DE102011085088A1 - Micromechanical acceleration sensor for electronic stability program (ESP) system installed motor car, has two rocker arms whose length and mass is different - Google Patents

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Abstract

The micromechanical acceleration sensor (10) has a pivotally mounted rocker (20) with rocker arms (30,40). The rocker arms are supported by a spring mechanism (21). The length and masses of the two rocker arms are different. A recess (50) is formed in a substrate (60) below the rocker arm (30). A capacitor electrode (90) is arranged in the recess which corresponds to the spacing between the rocker and the substrate.

Description

Die Erfindung betrifft einen mikromechanischen Z-Beschleunigungssensor.The invention relates to a micromechanical Z-acceleration sensor.

Stand der TechnikState of the art

Moderne Sensoren zur Messung von physikalischer Beschleunigung weisen üblicherweise eine mikromechanische Struktur aus Silizium (Sensorkern) und eine Auswerteelektronik auf. Sensorkerne, die es ermöglichen, eine Beschleunigung in einer Richtung orthogonal zu einer Hauptebene des Sensorkerns zu messen, werden als Z-Sensoren bezeichnet. Derartige Sensoren werden im Kraftfahrzeugbereich beispielsweise in ESP-Systemen oder auch im Bereich der Mobiltelefonie benutzt.Modern sensors for measuring physical acceleration usually have a micromechanical structure made of silicon (sensor core) and evaluation electronics. Sensor cores that allow acceleration in a direction orthogonal to a major plane of the sensor core to be measured are referred to as Z-sensors. Such sensors are used in the automotive sector, for example in ESP systems or in the field of mobile telephony.

Das genannte Sensorprinzip wird beispielsweise in Kapitel 6 der Dissertation „Oberflächenmikromechanik-Sensoren als elektrische Teststrukturen zur Charakterisierung ihrer Herstellungsprozesse“; Maute, Matthias; Universität Tübingen 2003 näher beschrieben.The aforementioned sensor principle is described, for example, in Chapter 6 of the dissertation "Surface micromechanical sensors as electrical test structures to characterize their manufacturing processes"; Maute, Matthias; University of Tübingen 2003 described in more detail.

EP 0 244 581 offenbart einen mikromechanischen Sensor zu einer selbsttätigen Auslösung von Insassenschutzvorrichtungen. EP 0 244 581 discloses a micromechanical sensor for automatic deployment of occupant protection devices.

EP 0 773 443 B1 offenbart einen mikromechanischen Beschleunigungssensor. DE 10 2006 058 747 A1 offenbart einen mikromechanischen Z-Sensor mit einer Massestruktur, bei der sich ein Einfluß von Prozessschwankungen während der Herstellung auf eine Empfindlichkeit des Sensors weniger stark auswirkt. EP 0 773 443 B1 discloses a micromechanical acceleration sensor. DE 10 2006 058 747 A1 discloses a micromechanical Z-sensor with a ground structure in which an influence of process variations during production on a sensitivity of the sensor has less effect.

Offenbarung der ErfindungDisclosure of the invention

Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen mikromechanischen Z-Beschleunigungssensor mit erhöhter Anschlagsbeschleunigung bereitzustellen.It is the object of the present invention to provide a micromechanical Z-acceleration sensor with increased impact acceleration.

Die Aufgabe wird gelöst mit einem mikromechanischen Z-Beschleunigungssensor, aufweisend eine mittels zweier Federeinrichtungen drehbar gelagerte Wippe, wobei Arme der Wippe unterschiedliche Massen aufweisen, dadurch gekennzeichnet, dass freie Weglängen der Arme unterschiedlich lang sind.The object is achieved with a micromechanical Z-acceleration sensor, comprising a rocker rotatably mounted by means of two spring devices, wherein arms of the rocker have different masses, characterized in that free path lengths of the arms are of different lengths.

Durch das Bereitstellen von unterschiedlichen Weglängen für die beiden Arme der Wippe ist es mittels des erfindungsgemäßen mikromechanischen Z-Beschleunigungssensors möglich, auf einfache Weise eine erhöhte Anschlagsbeschleunigung bereitzustellen.By providing different path lengths for the two arms of the rocker, it is possible by means of the micromechanical Z-acceleration sensor according to the invention to provide an increased impact acceleration in a simple manner.

