DE102010048904A1 - Device, useful for converting a force and/or pressure into an electrical signal, comprises an electrical resistor formed of a composite material and dependent on pressure or force as a sensor element - Google Patents
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Abstract
Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Wandeln einer Kraft und/oder eines Drucks in ein elektrisches Signal, insbesondere einen Hochdrucksensor zum Messen von Drücken von mehr als 1.000 bar, insbesondere mehr als 4.000 bar und vorzugsweise mehr als 10.000 bar.The invention relates to a device for converting a force and / or pressure into an electrical signal, in particular a high-pressure sensor for measuring pressures of more than 1,000 bar, in particular more than 4,000 bar and preferably more than 10,000 bar.
Derartige Vorrichtungen werden beispielsweise eingesetzt, um Druckmessungen in hydraulischen Anlagen durchzuführen. Es können unterschiedliche Sensorprinzipien eingesetzt werden, beispielsweise piezoresistive, piezoelektrische oder kapazitive Messprinzipien. Insbesondere bei piezoresistiven und kapazitiven Messprinzipien wird ein Verformungskörper wie beispielsweise eine Membran vorgesehen, die sich abhängig von der Druckbeaufschlagung durchbiegt, wobei entweder kapazitiv die Durchbiegung der eine Elektrode aufweisende Membran ermittelt wird oder resistiv ein Dehnungsmessstreifen auf der Membran angeordnet ist, dessen durch die Druck- oder Kraftbeaufschlagung bedingte Geometrieänderung als Widerstandsänderung gemessen wird.Such devices are used, for example, to perform pressure measurements in hydraulic systems. Different sensor principles can be used, for example piezoresistive, piezoelectric or capacitive measuring principles. Particularly in the case of piezoresistive and capacitive measuring principles, a deformation element, such as a membrane, is provided which bends depending on the pressure applied, either capacitively determining the deflection of the membrane having an electrode, or resistively placing a strain gauge on the membrane. or Kraftbeaufschlagung conditional geometry change is measured as resistance change.
Bei piezoresistiven Sensoren ist der Widerstandswert der Messwiderstände nicht nur von der Druck- bzw. Kraftbeaufschlagung, sondern auch von der Temperatur abhängig; dies führt dazu, dass auch Temperaturänderungen zu einem Ausgangssignal des Sensors führen. Außerdem ist der Temperaturkoeffizient des elektrischen Widerstandes nicht konstant, wodurch eine Kompensation des Einflusses der Temperatur auf das Ausgangssignal des Sensors erschwert ist. Durch die Verwendung geeigneter metallischer Legierungen kann zum einen der Temperaturkoeffizient reduziert und eingestellt werden und darüber hinaus auch eine mindestens bereichsweise Linearisierung des Temperaturkoeffizienten erreicht werden. Nachteilig ist dabei, dass derartige metallische Legierungen eine geringe Dehnungsempfindlichkeit (K-Faktor in der Größenordnung von 2) aufweisen.In piezoresistive sensors, the resistance of the measuring resistors is not only dependent on the pressure or force, but also on the temperature; This causes temperature changes to lead to an output signal of the sensor. In addition, the temperature coefficient of the electrical resistance is not constant, whereby a compensation of the influence of the temperature on the output signal of the sensor is difficult. By using suitable metallic alloys, on the one hand, the temperature coefficient can be reduced and adjusted, and, moreover, an at least regional linearization of the temperature coefficient can be achieved. A disadvantage is that such metallic alloys have a low strain sensitivity (K-factor in the order of 2).
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung bereitzustellen, welche die Nachteile des Standes der Technik überwindet, insbesondere auch bei sehr hohen Drücken einen dauerhaft zuverlässigen Betrieb des Sensorelementes mit hoher Messgenauigkeit gewährleistet.The invention has for its object to provide a device which overcomes the disadvantages of the prior art, especially at very high pressures ensures a permanently reliable operation of the sensor element with high accuracy.
