DE102012201557A1 - Beam guidance system for focusingly guiding X-ray beam from e.g. carbon dioxide high power laser onto tin droplet for EUV lithography, has mirror, where beam-induced changes of beam guidance properties of mirror are partially compensated - Google Patents
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Abstract
Description
Anwendungsgebiet und Stand der Technik Field of application and state of the art
Die Erfindung betrifft ein Strahlführungssystem zur fokussierenden Führung von Strahlung einer Hochleistungs-Laserlichtquelle hin zu einem Target. The invention relates to a beam guidance system for focusing guidance of radiation of a high-power laser light source toward a target.
Diese Erfindung betrifft insbesondere das Strahlführungssystem des Lasers in einer LPP-(laser produced plasma, lasererzeugtes Plasma)Quelle für EUVL (Strahlung bzw. Licht mit einer Wellenlänge im extremen Ultraviolett). Die Erfindung betrifft weiterhin eine LPP-Röntgenstrahlquelle mit einer Laserlichtquelle und einem derartigen Strahlführungssystem. In particular, this invention relates to the beam delivery system of the laser in a laser produced plasma (LPP) source for EUVL (extreme ultraviolet wavelength radiation). The invention further relates to an LPP X-ray source with a laser light source and such a beam guidance system.
Die derzeit bevorzugten Laserplasmaquellen für die EUV-Lithographie verwenden CO2-Hochleistungs-Laser die auf ein Zinn-Tröpfchen fokussiert werden. Dadurch wird ein heißes, dichtes Plasma erzeugt, welches 13.5 nm Strahlung emittiert. The currently preferred laser plasma sources for EUV lithography use high-power CO2 lasers focused on a tin droplet. This produces a hot, dense plasma that emits 13.5 nm of radiation.
Um EUV-Leistungen im Bereich 200 Watt im sogenannten intermediate Fokus (Zwischenfokus) eines EUVL-Systems zu erreichen sind mittlere CO2-Laserleistungen von typischerweise 35 kW notwendig. Die zugehörige Wellenlänge ist 10.6 μm. In order to achieve EUV powers in the range of 200 watts in the so-called intermediate focus (intermediate focus) of an EUVL system, mean CO2 laser powers of typically 35 kW are necessary. The associated wavelength is 10.6 μm.
Um das Plasma effizient zu zünden, ist es wesentlich, dass eine möglichst hohe Laserintensität an der Stelle des Targets sichergestellt wird. In order to ignite the plasma efficiently, it is essential that the highest possible laser intensity at the location of the target is ensured.
Das Target besteht typischerweise aus kleinen (Durchmesser ca. 10–100 μm) Zinntröpfchen, die mit einer Genauigkeit von einigen μm bis einigen zehn μm genau getroffen werden müssen. The target typically consists of small (diameter about 10-100 microns) tin droplets, which must be met with an accuracy of a few microns to a few tens of microns exactly.
Den Laser auf das Target zu fokussieren ist Aufgabe des Strahlführungssystems. Als optische Komponenten in diesem, System stehen nur (Kupfer-)Spiegel und einige wenige Materialien (Diamant, ZnSe sowie ZnS, GaAs, Ge, Si) für refraktive Elemente zur Verfügung. Focusing the laser on the target is the task of the beam guidance system. As optical components in this system, only (copper) mirrors and a few materials (diamond, ZnSe as well as ZnS, GaAs, Ge, Si) are available for refractive elements.
Problemstellung und Nachteil des Standes der Technik Problem and disadvantage of the prior art
Die derzeit diskutierten Strahlführungssysteme bestehen im Wesentlichen aus wassergekühlten Kupfer-Umlenkspiegeln und Diamantfenstern. Andere Materialien sind im Bereich geringer Strahlquerschnitte und hoher Laserleistungen nicht beständig und können allenfalls im Bereich geringerer Intensitäten eingesetzt werden.The currently discussed beam guidance systems essentially consist of water-cooled copper deflecting mirrors and diamond windows. Other materials are not stable in the range of small beam cross sections and high laser powers and can be used at best in the range of lower intensities.
