DE102012110048B3 - Producing molding comprises providing composite of substrate and workpiece, coating with metallic conductive layer, embossing other structures in existing structures of workpiece by metallic conductive mold insert and cooling mold insert - Google Patents
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Abstract
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Herstellung eines Formkörpers, insbesondere eines Formkörpers, der mindestens zwei hierarchisch zueinander angeordnete Strukturebenen aufweist. Als hierarchisch wird ein Aufbau einer Struktur verstanden, bei dem mindestens eine Hierarchieebene derart auf eine vorhergehende Hierarchieebene folgt, dass die Strukturen der vorhergehenden Hierarchieebene jeweils das Substrat für die Strukturen der nachfolgenden Hierarchieebene bilden.The invention relates to a method and a device for producing a shaped body, in particular a shaped body, which has at least two hierarchically arranged structural planes. Hierarchical is understood to be a structure of a structure in which at least one hierarchical level follows a preceding hierarchical level in such a way that the structures of the preceding hierarchical level in each case form the substrate for the structures of the subsequent hierarchy level.
Die physikalische Ursache, wieso Geckos auf senkrechten Wänden und sogar an Decken laufen können, wurde in den letzten Jahren sehr intensiv untersucht, siehe K. Autumn, How Geckos Toes Stick, American Scientist 94, S. 124, 2006. Inzwischen ist bekannt, dass die Zehen von Geckos aus kleinen, sehr feinen Härchen, den sog. Setae, die aufgrund der van-der-Waals Kräfte auf jeder beliebigen Oberfläche haften, bestehen. Damit ein mehrere hundert Gramm schwerer Gecko an der Decke haften kann, sind auf die Setae, die als erste Hierarchieebene betrachtet werden, jeweils eine Vielzahl von nanostrukturierten Härchen, die als Spatulae bezeichnet werden, als zweite Hierarchieebene aufgebracht (siehe E. Arzt, S. Gorb und R. Spolenak, From micro to nano contacts in biological attachement devices, PNAS 100, S. 10603, 2003).The physical cause why geckos can walk on vertical walls and even on ceilings has been studied extensively in recent years, see K. Autumn, How Gecko's Toes Stick, American Scientist 94, p. 124, 2006. It is now known that the toes of geckos consist of small, very fine hairs, the so-called Setae, which adhere to any surface due to the van der Waals forces. In order for a gecko weighing several hundred grams to adhere to the ceiling, the setae, which are considered as the first hierarchical level, each have a multiplicity of nanostructured hairs called spatulas applied as the second hierarchical level (see E. Arzt, p. Gorb and R. Spolenak, From Micro to Nano Contacts in Biological Attachment Devices, PNAS 100, p. 10603, 2003).
Die Art der Ausgestaltung der Hierarchien ist für die Funktion der Setae entscheidend: Da die Haftung der Geckos maßgeblich auf den sog. Van-der-Waals-Kräften, d. h. vergleichsweise geringen und kurzreichweitigen Kräften, beruht, müssen sich die Härchen perfekt an raue Oberflächen anpassen, um eine hohe Kontaktfläche mit dem Untergrund zu erhalten. Die Setae bestehen jedoch aus β-Keratin, d. h. einem steifen Faserprotein mit einem Elastizitätsmodul zwischen 1 und 4 GPa. Um trotz dieses steifen Materials die notwendige Anpassungsfähigkeit zu gewährleisten, müssen die Härchen hierarchisch aufgebaut sein. Tatsächlich liegt der effektive Elastizitätsmodul der Setae, bedingt durch ihren hierarchischen Aufbau, bei lediglich 100 kPa und damit 4 Größenordnungen unterhalb des nicht strukturierten β-Keratins. Hierdurch sind die Setae sehr anschmiegsam, was eine hohe tatsächliche Kontaktfläche mit nahezu jedem Untergrund bewirkt.The nature of the structure of the hierarchies is crucial for the function of the setae: Since the liability of the geckos mainly on the so-called Van der Waals forces, d. H. comparatively low and short-range forces, the hairs must adapt perfectly to rough surfaces in order to obtain a high contact surface with the ground. The setae, however, consist of β-keratin, d. H. a stiff fiber protein with a modulus of elasticity between 1 and 4 GPa. To ensure the necessary adaptability despite this stiff material, the hairs must be hierarchical. In fact, due to their hierarchical structure, the effective modulus of elasticity of the setae is only 100 kPa, 4 orders of magnitude less than the unstructured β-keratin. As a result, the Setae are very cuddly, which causes a high actual contact surface with almost any surface.