Diese Aufgabe ist durch die in Anspruch 1 bestimmte Vorrichtung gelöst. Besondere Ausführungsarten der Erfindung sind in den Unteransprüchen bestimmt.This object is achieved by the device defined in
In einer Ausführungsart weist die Vorrichtung als Sensorelement einen elektrischen Widerstand auf, dessen Widerstandswert abhängig von dem anliegenden Druck ist, und zwar ohne einen Verformungskörper, sondern allein aufgrund der Einwirkung des Druckes bzw. der Kraft auf den Werkstoff des Widerstandes. Erfindungsgemäß wird als Widerstandsmaterial keine metallische Legierung verwendet, jedenfalls keine reine metallische Legierung, sondern ein Kompositwerkstoff, der eine Matrix aus einem ersten, elektrisch schlecht leitfähigen Bestandteil (z. B. amorpher Kohlenstoff) aufweist. In diese Matrix sind graphenumhüllte (einige gebogene Lagen turbostratischer Graphit) Cluster und/oder Partikel aus einem zweiten, elektrisch gut leitfähigen Bestandteil (vorzugsweise einem Metall, z. B. Nickel) eingebettet.In one embodiment, the device has an electrical resistance as a sensor element whose resistance value is dependent on the applied pressure, without a deformation body, but solely due to the action of the pressure or the force on the material of the resistor. According to the invention, no metallic alloy is used as resistance material, in any case not a pure metallic alloy, but rather a composite material which has a matrix of a first, electrically poorly conductive constituent (eg amorphous carbon). Graphene-sheathed (some bent layers of turbostratic graphite) clusters and / or particles of a second, electrically highly conductive constituent (preferably a metal, eg nickel) are embedded in this matrix.
Bei den Clustern kann es sich um eine Anhäufung von Einzelpartikeln handeln. In einer Ausführungsart sind die Cluster dagegen so klein, dass die Cluster nicht durch eine Anhäufung von metallischen Partikeln gebildet sind, sondern dass mindestens ein Teil der Cluster, beispielsweise mindestens 50%, insbesondere mehr als 65% und vorzugsweise mehr als 80% der Cluster jeweils durch einen einzigen metallischen Partikel gebildet ist, insbesondere durch einen einkristallinen Partikel.The clusters can be an aggregate of single particles. By contrast, in one embodiment, the clusters are so small that the clusters are not formed by an accumulation of metallic particles, but that at least a portion of the clusters, for example, at least 50%, in particular more than 65%, and preferably more than 80% of the clusters each is formed by a single metallic particle, in particular by a monocrystalline particle.
In einem Temperaturbereich von beispielsweise 100 bis 500 Kelvin, insbesondere 200 bis 400 Kelvin, muss der Temperaturkoeffizient des Widerstandes des ersten, elektrisch schlecht leitfähigen Bestandteils (die Matrix) ein umgekehrtes Vorzeichen gegenüber dem Temperaturkoeffizienten des Widerstandes des zweiten, elektrisch gut leitfähigen Bestandteils (die metallischen Cluster) aufweisen. Der erste Bestandteil kann einen negativen Temperaturkoeffizienten aufweisen, beispielsweise –10000 ppm/K, wohingegen der zweite Bestandteil einen positiven Temperaturkoeffizienten (z. B. +3000 ppm/K) aufweist. Dadurch kann der Temperaturkoeffizient des Widerstandswerts des gesamten Widerstandes mindestens bereichsweise (z. B. zwischen 200 und 400 Kelvin) sehr stark reduziert werden und beispielsweise weniger als ±100 ppm/K betragen. Darüber hinaus besteht die Möglichkeit, den Verlauf des Widerstandswertes in Abhängigkeit von der Temperatur in einem Bereich von beispielsweise 200 bis 400 K zu linearisieren, so dass eine Kompensation des Temperatureinflusses vereinfacht ist.In a temperature range of, for example, 100 to 500 Kelvin, in particular 200 to 400 Kelvin, the temperature coefficient of the resistance of the first, electrically poorly conductive component (the matrix) must have a reverse sign to the temperature coefficient of resistance of the second, electrically good conductive component (the metallic Cluster). The first constituent may have a negative temperature coefficient, for example -10000 ppm / K, whereas the second constituent has a positive temperature coefficient (eg +3000 ppm / K). As a result, the temperature coefficient of the resistance value of the total resistance can be very greatly reduced at least regionally (for example, between 200 and 400 Kelvin) and, for example, be less than ± 100 ppm / K. In addition, it is possible to linearize the profile of the resistance value as a function of the temperature in a range of, for example, 200 to 400 K, so that a compensation of the temperature influence is simplified.