Eine bevorzugte Ausführungsform des erfindungsgemäßen mikromechanischen Z-Beschleunigungssensors ist dadurch gekennzeichnet, dass ein unterhalb von einem der Arme angeordneter Bereich, der zu einem Anschlagen des Arms vorgesehen ist, als eine Vertiefung in einem Substrat ausgebildet ist. Ein Bereitstellen der Vertiefung im Substrat ist eine einfache Möglichkeit, um für einen der Arme der Wippe eine größere freie Weglänge zu ermöglichen um dadurch eine erhöhte Anschlagsbeschleunigung zu erzielen.A preferred embodiment of the micromechanical Z acceleration sensor according to the invention is characterized in that a region arranged below one of the arms and intended for striking the arm is formed as a depression in a substrate. Providing the recess in the substrate is an easy way to allow for one of the arms of the rocker a greater free path to thereby achieve an increased impact acceleration.

Eine weitere bevorzugte Ausführungsform des erfindungsgemäßen mikromechanischen Z-Beschleunigungssensors ist dadurch gekennzeichnet, dass ein Ausmaß der Vertiefung vorzugsweise ungefähr einem Abstand zwischen der Wippe und dem Substrat entspricht. Mit diesen geometrischen Abmessungen wird vorteilhaft ein günstiger Kompromiss zwischen einer erhöhten Anschlagsbeschleunigung und einem prozesstechnischen Zusatzaufwand zur Herstellung der Vertiefung im Substrat erreicht.A further preferred embodiment of the micromechanical Z acceleration sensor according to the invention is characterized in that an extent of the depression preferably corresponds approximately to a distance between the rocker and the substrate. With these geometric dimensions, a favorable compromise between an increased impact acceleration and a process-technical additional effort for producing the depression in the substrate is advantageously achieved.

Eine bevorzugte Ausführungsform des mikromechanischen Z-Beschleunigungssensors ist dadurch gekennzeichnet, dass in der Vertiefung keine Kondensatorelektrode angeordnet ist. Durch das Weglassen der Kondensatorelektrode kann auf einfache Weise die freie Weglänge für einen der Arme der Wippe noch weiter erhöht und dadurch die Anschlagsbeschleunigung weiter erhöht sein.A preferred embodiment of the micromechanical Z-acceleration sensor is characterized in that no capacitor electrode is arranged in the depression. By omitting the capacitor electrode, the free path length for one of the arms of the rocker can be further increased in a simple manner, thereby further increasing the impact acceleration.

Eine bevorzugte Ausführungsform des mikromechanischen Z-Beschleunigungssensors ist dadurch gekennzeichnet, dass die Arme unterschiedlich lang oder im Wesentlichen gleichlang sind. Dadurch wird auf einfache Weise ein Gestaltungsspielraum für den Z-Beschleunigungssensor insofern erhöht, als die massenmässige Asymmetrie der Arme der Wippe auf unterschiedliche Arten bereitgestellt werden kann.A preferred embodiment of the micromechanical Z-acceleration sensor is characterized in that the arms have different lengths or essentially the same length. As a result, a design freedom for the Z-acceleration sensor is increased in a simple manner insofar as the mass asymmetry of the arms of the rocker can be provided in different ways.

Die Erfindung wird nachfolgend mit weiteren Merkmalen und Vorteilen anhand von drei Figuren erläutert. Die Figuren sind vor allem dazu gedacht, die erfindungswesentlichen Prinzipien zu verdeutlichen.The invention will be explained below with further features and advantages with reference to three figures. The figures are primarily intended to illustrate the principles essential to the invention.

In den Figuren zeigt:In the figures shows:

1 einen herkömmlichen mikromechanischen Z-Beschleunigungssensor in einer Drauf- und einer Seitenansicht; 1 a conventional micromechanical Z-acceleration sensor in a plan and a side view;

2A eine Ausführungsform eines erfindungsgemäßen mikromechanischen Z-Beschleunigungssensors in Ruhelage in Seitenansicht; und 2A an embodiment of a micromechanical Z-acceleration sensor according to the invention in rest position in side view; and

2B eine Ausführungsform eines erfindungsgemäßen mikromechanischen Z-Beschleunigungssensor in Anschlagslage in Seitenansicht. 2 B an embodiment of a micromechanical Z-acceleration sensor according to the invention in stop position in side view.