Aus der
Anschließend werden die beiden Platten unter Beibehaltung der Temperatur auseinander gezogen, wodurch die Schicht an einer der beiden Platten haften bleibt, während sich an der anderen Platte eine Vielzahl von ersten Fäden ausbildet. Nach Aushärten des Kunststoffs wird ein Substrat, auf das eine Vielzahl von ersten Fäden aufgebracht ist, erhalten und zwischen zwei parallele, wärmeleitfähige Platten eingebracht. Nach Anlegen eines Pressdrucks und Aufheizen der beiden Platten auf eine Temperatur oberhalb des Glaspunkts werden die beiden Platten unter Beibehaltung der Temperatur auseinander gezogen, wodurch das Substrat an einer der beiden Platten haften bleibt, während sich an der anderen der beiden Platten eine Vielzahl von zweiten Fäden, deren Unterseiten jeweils fest mit der Oberfläche jedes ersten Fadens verbunden ist, ausbildet.Subsequently, the two plates are pulled apart while maintaining the temperature, whereby the layer adheres to one of the two plates, while forming on the other plate a plurality of first threads. After curing of the plastic, a substrate, on which a plurality of first threads is applied, obtained and introduced between two parallel, thermally conductive plates. After applying a pressing pressure and heating the two plates to a temperature above the glass point, the two plates are pulled apart while maintaining the temperature, whereby the substrate adheres to one of the two plates, while at the other of the two plates a plurality of second threads , whose undersides are each firmly connected to the surface of each first thread forms.
Ebenso zeigen M. P. Murphy, S. Kim, M. Sitti, Enhanced Adhesion by Gecko-Inspired Hierarchical Fibrillar Adhesives, ACS Appl. Materials & Interfaces 1, 849, 2009, die Herstellung eines technischen Formkörpers mit hierarchischen Strukturen. Hierbei wird die Aushärtung von gießbaren Zweikomponenten-Polyurethanen mittels Initiatoren ausgelöst. Die Herstellung der ersten Hierarchieebene erfolgt mit Hilfe geätzter Siliziumwafer, die zum Entformen in der Regel zerstört werden. Die Herstellung der zweiten Hierarchieebene erfolgt durch einen sogenannten Inking Prozess, beim dem die Enden der ersten Ebene in noch nicht ausgehärtetes Polyurethan getaucht werden, wonach die Enden auf einen geätzten Siliziumwafer aufgesetzt werden. Das noch flüssige Polyurethan auf den Enden der ersten Struktur wird nun über Kapillarwirkung in die Kavitäten des Formeinsatzes gezogen und härtet dort nach einiger Zeit aus. Zum Entformen der Hierarchieebene Ebene muss wiederum der Silizium-Wafer zerstört werden. Die kleinsten gezeigten Strukturen besitzen lediglich einen Durchmesser von 3 μm.Also, M.P. Murphy, S. Kim, M. Sitti, Enhanced Adhesion by Gecko-Inspired Hierarchical Fibrillar Adhesives, ACS Appl. Materials &
Ausgehend hiervon ist es die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren und eine hierfür geeignete Vorrichtung zur Herstellung eines Formkörpers, insbesondere eines Formkörpers, der mindestens zwei hierarchisch zueinander angeordnete Strukturebenen aufweist, vorzuschlagen, die die vorher genannten Nachteile und Einschränkungen nicht aufweisen.Proceeding from this, it is the object of the present invention to propose a method and a device suitable for this purpose for producing a shaped body, in particular a shaped body having at least two hierarchically arranged structural levels, which do not have the aforementioned disadvantages and limitations.
Insbesondere soll ein Verfahren bereitgestellt werden, mit dem sich auf möglichst einfache Weise eine Struktur aus mindestens zwei hierarchisch zueinander angeordnete Strukturebenen technisch herstellen lässt, mit der sich dadurch hohe tatsächliche Kontaktflächen mit nahezu jedem Untergrund erzielen lassen, dass die kleinsten Strukturen Durchmesser im Bereich von 50 nm bis 5 μm, insbesondere von 100 nm bis 1 μm aufweisen.In particular, a method is to be provided with which a structure of at least two hierarchically arranged structural levels can be technically produced in the simplest possible way, thereby achieving high actuality Contact surfaces with almost any surface can be achieved that the smallest structures have diameters in the range of 50 nm to 5 .mu.m, in particular from 100 nm to 1 micron.