Ein weiterer Vorteil eines solchen Kompositwerkstoffes für den Widerstand besteht darin, dass durch die Einwirkung des Drucks bzw. der Kraft eine Änderung des Widerstandswertes messbar ist, die deutlich höher ist als eine durch eine Geometrieänderung verursachte Widerstandsänderung. Messungen haben ergeben, dass sogenannte K-Faktoren (bezeichnet die Dehnungsempfindlichkeit) von mehr als 15, insbesondere mehr als 20 erreichbar sind. Durch den piezoresistiven Effekt dieser Dünnschichten ist es möglich, ohne die Verwendung eines Verformungskörpers das Sensorelement auf einem massiven Trägerkörper anzuordnen, wodurch die Hochdruckfestigkeit der Vorrichtung deutlich erhöht ist. Der Druck wirkt isostatisch auf den Widerstand ein und bewirkt eine Widerstandsänderung, ohne dass es auf eine Geometrieänderung des Widerstandes ankommt.Another advantage of such a composite material for the resistor is that a change in the resistance value is measurable by the action of the pressure or the force, which is significantly higher than a change in resistance caused by a change in geometry. Measurements have shown that so-called K-factors (referred to the strain sensitivity) of more than 15, in particular more than 20 can be achieved. Due to the piezoresistive effect of these thin films, it is possible without the use of a Deformation body to arrange the sensor element on a solid support body, whereby the high pressure resistance of the device is significantly increased. The pressure acts isostatically on the resistor and causes a change in resistance, without the need for a change in the geometry of the resistor.
In einer Ausführungsart ist der erste, elektrisch schlecht leitfähige Bestandteil kohlenstoffhaltig oder kohlenwasserstoffhaltig und kann insbesondere durch amorphen Kohlenstoff oder Kohlenwasserstoff gebildet sein. Der zweite elektrisch leitfähige Bestandteil kann durch ein Metall gebildet sein, beispielsweise durch Nickel. Der Kompositwerkstoff kann durch Kathodenzerstäubung hergestellt werden, beispielsweise unter Verwendung eines Metalltargets, aus dessen Werkstoff die Cluster gebildet werden können. Der Sputterprozess erfolgt dabei unter Verwendung eines kohlenstoffhaltigen oder kohlenwasserstoffhaltigen Gases, oder durch die gleichzeitige Abscheidung von zwei Targets, einem Kohlenstoff- und einem Metalltarget, so dass sich bei der Herstellung der Widerstandsschicht gleichzeitig die Matrix und die Cluster bilden. Die Konzentration des zweiten elektrisch leitfähigen Bestandteils innerhalb der Widerstandsschicht kann dabei zwischen 10 und 80 Atomprozent liegen, insbesondere zwischen 40 und 60 Atomprozent und vorzugsweise zwischen 45 und 55 Atomprozent. Vorzugsweise bilden sich keine durchgehenden, metallisch leitfähigen Pfade aus, d. h. der Metallanteil liegt unterhalb der Perkolationsgrenze. Die Cluster können grundsätzlich eine beliebige Form haben, insbesondere aber auch im Wesentlichen mindestens abschnittsweise sphärisch ausgebildet sein mit einer Größe zwischen 5 und 100 nm, vorzugsweise zwischen 10 und 20 nm.In one embodiment, the first, electrically poorly conductive component is carbon-containing or hydrocarbon-containing and can be formed in particular by amorphous carbon or hydrocarbon. The second electrically conductive component may be formed by a metal, for example by nickel. The composite material can be produced by sputtering, for example using a metal target, from the material of which the clusters can be formed. The sputtering process is carried out using a carbonaceous or hydrocarbon-containing gas, or by the simultaneous deposition of two targets, a carbon and a metal target, so that at the same time form the matrix and clusters in the production of the resistive layer. The concentration of the second electrically conductive constituent within the resistive layer may be between 10 and 80 atomic percent, in particular between 40 and 60 atomic percent, and preferably between 45 and 55 atomic percent. Preferably, no continuous, metallically conductive paths are formed, d. H. the metal content is below the percolation limit. The clusters may in principle have any shape, but in particular may also be substantially spherical at least in sections, with a size between 5 and 100 nm, preferably between 10 and 20 nm.