Durch die hohen Laserintensitäten und die endliche Absorption der beschichteten oder sogar unbeschichteten Spiegel kommt es zu einer Deformation der Spiegeloberflächen, die wiederum die Wellenfronten des Laserstrahls deformieren. Beschichtungen sind nur bis zu einer grenzwertigen Laserintensität stabil. Bei höheren Intensitäten muss aus Lebensdauergründen auf sie verzichtet werden. Due to the high laser intensities and the finite absorption of the coated or even uncoated mirror, the mirror surfaces are deformed, which in turn deform the wavefronts of the laser beam. Coatings are stable only to a marginal laser intensity. At higher intensities it must be waived for life reasons.
Die führenden Aberrationen, die so eingeführt werden sind:
- 1.) Defokus: Unter dem Einfluss der Laserstrahlung wölben sich alle Spiegeloberflächen gleichsinnig auf, d. h. der Effekt kumuliert beim Durchgang durch das System, welches, die Spiegel in den Power Amplifiern (Leistungsverstärker) mitgezählt, mehrere Dutzend Spiegel besitzen kann, so dass sich ein signifikanter nichttolerierbarer Fokusversatz aufsummieren kann. Der Laser wird dabei defokussiert.
- 2.) Die Spiegel werden im Wesentlichen als 90°-Umlenkspiegel eingesetzt, dadurch entsteht eine Unsymmetrie in der thermischen Belastung die im Wesentlichen zu einem Astigmatismus und dadurch zu einer Reduktion der erreichbaren Peakintensität führt. Je nach relativer Anordnung der verschiedenen Spiegel können sich deren Beiträge aufsummieren oder kompensieren.
- 3.) Durch Symmetriebrechungen in den Fassungen kann ein Wellenfrontkipp und damit ein Lateralvesatz des Strahles auftreten.
- 4.) Durch höhere Ordnungen dieser Störungen (Koma, sph. Aberration, höherer Astigmatismus, ...) kann es zu einer zusätzlichen Reduktion der Peakintensität (Strehlfaktor) kommen.
- 1.) Defocus: Under the influence of laser radiation, all mirror surfaces bulge in the same direction, ie the effect accumulates when passing through the system, which, counting the mirrors in the power amplifiers (power amplifier), can have several dozen mirrors, so that a can sum up significant non-tolerable focus offset. The laser is thereby defocused.
- 2.) The mirrors are used essentially as a 90 ° deflecting mirror, thereby creating an asymmetry in the thermal load which essentially leads to astigmatism and thereby to a reduction of the achievable peak intensity. Depending on the relative arrangement of the different mirrors, their contributions can be summed or compensated.
- 3.) Symmetry breaking in the versions can cause a wavefront tilt and thus a lateral damage of the beam.
- 4.) By higher order of these disturbances (coma, sph. Aberration, higher astigmatism, ...) it can come to an additional reduction of the peak intensity (Strehlfaktor).
Insgesamt wird durch diese Mirror-heating-Effekte die Stabilität und Leistung des Laserplasmas stark beeinträchtigt. Overall, these mirror-heating effects greatly affect the stability and performance of the laser plasma.
Es müssen daher, sofern sie nicht vermeidbar sind, sehr aufwändige Kontroll- und Regelmechanismen in das Strahlführungssystem eingebaut werden um das System per feed-back oder ggf. feed-forward zu stabilisieren. Therefore, if they are unavoidable, very complex control and regulating mechanisms must be installed in the beam guidance system in order to stabilize the system via feedback or possibly feed-forward.
Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Strahlführungssystem der eingangs genannten Art derart weiter zu bilden, dass sich strahlinduzierte Änderungen an den Strahlführungseigenschaften des Strahlführungssystems nicht störend auf die fokussierende Führung der Strahlung der Laserlichtquelle auswirken. It is an object of the present invention to further develop a beam guidance system of the type mentioned at the outset such that beam-induced changes to the beam guidance properties of the beam guidance system do not interfere with the focusing guidance of the radiation of the laser light source.