Weiterhin soll eine Vorrichtung bereitgestellt werden, die sich zur Durchführung dieses Verfahren in besonderer Weise eignet.Furthermore, a device is to be provided which is particularly suitable for carrying out this method.
Diese Aufgabe wird in Bezug auf das Verfahren durch die Schritte des Anspruchs 1 und in Bezug auf die Vorrichtung durch die Merkmale des Anspruchs 9 gelöst. Die Unteransprüche beschreiben jeweils vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung.This object is achieved with respect to the method by the steps of
Die mindestens zwei hierarchisch zueinander angeordneten Strukturebenen werden durch ein modifiziertes Heißprägeverfahren nacheinander aufgebaut. Das erfindungsgemäße Verfahren weist hierzu die Verfahrensschritte a) bis d) auf.The at least two hierarchically arranged structural levels are built up in succession by a modified hot stamping process. For this purpose, the method according to the invention has the method steps a) to d).
Gemäß Schritt a) wird zunächst ein Verbund bereitgestellt, der ein Substrat und ein hierauf aufgebrachtes Werkstück aus einem thermoplastischen Kunststoff, wozu auch thermoplastische Elastomere und Formgedächtnis-Polymere gezählt werden, aufweist. Das Werkstück besitzt hierbei Strukturen, die eine Höhe h1 über das Werkstück herausragen. Für das erfindungsgemäße Verfahren eignen sich insbesondere die thermoplastischen Kunststoffe Polycarbonat, Polystyrol, Methylmethacrylat/Acrylnitril/Butadien/Styrol-Polymer (MABS-Polymerisate), Cyclo-Olefin-Copolymere, Polymethylmethacrylat, Polylactide, und Polytetrafluorethylene.According to step a), first of all a composite is provided which has a substrate and a workpiece applied thereon made of a thermoplastic, which also includes thermoplastic elastomers and shape memory polymers. The workpiece here has structures that protrude a height h 1 over the workpiece. Particularly suitable for the process of the invention are the thermoplastics polycarbonate, polystyrene, methyl methacrylate / acrylonitrile / butadiene / styrene polymer (MABS polymers), cyclo-olefin copolymers, polymethyl methacrylate, polylactides, and polytetrafluoroethylene.
In einer bevorzugten Ausgestaltung wird hierzu mit einem ersten Formeinsatz, der erste Kavitäten aufweist, die vorzugsweise in Form von Mikrostrukturen in den ersten Formeinsatz eingebracht sind, eine erste Hierarchieebene in das Werkstück heißgeprägt. Entscheidend ist, dass das Heißprägen bei einer Temperatur oberhalb der Glasübergangstemperatur Tg des thermoplastischen Kunststoffs und das anschließende Abkühlen des ersten Formeinsatzes unterhalb von Tg erfolgen, bevor der Verbund abschließend aus dem ersten Formeinsatz entformt wird.In a preferred embodiment, a first mold insert, which has first cavities, which are preferably introduced into the first mold insert in the form of microstructures, is hot-stamped into the workpiece with a first mold insert. It is crucial that the hot embossing at a temperature above the glass transition temperature T g of the thermoplastic material and the subsequent cooling of the first mold insert below T g occur before the composite is finally removed from the first mold insert.
Die reproduzierbare Herstellung erfindungsgemäß hergestellter Strukturen mit mindestens zwei, bevorzugt mindestens drei Hierarchieebenen erfordert während des Prägens ein exaktes Antasten an die bereits bestehenden Strukturen. Da die Strukturen teilweise nur wenige Mikrometer hoch sind, muss die Genauigkeit des Antastens im Submikrometerbereich liegen. Die unvorhersehbare Temperaturausdehnung der Maschine und des Bauteils sowie die Fertigungstoleranzen (Restschichtdicke) erfordern ein sehr flexibles, und von der Höhe der Strukturen unabhängige Nachweisverfahren. Diese Voraussetzungen erfüllen weder optische noch kraftbasierte Nachweisverfahren mit vertretbarem Aufwand.The reproducible production of structures produced according to the invention having at least two, preferably at least three levels of hierarchy requires exact contacting with the already existing structures during embossing. Since the structures are sometimes only a few micrometers high, the accuracy of the attack must be in the submicrometer range. The unpredictable temperature expansion of the machine and the component and the manufacturing tolerances (residual layer thickness) require a very flexible, and independent of the height of the structures detection method. These requirements fulfill neither optical nor force-based detection methods with reasonable effort.