In einer Ausführungsart weist der erste elektrisch leitfähige Bestandteil eine geringe elektrische Leitfähigkeit in Stromrichtung von weniger als 5 × 103 S/cm auf, insbesondere weniger als 0,5 × 103 S/cm und vorzugsweise weniger als 0,05 × 103 S/cm, und/oder der zweite elektrisch leitfähige Bestandteil weist eine hohe elektrische Leitfähigkeit in Stromrichtung von mehr als 5 × 103 S/cm auf, insbesondere mehr als 8 × 103 S/cm und vorzugsweise mehr als 12,5 × 103 S/cm.In one embodiment, the first electrically conductive component has a low electrical conductivity in the current direction of less than 5 × 10 3 S / cm, in particular less than 0.5 × 10 3 S / cm and preferably less than 0.05 × 10 3 S. / cm, and / or the second electrically conductive component has a high electrical conductivity in the current direction of more than 5 × 10 3 S / cm, in particular more than 8 × 10 3 S / cm and preferably more than 12.5 × 10 3 S / cm.
In einer Ausführungsart weisen die metallischen bzw. gut leitfähigen Cluster und/oder Partikel eine kohlenstoffhaltige Hülle auf, welche aus gebogenen Graphenlagen (turbostratischem Graphit) besteht. Dadurch ist ein unmittelbarer elektrischer Kontakt der einzelnen Cluster bzw. Partikel untereinander verhindert, der zur Ausbildung eines elektrisch leitfähigen Pfades innerhalb des Widerstandselementes führen würde, was dem Ziel, den Temperaturkoeffizienten des Widerstandswertes zu reduzieren, hinderlich wäre. Aus dem gleichen Grund weisen die Cluster bzw. Partikel innerhalb der Matrix vorzugsweise auch einen Abstand bis zu wenigen Nanometern zueinander auf.In one embodiment, the metallic or highly conductive clusters and / or particles have a carbon-containing shell which consists of curved graphene layers (turbostratic graphite). As a result, a direct electrical contact of the individual clusters or particles is prevented with each other, which would lead to the formation of an electrically conductive path within the resistive element, which would hinder the goal of reducing the temperature coefficient of the resistance. For the same reason, the clusters or particles within the matrix preferably also have a distance of up to a few nanometers from one another.
In einer Ausführungsart weist das Sensorelement eine Passivierung auf, wobei die Passivierung insbesondere als Passivierungsschicht auf die Widerstandsschicht aufgebracht ist. Als Passivierung kann eine Schicht aus SiO2, Si3N4 oder Al2O3 vorgesehen sein oder auch eine Kombination von zwei oder mehreren solcher Schichten. Dadurch ist die Langzeitstabilität der Vorrichtung verbessert. Sowohl die Widerstandsschicht als auch die Passivierungsschicht kann ganzflächig aufgebracht werden und anschließend strukturiert werden.In one embodiment, the sensor element has a passivation, wherein the passivation is applied in particular as a passivation layer on the resistance layer. As a passivation, a layer of SiO 2 , Si 3 N 4 or Al 2 O 3 may be provided or a combination of two or more such layers. As a result, the long-term stability of the device is improved. Both the resistive layer and the passivation layer can be applied over the entire surface and then patterned.