1 zeigt stark vereinfacht einen mikromechanischen Z-Beschleunigungssensor gemäß Stand der Technik in einer Draufsicht (obere Darstellung) und in einer Seitenansicht (untere Darstellung). Der mikromechanische Z-Beschleunigungssensor 10 weist eine perforierte bewegliche flache Wippe 20 auf. Die Perforierung der Wippe 20 ist aufgrund von Ätzprozessen herstellungsbedingt und überzieht den Wippenbereich vollständig, wobei in der Draufsicht von 1 die Perforierung der Wippe 20 lediglich in der linken oberen Ecke der Wippe 20 angedeutet ist. Mittels zweier Federeinrichtungen 21, die vorzugsweise als Torsionsfedern mit einer definierten Steifigkeit ausgebildet sind, ist die Struktur der Wippe 20 an einem Silizium-Substrat 60 dreh- /tordierbar gelagert bzw. an diesem aufgehängt. Arme 30, 40 der Wippe 20 sind dabei bezüglich einer Torsionsachse, die von den Federeinrichtungen 21 gebildet wird, hinsichtlich ihrer physikalischen Massen asymmetrisch ausgestaltet. Die Asymmetrie kann bei im Wesentlichen gleichlangen Armen 30, 40 (Geometrische Symmetrie) durch eine asymmetrische Masseverteilung der Arme 30, 40 (z.B. durch unterschiedliche Perforierungen der Arme 30, 40 oder durch unterschiedliche Dicken der beiden Arme 30, 40) ausgebildet sein. Die Asymmetrie kann aber zusätzlich oder alternativ auch durch eine Asymmetrie einer Geometrie der beiden Arme 30, 40 (z.B. unterschiedliche Armlängen) ausgestaltet sein. 1 shows in a highly simplified manner a micromechanical Z acceleration sensor according to the prior art in a plan view (top view) and in a side view (bottom view). The micromechanical Z acceleration sensor 10 has a perforated movable flat rocker 20 on. The perforation of the seesaw 20 is due to production due to etching processes and completely covers the rocker area, wherein in the plan view of 1 the perforation of the seesaw 20 only in the upper left corner of the rocker 20 is indicated. By means of two spring devices 21 , which are preferably designed as torsion springs with a defined stiffness, is the structure of the rocker 20 on a silicon substrate 60 mounted rotatable / twistable or hung on this. poor 30 . 40 the seesaw 20 are with respect to a torsion axis of the spring devices 21 is formed, designed asymmetrically with respect to their physical masses. The asymmetry can be at arms of the same length 30 . 40 (Geometric symmetry) by an asymmetric mass distribution of the arms 30 . 40 (eg by different perforations of the arms 30 . 40 or by different thicknesses of the two arms 30 . 40 ) be formed. However, the asymmetry may additionally or alternatively also be due to an asymmetry of a geometry of the two arms 30 . 40 (eg different arm lengths) be configured.

In 1 ist die genannte Asymmetrie durch unterschiedliche Längen der beiden Arme 30, 40 der Wippe 20 angedeutet (langer Arm 30, kurzer Arm 40). Als Folge einer orthogonal zu einer Hauptebene der Wippe 20 wirkenden Beschleunigung (vertikale Beschleunigung) kann die Struktur der Wippe 20 aufgrund der Asymmetrie der beiden Arme 30, 40 um die Torsionsachse tordieren. Die Wippe 20 wird durch eine elektronische Schaltung (nicht dargestellt) auf einem elektrischen Potential CM gehalten, unterhalb der Wippe 20 angeordnete Elektroden 70, 80, die für Messzwecke verwendet werden, sind auf elektrischen Potentialen C1 bzw. C2 gehalten. Unterhalb des langen Arms 30 ist auf dem Substrat 60 ferner eine Elektrode 90 angeordnet, die ebenfalls auf dem elektrischen Potential CM gehalten wird. Mehrere mechanische Anschläge 22 im Substrat 60 sollen sicherstellen, dass die Wippenstruktur bei Überlast an definierten Punkten an das Substrat 60 anschlägt und sollen verhindern, dass die Wippe 20 bei seitlichen Überlastbeschleunigungen eine kritische Auslenkung erreicht bzw. überschreitet. Auf diese Weise soll der Sensor wirksam vor einer mechanischen Überbelastung in der Hauptebene mit daraus resultierender Beschädigung geschützt werden. In der Seitenansicht von 1 ist ferner eine Anbindung 100 der Wippe 20 an das darunterliegende Substrat 60 durch strichlierte Linien angedeutet.In 1 is the aforementioned asymmetry due to different lengths of the two arms 30 . 40 the seesaw 20 indicated (long arm 30 , short arm 40 ). As a result of orthogonal to a main plane of the rocker 20 acting acceleration (vertical acceleration) can change the structure of the rocker 20 due to the asymmetry of the two arms 30 . 40 twist around the torsion axis. The seesaw 20 is held by an electronic circuit (not shown) at an electrical potential CM, below the rocker 20 arranged electrodes 70 . 80 , which are used for measurement purposes, are kept at electrical potentials C1 and C2, respectively. Below the long arm 30 is on the substrate 60 further an electrode 90 arranged, which is also held at the electrical potential CM. Several mechanical stops 22 in the substrate 60 To ensure that the rocker structure in case of overload at defined points to the substrate 60 strikes and should prevent the rocker 20 at lateral overload accelerations reaches or exceeds a critical deflection. In this way, the sensor should be effectively protected against mechanical overload in the main plane with resulting damage. In the side view of 1 is also a connection 100 the seesaw 20 to the underlying substrate 60 indicated by dashed lines.