Diese Aufgabe ist erfindungsgemäß gelöst durch ein Strahlführungssystem mit den in Anspruch 1 angegebenen Merkmalen. This object is achieved by a beam guiding system with the features specified in claim 1.
Erfinderische Lösung Inventive solution
Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass sich strahlinduzierte Änderungen an den Strahlführungseigenschaften des mindestens einen Spiegels des Strahlführungssystems durch strahlinduzierte Änderungen an den Strahlführungseigenschaften der mindestens einen Transmissions-Komponente zumindest teilweise kompensieren lassen, da ohne weiteres Komponentenanordnungen möglich sind, bei denen diese strahlinduzierten Änderungen einander entgegenwirken. Hierbei wird die Tatsache ausgenutzt, dass sich eine induzierte Materialausdehnung sowie eine strahlinduzierte Brechungsindexänderung bei der mindestens einen Transmissions-Komponente grundsätzlich anders auf die Strahlführung auswirkt als eine strahlinduzierte Materialausdehnung bei dem mindestens einen Spiegel. According to the invention, it has been recognized that beam-induced changes to the beam guidance properties of the at least one mirror of the beam guidance system are due to beam-induced Modifications to the beam guiding properties of the at least one transmission component can be compensated for at least partially, since component arrangements are readily possible in which these beam-induced changes counteract each other. In this case, the fact is exploited that an induced material expansion as well as a beam-induced refractive index change in the at least one transmission component fundamentally has a different effect on the beam guidance than a beam-induced material expansion in the at least one mirror.
Das Strahlführungssystem kann mehrere Spiegel aufweisen. Das Strahlführungssystem kann mehrere Transmissions-Komponenten aufweisen. Die Spiegel und/oder die Transmissions-Komponenten können zu reflektiven bzw. refraktiven Komponentengruppen zusammengefasst oder auch abwechselnd im Strahlengang des Strahlführungssystems angeordnet sein. The beam guidance system can have a plurality of mirrors. The beam delivery system may include multiple transmission components. The mirrors and / or the transmission components can be combined to form reflective or refractive component groups or can also be arranged alternately in the beam path of the beam guidance system.
Insbesondere könnten thermisch induzierte oder intensitätsinduzierte Änderungen an den Strahlenführungseigenschaften kompensiert werden. Die Laserlichtquelle kann insbesondere Strahlung im IR-Bereich und insbesondere im MIR-Bereich (mittleres Infrarot, Wellenlängenbereich zwischen 2,5 µm und 25 µm) erzeugen. Bei der Laserlichtquelle kann es sich um einen CO2-Laser mit einer Emissionswellenlänge von 10,6 μm handeln. In particular, thermally-induced or intensity-induced changes in the beam guiding properties could be compensated. In particular, the laser light source can generate radiation in the IR range and in particular in the MIR range (middle infrared, wavelength range between 2.5 μm and 25 μm). In the laser light source may be a CO 2 laser having an emission wavelength of 10.6 microns.
Eine zumindest teilweise Kompensation der strahlinduzierten Änderungen an den Strahlführungseigenschaften, die einerseits durch den mindestens einen Spiegel und andererseits durch die mindestens eine Transmissions-Komponente bewirkt werden, liegt dann vor, wenn die kompensierte Strahlführungseigenschaft einem Vorgabewert um mindestens 5 % besser entspricht als eine unkompensierte Strahlführungseigenschaft. Die kompensierte Strahlführungseigenschaft kann einem Vorgabewert um mehr als 10 % besser entsprechen, um mehr als 25 % besser entsprechen oder auch um mehr als 50 % besser entsprechen. Die Kompensationswirkung kann insbesondere so sein, dass der Vorgabewert genau erreicht wird. An at least partial compensation of the beam-induced changes in the beam guidance properties, which are caused on the one hand by the at least one mirror and on the other by the at least one transmission component, is present when the compensated beam guidance property corresponds to a default value by at least 5% better than an uncompensated beam-guiding property , The compensated beam-guiding property can better correspond to a predefined value by more than 10%, correspond more than 25% better, or even correspond better by more than 50%. The compensation effect can in particular be such that the default value is reached exactly.