In einer Ausführungsart weist die Vorrichtung einen vorzugsweise aus einer Keramik hergestellten Dichtkörper auf, der mindestens einen elektrisch leitfähigen Pfad für eine elektrische Durchkontaktierung von einer Hochdruckseite auf eine Niederdruckseite aufweist. Dadurch kann eine elektrische Durchkontaktierung des Messwiderstandes auf einfache und zuverlässige Weise erfolgen. Der Dichtkörper kann beispielsweise aus Al2O3, Si3N4 oder ZrO2 hergestellt sein. Zur Ausbildung des elektrisch leitfähigen Pfades kann die Keramik durch eine lokale Dotierung mit entsprechenden Zuschlagstoffen abschnittsweise elektrisch leitfähig sein.In one embodiment, the device has a sealing body, preferably made of a ceramic, which has at least one electrically conductive path for an electrical through-connection from a high-pressure side to a low-pressure side. As a result, an electrical through-connection of the measuring resistor can take place in a simple and reliable manner. The sealing body may for example be made of Al 2 O 3 , Si 3 N 4 or ZrO 2 . To form the electrically conductive path, the ceramic can be electrically conductive in sections by means of a local doping with corresponding additives.
In einer Ausführungsart ist der Messwiderstand auf einer der Hochdruckseite ausgesetzten Fläche des Dichtkörpers angeordnet, beispielsweise auf einer mit einer Längsachse des Dichtkörpers einen rechten Winkel einschließenden Stirnfläche. Der elektrisch leitfähige Pfad kann parallel oder koaxial zur Längsachse verlaufen. Die elektrische Verbindung zwischen dem Messwiderstand und dem Pfad kann unmittelbar durch Anlage des Messwiderstandes an dem Pfad erfolgen, oder durch eine auf der Stirnseite außerdem aufgebrachte metallische Leiterbahn und/oder ein zwischen den Pfad und den Messwiderstand angeordnetes Kontaktelement.In one embodiment, the measuring resistor is arranged on a surface of the sealing body exposed to the high pressure side, for example on an end face enclosing a right angle with a longitudinal axis of the sealing body. The electrically conductive path may be parallel or coaxial with the longitudinal axis. The electrical connection between the measuring resistor and the path can be effected directly by applying the measuring resistor to the path, or by a metal conductor track also applied on the front side and / or a contact element arranged between the path and the measuring resistor.
In einer Ausführungsart ist eine weitere elektrische Kontaktierung des Widerstandes über einen Grundkörper bereitstellbar, an den die Vorrichtung in dichtende Anlage bringbar ist. Beispielsweise kann ein zweiter Pol des Messwiderstandes über den Dichtkörper der Vorrichtung in elektrisch leitfähige Verbindung mit dem Grundkörper bringbar sein. Sofern der Grundkörper metallisch ist oder eine metallische Beschichtung aufweist, kann der zweite Pol des Messwiderstandes durch eine metallische Leiterbahn auf dem Dichtkörper dadurch auf das elektrische Potenzial des Grundkörpers bzw. dessen Beschichtung gelegt werden. Dabei kann es sich auch um Erdpotential oder Massepotential handeln. Da der zweite Pol über den elektrisch leitfähigen Pfad auf die Niederdruckseite geführt ist, kann dort eine Widerstandsänderung und damit der Druck auf der Hochdruckseite gemessen werden. Es entfällt eine störanfällige Aufbau- und Verbindungstechnik auf der Hochdruckseite.In one embodiment, a further electrical contacting of the resistor can be provided via a main body, to which the device can be brought into sealing engagement. For example, a second pole of the measuring resistor can be brought into an electrically conductive connection with the base body via the sealing body of the device. If the main body is metallic or has a metallic coating, the second pole of the measuring resistor can be laid on the sealing body by a metallic conductor on the electrical potential of the body or its coating. This can also be earth potential or ground potential. Since the second pole is guided over the electrically conductive path to the low pressure side, there can be a Resistance change and thus the pressure on the high pressure side are measured. It eliminates an error-prone assembly and connection technology on the high pressure side.
