also the spectral filter 300 self-protected.

Die 6 zeigt eine dritte Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vorrichtung, die im Wesentlichen den Ausführungsformen der 4 und 5 entspricht, was die Anordnung von Komponenten zur Ausbildung von Fluidvorhängen 310 und 320 anbelangt. Entsprechend wird darauf verzichtet, dieselben Komponenten, die bereits bei den 4 und 5 beschrieben worden sind, bei der Ausführungsform der 6 noch einmal zu beschreiben.The 6 shows a third embodiment of a device according to the invention, which substantially the embodiments of the 4 and 5 corresponds to what the arrangement of components for the formation of fluid curtains 310 and 320 As. Accordingly, it is waived, the same components that already in the 4 and 5 have been described in the embodiment of the 6 to describe again.

Die 6 weist jedoch zusätzliche Spülleitungen 330 und 331 auf, die es ermöglichen, dass ein zusätzlicher Fluidstrom in Richtung des Spektralfilters 300 geführt wird. Entsprechend sind die Spülleitungen 330, 331 um den Winkel β geneigt zur Ebene der Hauptfläche des Spektralfilters 300 angeordnet. Durch die Spülleitungen 330, 331 wird ein Fluidstrom erzeugt, der Teile des Spektralfilters 300 entfernen soll, wenn dieser entweder bereits vorgeschädigt ist oder wenn nach einer Schädigung nur noch Restteile des Spektralfilters 300 vorhanden sind. Entsprechend ist bei der Ausführungsform der 6 eine Überwachungseinrichtung 332 schematisch dargestellt, wie sie beispielsweise mit Bezug auf die 3 detailliert beschrieben worden ist. Die Überwachungseinrichtung 333 kann den Zustand des Spektralfilters 300 überwachen und, wenn eine Schädigung des Spektralfilters 300 festgestellt wird, durch eine nicht näher dargestellte Steuerungs- und/oder Regelungseinheit der Abtrennvorrichtung bewirken, dass die Fluidströme zum Spülen aus den Spülleitungen 330 und 331 aktiviert werden, um den Spektralfilter 300 in definierter und gezielter Weise zu zerstören und für einen Abtransport der Teile des Spektralfilters 300 über den Fluidvorhang 320 zu sorgen. Entsprechend kann der Fluidvorhang 310 in einem derartigen Betriebszustand abgeschaltet werden.The 6 however, has additional purge lines 330 and 331 on, which allow for additional fluid flow in the direction of the spectral filter 300 to be led. Accordingly, the flushing lines 330 . 331 inclined by the angle β to the plane of the main surface of the spectral filter 300 arranged. Through the flushing lines 330 . 331 a fluid flow is generated, the parts of the spectral filter 300 should remove if this is either already damaged or if after damage only residual parts of the spectral filter 300 available. Accordingly, in the embodiment of the 6 a monitoring device 332 schematically illustrated, for example, with reference to the 3 has been described in detail. The monitoring device 333 can change the state of the spectral filter 300 monitor and, if any damage to the spectral filter 300 is determined by a non-illustrated control and / or control unit of the separation device cause the fluid streams for flushing from the purge lines 330 and 331 be activated to the spectral filter 300 in a defined and targeted way to destroy and for a removal of the parts of the spectral filter 300 over the fluid curtain 320 to care. Accordingly, the fluid curtain 310 be switched off in such an operating condition.

Obwohl die vorliegende Erfindung anhand der vorgestellten Ausführungsbeispiele detailliert beschrieben worden ist, ist für einen Fachmann selbstverständlich, dass die Erfindung nicht auf diese Ausführungsbeispiele beschränkt ist, sondern dass vielmehr Abwandlungen in der Weise möglich sind, dass einzelne Merkmale weggelassen oder andersartige Kombinationen von Merkmalen realisiert werden, ohne dass der Schutzbereich der beigefügten Ansprüche verlassen wird.Although the present invention has been described in detail with reference to the illustrated embodiments, it will be understood by those skilled in the art that the invention is not limited to these embodiments, but rather modifications are possible in the manner that individual features are omitted or other types of combinations of features realized without departing from the scope of the appended claims.