Diese relativen Kompensationswerte seien anhand eines Beispiels erläutert:
Als Strahlführungseigenschaft sei eine Fokalposition F der Strahlung im Bereich des Targets
As a beam guiding property is a focal position F of the radiation in the region of the
Auch für die anderen vorstehend angesprochenen führenden Abberationen geltend entsprechende Kompensationsbedingungen. Also for the other above-mentioned leading aberrations asserted corresponding compensation conditions.
Bei einer Ausführung nach Anspruch 2 ergibt sich die Möglichkeit einer Astigmatismuskompensation. Alternativ oder zusätzlich zu einer planparallelen Platte kann auch mindestens eine Transmissions-Komponente mit fokussierender oder defokussierender Wirkung, z. B. eine oder mehrere Linsen, beim Strahlenführungssystem zum Einsatz kommen. In an embodiment according to
Eine Keilplatte nach Anspruch 3 ermöglicht eine Kompensation von thermisch induzierten Komafehlern oder von Kippfehlern, also insbesondere eine Kompensation von hinsichtlich ihrer Rotationssymmetrie einzähligen Störungen. A wedge plate according to
Eine nach Anspruch 4 verkippbare Transmissions-Komponente ermöglicht eine gezielte Einstellung ihres Kompensationseinflusses. A tilting according to
Ein Kompensations-Oberflächenprofil nach Anspruch 5 ermöglicht eine Kompensation von stationären Strahlführungsfehlern. A compensation surface profile according to
ZnSe ist ein aufgrund seiner Transmissionseigenschaften geeignetes Material für die mindestens eine Transmissions-Komponente. Alternativ kann die Transmissions-Komponente aus ZnS, GaAs, Germanium, Silizium, Diamant oder anderen hinreichend transparenten Materialien gefertigt sein. ZnSe is a material suitable for its transmission properties for the at least one transmission component. Alternatively, the transmission component may be made of ZnS, GaAs, germanium, silicon, diamond or other sufficiently transparent materials.
Spiegel nach Anspruch 7 haben sich zur Führung von HochleistungsLaserstrahlung insbesondere im MIR-Bereich bewährt. Mirrors according to
Alternativ zu einem Umlenkspiegel nach Anspruch 8 kann auch mindestens ein Spiegel mit einer fokussierenden oder defokussierenden Wirkung zum Einsatz kommen. Es können also Konkavspiegel und/oder Konvexspiegel zum Einsatz kommen. Alternatively to a deflection mirror according to
Ein Gehäuse nach Anspruch 9 vermeidet eine Degradation der dort untergebrachten Transmissions-Komponenten durch Umgebungseinflüsse, z. B. durch Staub. Das Gehäuse kann evakuiert sein oder mit einem Schutzgas bzw. Inertgas gefüllt sein. Bei den Gehäusefenstern kann es sich um Diamantfenster handeln. Das Gehäuse verhindert zusätzlich im Falle einer thermisch induzierten Zerstörung des Kompensators eine Kontamination der Umgebung.A housing according to
Eine Ausgestaltung nach Anspruch 10 ermöglicht eine geregelte Kompensation der strahlinduzierten Änderungen an den Strahlführungseigenschaften des Strahlführungssystems. An embodiment according to
Die Vorteile einer Röntgenstrahlquelle nach Anspruch 11 entsprechen denen, die vorstehend unter Bezugnahme auf das erfindungsgemäße Strahlführungssystem bereits erläutert wurden. Die Laserlichtquelle der Röntgenstrahlquelle kann unterteilt sein in eine Vorpuls- und eine HauptpulsLaserlichtquelle. Die Wellenlängen des Vorpulses und des Hauptpulses können gleich, können aber auch unterschiedlich sein. The advantages of an X-ray source according to claim 11 correspond to those which have already been explained above with reference to the beam guidance system according to the invention. The laser light source of the X-ray source may be divided into a pre-pulse and a main pulse laser light source. The wavelengths of the pre-pulse and the main pulse may be the same but may be different.
Nachfolgend werden noch einige Erläuterungen zu vorteilhaften Ausgestaltungen des Strahlführungssystems und der Röntgenstrahlquelle gegeben:
Erfindungsgemäß wird das Problem dadurch gelöst, dass ein oder mehrere Komponenten aus ZnSe in das Strahlführungssystem eingebracht werden. Some explanations are given below for advantageous embodiments of the beam guidance system and the X-ray source:
According to the invention, the problem is solved by introducing one or more ZnSe components into the beam guiding system.
Dies folgt an Stellen im Strahlführungssystem, die bzgl. der Strahlungsbelastung für ZnSe unkritisch sind. Dies kann z. B. an Stellen in der Verstärkerkette geschehen in denen die Laserleistung noch auf moderatem Niveau ist, oder an entsprechend aufgeweiteten Stellen an denen die Laserintensität hinreichend gering ist. This follows at points in the beam guiding system that are not critical with respect to the radiation load for ZnSe. This can be z. B. happen in places in the amplifier chain in which the laser power is still at a moderate level, or at corresponding widened locations where the laser intensity is sufficiently low.
Ausgenutzt wird, dass durch die Temperaturabhängigkeit der Brechzahl von ZnSe, dieses Material bei Temperaturerhöhung eine fokussierende Wirkung auf den Laserstrahl hat und damit die indizierte, defokussierende Wirkung der Spiegel kompensieren kann. It is exploited that due to the temperature dependence of the refractive index of ZnSe, this material has a focussing effect on the laser beam when the temperature is increased and thus can compensate for the indexed, defocusing effect of the mirrors.
Die Größe dieses Effektes ist abhängig von der Dicke des Materials und der Laserleistung. The size of this effect depends on the thickness of the material and the laser power.
Da davon ausgegangen werden kann, dass sowohl der von den Spiegeln als auch der von einer ZnSe-Planparallelplatte induzierte Effekt mehr oder weniger linear in der Laserleistung ist, lässt sich für eine feste Konfiguration eine optimale ZnSe-Dicke bestimmen, die die laserinduzierten Fokuseffekte für beliebte Leistungen (größtenteils) kompensiert. Since it can be assumed that the effect induced by the mirrors as well as that of a ZnSe plane parallel plate is more or less linear in laser power, a fixed configuration can determine an optimal ZnSe thickness, which the laser-induced focus effects are popular for Services (largely) compensated.
Durch geeignetes Kippen einer solchen ZnSe-Platte mit geeigneter Dicke im Strahlengang, sollte sich – über den gleichen Mechanismus der in den Spiegeln Astigmatismus erzeugt –, auch ein kompensierendes Astigmatismusprofil erzeugen lassen, so dass auch der Astigmatismus des Gesamtsystems leistungsunabhängig kompensiert werden kann. By suitably tilting such a ZnSe plate with a suitable thickness in the beam path, it should also be possible-via the same mechanism of astigmatism generated in the mirrors-to produce a compensating astigmatism profile, so that the astigmatism of the entire system can be compensated independently of the power.
Thermisch induzierte Koma oder Kipp (einzählige Störungen) lassen sich durch Einbringen eines geeigneten Keiles aus ZnSe kompensieren. Thermally induced coma or Kipp (single disturbances) can be compensated by introducing a suitable wedge of ZnSe.
Zusätzliche lassen sich stationäre Strahlaberrationen, verursacht die Fassungs-, Kühl- und sonstige Effekte durch Aufprägen eines geeigneten Oberflächenprofils kompensieren. In addition, stationary beam aberrations, causing the framing, cooling and other effects can be compensated by imposing a suitable surface profile.
Im Idealfall ließen sich alle diese Kompensationsmechanismen in einem maßgeschneiderten gekippten ZnSe-Keil, definierter Dicke mit integriertem Korrekturprofil verwirklichen. Ideally, all of these compensation mechanisms could be realized in a customized tilted ZnSe wedge of defined thickness with integrated correction profile.
Eine Umsetzung der Erfindung ist natürlich auch auf andere Materialien und Wellenlängen verallgemeinerbar. Of course, an implementation of the invention is also generalizable to other materials and wavelengths.
Ein Aspekt der Erfindung lässt sich folgendermaßen formulieren: Strahlführungssystem für einen CO2-Laser, gekennzeichnet dadurch, dass von den Spiegeln thermisch induzierte Wellenfrontdeformationen durch eine Anordnung von plattenförmigen oder keilförmigen ZnSe-Elementen leistungsunabhängig kompensiert werden. One aspect of the invention can be formulated as follows: Beam guiding system for a CO2 laser, characterized in that thermally induced wavefront deformations are compensated for independently of performance by an array of plate-shaped or wedge-shaped ZnSe elements.
Ausführungsbeispiele embodiments
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend anhand der Zeichnung näher erläutert. In dieser zeigen:Embodiments of the invention will be explained in more detail with reference to the drawing. In this show:
Die Röntgenstrahlquelle
Die Röntgenstrahlquelle
Das Strahlführungssystem
Die Anordnung des mindestens einen Spiegels
Die strahlinduzierten Änderungen an den Strahlführungseigenschaften des mindestens einen Spiegels
Strahlinduzierte Änderungen an den Strahlführungseigenschaften der mindestens einen Transmissions-Komponente können sich durch strahlinduzierte Brechungsindexänderungen des Komponentenmaterials und ebenfalls durch eine Änderung einer Topographie der die Laserstrahlung
Die Transmissions-Komponente
Der mindestens eine Spiegel
Die mindestens eine Transmissions-Komponente
Bei der Ausführung nach
Anhand der
Bei der Ausführung nach
Bei der Ausführung nach
Eine Austrittsfläche
Claims (11)
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102009029605A1 (en) * | 2008-09-19 | 2010-04-29 | Gigaphoton, Inc. | An extreme ultraviolet light source device, a laser light source device for an extreme ultraviolet light source device, and a method of adjusting a laser light source device for an extreme ultraviolet light source device |
DE102009047105A1 (en) * | 2009-11-25 | 2011-05-26 | Trumpf Laser Gmbh + Co. Kg | Imaging device with reflective focusing optics |
US20110180734A1 (en) * | 2009-01-06 | 2011-07-28 | Gigaphoton Inc. | Extreme ultraviolet light source apparatus |
-
2012
- 2012-02-02 DE DE201210201557 patent/DE102012201557A1/en not_active Ceased
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102009029605A1 (en) * | 2008-09-19 | 2010-04-29 | Gigaphoton, Inc. | An extreme ultraviolet light source device, a laser light source device for an extreme ultraviolet light source device, and a method of adjusting a laser light source device for an extreme ultraviolet light source device |
US20110180734A1 (en) * | 2009-01-06 | 2011-07-28 | Gigaphoton Inc. | Extreme ultraviolet light source apparatus |
DE102009047105A1 (en) * | 2009-11-25 | 2011-05-26 | Trumpf Laser Gmbh + Co. Kg | Imaging device with reflective focusing optics |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
KOCH, R.: Self-adaptive optical elements for compensation of thermal lensing effects in diode end-pumped solid state lasers-proposal and preliminary experiments. In: Optics Communications, Vol. 140, 1997, Nr. 2, S. 158-164. - ISSN 0030-4018 * |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R012 | Request for examination validly filed | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R002 | Refusal decision in examination/registration proceedings | ||
R003 | Refusal decision now final | ||
R003 | Refusal decision now final |
Effective date: 20150217 |