Eine Neigungsänderung der Wippe 20 wird mittels einer elektronischen Auswerteeinrichtung (nicht dargestellt) durch eine Erfassung und Auswertung von Ladungsänderungen auf den Elektroden 70, 80 detektiert. Auf diese Art kann die auf den mikromechanischen Z-Beschleunigungssensor 10 wirkende vertikale Beschleunigung ermittelt werden. Eine Auslenkung des Arms 30 nach unten wird dabei durch eine Oberfläche des Substrats 60 bzw. durch die am Substrat 60 angeordnete Kondensatorelektrode 90 limitiert, wodurch der Arm 30 bereits bei einer relativ geringen Vertikalbeschleunigung an die Elektrode 90 anschlägt (in 1 nicht dargestellt).A change in inclination of the rocker 20 is by means of an electronic evaluation device (not shown) by a detection and evaluation of changes in charge on the electrodes 70 . 80 detected. In this way, the on the micromechanical Z-acceleration sensor 10 acting vertical acceleration are determined. A deflection of the arm 30 down is thereby through a surface of the substrate 60 or through the substrate 60 arranged capacitor electrode 90 limited, causing the arm 30 already at a relatively low vertical acceleration to the electrode 90 strikes (in 1 not shown).

Erfindungsgemäß ist nunmehr vorgesehen, dass unter dem Arm 30 der Wippe 20 eine Vertiefung 50 im Substrat 60 ausgebildet ist. 2A zeigt stark schematisiert eine Ausführungsform einer derartigen erfindungsgemäßen Vertiefung 50 unterhalb einer Wippe 20, die auf die oben erläuterten Arten asymmetrische Massen der Arme 30, 40 aufweist. Ein Ausmaß bzw. eine Absenkung der Vertiefung 50 entspricht vorzugsweise ungefähr einem Abstand zwischen der Wippe 20 und dem Substrat 60. In der Vertiefung 50 kann weiterhin die auf CM-Potential liegende Kondensatorelektrode 90 angeordnet sein. Denkbar ist allerdings auch, dass die Kondensatorelektrode 90 in der Vertiefung 50 fehlt, sodass auf diese Weise ein Ausmaß der Vertiefung 50 vergrößert ist, was eine Anschlagsbeschleunigung des mikromechanischen Z-Beschleunigungssensors vorteilhaft noch weiter erhöhen kann.According to the invention it is now provided that under the arm 30 the seesaw 20 a depression 50 in the substrate 60 is trained. 2A shows a highly schematic of an embodiment of such a recess according to the invention 50 below a seesaw 20 which, in the ways outlined above, produce asymmetrical masses of arms 30 . 40 having. An extent or a depression of the depression 50 preferably corresponds approximately to a distance between the rocker 20 and the substrate 60 , In the depression 50 can also be located on the CM potential capacitor electrode 90 be arranged. However, it is also conceivable that the capacitor electrode 90 in the depression 50 is missing, so in this way a degree of deepening 50 is increased, which can advantageously further increase a stop acceleration of the micromechanical Z-acceleration sensor.

Durch die Vertiefung 50 im Substrat 60 kann aufgrund der Tatsache, dass dadurch auch die Elektrode 90 abgesenkt wird, vorteilhaft eine verbesserte, weil störungsfreiere Ermittlung der Vertikalbeschleunigung durchgeführt werden. Dies lässt sich damit begründen, dass mit dieser Maßnahme elektrische Ladungen der Kondensatorelektrode 90, die störend auf die Kondensatorelektroden 70, 80 einwirken, aufgrund des vergrößerten Abstands zu den Kondensatorelektroden 70, 80 in ihrer Wirkung vermindert sind.Through the depression 50 in the substrate 60 may be due to the fact that this also causes the electrode 90 is lowered, advantageously an improved, because trouble-free determination of the vertical acceleration can be performed. This can be justified by the fact that with this measure electrical charges of the capacitor electrode 90 that interfere with the capacitor electrodes 70 . 80 act due to the increased distance to the capacitor electrodes 70 . 80 are reduced in their effect.

2B zeigt eine Ausführungsform des erfindungsgemäßen mikromechanischen Z-Beschleunigungssensors in Anschlagslage. Es ist erkennbar, dass aufgrund einer auf den Sensor nach unten wirkenden vertikalen Beschleunigung (aufgrund einer beschleunigten Aufwärtsbewegung des Sensors) der Arm 30 gegen die Vertiefung 50 im Substrat 60 angeschlagen ist. Aufgrund der gegenüber herkömmlichen mikromechanischen Z-Beschleunigungssensoren vergrößerten Weglänge kann der Arm 30 eine stärkere Auslenkung erfahren, bis er gegen das Anschlagsgebiet der Vertiefung 50 anschlägt. Im Ergebnis bedeutet dies eine gegenüber herkömmlichen mikromechanischen Z-Beschleunigungssensoren vergrößerte Anschlagsbeschleunigung. 2 B shows an embodiment of the micromechanical Z-acceleration sensor according to the invention in stop position. It can be seen that due to a vertical acceleration acting on the sensor (due to an accelerated upward movement of the sensor) the arm 30 against the depression 50 in the substrate 60 is struck. Due to the compared to conventional micromechanical Z-acceleration sensors increased path length of the arm 30 to experience a stronger deflection until it hits the stop area of the recess 50 strikes. As a result, this means an increased acceleration of the acceleration compared to conventional micromechanical Z acceleration sensors.

Die Anschlagsbeschleunigung ist ein wichtiger Parameter von Spezifikationen von mikromechanischen Z-Beschleunigungssensoren, welcher definiert, wie hoch eine nach oben gerichtete vertikale Beschleunigung sein darf, bis ein Wippenarm der Wippe gegen einen Anschlagsbereich anstößt. The impact acceleration is an important parameter of specifications of micro-mechanical Z acceleration sensors, which defines how high an upward vertical acceleration may be until a rocker arm of the rocker abuts against a stop region.

Mittels der Erfindung kann dieser Parameter vorteilhaft bedeutend erhöht sein.Advantageously, this parameter can be significantly increased by means of the invention.

Es versteht sich von selbst, dass die Seitenansichten der 1, 2A und 2B lediglich qualitativer Natur und vor allem dazu gedacht sind, die prinzipielle Wirkungsweise des erfindungsgemäßen mikromechanischen Z-Beschleunigungssensors 10 zu erläutern. Insbesondere sind die genannten Figuren nicht als maßstabsgetreu anzusehen.It goes without saying that the side views of the 1 . 2A and 2 B only qualitative in nature and especially intended to the principle of operation of the micromechanical Z-acceleration sensor according to the invention 10 to explain. In particular, the mentioned figures are not to be regarded as true to scale.

Zusammenfassend wird mittels der Erfindung ein mikromechanischer Z-Beschleunigungssensor vorgeschlagen, der mittels einer einfachen Maßnahme in Form eines vergrößerten Wippenweges aufgrund eines abgesenkten Anschlagsbereichs im Si-Substrat eine erhöhte Anschlagsbeschleunigung bereitstellt. Abhängig von einem Ausmaß einer Vertiefung unter einem der Arme der Wippenstruktur kann ein Ausmaß der Anschlagsbeschleunigung je nach Anforderung dimensioniert werden. Es versteht sich von selbst, dass die genannte Vertiefung 50 im Substrat 60 sowohl unterhalb des Arms 30 als auch unterhalb des Arms 40 der Wippe 20 ausgebildet sein kann.In summary, a micromechanical Z acceleration sensor is proposed by means of the invention, which provides an increased impact acceleration by means of a simple measure in the form of an enlarged rocker path due to a lowered stop area in the Si substrate. Depending on a degree of depression under one of the arms of the rocker structure, an amount of impact acceleration may be sized as required. It goes without saying that the said recess 50 in the substrate 60 both below the arm 30 as well as below the arm 40 the seesaw 20 can be trained.

Für den Fachmann versteht es sich von selbst, dass die beschriebenen Merkmale der Erfindung in beliebiger Weise miteinander kombiniert werden können, ohne vom Kern der Erfindung abzuweichen. Insbesondere ist es auch möglich, das erfindungsgemäße Prinzip auf andere Sensortechnologien, beispielsweise auf piezoresistive mikromechanische Beschleunigungssensoren anzuwenden.It will be understood by those skilled in the art that the described features of the invention may be combined with one another in any manner without departing from the gist of the invention. In particular, it is also possible to apply the principle according to the invention to other sensor technologies, for example to piezoresistive micromechanical acceleration sensors.

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

  • EP 0244581 [0004] EP 0244581 [0004]
  • EP 0773443 B1 [0005] EP 0773443 B1 [0005]
  • DE 102006058747 A1 [0005] DE 102006058747 A1 [0005]

Zitierte Nicht-PatentliteraturCited non-patent literature

  • „Oberflächenmikromechanik-Sensoren als elektrische Teststrukturen zur Charakterisierung ihrer Herstellungsprozesse“; Maute, Matthias; Universität Tübingen 2003 [0003] "Surface micromechanical sensors as electrical test structures to characterize their manufacturing processes"; Maute, Matthias; University of Tübingen 2003 [0003]

Claims (5)

Mikromechanischer Z-Beschleunigungssensor (10), aufweisend eine mittels zweier Federeinrichtungen (21) drehbar gelagerte Wippe (20), wobei Arme (30, 40) der Wippe (20) unterschiedliche Massen aufweisen, dadurch gekennzeichnet, dass freie Weglängen der Arme (30, 40) unterschiedlich lang sind.Micromechanical Z-acceleration sensor ( 10 ), comprising one by means of two spring devices ( 21 ) rotatably mounted rocker ( 20 ), where arms ( 30 . 40 ) of the rocker ( 20 ) have different masses, characterized in that free path lengths of the arms ( 30 . 40 ) are different in length. Mikromechanischer Z-Beschleunigungssensor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass ein unterhalb von einem der Arme (30, 40) angeordneter Bereich, der zu einem Anschlagen des Arms (30, 40) vorgesehen ist, als eine Vertiefung (50) in einem Substrat (60) ausgebildet ist.Micromechanical Z-acceleration sensor according to claim 1, characterized in that one below one of the arms ( 30 . 40 ) arranged area, which to a striking of the arm ( 30 . 40 ) is provided as a depression ( 50 ) in a substrate ( 60 ) is trained. Mikromechanischer Z-Beschleunigungssensor nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass ein Ausmaß der Vertiefung (50) vorzugsweise ungefähr einem Abstand zwischen der Wippe (20) und dem Substrat (60) entspricht.Micromechanical Z-acceleration sensor according to claim 1 or 2, characterized in that an extent of the recess ( 50 ) preferably about a distance between the rocker ( 20 ) and the substrate ( 60 ) corresponds. Mikromechanischer Z-Beschleunigungssensor nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass in der Vertiefung (50) keine Kondensatorelektrode angeordnet ist.Micromechanical Z-acceleration sensor according to one of claims 1 to 3, characterized in that in the recess ( 50 ) no capacitor electrode is arranged. Mikromechanischer Z-Beschleunigungssensor nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Arme (30, 40) unterschiedlich lang oder im Wesentlichen gleichlang sind.Micromechanical Z-acceleration sensor according to one of claims 1 to 4, characterized in that the arms ( 30 . 40 ) are different in length or substantially equal in length.
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JP2019104098A (en) * 2017-12-14 2019-06-27 三菱電機株式会社 Minute electronic mechanical device and inspection method thereof, acceleration sensor and movable mirror device

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