Optische Messvorrichtungen müssten ständig auf die Struktur ausgerichtet werden, ein Vorgehen, das für Mikro- und Nanostrukturen nicht zielführend ist. Darüber hinaus müssten solche Messvorrichtungen Temperaturen bis mindestens 450°C standhalten.Optical measuring devices would have to be constantly aligned with the structure, a procedure that is not effective for micro- and nanostructures. In addition, such measuring devices would have to withstand temperatures of at least 450 ° C.
Eine kraftbasierte Messvorrichtung müsste dagegen eine Auflösung im Bereich von wenigen μN besitzen und sich direkt hinter dem Formeinsatz befinden, um möglichst wenige Störgrößen zu messen. Dennoch sind die abgeschätzten Störgrößen immer noch zu groß, um den Kontakt zwischen Formeinsatz und Struktur zu detektieren. Gleichzeitig wirken während des Prägeprozesses Kräfte von bis zu 1000 kN. Diese enormen Kräfte würden eine solche Messvorrichtung schlicht zerstören.In contrast, a force-based measuring device would have to have a resolution in the range of a few μN and be located directly behind the mold insert in order to measure as few disturbing variables as possible. Nevertheless, the estimated disturbances are still too large to detect the contact between the mold insert and the structure. At the same time, forces of up to 1000 kN act during the stamping process. These enormous forces would simply destroy such a measuring device.
Erfindungsgemäß erfolgt die reproduzierbare Herstellung hierarchisch angeordneter Mikro- und Nanostrukturen mittels einer elektrischen Widerstandsmessung. Hierzu werden gemäß Schritt b) einzelne, bereits bestehende, Mikrostrukturen mit einer metallisch leitfähigen Schicht, bevorzugt einer Goldschicht, die eine Dicke von 1 nm bis 200 nm, bevorzugt von 5 nm bis 100 nm, besonders bevorzugt von 10 nm bis 25 nm, aufweist, überzogen (vergoldet), was genügt, um sie dadurch elektrisch leitfähig zu machen. Während des Verfahrens wird vorzugsweise ständig, zumindest jedoch während Schritt c) und, falls dieser durchgeführt wird, auch während Schritt e), der elektrische Widerstand zwischen dem jeweils eingesetzten metallisch leitfähigen Formeinsatz sowie den vergoldeten Mikrostrukturen (Referenzstrukturen) gemessen. Hierzu muss die metallisch leitfähige Schicht mit einem elektrisch leitfähigen Ableiter verbunden sein, der einen elektrischen Kontakt zum eingesetzten Formeinsatz ermöglicht. Berührt der Formeinsatz während des Annäherns die Strukturen, fällt der elektrische Widerstand schlagartig ab. Das Einprägen erfolgt hieran anschließend für eine bestimmte Zeit, nachdem der elektrische Widerstand unter einen vorher definierten Grenzwert abgefallen ist, indem während dieser Zeit der Formeinsatz neue Strukturen in die bereits bestehenden, über Tg erhitzten Strukturen einprägt.According to the invention, the reproducible production of hierarchically arranged microstructures and nanostructures takes place by means of an electrical resistance measurement. For this purpose, according to step b), individual, already existing, microstructures having a metallically conductive layer, preferably a gold layer, having a thickness of 1 nm to 200 nm, preferably from 5 nm to 100 nm, particularly preferably from 10 nm to 25 nm coated (gilded), which is enough to make them electrically conductive. During the process, the electrical resistance between the respectively used metallically conductive mold insert and the gold-plated microstructures (reference structures) is preferably measured continuously, but at least during step c) and, if this is carried out, also during step e). For this purpose, the metallically conductive layer must be connected to an electrically conductive arrester, which allows electrical contact with the mold insert used. If the mold insert touches the structures during the approach, the electrical resistance drops abruptly. The embossing is then carried out for a certain time after the electrical resistance has dropped below a predefined limit, during which time the mold insert imprints new structures into the already existing structures heated above T g .