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.This list of the documents listed by the applicant has been generated automatically and is included solely for the better information of the reader. The list is not part of the German patent or utility model application. The DPMA assumes no liability for any errors or omissions.

Zitierte PatentliteraturCited patent literature

EP 1708031 A2 [0004]
WO 2007/107783 A1 [0006]

Claims

Device for separating a first region of a projection exposure apparatus from a second region of a projection exposure apparatus, in particular first optical elements in a projection exposure apparatus of second optical elements, wherein at least one separation region is defined, in which the separation takes place, characterized in that the device lines ( 303 . 304 ) for conducting a fluid, which are formed so that the fluid in the separation area at least one fluid curtain ( 310 ) trains.

Apparatus according to claim 1, characterized in that the separating region has a separating surface or separating plane, along which the fluid for forming the fluid curtain ( 310 ) flows.

Device according to claim 1 or 2, characterized in that the device comprises at least one supply line ( 303 ) and at least one suction line ( 304 ), each supply line having at least one discharge opening ( 305 ) and each suction line at least one receiving opening ( 306 ) and wherein the fluid curtain is formed between the at least one dispensing opening and the at least one receiving opening.

Device according to one of the preceding claims, characterized in that the device is designed so that a plurality of fluid curtains can be formed.

Device according to one of the preceding claims, characterized in that the fluid is air or a gas, in particular an inert gas.

Device according to one of the preceding claims, characterized in that the dispensing opening ( 305 ) of the supply line ( 303 ) to increase the flow velocity of the fluid has a relative to the feed line narrowed cross-section.

Device according to one of the preceding claims, characterized in that the suction line ( 304 ) a particle filter ( 316 ) and / or particle separators ( 312 ) having.

Microlithographic projection exposure apparatus with a separating device according to one of the preceding claims.

Projection exposure apparatus according to claim 8, characterized in that the first region comprises a spectral filter or the first optical element comprises a spectral filter ( 55 . 300 ) and the second optical elements components ( 7 ) of the illumination system and / or the radiation source ( 43 ) are.

Projection exposure apparatus according to claim 9, characterized in that in the illumination system a first fluid curtain ( 310 ) on the side facing a field facet mirror side of a spectral filter and / or a second fluid curtain ( 320 ) is arranged on the side facing the radiation source of a spectral filter.

Projection exposure apparatus according to one of claims 9 to 10, characterized in that the fluid curtain ( 310 . 320 ) substantially parallel to the main surface of the spectral filter ( 300 ) is aligned.

Projection exposure apparatus according to one of claims 9 to 11, characterized in that the discharge opening of the supply line can be aligned with the spectral filter, that the fluid flow is directed to the spectral filter and / or that at least one purge line ( 330 . 331 ) is provided, with which a fluid flow to the spectral filter ( 300 ) can be directed.

Projection exposure apparatus according to one of claims 9 to 12, characterized in that a control and / or regulating unit and / or a monitoring device ( 332 ) are provided, by means of which the fluid flow is controlled and / or regulated.

A method for separating a first region of a projection exposure apparatus from a second region of a projection exposure apparatus, in particular for separating first optical elements in a projection exposure apparatus from second optical elements, wherein at least one separation region is defined in which the separation occurs, in particular with a device according to one of the Claims 1 to 7 and / or in a projection exposure apparatus according to any one of claims 8 to 12, characterized in that in the separation region, the flow of a fluid is generated, which is formed so that the fluid in the separation region at least one fluid curtain ( 60 . 61 ; 310 . 320 ) trains.

Method according to one of the preceding claims, characterized in that the first optical element is a spectral filter ( 55 ) and the second optical elements components ( 7 ) of the illumination system and / or the radiation source ( 43 ) and in the region of the spectral filter at least a second fluid flow is generated, if it is determined that the spectral filter has a damage, wherein the second fluid flow directly to the Spectral filter is directed to remove parts of the spectral filter.