In einer Ausführungsart weist die Vorrichtung mindestens ein Referenzelement mit dem gleichen Temperaturkoeffizienten des elektrischen Widerstands auf, das derart angeordnet ist, dass das elektrische Signal des Referenzelements, beispielsweise der elektrische Widerstandswert, unabhängig von dem zu messenden Druck ist. Beispielsweise kann das Referenzelement durch einen weiteren elektrischen Widerstand gebildet sein, der mit dem Messwiderstand zu einer Halbbrücke verschaltbar ist oder in der Vorrichtung bereits verschaltet ist. Das Referenzelement kann auch als Temperatursensor eingesetzt werden. Vorzugsweise ist sowohl das Sensorelement als auch das Referenzelement an einem gemeinsamen Körper der Vorrichtung in Dünnschichttechnik aufgebracht, vorzugsweise an dem Dichtkörper, so dass beide Elemente im Wesentlichen die gleiche Temperatur aufweisen.In one embodiment, the device has at least one reference element with the same temperature coefficient of electrical resistance, which is arranged such that the electrical signal of the reference element, for example the electrical resistance, is independent of the pressure to be measured. For example, the reference element may be formed by a further electrical resistance, which is connected to the measuring resistor to a half-bridge or is already connected in the device. The reference element can also be used as a temperature sensor. Preferably, both the sensor element and the reference element is applied to a common body of the device in thin-film technology, preferably on the sealing body, so that both elements have substantially the same temperature.
In einer Ausführungsart ist das Referenzelement auf einer der Hochdruckseite gegenüberliegenden Fläche der Vorrichtung angeordnet. Das Referenzelement kann auf der Niederdruckseite mit dem elektrisch leitfähigen Pfad verbunden sein, der auf der Hochdruckseite das Sensorelement kontaktiert.In one embodiment, the reference element is disposed on an opposite side of the high pressure side of the device. The reference element may be connected to the electrically conductive path on the low-pressure side, which contacts the sensor element on the high-pressure side.
In einer Ausführungsart ist das Referenzelement ein weiterer Widerstand, der einen mit dem Messwiderstand im Wesentlichen übereinstimmenden Temperaturkoeffizienten des Widerstandswertes aufweist. Hierzu kann das Referenzelement im Wesentlichen identisch aufgebaut und hergestellt sein wie das Sensorelement, insbesondere ebenfalls aus einem Kompositwerkstoff. Die Verschaltung von Sensorelement und Referenzelement kann durch in Dünnschichttechnik aufgebrachte Verbindungsleitungen erfolgen. Auf der Hochdruckseite können auch zwei oder mehrere Sensorelemente angeordnet sein, die mit zwei oder mehreren Referenzelementen paarweise zu einer Vollbrücke verschaltbar sind.In one embodiment, the reference element is a further resistor which has a temperature coefficient of the resistance value substantially matching the measuring resistor. For this purpose, the reference element can be constructed and manufactured substantially identical to the sensor element, in particular likewise made of a composite material. The interconnection of sensor element and reference element can be done by thin-layer applied connection lines. On the high-pressure side, two or more sensor elements can be arranged, which are connected in pairs to form a full bridge with two or more reference elements.
Weitere Vorteile, Merkmale und Einzelheiten der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen und der nachfolgenden Beschreibung, in der unter Bezugnahme auf die Zeichnungen mehrere Ausführungsbeispiele im Einzelnen beschrieben sind. Dabei können die in den Ansprüchen und in der Beschreibung erwähnten Merkmale jeweils einzeln für sich oder in beliebiger Kombination erfindungswesentlich sein.Further advantages, features and details of the invention will become apparent from the subclaims and the following description in which several embodiments are described in detail with reference to the drawings. The features mentioned in the claims and in the description may each be essential to the invention individually or in any desired combination.
Die
An den kegelförmigen Abschnitt
Im Zentrum des Dichtkörpers
Im Ausführungsbeispiel weist die Vorrichtung
An oder nahe seinem der Niederdruckseite
In Richtung auf die Hochdruckseite
Die
Die
An dem der Hochdruckseite
Alternativ oder ergänzend zu der elektrischen Beschichtung
Die
Abhängig von der erforderlichen Stromtragfähigkeit und dem maximal möglichen Durchmesser des Dichtkörpers
Die
Auf einer der Hochdruckseite
Ein weiteres Sensorelement
Auf der Niederdruckseite
Sowohl die Sensorelemente
In dem in den
Als Widerstandsmaterial für die Referenzelemente
Alternativ oder ergänzend kann mindestens ein Teil der Widerstandsbahnen der Referenzelemente
Die
Die
Die
Zwischen den Clustern
In den metallischen Clustern
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