Eine geeignete Platzierung der Referenzstrukturen ermöglicht außerdem die Prozessüberwachung. Auf großen Flächen können selbst kleinste Keilfehler zwischen dem jeweils eingesetzten Formeinsatz und der bestehenden Struktur zu einem ungleichmäßigen Prägeergebnis auf der zugehörigen Hierarchieebene führen. Grund dafür ist, dass Teilbereiche nicht miteinander in Kontakt kommen, während andere zerdrückt werden. Mittels drei Referenzstrukturen, die vorzugsweise möglichst gleichmäßig kreisförmig um den Mittelpunkt des Werkstücks angeordnet sind, lassen sich solche Fehler leicht entdecken und korrigieren.Proper placement of the reference structures also enables process monitoring. On large areas, even the smallest wedge errors between the mold insert used in each case and the existing structure can lead to an uneven embossing result on the associated hierarchical level. This is because portions do not come in contact while others are crushed. By means of three Reference structures, which are preferably arranged as uniformly as possible circularly around the center of the workpiece, such errors can be easily detect and correct.
Gemäß Schritt c) wird im Anschluss an Schritt b) mit einem metallischen Formeinsatz, der Kavitäten aufweist, deren mittlerer Durchmesser um mindestens einen Faktor 2, in besonderen Fällen auch um einen Faktor 100 oder höher, gegenüber den bereits ausgebildeten Strukturen im Werkstück geringer ist, eine weitere Hierarchieebene auf die bereits bestehenden Strukturen der vorhergehenden Hierarchieebene im Werkstück aufgeprägt. Hierdurch werden die Strukturen der vorhergehenden Hierarchieebene an deren Ende abgeflacht, was zu einer charakteristischen pilzförmigen Struktur führt, die sich positiv auf die Haftfähigkeit auswirkt, indem sie zu einer Vergrößerung der Oberfläche führt und eine homogenisierte Krafteinleitung zulässt.According to step c), following step b) with a metallic mold insert having cavities whose average diameter is smaller by at least a factor of 2, in special cases also by a factor of 100 or higher, compared to the already formed structures in the workpiece, another hierarchical level is impressed on the already existing structures of the preceding hierarchy level in the workpiece. As a result, the structures of the preceding hierarchical level are flattened at the end, resulting in a characteristic mushroom-shaped structure, which has a positive effect on the adhesion, by leading to an increase in the surface and allows a homogenized force application.
Gemäß Schritt d) wird der Formeinsatz anschließend an Schritt c) auf eine Temperatur unterhalb von Tg abgekühlt und hieran anschließend der Verbund aus dem Substrat und dem modifizierten Werkstück, das sich auf dem Substrat befindet, aus dem Formeinsatz entformt.According to step d), the mold insert is subsequently cooled to a temperature below T g following step c), and then the composite of the substrate and the modified workpiece, which is located on the substrate, is removed from the mold insert.
In einer besonderen Ausgestaltung werden die Schritte c) und d) wiederholt, um auf diese weise eine weitere Hierarchieebene herzustellen. Hierzu kann es im Einzelfall erforderlich sein, die Referenzstrukturen auf dem Werkstück jeweils zuvor zu erneuern. Im Allgemeinen genügt beim Einsatz von vergoldeten Mikrostrukturen jedoch eine einmalige Aufbringung auch für mehrere Hierarchieebenen.In a particular embodiment, steps c) and d) are repeated in order to produce a further hierarchical level in this way. For this purpose, it may be necessary in individual cases to renew the reference structures on the workpiece in each case beforehand. In general, when using gold-plated microstructures, however, a single application is sufficient for several hierarchical levels.
In einer besonderen Ausgestaltung wird der gewünschte Formkörper mit einer besonderen letzten Hierarchieebene versehen, indem im Anschluss an Schritt d) gemäß den Schritten e) und f) ein Ziehverfahren angewandt wird. Hierzu wird ein besonderer metallisch leitfähiger Formeinsatz eingesetzt, der zumindest an denjenigen Stellen, an denen sich die Strukturen der vorhergehenden Hierarchieebene befinden, mit Nanostrukturen versehen ist.In a particular embodiment, the desired shaped body is provided with a particular last level of hierarchy by applying a drawing method following step d) according to steps e) and f). For this purpose, a special metallic conductive mold insert is used which is provided with nanostructures at least at those points where the structures of the preceding hierarchical level are located.
Gemäß Schritt e) wird analog zu Schritt c) die Nanostruktur aus dem nanostrukturierten Formeinsatz in die vorhergehende Hierarchieebene eingeprägt: Allerdings wird im abschließenden Schritt f) der Verbund aus dem Substrat und dem sich hierauf befindlichen zuletzt modifizierten Werkstück oberhalb von Tg aus dem nanostrukturierten Formeinsatz kleinste Fäden aus den zuvor geprägten Strukturen herausgezogen.According to step e) is analogous to step c) is impressed, the nanostructure of the nanostructured form used in the previous level of the hierarchy: However, it is in the final step f) of the composite from the substrate and which then finally disposed modified workpiece above the T g of the nano-structured mold insert smallest threads pulled out of the previously embossed structures.
Das erfindungsgemäße Verfahren eignet sich für die Herstellung hierarchischer Mikro- und Nanostrukturen, insbesondere für optische Elemente, integrierte Fluidikchips, Resonatoren, sowie für die Herstellung hierarchischer Gecko-Strukturen, die als Haftvorrichtung, insbesondere als Klebebänder oder Pflaster, dienen können.The method according to the invention is suitable for the production of hierarchical microstructures and nanostructures, in particular for optical elements, integrated fluidic chips, resonators, as well as for the production of hierarchical gecko structures which can serve as adhesion devices, in particular as adhesive tapes or patches.
Es hat sich gezeigt, dass ohne das hochpräzise Antasten von Mikro- und Nanostrukturen während des Replikationsprozesses hierarchische Mikro- und Nanostrukturen schlichtweg nicht reproduzierbar herzustellen sind. Das erfindungsgemäße Verfahren ermöglicht außerdem eine Verfahrenskontrolle durch eine ständige Überprüfung des Keilfehlers zwischen Formeinsatz und Struktur. Schließlich ist das erfindungsgemäße Verfahren skalierbar, kostengünstig und damit massentauglich.It has been shown that without the high-precision probing of micro- and nanostructures during the replication process hierarchical micro- and nanostructures are simply irreproducible to produce. The inventive method also allows a process control by a constant check of the wedge error between mold insert and structure. Finally, the method according to the invention is scalable, cost-effective and thus mass-suitable.
Die Erfindung wird im Folgenden anhand von Ausführungsbeispielen und den Figuren näher erläutert. Es zeigen:The invention is explained in more detail below with reference to exemplary embodiments and the figures. Show it:
In
In
Während des Einprägevorgangs wird die Goldschicht
Das Analogeingangsmodul gibt während der Messung einen bekannten Strompuls I über die Stromquelle
In
Schließlich zeigt
In
Sowohl die elektrisch isolierende Schicht
Die
BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS
- 1010
- Substratsubstratum
- 11, 11', 11''11, 11 ', 11' '
- Verbundcomposite
- 20, 20', 20'', 20'''20, 20 ', 20' ', 20' ''
- Werkstückworkpiece
- 211, 212, 213 usw.211, 212, 213 etc.
- Strukturen auf dem WerkstückStructures on the workpiece
- 221221
- Fädenthreads
- 31, 3231, 32
- (mikrostrukturierte) Formeinsätze(microstructured) mold inserts
- 311, 312, 313, 321 usw.311, 312, 313, 321 etc.
- Kavitäten in den FormeinsatzenCavities in the mold inserts
- 3333
- nanostrukturierter Formeinsatznanostructured mold insert
- 4040
- metallisch leitfähige Schicht (Goldschicht)metallic conductive layer (gold layer)
- 41, 4241, 42
- Ableiter; Leitungsdrähte für die Spannungsmessungarrester; Conductor wires for voltage measurement
- 43, 4443, 44
- Leitungsdrähte für die StromquelleWires for the power source
- 4545
- Einrichtung zur SpannungsmessungDevice for voltage measurement
- 4646
- Stromquellepower source
- 5050
- isolierende Schicht (Kapton)insulating layer (Kapton)
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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R012 | Request for examination validly filed | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
R020 | Patent grant now final | ||
R020 | Patent grant now final |
Effective date: 20150217 |
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R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |