DE102011083419A1 - Electronic assembly, circuit board and process - Google Patents

Electronic assembly, circuit board and process Download PDF

Info

Publication number
DE102011083419A1
DE102011083419A1 DE102011083419A DE102011083419A DE102011083419A1 DE 102011083419 A1 DE102011083419 A1 DE 102011083419A1 DE 102011083419 A DE102011083419 A DE 102011083419A DE 102011083419 A DE102011083419 A DE 102011083419A DE 102011083419 A1 DE102011083419 A1 DE 102011083419A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
insulating layer
circuit board
layer
arrangement
assembly
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE102011083419A
Other languages
German (de)
Inventor
Christina Schindler
Jörg Zapf
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens AG filed Critical Siemens AG
Priority to DE102011083419A priority Critical patent/DE102011083419A1/en
Priority to PCT/EP2012/067128 priority patent/WO2013045215A1/en
Publication of DE102011083419A1 publication Critical patent/DE102011083419A1/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/0275Security details, e.g. tampering prevention or detection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/18High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/23Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process
    • H01L24/24Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process of an individual high density interconnect connector
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings
    • H05K3/284Applying non-metallic protective coatings for encapsulating mounted components
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/09Shape and layout
    • H05K2201/09209Shape and layout details of conductors
    • H05K2201/09218Conductive traces
    • H05K2201/09263Meander

Abstract

Erläutert wird eine Elektronische Baugruppe, enthaltend: – eine Leiterplatte, an oder in der mindestens zwei Leiterbahnen oder eine Vielzahl von Leiterbahnen angeordnet sind, – mindestens ein elektronisches Bauelement oder eine Vielzahl von Bauelementen, das oder die eine auf der Leiterplatte angeordnete elektronische Schaltung bilden, – eine die Schaltung bedeckende bzw. umgebenden Leiterbahnanordnung, – und eine Überwachungsschaltung, deren Eingänge mit der Leiterbahnanordnung elektrisch leitfähig verbunden sind, – eine elektrisch isolierende Isolierschicht an Seitenflächen des Bauelementes oder an Seitenflächen der Bauelemente, und wobei die Leiterbahnanordnung an der Isolierschicht angeordnet ist.An electronic subassembly is described, comprising: a printed circuit board on or in which at least two printed conductors or a multiplicity of printed conductors are arranged, at least one electronic component or a multiplicity of electronic components which form an electronic circuit arranged on the printed circuit board, - A circuit covering or surrounding trace arrangement, - and a monitoring circuit whose inputs are electrically conductively connected to the track arrangement, - an electrically insulating insulating layer on side surfaces of the component or on side surfaces of the components, and wherein the conductor arrangement is arranged on the insulating layer.

Description

Die Erfindung betrifft eine elektronische Baugruppe, eine Leiterplatte und ein Verfahren. Die elektronische Baugruppe enthält eine Leiterplatte, an oder in der mindestens zwei Leiterbahnen oder eine Vielzahl von Leiterbahnen angeordnet sind. Mindestens ein elektronisches Bauelement oder typischerweise eine Vielzahl von Bauelementen bilden eine auf der Leiterplatte angeordnete elektronische Schaltung. The invention relates to an electronic assembly, a printed circuit board and a method. The electronic module contains a printed circuit board on or in which at least two printed conductors or a plurality of printed conductors are arranged. At least one electronic component or typically a plurality of components form an electronic circuit arranged on the printed circuit board.

Elektrische Schaltungen können sicherheitsrelevante Informationen enthalten und müssen deshalb vor externen Manipulationen geschützt werden. Versuche, die Schaltung elektrisch zu manipulieren, müssen ebenso berücksichtigt werden wie chemische oder mechanische Manipulationen, z.B. mittels Bohren oder Laserablation. Daher wird die Schaltung mit einer Kontrolleinheit kombiniert, die dazu führt, dass sicherheitsrelevante Daten unwiderruflich gelöscht werden, falls der Fall einer externen Manipulation eintritt. Dieser Schutz muss möglichst einfach in den Fertigungsprozess der Schaltung integriert werden können und darf besonders bei miniaturisierten Schaltungen keinen hohen Platzbedarf haben. Electrical circuits may contain safety-relevant information and must therefore be protected against external manipulation. Attempts to electrically manipulate the circuit must be taken into account as well as chemical or mechanical manipulations, e.g. by drilling or laser ablation. Therefore, the circuit is combined with a control unit which results in irrevocably deleting security-relevant data in the event of an external manipulation. This protection must be as easy as possible to be integrated into the manufacturing process of the circuit and may not have a lot of space, especially in miniaturized circuits.

Elektrische Schaltungen könnten mittels Bohrschutzfolien vor externen Manipulationen geschützt. Nach der Herstellung würde die Baugruppe in einer Bohrschutzfolie dreidimensional verpackt werden. Die Folie würde elektrische Strukturen tragen, die mit der Baugruppe verbunden sind und bei Beschädigung zum Löschen sicherheitsrelevanter Daten führen. Nachteile wären die Sensitivität der metallischen Strukturen auf der Bohrschutzfolie und die daher geringe mechanische Stabilität, der Verpackungsprozess, der von Standard-Elektronikfertigungsprozessen abweicht, und die Größe der Verpackung. Electrical circuits could be protected by means of Bohrschutzfolien from external manipulation. After fabrication, the assembly would be packaged three-dimensionally in a drill protection film. The foil would carry electrical structures that are connected to the assembly and, if damaged, result in deletion of safety related data. Disadvantages would be the sensitivity of the metallic structures on the anti-drilling foil and therefore low mechanical stability, the packaging process, which deviates from standard electronic manufacturing processes, and the size of the package.

Alternativ könnte der Schutz gegen Manipulation über ein Gehäuse aus metallisch strukturierten Schaltungsträgern erfolgen, die ebenfalls mit der zu schützenden Baugruppe verbunden sind. Diese Variante wäre mechanisch stabiler und würde auch den Einsatz von Standardherstellungsprozessen erlauben. Die Variante wäre aber für miniaturisierte Aufbauten nicht geeignet und wäre zudem kostenintensiv. Alternatively, the protection against manipulation could be done via a housing of metallically structured circuit carriers, which are also connected to the module to be protected. This variant would be mechanically more stable and would also allow the use of standard manufacturing processes. The variant would not be suitable for miniaturized structures and would also be costly.

Somit besteht ein Bedürfnis nach einer weiteren Baugruppe, die gegen unberechtigten Zugriff geschützt ist. Die Baugruppe soll einfach herzustellen sind. Thus, there is a need for a further assembly that is protected against unauthorized access. The assembly should be easy to manufacture.

Diese Aufgabe wird durch eine Baugruppe nach Anspruch 1 gelöst. Weiterbildungen sind in den Unteransprüchen, der nachfolgenden Beschreibung und den Zeichnungen angegeben. This object is achieved by an assembly according to claim 1. Further developments are specified in the subclaims, the following description and the drawings.

Die Baugruppe kann eine die Schaltung umgebenden bzw. überdeckende Leiterbahnanordnung und eine Überwachungsschaltung enthalten, deren Eingänge mit der Leiterbahnanordnung elektrisch leitfähig verbunden sind. Die elektrisch isolierende Isolierschicht kann an Seitenflächen des Bauelementes oder an Seitenflächen der Bauelemente anliegen Die Leiterbahnanordnung kann an der Isolierschicht angeordnet werden. The module may include a circuit arrangement surrounding or covering the circuit arrangement and a monitoring circuit whose inputs are electrically conductively connected to the conductor arrangement. The electrically insulating insulating layer can rest on side surfaces of the component or on side surfaces of the components. The conductor arrangement can be arranged on the insulating layer.

Die Bauelemente erzeugen auf der Leiterplatte vorzugsweise:

  • – Höhenunterschiede größer als 50 Mikrometer, z.B. in Flip-Chip-Technik aufgebrachter integrierter Schaltkreis (Ball Grid Array o.ä.), oder
  • – größer als 200 Mikrometer, oder
  • – größer als 400 Mikrometer, z.B. SMD (Surface Mounted Device).
The components preferably generate on the circuit board:
  • - Height differences greater than 50 microns, for example, in flip-chip technology applied integrated circuit (Ball Grid Array or similar), or
  • - greater than 200 microns, or
  • - greater than 400 microns, eg SMD (Surface Mounted Device).

Ein Verfahren zum Herstellen der Baugruppe kommt ohne zusätzliche Spezialfolien aus, insbesondere ohne Spezialfolien, die schon Leiterbahnen enthalten. Viele der erforderlichen Prozesse sind außerdem in der Leiterplattenfertigung üblich und damit müssen diesbezüglich keine neuen Maschinen angeschafft werden. A method for producing the assembly does not require any additional special foils, in particular without special foils which already contain conductor tracks. Many of the required processes are also common in printed circuit board manufacturing and thus no new machines need to be purchased in this regard.

Die typischen Höhenunterschiede verhindern bzw. erschweren den Einsatz von vorgefertigten Folien, weil dann Leiterbahnbrüche bzw. Leiterbahnrisse auftreten können. Die Baugruppe kann aber mit hoher Zuverlässigkeit hergestellt werden, wenn die Isolierschicht und die Leiterbahnanordnung getrennt voneinander aufgebracht werden, was zum anliegen der Isolierschicht an den Seitenflächen der Bauelemente führt, insbesondere an einander abgewandten Seitenflächen eines Bauelementes bzw. an den einander abgewandten Seitenflächen des jeweiligen Bauelements. Insbesondere liegt die Isolierschicht auch an allen Seitenflächen eines Bauelements oder aller Bauelemente an. Die durch die Bauelemente zur Leiterplatte erzeugten Höhenunterschiede sind bevorzugt kleiner als 1 Millimeter, kleiner als 2 Millimeter oder kleiner als 3 Millimeter. The typical height differences prevent or complicate the use of prefabricated films, because then conductor breaks or conductor cracks may occur. However, the assembly can be made with high reliability, when the insulating layer and the wiring arrangement are applied separately, resulting in the abutment of the insulating layer on the side surfaces of the components, in particular on opposite side surfaces of a component or on the opposite side surfaces of the respective component , In particular, the insulating layer is also applied to all side surfaces of a component or all components. The differences in height produced by the components to the printed circuit board are preferably less than 1 millimeter, less than 2 millimeters or less than 3 millimeters.

Insbesondere enthält die Baugruppe keine Ausgleichsfolien, die speziell für jede Art von Baugruppe ausgestanzt werden müsste, und die separat einzusetzen wäre. Eine Ausgleichsfolie würde bei Vorhandensein eines gewissen Spiels bspw. immer nur an einer Seitenfläche eines Bauelementes anliegen und nicht an anderen Seitenflächen des Bauelements. Erst recht würde die Abstandsfolie nicht von einander abgewandten Seitenflächen eines Bauelements liegen, wie es bei der Erfindung der Fall ist. In particular, the assembly contains no compensation films that would have to be punched out specifically for each type of assembly, and would be used separately. In the presence of a certain play, for example, a compensation film would always rest only on one side face of a component and not on other side faces of the component. Even more so, the spacer film would not be facing away from each other side surfaces of a component, as is the case with the invention.

Die elektrisch isolierende Isolierschicht kann direkt an den Bauelementen angeordnet sein. Vorzugsweise enthält die Isolierschicht nur eine Schicht. Alternativ enthält die Isolierschicht mehrere isolierende Schichten. The electrically insulating insulating layer can be arranged directly on the components. Preferably, the insulating layer contains only one layer. Alternatively, the insulating layer contains a plurality of insulating layers.

Die Leiterbahnanordnung kann direkt an der Isolierschicht angeordnet werden. Die Leiterbahnanordnung enthält zweckmäßigerweise nur eine Metallschicht oder nur zwei Metallschichten unterschiedlicher Materialzusammensetzung. The conductor arrangement can be arranged directly on the insulating layer. The conductor arrangement expediently contains only one metal layer or only two metal layers of different material composition.

Die Isolierschicht kann auch an der der Leiterplatte abgewandten Seite an dem Bauelement oder an den Bauelementen angeordnet sein. Dieses strukturelle Merkmal ist die Folge einer Fertigung, bei der die Isolierschicht separat von der Leiterbahnanordnung aufgebracht wird, insbesondere durch Vergießen, Tauchen oder Laminieren. The insulating layer can also be arranged on the side facing away from the printed circuit board on the component or on the components. This structural feature is the result of a manufacturing process in which the insulating layer is applied separately from the printed conductor arrangement, in particular by casting, dipping or laminating.

Die Isolierschicht kann auf den Bauelementen so angeordnet sein, dass an einer dem Bauelement abgewandten Seite der Isolierschicht ebenfalls Höhenunterschiede größer als 50 Mikrometer oder größer als 200 Mikrometer oder größer als 400 Mikrometer auftreten. Die Leiterbahnanordnung kann an der Isolierschicht angeordnet sein, wobei an der Leiterbahnanordnung ebenfalls Höhenunterschiede größer als 50 Mikrometer oder größer als 200 Mikrometer oder größer als 400 Mikrometer auftreten. The insulating layer may be arranged on the components such that height differences greater than 50 micrometers or greater than 200 micrometers or greater than 400 micrometers also occur on a side of the insulating layer facing away from the component. The interconnect arrangement may be arranged on the insulating layer, wherein height differences greater than 50 micrometers or greater than 200 micrometers or greater than 400 micrometers also occur at the interconnect arrangement.

Somit gleicht die Isolierschicht die Höhenunterschiede bei dieser Variante nicht oder nur bedingt aus. Andererseits kann ein Isolierschicht mit gleichbleibender Dicke verwendet werden, wie es bei Folien der Fall ist. Thus, the insulating layer compensates for the height differences in this variant, or only partially. On the other hand, an insulating layer with a constant thickness can be used, as is the case with films.

Die Isolierschicht kann eine Kunststofffolie sein oder enthalten. Eine Kunststofffolie kann auf einfache Art hergestellt und auch einfach auf eine Topografie aufgebracht werden, bspw. unter Verwendung von Unterdruck oder Überdruck und Temperatur. Weil die Kunststofffolie keine Leiterbahnen enthält, ist sie besonderes anpassungsfähig an die Topografie. Typisch beim Verwenden einer Folie ist, dass sich die Isolierschicht nicht zwischen Bauelement und Leiterplatte befindet. The insulating layer may be or contain a plastic film. A plastic film can be produced in a simple manner and also easily applied to a topography, for example by using negative pressure or overpressure and temperature. Because the plastic film contains no tracks, it is particularly adaptable to the topography. It is typical when using a foil that the insulating layer is not between the component and the printed circuit board.

Die Isolierschicht kann aber auch eine auf die Leiterplatte gegossene Schicht sein, die dann ausgehärtet wurde. Typisch ist dann, dass das Material der Isolierschicht auch zwischen Bauelement und Leiterplatte fließt und damit dort angeordnet wird. The insulating layer may also be a cast onto the circuit board layer, which was then cured. It is then typical that the material of the insulating layer also flows between the component and the printed circuit board and is thus arranged there.

Die Höhenunterschiede werden hier durch die Verwendung von im fließfähigen Zustand aufgebrachten Isolierschichten ausgeglichen, so dass eine Oberfläche der Isolierschicht bspw. Höhenunterschiede hat, die kleiner als 50 Mikrometer sind, bzw. um mindesten 50 Prozent kleiner sind als eine durch das Bauelement bzw. durch die Bauelemente erzeugte Topografie. The height differences are compensated here by the use of applied in the flowable insulating layers, so that a surface of the insulating layer, for example, height differences that are smaller than 50 microns, or at least 50 percent smaller than one through the device or through the Components generated topography.

Die verringerte bzw. eingeebnete Topografie erleichtert das Aufbringen der Leiterbahnanordnung, insbesondere bei kleinen Strukturbreiten der Leiterbahnen von kleiner als 50 Mikrometer. Durch Vergießen oder Tauchen lassen sich größere Höhenunterschiede zwischen Leiterplatte und Bauelementen ausgleichen, insbesondere Höhenunterschiede größer als 200 Mikrometer aber kleiner als 3 Millimeter, kleiner als 2 Millimeter oder sogar kleiner als 1 Millimeter. The reduced or leveled topography facilitates the application of the conductor track arrangement, in particular for small structural widths of the conductor tracks of less than 50 micrometers. By casting or dipping larger differences in height between the circuit board and components can be compensated, in particular height differences greater than 200 microns but less than 3 millimeters, less than 2 millimeters or even less than 1 millimeter.

Bei dieser Ausgestaltung kann die Isolierschicht zu ihrem Rand hin abgeflacht sein, bspw. durch Verlaufen einer Gussmasse oder Tauchflüssigkeit oder durch Verwenden einer speziell ausgestalteten Gussform. Die Abflachung am Rand erleichtert das Aufbringen der Leiterbahnanordnung, weil keine Stufe vorhanden ist. In this embodiment, the insulating layer can be flattened towards its edge, for example by running a casting compound or immersion liquid or by using a specially designed mold. The flattening at the edge facilitates the application of the track arrangement, because there is no step.

Die Leiterbahnen der Leiterbahnanordnung können vorzugsweise in einem Gebiet angeordnet sein, das dem gesamten Gebiet der Leiterplatte oder mindestens 90 Prozent der Leiterplatte bzw. des zu schützenden Gebietes der Leiterplatte entspricht. Insbesondere können die Leiterbahnen der Leiterbahnanordnung mäanderförmig angeordnet. Mäanderförmig heißt hier, dass die Leiterbahnen ihre Richtung mehrmals um bspw. 180 Grad ändern. An Stelle von Mäandern können jedoch auch andere Kurvenformen verwendet werden, wie z.B. spiralförmige Verläufe bei denen ein Zentrum mit kontinuierlich größer werdendem Radius umkreist wird. The printed conductors of the printed conductor arrangement can preferably be arranged in an area which corresponds to the entire area of the printed circuit board or at least 90 percent of the printed circuit board or the area of the printed circuit board to be protected. In particular, the strip conductors of the strip conductor arrangement can be arranged in meandering fashion. Meandering here means that the conductors change their direction several times by, for example, 180 degrees. However, other meandering forms may be used instead of meanders, such as e.g. Spiral curves in which a center is circled with continuously increasing radius.

Das zu schützende Gebiet enthält den Mäander oder mehrere Mäander einschließlich von Zwischenräumen, die die gleiche Breite wie die Mäander haben bzw. im Bereich von 0,5 bis zu 2,0 dieser Breite liegen. Die mäanderförmigen bzw. spiralförmigen Leiterbahnen ändern bei Beschädigung ihren ohmschen Widerstand besonders stark, so dass sich ein unberechtigter Eingriff leichter erfassen lässt. The area to be protected contains the meander or several meanders, including spaces that are the same width as the meanders or in the range of 0.5 to 2.0 of this width. The meandering or spiral tracks change their ohmic resistance particularly strong, so that an unauthorized engagement easier to detect.

Die Isolierschicht kann eine erste Isolierschicht sein und die Leiterbahnanordnung kann eine erste Leiterbahnanordnung sein. Zusätzlich kann es auf oder sogar an der ersten Leiterbahnanordnung eine zweite Isolierschicht geben. Auf oder an der zweiten Isolierschicht kann eine zweite Leiterbahnanordnung angeordnet sein, die mit der Überwachungsschaltung oder mit einer weiteren Überwachungsschaltung verbunden ist. The insulating layer may be a first insulating layer and the wiring arrangement may be a first wiring arrangement. In addition, there may be a second insulating layer on or even on the first trace arrangement. On or at the second insulating layer may be arranged a second interconnect arrangement which is connected to the monitoring circuit or to a further monitoring circuit.

Die erste Isolierschicht kann das gleiche Material wie die zweite Isolierschicht enthalten oder ein anderes Material. Die Schichtdicken beider Schichten können gleich oder voneinander verschieden sein. The first insulating layer may be the same material as the second insulating layer included or another material. The layer thicknesses of both layers may be the same or different.

Die erste Leiterbahnanordnung kann das gleiche Material wie die zweite Leiterbahnanordnung enthalten oder ein anderes Material. Die Schichtdicken beider Leiterbahnanordnungen können gleich oder voneinander verschieden sein. The first wiring arrangement may contain the same material as the second wiring arrangement or another material. The layer thicknesses of both interconnects may be the same or different.

Sind die Leiterbahnen der beiden Leiterbahnanordnungen mäanderförmig ergibt sich ein besonders hoher Schutz, insbesondere wenn die Mäander beider Leiterbahnanordnungen mit lateralem Versatz zueinander angeordnet sind, so dass es bei Draufsicht auf die Leiterbahnanordnung kein Gebiet mehr gibt, in dem nur Zwischenräume liegen, so dass dort ein unberechtigtes Vordringen zu der Schaltungsanordnung erleichtert wäre. If the conductor tracks of the two conductor track arrangements meander-shaped, a particularly high protection results, in particular if the meanders of both conductor track arrangements are arranged with lateral offset from one another, so that there is no area in plan view of the conductor track arrangement in which there are only intermediate spaces, so that there unauthorized access to the circuit would be facilitated.

Die Leitbahnen der Leiterbahnanordnung können eine Breite im Bereich von 1 Mikrometer bis zu 100 Mikrometern haben, vorzugsweise eine Breite im Bereich von 5 Mikrometern bis zu 100 Mikrometern. Die gleichen Abmessungen gelten für die Abstände zwischen benachbarten Abschnitten von Leiterbahnen der Leiterbahnanordnung. The interconnects of the track array may have a width in the range of 1 micron to 100 microns, preferably a width in the range of 5 microns to 100 microns. The same dimensions apply to the distances between adjacent sections of printed conductors of the printed conductor arrangement.

Die Leiterbahnen der Leiterbahnanordnung können mehr als 1 Mikrometer dick sein. Die Schichtdicke kann kleiner als 100 Mikrometer sein. Durch eine ausreichende Schichtdicke der Leiterbahnen wird erreicht, dass sich der Widerstand stark ändert bei Beschädigung der Leiterbahnanordnung. The printed conductors of the printed conductor arrangement can be more than 1 micrometer thick. The layer thickness can be less than 100 microns. By a sufficient layer thickness of the conductor tracks is achieved that the resistance changes greatly in case of damage to the conductor arrangement.

Außerdem ist eine Leiterplatte mit einer Leiterbahnlage betroffen, die im Gebiet der gesamten Leiterplatte oder in einem zu schützenden Gebiet mindestens eine Leiterbahn mit mäanderförmigem oder spiralförmigen Verlauf enthält. In addition, a circuit board is concerned with a conductor layer, which contains in the area of the entire circuit board or in an area to be protected at least one conductor with a meandering or spiral course.

Die Unterseite, d.h. eine Seite der Leiterplatte, die nicht bestückt wird, kann so auf einfache Art gegen unberechtigte Eingriffe geschützt werden. Die schützende Metalllage kann bei der Herstellung der Leiterplatte auf einfache Art erzeugt werden. The bottom, i. one side of the PCB, which is not equipped, can be easily protected against unauthorized interference. The protective metal layer can be easily produced in the manufacture of the circuit board.

Die Leiterbahnlage kann eine erste Lage sein, wobei die Leiterplatte eine zweite Leiterbahnlage enthält, die im Gebiet der gesamten Leiterplatte mindestens eine weitere Leiterbahn mit mäanderförmigem oder spiralförmigen Verlauf enthält. Die Schutzwirkung lässt sich so auf einfache Art erhöhen. The interconnect layer may be a first layer, wherein the circuit board includes a second interconnect layer, which contains in the region of the entire circuit board at least one further interconnect with a meandering or spiral course. The protective effect can be increased in a simple way.

Die Leiterbahn der ersten Leiterbahnlage kann mit lateralem Versatz zu der zweiten Leiterbahnlage angeordnet sein, so dass sich die Schutzwirkung weiter erhöht. Die Leiterplatte bietet insbesondere mit der Leiterbahnanordnung der Baugruppe einen allseitigen Schutz gegen Eingriffe von oben und von unten. The conductor track of the first interconnect layer can be arranged with lateral offset to the second interconnect layer, so that the protective effect is further increased. The printed circuit board offers in particular with the conductor track arrangement of the module an all-round protection against interference from above and from below.

Betroffen ist außerdem ein Verfahren zum Herstellen einer Baugruppe:

  • – auf einer bestückten Leiterplatte wird eine Leiterbahnanordnung separat ohne gleichzeitiges Anordnen einer Isolierschicht angeordnet.
Also affected is a method of manufacturing an assembly:
  • - On a populated circuit board, a wiring arrangement is arranged separately without simultaneous placement of an insulating layer.

Somit gelten die oben für die Baugruppe angegebenen technischen Wirkungen auch für das Verfahren. Insbesondere müssen keine Spezialfolien verwendet werden auf denen bereits Leiterbahnen angeordnet sind. Weiterhin ist bspw. eine Abstandsfolie nicht erforderlich. Thus, the technical effects given above for the assembly also apply to the process. In particular, no special foils have to be used on which conductor tracks are already arranged. Furthermore, for example, a spacer film is not required.

Auf der Leiterplatte kann mindestens ein Bauelement oder können mehrere elektronische Bauelemente angeordnet werden, wobei auf das Bauelement oder auf die Bauelemente eine Isolierschicht aufgebracht wird. Auf die Isolierschicht wird eine elektrisch leitfähige Schicht aufgebracht. Die elektrisch leitfähige Schicht wird nach dem Aufbringen auf die Isolierschicht strukturiert zu der Leiterbahnanordnung. On the circuit board, at least one component or a plurality of electronic components can be arranged, wherein an insulating layer is applied to the component or to the components. On the insulating layer, an electrically conductive layer is applied. The electrically conductive layer is structured after application to the insulating layer to the conductor track arrangement.

Auch für dieses Verfahren gelten die oben für die Baugruppe angegebenen technischen Wirkungen. Die Isolierschicht kann ganzflächig aufgebracht werden. Ebenso kann die elektrisch leitfähige Schicht zunächst ganzflächig aufgebracht werden und dann strukturiert werden. Also for this method, the technical effects given above for the assembly apply. The insulating layer can be applied over the entire surface. Likewise, the electrically conductive layer can first be applied over the entire surface and then patterned.

Mindestens eine Leiterbahn der Leiterbahnanordnung kann mit einer auf der Leiterplatte angeordneten Überwachungsschaltung verbunden werden, die die Baugruppe gegen unberechtigte Zugriffe schützt. Die Überwachungsschaltung löscht vorzugsweise sicherheitsrelevante Daten in einem Speicher der Baugruppe, wenn ein unberechtigter Eingriff festgestellt wird. Das Löschen erfolgt insbesondere durch Überschreiben mit einem vorgegebenen Datum. At least one printed conductor of the printed conductor arrangement can be connected to a monitoring circuit arranged on the printed circuit board, which protects the assembly against unauthorized access. The monitoring circuit preferably erases safety-relevant data in a memory of the module when an unauthorized intervention is detected. The deletion takes place in particular by overwriting with a given date.

Die Isolierschicht kann als Folie aufgebracht werden. Dabei handelt es sich um ein besonders einfaches Verfahren, weil keine Flüssigkeiten verwendet werden müssen. Es kann selbstklebende Folie verwendet werden. Alternativ kann ein zusätzliches Klebmittel verwendet werden, das auf die Folie und/ oder auf die Leiterplatte aufgebracht wird, kurz vor dem Verbinden, bspw. weniger als 10 Minuten vorher. Viele Folien sind bereits mit einer Klebeschicht beschichtet, die erst unter Druck und Temperatur aushärtet. The insulating layer can be applied as a film. This is a particularly simple process because no liquids need to be used. It can be used self-adhesive film. Alternatively, an additional adhesive may be used which is applied to the film and / or to the circuit board just prior to bonding, for example, less than 10 minutes before. Many films are already coated with an adhesive layer that cures only under pressure and temperature.

Die Folie kann mit Überdruck oder Unterdruck und/oder mit Übertemperatur aufgebracht werden. Der Druck bzw. die Temperatur sind hier bezogen auf den Raumdruck oder die Raumtemperatur in einem Fertigungsraum und liegen bei insbesondere 1 Bar bzw. 20 Grad Celsius. Das Aufbringen der Folie kann bspw. in einem sogenannten Autoklaven erfolgen, d.h. in einer Kammer deren Innendruck und deren Temperatur einstellbar sind. The film can be applied with overpressure or underpressure and / or with over-temperature. The pressure or the temperature are here based on the room pressure or the room temperature in a production room and are in particular 1 bar or 20 degrees Celsius. The application of the film can take place, for example, in a so-called autoclave, i. in a chamber whose internal pressure and temperature are adjustable.

Der Überdruck kann bspw. im Bereich von 2 Bar bis 30 Bar liegen. Die Temperatur kann bspw. im Bereich von 80 Grad Celsius bis 190 Grad Celsius liegen, insbesondere im Bereich von 100 Grad Celsius bis 150 Grad Celsius. The overpressure may, for example, be in the range of 2 bar to 30 bar. The temperature may be, for example, in the range of 80 degrees Celsius to 190 degrees Celsius, in particular in the range of 100 degrees Celsius to 150 degrees Celsius.

Alternativ kann die Isolierschicht aber auch aufgegossen, aufgeschleudert oder durch Eintauchen aufgebracht werden. Auch dies sind Verfahren, die außerdem einfach auszuführen sind und die zu einem zusätzlichen Höhenausgleich führen. Das Trocknen der noch flüssigen oder zähflüssigen Isolierschicht kann mit Hilfe eines zusätzlichen Temperaturschrittes erfolgen, der z.B. bei einer Temperatur im Bereich von 50 Grad Celsius bis 200 Grad Celsius stattfindet. Vergussschichten können härter als Folien ausgeführt werden, z.B. mit einer Shore-Härte im Bereich von 40 bis 90. Alternatively, however, the insulating layer can also be cast, spin-coated or applied by immersion. These are also methods that are also easy to perform and that lead to an additional height compensation. The drying of the still liquid or viscous insulating layer can be effected by means of an additional temperature step, e.g. at a temperature in the range of 50 degrees Celsius to 200 degrees Celsius. Potting layers can be made harder than films, e.g. with a Shore hardness in the range of 40 to 90.

Die Isolierschicht kann mittels Laser in Kontaktbereichen geöffnet werden. Der Laserstrahl des Lasers durchdringt die Isolierschicht z.B. nur an zwei Stellen oder an mehr als zwei Stellen, vorzugsweise jedoch an weniger als 20 Stellen. Damit lässt sich das Lasern sehr schnell durchführen. Alternativ kann aber auch ein fotolithografisches Verfahren verwendet werden, um die Isolierschicht zu durchdringen. The insulating layer can be opened by laser in contact areas. The laser beam of the laser penetrates the insulating layer, e.g. only in two places or in more than two places, but preferably in less than 20 places. This makes lasing very fast. Alternatively, however, a photolithographic process may be used to penetrate the insulating layer.

Die Leiterbahnanordnung kann durch Gasphasenabscheidung oder Aufsputtern, durch Galvanisieren oder durch sowohl Gasphasenabscheidung oder Aufsputtern als auch Galvanisieren auf einfache Art aufgebracht werden. Durch Gasphasenabscheidung bzw. Aufsputtern wird bspw. eine die mechanische Haftung verbessernde Schicht aufgebracht oder eine Grundschicht, die für ein Galvanisierungsverfahren genutzt werden kann. Typische Materialien sind hier Titan, Wolfram und deren Nitride. Typische Schichtdicken liegen im Bereich von 1 Mikrometer bis zu 10 Mikrometern. The wiring arrangement can be easily applied by vapor deposition or sputtering, by electroplating or by both vapor deposition or sputtering and plating. By means of vapor deposition or sputtering, for example, a layer which improves the mechanical adhesion or a base layer which can be used for a galvanization process is applied. Typical materials here are titanium, tungsten and their nitrides. Typical layer thicknesses are in the range of 1 micrometer to 10 micrometers.

Das Sputtern kann bspw. mit einem Plasma durchgeführt werden, wobei die Temperatur an der Leiterplatte unter 150 Grad Celsius bleiben kann bzw. sogar unter 100 Grad Celsius. Zum Galvanisieren eignet sich insbesondere Kupfer, das mit einer Maske aufgebracht wird, die nicht zu galvanisierende Bereiche einer Grundschicht zur Stromführung beim Galvanisieren abdeckt. The sputtering can be carried out, for example, with a plasma, wherein the temperature on the circuit board can remain below 150 degrees Celsius or even below 100 degrees Celsius. In particular, copper is suitable for electroplating, which is applied with a mask which covers areas of a base layer which are not to be electroplated for current conduction during electroplating.

Für die Baugruppe, die Leiterplatte und das Verfahren gilt, dass ein extrem kleiner Aufbau zum Schutz einer elektrischen Schaltung gegen externe Manipulation mit Standard-Elektronikfertigungsprozessen realisiert werden kann. Eine hohe Integrationsdichte wird dadurch ermöglicht. Die Schaltung enthält eine Kontrolleinheit, die bspw. zum Löschen sicherheitsrelevanter Daten führt, falls ein Anstieg des Widerstands einer Leiterbahnstruktur detektiert wird. For the assembly, circuit board and method, an extremely small structure for protecting an electrical circuit from external manipulation can be realized with standard electronics manufacturing processes. A high integration density is thereby made possible. The circuit contains a control unit which, for example, leads to the erasure of safety-relevant data if an increase in the resistance of a printed conductor structure is detected.

Es können zwei Fälle unterschieden werden. Im ersten Fall ist die Leiterplatte einseitig, z.B. auf der Vorderseite, bestückt. In diesem Fall kann bei der Leiterplattenherstellung rückseitig eine mäanderförmige Struktur mit dem kleinstmöglichen Strukturabstand erzeugt werden, und eine Durchkontaktierung zur Vorderseite wird realisiert. Eine mehrlagige Metallisierung mit versetzten Mäandern ist möglich, um das Risiko einer externen Manipulation zu verringern. Nach der Bestückung wird vorderseitig eine mäanderförmige Leiterbahnstruktur wie folgt erzeugt. Die Schaltung wird mit einem Dielektrikum isoliert. Dies kann eine laminierte Folie, ein Lack oder ein Vergussmaterial sein. Das Dielektrikum kann je nach Oberflächentopografie in der Dicke variieren, z.B. im Bereich von 1 Mikrometer bis zu mehreren hundert Mikrometer. Two cases can be distinguished. In the first case, the circuit board is one-sided, e.g. on the front, stocked. In this case, in the circuit board manufacturing, a meander-shaped structure with the smallest possible pitch can be produced on the back side, and a through-hole to the front side is realized. Multi-layer metallization with staggered meanders is possible to reduce the risk of external manipulation. After the assembly, a meander-shaped conductor track structure is produced on the front as follows. The circuit is insulated with a dielectric. This may be a laminated film, a lacquer or a potting material. The dielectric may vary in thickness depending on the surface topography, e.g. ranging from 1 micron to several hundred microns.

Kontakte zum Rückseitenkontakt und zur Kontrollstruktur werden z.B. mittels Laserablation geöffnet. Die nun folgende metallische Leiterbahnstruktur mit Kontakt zur rückseitigen Metallisierung kann additiv, semiadditiv oder subtraktiv erzeugt werden. Die Oberfläche des Dielektrikums wird, z.B. mittels Gasphasenabscheidung, metallisiert, z.B. mit Cu, und kann bei Bedarf galvanisch auf mehrere Mikrometer verstärkt werden. Die Metallschicht wird über Photolithographie und Ätztechnik mäanderförmig strukturiert. Die Leiterbahnzüge liegen dabei so dicht aneinander, dass sie durch Bohrversuche in den Zwischenräumen beschädigt werden und der Gesamtwiderstand dadurch ansteigt. Contacts to the backside contact and to the control structure are e.g. opened by laser ablation. The following metallic interconnect structure with contact to the back metallization can be generated additive, semi-additive or subtractive. The surface of the dielectric is, e.g. by vapor deposition, metallised, e.g. with Cu, and can be galvanically reinforced to several micrometers if required. The metal layer is structured in a meandering pattern by means of photolithography and etching technology. The traces are so close together that they are damaged by drilling in the interstices and the total resistance increases.

Um das Risiko zu minimieren, kann auch vorderseitig ein mehrlagiger Aufbau gewählt werden. Dabei wird die erste Leiterbahnstruktur mit einem Dielektrikum abgedeckt. Dies kann wieder eine laminierte Folie, ein Lack oder ein Vergussmaterial sein. Kontaktöffnungen zur ersten Metallebene werden erneut, z.B. mittels Laserablation geöffnet. Die Oberfläche wird metallisiert, z.B. mittels Gasphasenabscheidung, und die Metalllage wird versetzt zur ersten Metallebene mäanderförmig strukturiert. Ein abschließender Verguss zum mechanischen und chemischen Schutz des Gesamtaufbaus ist möglich. To minimize the risk, a multilayer structure can also be selected on the front side. In this case, the first interconnect structure is covered with a dielectric. This may again be a laminated film, a lacquer or a potting material. Contact openings to the first metal level are redone, e.g. opened by laser ablation. The surface is metallized, e.g. by means of vapor deposition, and the metal layer is structured meandering offset to the first metal level. A final encapsulation for the mechanical and chemical protection of the overall structure is possible.

Im zweiten Fall kann die Leiterplatte beidseitig bestückt werden. In diesem Fall wird der Prozess zur Metallstrukturierung, wie oben beschrieben, beidseitig durchgeführt. In the second case, the printed circuit board can be equipped on both sides. In this case, the metal structuring process is performed on both sides as described above.

Es werden die folgenden technischen Wirkungen erreicht:

  • – elektrische Schaltungen können in einem kompakten Aufbau sicher geschützt werden, was eine hohe Integrationsdichte ermöglicht,
  • – der Herstellungsprozess ist mit Standardherstellungsverfahren möglich,
  • – der Verguss erzeugt zusätzlich mechanische Stabilität,
  • – der Aufbau erlaubt Schutz gegen optische Prüfung und chemische oder mechanische Manipulation.
The following technical effects are achieved:
  • - Electrical circuits can be safely protected in a compact design, which allows a high integration density,
  • - the manufacturing process is possible with standard manufacturing processes,
  • The encapsulation additionally produces mechanical stability,
  • - The structure allows protection against optical inspection and chemical or mechanical manipulation.

Zusammenfassend gilt für das Verfahren:

  • 1. Isolation der zu schützenden Schaltung mit einem Dielektrikum. Aufbringen des Dielektrikums z.B. mittels Vergießen, Tauchen oder Laminieren einer Folie. Die Folie kann auch photostrukturierbar sein.
  • 2. Öffnung der Kontakte zur Schaltung und zum Controller mittels Fotolithographie und Ätztechnik oder mittels Laserablation.
  • 3. Metallisierung der Oberfläche, z.B. mittels Gasphasenabscheidung.
  • 4. Optional: metallische Verstärkung durch Galvanik für bessere mechanische Stabilität.
  • 5. Mäanderförmige Strukturierung der Metallschicht, z.B. mittels Fotolithographie und Ätztechnik.
  • 6. Optional: Verguss zum optischen Schutz und/oder Schutz vor chemischen oder mechanischen Einflüssen.
In summary, the procedure is as follows:
  • 1. Isolation of the circuit to be protected with a dielectric. Applying the dielectric, for example by means of potting, dipping or laminating a film. The film can also be photostructurable.
  • 2. Opening the contacts to the circuit and the controller by means of photolithography and etching or by laser ablation.
  • 3. Metallization of the surface, eg by means of vapor deposition.
  • 4. Optional: metallic reinforcement by electroplating for better mechanical stability.
  • 5. Meander-shaped structuring of the metal layer, eg by means of photolithography and etching technology.
  • 6. Optional: Potting for optical protection and / or protection against chemical or mechanical influences.

Die Überwachungsschaltung überwacht bspw. den ohmschen Widerstand, die Kapazität oder die Induktivität der Leiterbahnanordnung. Bei Abweichungen von einem Sollwert wird ein elektrisches Signal erzeugt und optional bspw. ausgegeben. Auch kann abhängig von dem elektrischen Signal automatisch ein Löschen von Daten eingeleitet werden oder auch eine Zerstörung oder Veränderung von Bauelementen der Schaltung, bspw. mit Hilfe von sogenannten Fuses bzw. Schmelzsicherungen. The monitoring circuit monitors, for example, the ohmic resistance, the capacitance or the inductance of the printed conductor arrangement. In case of deviations from a desired value, an electrical signal is generated and optionally output, for example. Also, depending on the electrical signal, a deletion of data can be automatically initiated or a destruction or change of components of the circuit, for example. With the help of so-called fuses or fuses.

Die Energie für die Überwachungsschaltung wird bspw. in einem Speicherkondensator, in einem wieder aufladbaren Akkumulator oder in einer Batterie gespeichert, die sich innerhalb der Schutzleiterbahnanordnung befindet. Sollte die Spannung in einem dieser Energiespeicher unter einen vorgegebenen Wert fallen, so kann ein automatisches Löschen veranlasst werden. The energy for the monitoring circuit is stored, for example, in a storage capacitor, in a rechargeable battery or in a battery, which is located within the protective conductor track arrangement. Should the voltage in one of these energy stores fall below a predetermined value, then an automatic deletion can be initiated.

Bei anderen Ausführungsbeispielen werden zusätzlich auch Temperatur und/oder Spannungen von der Überwachungsschaltung überwacht. Beim Ansteigen oder Abfallen der Temperatur über bzw. unter einen vorgegebenen Temperaturwert oder der Spannung über einen vorgegebenen Spannungswert, wird ebenfalls ein Löschen veranlasst. In other embodiments, temperature and / or voltages are additionally monitored by the monitoring circuit. When the temperature rises or falls above or below a predetermined temperature value or the voltage above a predetermined voltage value, a deletion is also initiated.

Die sicherheitsrelevanten Daten sind bspw. Verschlüsselungsalgorithmen, elektronische Schlüssel für elektronische Ver- bzw. Entschlüsselungsverfahren, PIN-Codes (Personal Identification Number), wichtige Programmdaten, wichtige Datensätze usw. The security-relevant data are, for example, encryption algorithms, electronic keys for electronic encryption or decryption methods, PIN codes (Personal Identification Number), important program data, important data records, etc.

Mindestens zwei Kontakte der Schaltungsanordnung können nach außen durch die Schutzleitbahnanordnung hindurch geführt werden als äußere Anschlüsse. At least two contacts of the circuitry may be routed outwardly through the protective track array as external terminals.

Die Leiterplatte wird auch als gedruckte Schaltung bezeichnet und besteht bspw. aus FR4-(Epoxidharz und Glasfasergewebe) oder FR5-Material (Epoxidharz und Glasfasergewebe höherer Wärmebeständigkeit) bzw. aus anderen Materialien wie Phenolharz, Keramik usw. The circuit board is also referred to as a printed circuit and consists, for example, of FR4 (epoxy resin and glass fiber fabric) or FR5 material (epoxy resin and glass fiber fabric of higher heat resistance) or of other materials such as phenolic resin, ceramic, etc.

Die Leiterplatte kann abgesehen von Schutzlagen für die Überwachung einlagig oder mehrlagig sein und ist meist mit Kupferleitbahnen versehen. Weiterhin können die für die Schaltung genutzten Lagen nur auf einer Seite der Leiterplatte oder auf beiden Seiten der Leiterplatte angeordnet sein. Typische Werte für die Schichtdicke der Leiterplatte liegen im Bereich von 100 Mikrometern bis 500 Mikrometern oder sogar bis zu 2 Millimeter. The printed circuit board can be single-layered or multi-layered apart from protective layers for monitoring and is usually provided with copper conductive tracks. Furthermore, the layers used for the circuit can be arranged only on one side of the circuit board or on both sides of the circuit board. Typical values for the layer thickness of the printed circuit board are in the range of 100 micrometers to 500 micrometers or even up to 2 millimeters.

Die Leiterplatte kann fest bzw. starr sein und damit nicht biegbar, bzw. nicht unter einen Biegeradius von bspw. 10 Zentimetern. Alternativ kann die Leiterplatte flexibel sein, d.h. biegbar in gewissen Grenzen von z.B. einem Krümmungsradius kleiner als 5 cm. The printed circuit board can be fixed or rigid and thus not bendable, or not below a bending radius of, for example, 10 centimeters. Alternatively, the circuit board may be flexible, i. bendable within certain limits of e.g. a radius of curvature smaller than 5 cm.

Die Bauelemente sind aktive Bauelemente, wie z.B. Transistoren (BT (bipolar Transistor), FET (Feld Effekt Transistor), Dioden), oder passive Bauelemente, wie Widerstände, Kondensatoren, Spulen usw. The devices are active devices, e.g. Transistors (BT (bipolar transistor), FET (field effect transistor), diodes), or passive devices such as resistors, capacitors, coils, etc.

Die Bauelemente sind üblicherweise aufgelötet, z.B. in SMD Technik (Surface Mounted Device) oder mit Anschlussbeinen versehen, die die Löcher in der Leiterplatte durchdringen. The components are usually soldered, e.g. In SMD technology (Surface Mounted Device) or provided with connecting legs, which penetrate the holes in the circuit board.

Die oben beschriebenen Eigenschaften, Merkmale und Vorteile dieser Erfindung sowie die Art und Weise, wie diese erreicht werden, werden klarer und deutlicher verständlich im Zusammenhang mit der folgenden Beschreibung der Ausführungsbeispiele. Sofern in dieser Anmeldung der Begriff "kann" verwendet wird, handelt es sich sowohl um die technische Möglichkeit als auch um die tatsächliche technische Umsetzung. The above-described characteristics, features, and advantages of this invention, as well as the manner in which they are achieved, will become clearer and more clearly understood in connection with the following description of the embodiments. If the term "can" is used in this application, it is both the technical possibility and the actual technical implementation.

Im Folgenden werden Ausführungsbeispiele der Erfindung an Hand der beiliegenden Zeichnungen erläutert. Darin zeigen: In the following, embodiments of the invention will be explained with reference to the accompanying drawings. Show:

1 eine Aufsicht einer einlagigen Schutzmetallisierung bzw. Schutz-Leiterbahnanordnung, 1 a plan view of a single-layer protective metallization or protective track arrangement,

2 einen Querschnitt der einlagigen Schutzmetallisierung bei einseitiger Bestückung, 2 a cross section of the single-layer protective metallization in one-sided assembly,

3 einen Querschnitt durch ein anderes Ausführungsbeispiel mit beidseitiger Bestückung und einlagiger Schutzmetallisierung, 3 a cross section through another embodiment with two-sided assembly and one-layer protective metallization,

4 eine Aufsicht auf ein Ausführungsbeispiel mit mehrlagiger Schutzmetallisierung, 4 a plan view of an embodiment with multi-layer protective metallization,

5 einen Querschnitt durch die Baugruppe mit mehrlagiger Schutzmetallisierung, 5 a cross section through the assembly with multi-layer protective metallization,

6 eine erste Herstellungsstufe bei der Herstellung einer geschützten Baugruppe, wobei bereits eine Isolierschicht aufgebracht worden ist, 6 a first manufacturing step in the production of a protected assembly, wherein an insulating layer has already been applied,

7 eine zweite Herstellungsstufe mit Kontaktöffnungen in der Isolierschicht, 7 a second manufacturing stage with contact openings in the insulating layer,

8 eine dritte Herstellungsstufe mit einer ersten Metallisierungsschicht, 8th a third production stage with a first metallization layer,

9 eine vierte Herstellungsstufe mit einer galvanisch verstärkten Metallisierungsschicht, 9 a fourth production stage with a galvanically reinforced metallization layer,

10 eine fünfte Herstellungsstufe mit strukturierter Metallisierungsschicht, und 10 a fifth production stage with a structured metallization layer, and

11 eine sechste Herstellungsstufe mit Verguss der Baugruppe. 11 a sixth manufacturing stage with encapsulation of the assembly.

Die 1 zeigt eine Aufsicht einer Baugruppe 10, die eine einlagige Schutzmetallisierung bzw. Schutz-Leiterbahnanordnung 12 enthält. The 1 shows a plan view of an assembly 10 comprising a single-layer protective metallization or protective trace arrangement 12 contains.

Die Baugruppe 10 enthält außerdem:

  • eine Leiterplatte 14, die auch als Schaltungsträger bezeichnet werden kann,
  • – eine elektrisch isolierende Isolierschicht 16,
  • zwei Kontaktabschnitte 18 und 20, welche die Isolierschicht 16 durchdringen und an den beiden Enden der Leiterbahnanordnung 12 ausgebildet sind.
The assembly 10 also contains:
  • - a circuit board 14 , which can also be called a circuit carrier,
  • - An electrically insulating insulating layer 16 .
  • - two contact sections 18 and 20 which the insulating layer 16 penetrate and at the two ends of the track arrangement 12 are formed.

Die Leiterbahnanordnung 12 enthält eine in Mäandern verlaufende Leiterbahn, die ein zu schützendes Teilgebiet der Leiterplatte 14 überdeckt. Alternativ wird die Fläche der gesamten Leiterplatte 14 von der Leiterbahnanordnung 12 überdeckt. Bei einem anderen Ausführungsbeispiel hat die Leiterbahnanordnung 12 bspw. einen spiralförmigen Verlauf. The track layout 12 contains a meandering track, which is a protected area of the circuit board 14 covered. Alternatively, the area of the entire circuit board 14 from the track layout 12 covered. In another embodiment, the wiring arrangement 12 for example, a spiral course.

Die Leiterplatte 14 hat im Ausführungsbeispiel einen rechteckigen Grundriss. Alternativ hat die Leiterplatte 14 einen quadratischen Grundriss oder einen anderen Grundriss. The circuit board 14 has a rectangular plan in the embodiment. Alternatively, the circuit board has 14 a square floor plan or another floor plan.

Die elektrisch isolierende Isolierschicht 16 überdeckt in der 1 nicht dargestellte Bauelemente der Baugruppe 10. Diese Bauelemente bilden eine Nutzschaltung Baugruppe 10 und eine Überwachungsschaltung. The electrically insulating insulating layer 16 covered in the 1 not shown components of the module 10 , These components form a utility circuit assembly 10 and a monitoring circuit.

Die Nutzschaltung ist bspw.:

  • – eine Schaltung zur Eingabe und optional Anzeige einer PIN,
  • – eine Schaltung die einen Prozessor und einen elektronischen Speicher enthält mit Befehlen und Daten für den Prozessor, insbesondere eine Verschlüsselungsschaltung,
  • – eine Sendeeinheit für ein Datenübertragungsverfahren bspw. ein Funkübertragungsverfahren, insbesondere für digitale Daten, oder
  • – eine Empfangseinheit für ein Datenübertragungsverfahren bspw. ein Funkübertragungsverfahren, insbesondere für digitale Daten.
The useful circuit is for example:
  • A circuit for input and optionally display of a PIN,
  • A circuit containing a processor and an electronic memory with instructions and data for the processor, in particular an encryption circuit,
  • A transmission unit for a data transmission method, for example a radio transmission method, in particular for digital data, or
  • A receiving unit for a data transmission method, for example a radio transmission method, in particular for digital data.

In allen Fällen geht es darum, die Schaltung vor unbefugten Zugriffen zu schützen, um bspw. Manipulationen zu verhindern oder den Aufbau der Schaltung nicht preiszugeben, bspw. Softwarealgorithmen oder bestimmt Hardwareverschaltungen. In all cases, the purpose is to protect the circuit from unauthorized access, for example to prevent manipulation or to not disclose the structure of the circuit, for example software algorithms or hardware circuits.

Die Überwachungsschaltung enthält bspw.:

  • – eine Widerstandsüberwachung, deren Eingänge an die Leiterbahnanordnung 14 angeschlossen sind,
  • – eine Steuerschaltung, die beim Überschreiten oder Unterschreiten eines oder mehrerer Sollwerte ein Ausgangssignal erzeugt, das bspw. zum Löschen von Daten, zum Beeinflussen der Schaltung oder zur Abgabe eines elektronischen Warnsignals verwendet wird, und
  • – einen optionalen Energiespeicher.
The monitoring circuit contains, for example:
  • - A resistance monitoring, whose inputs to the track arrangement 14 are connected,
  • - A control circuit which generates an output signal when exceeding or falling below one or more setpoints, which is used, for example, for deleting data, for influencing the circuit or for delivering an electronic warning signal, and
  • - an optional energy storage.

Die Steuerschaltung ist analog oder digital aufgebaut, z.B. mit Hilfe eines Schaltnetzwerkes oder unter Verwendung eines Überwachungsprozessors oder eines auch von der Nutzschaltung genutzten Prozessors. Für die Steuerschaltung gelten insbesondere auch die in der Einleitung für die Überwachungsschaltung genannten Ausführungen, z.B. zusätzliche Temperatur- und Spannungsüberwachung. The control circuit is analog or digital, e.g. using a switching network or using a monitoring processor or a processor also used by the user circuit. In particular, the embodiments mentioned for the monitoring circuit in the introduction, e.g. additional temperature and voltage monitoring.

Ohne Energiespeicher in der Baugruppe 10 können Manipulationen bei Vorhandensein einer äußeren Spannung unterbunden werden. Optional kann das Löschen der Daten bei Wegfall der Spannung erfolgen, bspw. wenn die Überwachung nicht fachgerecht vorher deaktiviert worden ist. Without energy storage in the module 10 Tampering in the presence of an external voltage can be prevented. Optionally, the deletion of the data can be carried out in the event of loss of voltage, for example, if the monitoring has not been properly disabled before.

Mit Energiespeicher in der Baugruppe 10 ist es auch möglich die Schaltungsanordnung ohne Anliegen einer äußeren Spannung zu schützen, bspw. während des Transports oder während einer Betriebspause eines Gerätes. With energy storage in the module 10 it is also possible to protect the circuit arrangement without concerns an external voltage, for example. During transport or during a break in operation of a device.

Die 2 zeigt einen Querschnitt durch die Baugruppe 10, die die einlagige Schutzmetallisierung bzw. Schutz-Leiterbahnanordnung 12 enthält. Die Leiterplatte 12 ist an ihrer Bodenseite ganzflächig mit einer mäanderförmigen Leiterbahnanordnung 50 versehen. Durchkontaktierungen 52 und 54, die die Leiterplatte 12 durchdringen, verbinden die Leiterbahnanordnung 50 mit der Leitbahnanordnung 12 bzw. alternativ direkt mit der Überwachungsschaltung 56, z.B. einem Controller auf bspw. Mikroprozessorbasis. The 2 shows a cross section through the assembly 10 , the one-layer protective metallization or protective track arrangement 12 contains. The circuit board 12 is on its bottom side over the entire surface with a meandering track arrangement 50 Mistake. vias 52 and 54 that the circuit board 12 penetrate, connect the trace arrangement 50 with the interconnect arrangement 12 or alternatively directly to the monitoring circuit 56 , eg a controller based on, for example, a microprocessor.

Bauelemente 58, 60 einer zu überwachenden Schaltung 62 sind im linken Teil der 2 gezeigt. Das Bauelement 58 ist bspw. ein Transistor oder eine Diode. Das Bauelement 60 ist bspw. ein Widerstand. Alternativ oder zusätzlich enthält die zu schützende Baugruppe 62 auch einen integrierten Schaltkreis. components 58 . 60 a circuit to be monitored 62 are in the left part of the 2 shown. The component 58 is, for example, a transistor or a diode. The component 60 is, for example, a resistance. Alternatively or additionally, the module to be protected contains 62 also an integrated circuit.

Die Überwachungsschaltung 56 kann bei einem anderen Ausführungsbeispiel, das im Übrigen dem gezeigten Ausführungsbeispiel gleicht, ebenfalls unterhalb der Schutz-Leiterbahnanordnung 12 angeordnet sein, was den Schutz weiter erhöht, d.h. die Leiterbahnanordnung 12 überdeckt dann bspw. die gesamte Leiterplatte 14. The monitoring circuit 56 can in another embodiment, which otherwise is similar to the embodiment shown, also below the protective trace assembly 12 be arranged, which further increases the protection, ie the track arrangement 12 then covers, for example, the entire circuit board 14 ,

Ein Dummybauelement 64 dient zum Anschluss des zweiten Endes der Leiterbahnanordnung 12 an die Überwachungsschaltung 56. An Stelle des Dummybauelements 64 wird bei einem sonst gleichen Ausführungsbeispiel eine direkte Kontaktierung der Leiterplatte 12 verwendet. Die Überwachungsschaltung ist dann über eine auf bzw. in der Leiterplatte 12 verlaufende Leiterbahn an die Durchkontaktierung 20 angeschlossen. A dummy component 64 serves to connect the second end of the track arrangement 12 to the monitoring circuit 56 , In place of the dummy device 64 In an otherwise similar embodiment, a direct contacting of the circuit board 12 used. The monitoring circuit is then on or in the circuit board 12 running conductor to the feedthrough 20 connected.

In der 2 ist außerdem eine Höhe H eingezeichnet, um die das höchste Bauelement 64, 58, 60 der Baugruppe 10 über die Leiterplatte 12 hinausragt. Diese Höhe H liegt bspw. im Bereich von 50 Mikrometern bis 500 Mikrometern. Alternativ kann die Höhe H auch größer oder kleiner sein. In the 2 In addition, a height H is shown to be the highest component 64 . 58 . 60 the assembly 10 over the circuit board 12 protrudes. This height H is, for example, in the range of 50 micrometers to 500 micrometers. Alternatively, the height H may be larger or smaller.

Eine in der Baugruppe 10 enthaltende Vergussmasse 66 schützt die Baugruppe 10 zusätzlich vor unberechtigten Eingriffen. One in the assembly 10 containing potting compound 66 protects the assembly 10 additionally against unauthorized interventions.

Die Schutz-Leiterbahnanordnung 50 wird bei einem anderen Ausführungsbeispiel nicht an die Schutz-Leiterbahnanordnung 12 angeschlossen, sondern durch die Überwachungsschaltung 56 unabhängig von der Schutz-Leiterbahnanordnung 12 überwacht. The protective trace arrangement 50 does not attach to the protective trace assembly in another embodiment 12 connected but through the monitoring circuit 56 independent of the protection trace arrangement 12 supervised.

Die 3 zeigt einen Querschnitt durch eine Baugruppe 100 mit beidseitiger Bestückung einer Leiterplatte 114 und einlagiger Schutzmetallisierung bzw. Schutz-Leiterbahnanordnung 112. The 3 shows a cross section through an assembly 100 with two-sided assembly of a printed circuit board 114 and single-layer protective metallization or protective trace arrangement 112 ,

Die Baugruppe 100 enthält außerdem:

  • – eine elektrisch isolierende Isolierschicht 116 auf der Oberseite,
  • zwei Kontaktabschnitte 118 und 120, welche die Isolierschicht 116 durchdringen und an den beiden Enden der Leiterbahnanordnung 112 ausgebildet sind,
  • eine Überwachungsschaltung 156, die in ihrem Aufbau und in ihrer Funktion der Überwachungsschaltung 56 entspricht,
  • Bauelemente 158 und 160, die den Bauelementen 58 und 60 entsprechen und die Bestandteil einer Nutzschaltung 162 sind,
  • ein optionales Dummybauelement 164, das dem Dummybauelement 64 entspricht,
  • – eine der Vergussmasse 66 entsprechende Vergussmasse 166.
The assembly 100 also contains:
  • - An electrically insulating insulating layer 116 on the top,
  • - two contact sections 118 and 120 which the insulating layer 116 penetrate and at the two ends of the track arrangement 112 are trained
  • A monitoring circuit 156 , in their construction and in their function of the monitoring circuit 56 corresponds,
  • - Components 158 and 160 that the construction elements 58 and 60 correspond and are part of a utility circuit 162 are,
  • - An optional dummy component 164 that the dummy device 64 corresponds,
  • - one of the potting compound 66 corresponding potting compound 166 ,

Eine Höhe H1 entspricht der Höhe H. An der Unterseite der Leiterplatte 114 befindet sich bei beidseitiger Bestückung nun eine weitere Nutzschaltung 101, die durch eine weitere Leiterbahnanordnung 102 mit mäanderförmigen Verlauf abgedeckt und dadurch auch geschützt ist. Alternativ sind die Nutzschaltungen 162 und 101 auch Teile einer gemeinsamen Nutzschaltung. A height H1 corresponds to the height H. At the bottom of the circuit board 114 If there is a two-sided assembly, there is now another use circuit 101 passing through another track layout 102 Covered with a meandering course and thereby protected. Alternatively, the payloads are 162 and 101 also parts of a common user circuit.

Die Nutzschaltung 101 enthält Bauelemente 104, 106 und ein optionales Dummybauelement 108, das dem Dummybauelement 164 entspricht. Eine Vergussmasse 110 schützt die Baugruppe 100 zusätzlich gegen Eingriffe von unten. The utility circuit 101 contains components 104 . 106 and an optional dummy device 108 that the dummy device 164 equivalent. A potting compound 110 protects the assembly 100 additionally against interventions from below.

Die 4 zeigt eine Draufsicht auf eine Baugruppe 200 mit mehrlagiger Schutzmetallisierung. The 4 shows a plan view of an assembly 200 with multilayer protective metallization.

Die Baugruppe 200 enthält:

  • – eine erste Schutz-Leiterbahnanordnung 212, die unter einer zweiten Schutz-Leiterbahnanordnung 224 liegt,
  • eine Isolierschicht 226, die zwischen den beiden Schutz-Leiterbahnanordnungen 212 und 222 angeordnet ist,
  • eine Leiterplatte 214, die auch als Schaltungsträger bezeichnet werden kann,
  • – eine in 4 nicht dargestellte elektrisch isolierende Isolierschicht 216,
  • zwei Kontaktabschnitte 218 und 220, welche die Isolierschicht 216 durchdringen und an den beiden Enden der unteren Schutz-Leiterbahnanordnung 212 ausgebildet sind, und
  • – zwei Kontaktabschnitte 221a und 221b an den Enden der oberen Schutz-Leiterbahnanordnung 222.
The assembly 200 includes:
  • A first protection trace arrangement 212 that under a second protective track arrangement 224 lies,
  • - an insulating layer 226 that exist between the two protective conductor tracks 212 and 222 is arranged
  • - a circuit board 214 , which can also be called a circuit carrier,
  • - one in 4 not shown electrically insulating insulating layer 216 .
  • - two contact sections 218 and 220 which the insulating layer 216 penetrate and at the two ends of the lower protective trace assembly 212 are trained, and
  • - two contact sections 221a and 221b at the ends of the upper protection trace assembly 222 ,

Die Schutz-Leiterbahnanordnungen 212 und 222 sind wie die Schutz-Leiterbahnanordnung 12 aufgebaut. Die Leiterplatte 214 ist wie die Leiterplatte 14 aufgebaut. Die Isolierschichten 216, 226 sind wie die Isolierschicht 16 aufgebaut. Für die Kontaktabschnitten 218 und 220 gilt das zu den Kontaktabschnitten 18, 20 Gesagte. Die Kontaktabschnitte 221a und 221b dienen zum Anschluss der oberen Schutz-Leiterbahnanordnung 222 an die Überwachungsschaltung der Baugruppe 200. The protective conductor tracks 212 and 222 are like the protection track layout 12 built up. The circuit board 214 is like the circuit board 14 built up. The insulating layers 216 . 226 are like the insulating layer 16 built up. For the contact sections 218 and 220 that applies to the contact portions 18 . 20 Said. The contact sections 221a and 221b serve to connect the upper protective conductor arrangement 222 to the monitoring circuit of the module 200 ,

Durch die in den 4 und 5 gezeigte Baugruppe 200 wird der Schutz erhöht, weil mindestens zwei Schutz-Leiterbahnanordnungen 212 und 222 zu durchdringen sind bei Eingriffen von oben. Gleiches gilt für Eingriffe von unten, wie an Hand der 5 noch näher erläutert wird. By in the 4 and 5 shown assembly 200 the protection is increased because at least two protection track assemblies 212 and 222 to penetrate are at interventions from above. The same applies to interventions from below, as on the basis of 5 will be explained in more detail.

Auch die Baugruppe 200 enthält demnach eine in 4 nicht dargestellte Überwachungsschaltung, die Widerstandsveränderungen oder die Veränderung anderer charakteristischer elektrischer Größen der Schutz-Leiterbahnanordnungen 212 und 222 erfasst und entsprechende Schritte veranlasst, wenn Änderungen erfasst werden, bspw. das Löschen relevanter Daten. Also the assembly 200 contains an in 4 not shown monitoring circuit, the resistance changes or the change of other characteristic electrical parameters of the protective conductor track assemblies 212 and 222 capture and take appropriate action when changes are detected, such as deleting relevant data.

Die 5 zeigt einen Querschnitt durch die Baugruppe 200 mit mehrlagiger Schutzmetallisierung bzw. Schutz-Leiterbahnanordnungen 212 und 222. Gemäß 5 enthält die Baugruppe 200 weiterhin:

  • eine Überwachungsschaltung 256, die der Überwachungsschaltung 56 entspricht,
  • Bauelemente 258 und 260, die den Bauelementen 58 und 56 entsprechen und die Bestandteil einer Nutzschaltung 262 sind,
  • ein optionales Dummybauelement 264, das dem Dummybauelement 64 entspricht,
  • eine Vergussmasse 270, die einen zusätzlichen Schutz gegen Eingriffe von oben bietet,
  • – eine erste untere Schutz-Leiterbahnanordnung 250, die der Schutz-Leiterbahnanordnung 50 entspricht und insbesondere eine entlang eines Mäanders oder einer Spirale (kreisförmig, quadratisch oder rechteckförmig) verlaufende Leitbahn enthält,
  • – eine zweite untere Schutz-Leiterbahnanordnung 255 an der Unterseite der Leiterplatte 214,
  • Durchkontaktierungen 252 und 254, die den Durchkontaktierungen 52 und 54 entsprechen und die aber zusätzlich auch die zweite Schutz-Leiterbahnanordnung 255 an die Überwachungsschaltung 256 anschließen.
The 5 shows a cross section through the assembly 200 with multilayer protective metallization or protective conductor track arrangements 212 and 222 , According to 5 contains the assembly 200 Farther:
  • A monitoring circuit 256 that the monitoring circuit 56 corresponds,
  • - Components 258 and 260 that the construction elements 58 and 56 correspond and are part of a utility circuit 262 are,
  • - An optional dummy component 264 that the dummy device 64 corresponds,
  • - a potting compound 270 which offers additional protection against interference from above,
  • - A first lower protective conductor arrangement 250 that of the protective trace assembly 50 corresponds and in particular contains along along a meander or a spiral (circular, square or rectangular) running track,
  • - A second lower protective conductor arrangement 255 at the bottom of the circuit board 214 .
  • - vias 252 and 254 that the vias 52 and 54 correspond and but in addition also the second protective conductor arrangement 255 to the monitoring circuit 256 connect.

Die Kontaktabschnitte 221a und 221b liegen nicht in dem Querschnitt, der in der 5 gezeigt ist, sind aber ebenfalls über Leitbahnen der Leiterplatte 214 mit der Überwachungsschaltung 256 verbunden. The contact sections 221a and 221b are not in the cross section that is in the 5 is shown, but are also on interconnects of the circuit board 214 with the monitoring circuit 256 connected.

Ein lateraler Versatz V zwischen den Schutz-Leiterbahnanordnungen 212 und 222 verhindert, dass es Zwischenräume gibt, in denen bei Draufsicht auf die Baugruppe 200 keine Schutz-Leiterbahnen angeordnet sind. Es gibt ebenfalls einen in 5 jedoch nicht dargestellten lateraler Versatz zwischen den Schutz-Leiterbahnanordnungen 250 und 255, der einen Eingriff von unten erheblich erschwert. A lateral offset V between the protective conductor tracks 212 and 222 prevents there being gaps in which, when viewed from above, the assembly 200 no protective conductor tracks are arranged. There is also one in 5 but not shown lateral offset between the protective track assemblies 250 and 255 , which considerably complicates an intervention from below.

Die Leiterplatten 14 und 214 werden auch separat geschützt, das heißt ohne Bestückung mit Bauelementen und ohne dass die oberen Schutz-Leiterbahnanordnung 12 bzw. die Schutz-Leiterbahnanordnungen 212 und 222 vorhanden sind. The circuit boards 14 and 214 are also separately protected, that is, without assembly with components and without the upper protective conductor arrangement 12 or the protective conductor track arrangements 212 and 222 available.

Bei einem anderen Ausführungsbeispiel werden getrennte Durchkontaktierungen auch für den Anschluss der Schutz-Leiterbahnanordnungen 250 und 255 verwendet. Die Schutz-Leiterbahnanordnung 250 und 255 können auch von der Überwachungsschaltung 256 unabhängig von den Schutz-Leiterbahnanordnungen 212 und 222 überwacht werden. In another embodiment, separate vias are also made for the connection of the protection trace assemblies 250 and 255 used. The protective trace arrangement 250 and 255 can also from the monitoring circuit 256 regardless of the protection track layouts 212 and 222 be monitored.

Bei anderen Ausführungsbeispielen wird beidseitig bestückt und es werden jeweils zwei oder mehr als zwei Schutz-Leiterbahnanordnung oben und unten verwendet. In other embodiments, both sides are populated and in each case two or more than two protective conductor arrangement are used above and below.

Auch bei der in 5 dargestellten Baugruppe bzw. bei der im vorigen Absatz erwähnten beidseitigen Bestückung kann die Überwachungsschaltung durch die Schutz-Leiterbahnanordnungen bedeckt werden, um die Sicherheit zu erhöhen. Bei beidseitiger Bestückung kann die Überwachungsschaltung 156 auch beidseitig der Leiterplatte 114 angeordnet werden. Also at the in 5 illustrated assembly or in the two-sided assembly mentioned in the previous paragraph, the monitoring circuit can be covered by the protective track assemblies to increase safety. For double-sided assembly, the monitoring circuit 156 also on both sides of the circuit board 114 to be ordered.

Die 6 zeigt eine erste Herstellungsstufe bei der Herstellung der geschützten Baugruppe 10, wobei bereits wie folgt vorgegangen wurde:

  • – ein Leiterplattenhersteller hat die Leiterplatte 14 nach Kundenwunsch gefertigt, wobei auch schon die Schutz-Leiterbahnanordnung 50 sowie die Durchkontaktierungen 52 und 54 mit den üblichen Verfahren der Leiterplattentechnik hergestellt worden sind, bspw. unter Einsatz von fotolithografischen Verfahren und von Ätzprozessen,
  • – die Leiterplatte 14 wurde bestückt mit den Bauelementen der Überwachungsschaltung 56 sowie mit den Bauelementen 58 und 60 der Nutzschaltung 62 sowie weiterhin ggf. mit dem optionalen Dummybauelement 64,
  • – anschließend wurde die Isolierschicht 16 selektiv aufgebracht, bspw. mit einem Lift-Off-Verfahren. Alternativ wird die Isolierschicht 16 ganzflächig aufgebracht und mit einem fotolithografischen Verfahren strukturiert, bspw. gemeinsam mit der Ausbildung von Löchern für die Kontaktabschnitte 18 und 20.
The 6 shows a first manufacturing step in the manufacture of the protected assembly 10 already proceeding as follows:
  • - A PCB manufacturer has the PCB 14 manufactured according to customer requirements, whereby even the protective track arrangement 50 as well as the vias 52 and 54 using the usual methods of printed circuit board technology, for example using photolithographic processes and etching processes,
  • - the circuit board 14 was equipped with the components of the monitoring circuit 56 as well as with the components 58 and 60 the utility circuit 62 as well as possibly with the optional dummy component 64 .
  • - then the insulating layer 16 selectively applied, for example. With a lift-off method. Alternatively, the insulating layer 16 Applied over the entire surface and structured with a photolithographic process, for example. Together with the formation of holes for the contact sections 18 and 20 ,

Die Isolierschicht 16 wurde bspw. auflaminiert unter Verwendung von Druck und Temperatur bspw. im Bereich von 2 Bar bis 30 Bar bzw. im Bereich von 80 Grad Celsius bis 190 Grad Celsius. Als Material für die Isolierschicht ist Polyimid oder Epoxid geeignet. Eine optionale zusätzliche Klebeschicht oder eine selbstklebende Folie bzw. eine beidseitig klebende Zusatzfolie erleichtert das Aufbringen. Es können die in der Leiterplattentechnik üblichen Folien verwendet werden. Die Dicke der Folie liegt bspw. im Bereich von 20 Mikrometern bis 100 Mikrometern bzw. im Bereich von 40 Mikrometern bis 60 Mikrometern. The insulating layer 16 was laminated, for example, using pressure and temperature, for example. In the range of 2 bar to 30 bar or in the range of 80 degrees Celsius to 190 degrees Celsius. As a material for the insulating layer is polyimide or Epoxy suitable. An optional additional adhesive layer or a self-adhesive film or a double-sided adhesive additional foil facilitates the application. It is possible to use the foils customary in printed circuit board technology. The thickness of the film is, for example, in the range of 20 micrometers to 100 micrometers or in the range of 40 micrometers to 60 micrometers.

Alternativ wird die Isolierschicht 16 durch Vergießen, Aufschleudern oder Tauchprozesse aufgebracht, wobei sich am Rand der Isolierschicht 16 keine Stufe bildet. Auch hier sind als Material für die Isolierschicht Polyimid oder Epoxid geeignet. Die noch zähflüssige Isolierschicht wird an der Luft oder durch zusätzliche Temperaturprozesse getrocknet, bspw. bei einer Temperatur im Bereich von 80 Grad Celsius bis 150 Grad Celsius. Alternatively, the insulating layer 16 applied by potting, spin-coating or dipping processes, whereby at the edge of the insulating layer 16 does not form a stage. Again, suitable as a material for the insulating polyimide or epoxy. The still viscous insulating layer is dried in air or by additional temperature processes, for example. At a temperature in the range of 80 degrees Celsius to 150 degrees Celsius.

Die 7 zeigt eine zweite Herstellungsstufe, bei der bereits Kontaktöffnungen 300, 302 und 304 in der Isolierschicht 16 eingebracht worden sind, bspw. durch Laserimpulse oder durch Verwendung eines fotolithografischen Verfahrens mit anschließendem Trocken- oder Nassätzprozess. Alternativ kann für die Isolierschicht 16 auch eine lichtempfindliche Folie verwendet werden, die dann selektiv belichtet und entwickelt wird und von der Bereiche als Isolierschicht 16 in der Baugruppe 10 verbleiben. The 7 shows a second manufacturing stage, in which already contact openings 300 . 302 and 304 in the insulating layer 16 For example, by laser pulses or by using a photolithographic process followed by dry or wet etching. Alternatively, for the insulating layer 16 Also, a photosensitive sheet may be used, which is then selectively exposed and developed, and of the areas as an insulating layer 16 in the assembly 10 remain.

Die Kontaktöffnung 300 dient zur Aufnahme des Kontaktabschnitts 18. Entsprechend dient die Kontaktöffnung 304 zur Aufnahme des Kontaktabschnitts 20. Die Kontaktöffnung 302 nimmt einen Teil der Durchkontaktierung 52 auf. The contact opening 300 serves to accommodate the contact section 18 , Accordingly, the contact opening is used 304 for receiving the contact section 20 , The contact opening 302 takes part of the via 52 on.

Die 8 zeigt eine dritte Herstellungsstufe mit einer ersten Metallisierungsschicht 310 der Schutz-Leiterbahnanordnung 12. Die Metallisierungsschicht 310 wird bspw. aus der Gasphase aufgebracht oder aufgesputtert (Kathodenzerstäubung) bei Temperaturen an der Isolierschicht von bspw. nur bis zu 80 Grad Celsius. Die Metallisierungsschicht 310 bildet eine Haftvermittlungsschicht und kann als Grundschicht für die Stromzufuhr in einem galvanischen Verfahren dienen, ggf. verstärkt durch eine dünne aus der Gasphase aufgebrachte oder aufgesputterte Kupferschicht. Als Material der Metallisierungsschicht 310 ist bspw. Titan, Kupfer, Tantal, Wolfram, Chrom, eine Kombinationen dieser Materialien oder deren Nitride geeignet. Auch ein mehrschichtiger Aufbau der Metallisierungsschicht 310 ist möglich. Die Schichtdicke der Metallisierungsschicht 310 liegt im Bereich von 5 Mikrometern bis 15 Mikrometern. Typische Werte für eine Abscheidung aus der Gasphase sind 50 Nanometer bis 5 Mikrometer. Je dicker die Schicht wird, desto teuerer wird sie. Theoretisch sind 15 Mikrometer dicke Schichten auch über die Gasphasenabscheidung zu erzielen. Wenn dickere Schichten (5 Mikrometer bis 15 Mikrometer) gewünscht sind, kombiniert man den Dünnfilmprozess typischerweise aber mit galvanischer Abscheidung. The 8th shows a third manufacturing stage with a first metallization layer 310 the protective trace arrangement 12 , The metallization layer 310 is applied, for example, from the gas phase or sputtered (cathode sputtering) at temperatures at the insulating layer of, for example, only up to 80 degrees Celsius. The metallization layer 310 forms an adhesion-promoting layer and can serve as a base layer for the power supply in a galvanic process, possibly reinforced by a thin layer of copper vapor deposited or sputtered on. As a material of the metallization layer 310 For example, titanium, copper, tantalum, tungsten, chromium, a combination of these materials or their nitrides is suitable. Also a multilayer structure of the metallization layer 310 is possible. The layer thickness of the metallization layer 310 ranges from 5 microns to 15 microns. Typical values for a vapor deposition are 50 nanometers to 5 micrometers. The thicker the layer becomes, the more expensive it becomes. Theoretically, 15 micron thick layers can also be achieved by vapor deposition. If thicker layers (5 microns to 15 microns) are desired, the thin film process is typically combined with electrodeposition.

Beim Aufbringen der Metallisierungsschicht 310 entstehen die Kontaktabschnitte 18 und 20, sowie ein oberer Teil der Durchkontaktierung 52. Die Durchkontaktierung 54 wird am Rand der Isolierschicht 16 ebenfalls kontaktiert von der ersten Schicht 310 zur Herstellung der Schutz-Leiterbahnanordnung 12. When applying the metallization layer 310 arise the contact sections 18 and 20 , as well as an upper part of the via 52 , The via 54 is at the edge of the insulating layer 16 also contacted by the first layer 310 for the production of the protective conductor track arrangement 12 ,

Die 9 zeigt eine vierte Herstellungsstufe mit einer galvanisch hergestellten Metallisierungsschicht 320 die später den oberen Teil der Schutz-Leiterbahnanordnung 12 bildet und damit später die Schutz-Leiterbahnanordnung 12 verstärkt, hinsichtlich der mechanischen Stabilität. Die Metallisierungsschicht 320 ist bspw. eine ganzflächig aufgebrachte Kupferschicht, die anschließend in einem fotolithografischen Verfahren strukturiert wird. Alternativ wird ein semiadditives Verfahren eingesetzt, bei dem eine Fotomaske auf die Metallisierungsschicht 310 aufgebracht wird, worauf hin anschließend die Metallisierungsschicht 320 bereits strukturiert aufgebracht wird, bspw. durch Galvanisieren. The 9 shows a fourth manufacturing stage with a galvanized metallization layer 320 which later the upper part of the protective track arrangement 12 forms and thus later the protective trace arrangement 12 reinforced, in terms of mechanical stability. The metallization layer 320 is, for example, a copper layer applied over the entire surface, which is subsequently patterned in a photolithographic process. Alternatively, a semi-additive method is used in which a photomask is applied to the metallization layer 310 is applied, whereupon subsequently the metallization layer 320 already applied in a structured manner, for example by electroplating.

Die Schichtdicke der Metallisierungsschicht 320 liegt bspw. im Bereich von 20 Mikrometern bis 50 Mikrometern. Neben der Erhöhung der mechanischen Stabilität führt die Metallisierungsschicht 320 auch zu einer erheblichen Verringerung des ohmschen Widersands der Schutz-Leiterbahnanordnung 12 was dem einfacheren Erfassen von Unterbrechungen entgegen kommt. The layer thickness of the metallization layer 320 is, for example, in the range of 20 microns to 50 microns. In addition to increasing the mechanical stability leads the metallization layer 320 also to a significant reduction of the ohmic resistance of the protective circuit arrangement 12 which accommodates the easier detection of interruptions.

Weitere elektrisch leitfähige Schutzschichten können aufgebracht werden. Reinigungsschritte zwischen den Verfahrensschritten wurden nicht separat erläutert, insbesondere Rücksputterschritte zum Erzielen sauberer Oberflächen. Further electrically conductive protective layers can be applied. Purification steps between the process steps have not been discussed separately, especially back sputtering steps to achieve clean surfaces.

Die 10 zeigt eine fünfte Herstellungsstufe mit strukturierter Metallisierungsschicht 310, 320 wodurch die Schutz-Leiterbahnanordnung 12 erzeugt wird. Es wird zur Strukturierung bspw. ein fotolithografisches Verfahren unter Verwendung eines Fotolacks oder einer Fotofolie eingesetzt. Zum Strukturieren wird dann ein nasschemischer oder trockenchemischer Ätzprozess eingesetzt. Die Breite der Leiterbahn bzw. der Leiterbahnen der Schutz-Leiterbahnanordnung 12 liegt bspw. im Bereich von 50 Mikrometern bis 100 Mikrometern, so dass auch das Strukturieren von Kupfer kein Problem ist. Insbesondere sind die verwendeten Verfahren aus der Herstellung von Leiterplatten bekannt und optimiert. The 10 shows a fifth production step with structured metallization layer 310 . 320 causing the protective trace assembly 12 is produced. For structuring, for example, a photolithographic process using a photoresist or a photofoil is used. For structuring, a wet-chemical or dry-chemical etching process is then used. The width of the conductor track or the conductor tracks of the protective conductor arrangement 12 is, for example, in the range of 50 microns to 100 microns, so that the patterning of copper is not a problem. In particular, the methods used from the production of printed circuit boards are known and optimized.

Die 11 zeigt eine sechste Herstellungsstufe mit bereits aufgebrachter Vergussmasse 66 der Baugruppe 10. Die Vergussmasse 66 enthält bspw. ein Epoxid. Schwarze bzw. dunkle Füllstoffe erschweren ein optisches Untersuchen der Baugruppe 10. Beim Vergießen kann eine Wand das seitliche Weglaufen der Vergussmasse 66 verhindern. Alternativ kann eine Gießform verwendet werden, in die die Leiterplatte 14 gelegt wird. The 11 shows a sixth production stage with already applied potting compound 66 the assembly 10 , The potting compound 66 contains, for example, an epoxide. Black or dark fillers make optical inspection of the assembly difficult 10 , When potting a wall can laterally run away the potting compound 66 prevent. Alternatively, a mold may be used in which the circuit board 14 is placed.

Anstelle eines Vergießens kann ein sogenannter Mold-Prozess oder Spritzgussprozess verwendet werden, bei dem die Vergussmasse unter Druck und Temperatur mit Hilfe einer Form aufgebracht wird. Instead of potting, a so-called mold process or injection molding process can be used in which the potting compound is applied under pressure and temperature with the aid of a mold.

Die Baugruppen 100 und 200 werden analog zu der Baugruppe 10 hergestellt, d.h. insbesondere unter Verwendung der erläuterten Verfahren, Materialien, Schichtdicken und Herstellungsverfahren. The assemblies 100 and 200 become analogous to the module 10 manufactured, ie in particular using the explained methods, materials, layer thicknesses and manufacturing processes.

Bei anderen Ausführungsbeispielen sind drei Schutz-Leiterbahnanordnungen bzw. mehr als drei Schutz-Leiterbahnanordnungen, insbesondere mit mäanderförmigem oder spiralförmigen Verlauf übereinander angeordnet, um Manipulationen weiter zu erschweren. Bei weiteren Ausführungsbeispielen werden die Schutzmaßnahmen mit anderen Schutzmaßnahmen kombiniert. In other exemplary embodiments, three protective conductor track arrangements or more than three protective conductor track arrangements, in particular with a meandering or spiral course, are arranged one above the other in order to further complicate manipulation. In further embodiments, the protective measures are combined with other protective measures.

Die Ausführungsbeispiele sind nicht maßstabsgetreu und nicht beschränkend. Abwandlungen im Rahmen des fachmännischen Handelns sind möglich. Obwohl die Erfindung im Detail durch das bevorzugte Ausführungsbeispiel näher illustriert und beschrieben worden ist, ist die Erfindung nicht durch die offenbarten Beispiele eingeschränkt und andere Variationen können vom Fachmann hieraus abgeleitet werden, ohne den Schutzumfang der Erfindung zu verlassen.The embodiments are not to scale and are not restrictive. Modifications in the context of expert action are possible. Although the invention has been further illustrated and described in detail by the preferred embodiment, the invention is not limited by the disclosed examples, and other variations can be derived therefrom by those skilled in the art without departing from the scope of the invention.

Claims (16)

Elektronische Baugruppe (10, 100, 200), mit einer Leiterplatte (14, 114, 214), an oder in der mindestens zwei Leiterbahnen oder eine Vielzahl von Leiterbahnen angeordnet sind, mit mindestens einem elektronischen Bauelement (58) oder einer Vielzahl von Bauelementen (58, 60), das oder die eine auf der Leiterplatte (14, 114, 214) angeordnete elektronische Schaltung (62) bilden, mit einer die Schaltung (62) überdeckenden Leiterbahnanordnung (12), und mit einer Überwachungsschaltung (56), deren Eingänge mit der Leiterbahnanordnung (12) elektrisch leitfähig verbunden sind, wobei eine elektrisch isolierende Isolierschicht (16) an Seitenflächen des Bauelementes (58) oder an Seitenflächen der jeweiligen Bauelemente (56, 58) anliegt, und wobei die Leiterbahnanordnung (12) an der Isolierschicht (16) angeordnet ist. Electronic assembly ( 10 . 100 . 200 ), with a printed circuit board ( 14 . 114 . 214 ), are arranged on or in the at least two interconnects or a plurality of interconnects, with at least one electronic component ( 58 ) or a plurality of components ( 58 . 60 ), the one on the circuit board ( 14 . 114 . 214 ) arranged electronic circuit ( 62 ), with one the circuit ( 62 ) covering conductor track arrangement ( 12 ), and with a monitoring circuit ( 56 ) whose inputs are connected to the track arrangement ( 12 ) are electrically conductively connected, wherein an electrically insulating insulating layer ( 16 ) on side surfaces of the component ( 58 ) or on side surfaces of the respective components ( 56 . 58 ), and wherein the track arrangement ( 12 ) on the insulating layer ( 16 ) is arranged. Baugruppe (10, 100, 200) nach Anspruch 1, wobei die Isolierschicht auch an der der Leiterplatte (14, 114, 214) abgewandten Seite an dem Bauelement (58) oder an den Bauelementen (58, 60) angeordnet ist. Assembly ( 10 . 100 . 200 ) according to claim 1, wherein the insulating layer also on the circuit board ( 14 . 114 . 214 ) facing away from the component ( 58 ) or on the components ( 58 . 60 ) is arranged. Baugruppe (10, 100, 200) nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Isolierschicht (16) auf den Bauelementen (58, 60) so angeordnet ist, dass an einer den Bauelementen (58, 60) abgewandten Seite der Isolierschicht (16) Höhenunterschiede (H) größer als 50 Mikrometer oder größer als 200 Mikrometer oder größer als 400 Mikrometer auftreten, wobei die Leiterbahnanordnung (12) an der Isolierschicht angeordnet ist, und wobei an der Leiterbahnanordnung (12) Höhenunterschiede größer als 50 Mikrometer oder größer als 200 Mikrometer oder größer als 400 Mikrometer auftreten. Assembly ( 10 . 100 . 200 ) according to claim 1 or 2, wherein the insulating layer ( 16 ) on the components ( 58 . 60 ) is arranged so that at one of the components ( 58 . 60 ) facing away from the insulating layer ( 16 ) Height differences (H) greater than 50 microns or greater than 200 microns or greater than 400 microns occur, wherein the track arrangement ( 12 ) is arranged on the insulating layer, and wherein on the interconnect arrangement ( 12 ) Height differences greater than 50 microns or greater than 200 microns or greater than 400 microns occur. Baugruppe (10, 100, 200) nach Anspruch 3, wobei die Isolierschicht (16) eine Kunststofffolie ist oder enthält. Assembly ( 10 . 100 . 200 ) according to claim 3, wherein the insulating layer ( 16 ) is or contains a plastic film. Baugruppe (10, 100, 200) nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Isolierschicht (16) eine auf die Leiterplatte (14, 114, 214) gegossene Schicht ist. Assembly ( 10 . 100 . 200 ) according to claim 1 or 2, wherein the insulating layer ( 16 ) one on the circuit board ( 14 . 114 . 214 ) is cast layer. Leiterplatte (14, 114, 214) mit einer Leiterbahnlage (12), die im Gebiet der gesamten Leiterplatte (14, 114, 214) oder in einem zu schützenden Gebiet mindestens eine Leiterbahn mit mäanderförmigem oder spiralförmigen Verlauf enthält. Printed circuit board ( 14 . 114 . 214 ) with a conductor track position ( 12 ) in the area of the entire circuit board ( 14 . 114 . 214 ) or in an area to be protected at least one conductor track with a meandering or spiral course contains. Leiterplatte (14, 114, 214) nach Anspruch 6, wobei die Leiterbahnlage (250) eine erste Lage ist, und wobei die Leiterplatte (214) eine zweite Leiterbahnlage (255) enthält, die im Gebiet der gesamten Leiterplatte (214) oder in einem zu schützenden Gebiet mindestens eine weitere Leiterbahn mit mäanderförmigem oder spiralförmigen Verlauf enthält. Printed circuit board ( 14 . 114 . 214 ) according to claim 6, wherein the interconnect layer ( 250 ) is a first layer, and wherein the printed circuit board ( 214 ) a second interconnect layer ( 255 ) in the area of the entire circuit board ( 214 ) or in an area to be protected at least one further conductor track with a meandering or spiral course contains. Leiterplatte (14, 114, 214) nach Anspruch 7, wobei die Leiterbahn der ersten Leiterbahnlage (250) mit lateralem Versatz zu der Leiterbahn der zweiten Leiterbahnlage (255) angeordnet ist. Printed circuit board ( 14 . 114 . 214 ) according to claim 7, wherein the conductor track of the first interconnect layer ( 250 ) with lateral offset to the conductor track of the second interconnect layer ( 255 ) is arranged. Verfahren zum Herstellen einer Baugruppe (10, 100, 200), wobei auf einer bestückten Leiterplatte (14, 114, 214) eine Leiterbahnanordnung (12) separat ohne gleichzeitiges Anordnen einer Isolierschicht (16) angeordnet wird. Method for producing an assembly ( 10 . 100 . 200 ), wherein on a populated printed circuit board ( 14 . 114 . 214 ) a track arrangement ( 12 ) separately without simultaneous placement of an insulating layer ( 16 ) is arranged. Verfahren nach Anspruch 9, wobei auf der Leiterplatte (14, 114, 214) mindestens ein Bauelement (58) angeordnet wird oder mehrere elektronische Bauelemente (58, 60) angeordnet werden, wobei auf das Bauelement (58) oder auf die Bauelemente (58, 60) eine Isolierschicht (16) aufgebracht wird, wobei auf die Isolierschicht (16) eine elektrisch leitfähige Schicht (310, 320) aufgebracht wird, und wobei die elektrisch leitfähige Schicht (310, 320) nach dem Aufbringen auf die Isolierschicht (16) strukturiert wird zu der Leiterbahnanordnung (12). Method according to claim 9, wherein on the printed circuit board ( 14 . 114 . 214 ) at least one component ( 58 ) or a plurality of electronic components ( 58 . 60 ) are arranged, wherein on the component ( 58 ) or on the components ( 58 . 60 ) an insulating layer ( 16 ) is applied, being on the insulating layer ( 16 ) an electrically conductive layer ( 310 . 320 ), and wherein the electrically conductive layer ( 310 . 320 ) after application to the insulating layer ( 16 ) is structured to the interconnect arrangement ( 12 ). Verfahren nach Anspruch 10, wobei mindestens eine Leiterbahn der Leiterbahnanordnung (12) mit einer auf der Leiterplatte (14, 114, 214) angeordneten Überwachungsschaltung (56) verbunden wird, die die Baugruppe (10, 100, 200) gegen unberechtigte Zugriffe schützt. Method according to claim 10, wherein at least one printed conductor of the printed conductor arrangement ( 12 ) with one on the printed circuit board ( 14 . 114 . 214 ) arranged monitoring circuit ( 56 ), which is the assembly ( 10 . 100 . 200 ) protects against unauthorized access. Verfahren nach Anspruch 10 oder 11, wobei die Isolierschicht (16) als Folie aufgebracht wird. Method according to claim 10 or 11, wherein the insulating layer ( 16 ) is applied as a film. Verfahren nach Anspruch 12, wobei die Folie (16) mit Überdruck oder Unterdruck und/oder mit Übertemperatur aufgebracht wird. The method of claim 12, wherein the film ( 16 ) is applied with overpressure or underpressure and / or with excess temperature. Verfahren nach Anspruch 10 oder 11, wobei die Isolierschicht (16) aufgegossen, aufgeschleudert oder durch Eintauchen aufgebracht wird. Method according to claim 10 or 11, wherein the insulating layer ( 16 ) is poured on, spun on or applied by dipping. Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 14, wobei die Isolierschicht (16) mittels Laser in Kontaktbereichen geöffnet wird. Method according to one of claims 10 to 14, wherein the insulating layer ( 16 ) is opened by laser in contact areas. Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 15, wobei die Leiterbahnanordnung (12) durch Gasphasenabscheidung oder Sputtern, durch Galvanisieren oder durch sowohl Gasphasenabscheidung oder Sputtern als auch Galvanisieren aufgebracht wird.Method according to one of claims 9 to 15, wherein the track arrangement ( 12 ) by vapor deposition or sputtering, by electroplating or by both vapor deposition or sputtering and plating.
DE102011083419A 2011-09-26 2011-09-26 Electronic assembly, circuit board and process Withdrawn DE102011083419A1 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102011083419A DE102011083419A1 (en) 2011-09-26 2011-09-26 Electronic assembly, circuit board and process
PCT/EP2012/067128 WO2013045215A1 (en) 2011-09-26 2012-09-03 Electronic assembly, printed circuit board and method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102011083419A DE102011083419A1 (en) 2011-09-26 2011-09-26 Electronic assembly, circuit board and process

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102011083419A1 true DE102011083419A1 (en) 2013-03-28

Family

ID=46785423

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102011083419A Withdrawn DE102011083419A1 (en) 2011-09-26 2011-09-26 Electronic assembly, circuit board and process

Country Status (2)

Country Link
DE (1) DE102011083419A1 (en)
WO (1) WO2013045215A1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3255388A1 (en) * 2016-06-10 2017-12-13 Airbus Defence and Space GmbH Sensor carrier film for an object and method for equipping an object with a sensor system

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE59913706D1 (en) * 1998-11-05 2006-09-07 Siemens Ag PROTECTION FOR INTEGRATED CIRCUIT
JP4228677B2 (en) * 2002-12-06 2009-02-25 パナソニック株式会社 Circuit board
US7281667B2 (en) * 2005-04-14 2007-10-16 International Business Machines Corporation Method and structure for implementing secure multichip modules for encryption applications
DE102007044602A1 (en) * 2007-09-19 2009-04-23 Continental Automotive Gmbh Multilayer printed circuit board and use of a multilayer printed circuit board

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3255388A1 (en) * 2016-06-10 2017-12-13 Airbus Defence and Space GmbH Sensor carrier film for an object and method for equipping an object with a sensor system

Also Published As

Publication number Publication date
WO2013045215A1 (en) 2013-04-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE60002879T2 (en) CIRCUIT ARRANGEMENT WITH INTEGRATED PASSIVE COMPONENTS AND METHOD FOR THEIR PRODUCTION
EP1969624B1 (en) Integrated electronic device and cooling device for an integrated electronic device
DE60300619T2 (en) METHOD FOR EMBEDDING A COMPONENT INTO A BASIS AND FOR FORMING A CONTACT
DE102006055576A1 (en) Method for manufacturing a stretchable circuit carrier and expandable circuit carrier
DE102014111195B4 (en) Method for producing a chip arrangement and a chip arrangement
DE19615395A1 (en) Electrostatic protection device and process for its manufacture
DE102017220175A1 (en) Board technology for power electronic circuits
EP2107604A2 (en) Power semiconductor module with hermetically sealed switching assembly and corresponding production method
EP1897425A1 (en) Hardware protection system for sensitive electronic-data modules protecting against external manipulations
DE102013114472A1 (en) Method for producing a chip arrangement and chip arrangement
DE102006003137A1 (en) Electronic package for mobile telephone, has encapsulating medium e.g. epoxy resin, to connect upper and lower substrates such that substrates engage with one another and encapsulate electronic components
DE112019006485T5 (en) Semiconductor device and method of manufacturing the same
DE102015120745B4 (en) Chip protective packaging and processes
WO2007003226A1 (en) Sensor for a hardware protection system for sensitive electronic-data modules protecting against external manipulations
EP1276357A2 (en) Wiring board for electrical circuits
DE102005062802A1 (en) Electronic security module
DE102007024189A1 (en) Method for producing an electronic assembly
DE102015226712A1 (en) circuit board
EP0219627B1 (en) Multilayer printed-circuit board
DE102008057887A1 (en) Cryptographic module i.e. postal safety module, for use in franking machine, has access-protection unit consisting of printed circuit boards, where conductor paths of boards are changed from one layer to another layer
EP3111474B1 (en) Method for producing a printed circuit board with an embedded sensor chip, and printed circuit board
DE102005062799A1 (en) Electronic security module
DE102011083419A1 (en) Electronic assembly, circuit board and process
DE102009029870A1 (en) Method for producing a semiconductor device and semiconductor device
DE102007057948B4 (en) Safety device and safety cap arrangement with brittle cover element

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R016 Response to examination communication
R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee