DE102010006239B3 - Interferometric arrangement e.g. Michelson interferometer, for determining e.g. distance of polished glass surface, has track lines for forming triangle such that preset amount of lateral shear is caused between reference and object bundles - Google Patents

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Abstract

The arrangement has a short coherent electromagnetic radiation source for illuminating an object, and a detector (12) for detecting electromagnetic radiations (1). An interference microscope has an end reflector (8) with three plane mirrors (9-11) arranged in a reference optical path (R) as a reference reflector, where surfaces of the mirrors lie perpendicular to a common reference plane (BE). Track lines of the plane represented by the surfaces form a triangle in the plane such that preset amount of lateral shear is caused between a reference bundle and an object bundle. An independent claim is also included for an interferometric method for determining distance, depth, profile, shape, ripples and/or roughness or optical path length of a technical or biological object or for use in an optical coherence tomography.

Description

Stand der TechnikState of the art

In der Offenlegungsschrift DE 10 2006 015 387 A1 [1] von M. Hering u. a. ist eine interferometrische Messvorrichtung auf der Basis der Weißlicht-Interferometrie, auch als Kurzkohärenz-Interferometrie bekannt, beschrieben, bei der die Wellenfronten des reflektierten Objektstrahls und die des reflektierten Referenzstrahls mittels einer Neigungsvorrichtung um einen bestimmten Winkelbetrag zueinander geneigt sind, so dass ein räumliches Interferogramm als Single-Shot-Datensatz entstehen kann. Beispielsweise ist dieser Winkelbetrag hier in einer stark modifizierten Linnik-Interferometer-Anordnung, die auch Merkmale eines Mach-Zehnder-Interferometers aufweist, durch einen Kippspiegel, der vom Licht auf dem Weg zur Detektion nur einmalig passiert wird, realisiert. Dabei ist der Kippspiegel der Linnik-Anordnung nachgeordnet, befindet sich in einem Unendlich-Strahlengang für das Objektlicht und ist noch Bestandteil des Interferometers.In the published patent application DE 10 2006 015 387 A1 [1] by M. Hering et al. Describes an interferometric measuring device based on white-light interferometry, also known as short-coherence interferometry, in which the wavefronts of the reflected object beam and that of the reflected reference beam are tilted by a certain angle relative to one another by means of a tilting device are, so that a spatial interferogram can arise as a single-shot record. For example, this angular amount is realized here in a heavily modified Linnik-interferometer arrangement, which also has features of a Mach-Zehnder interferometer, by a tilting mirror, which is passed only once by the light on the way to the detection. The tilting mirror is subordinate to the Linnik arrangement, is located in an infinity beam path for the object light and is still part of the interferometer.

Mit dem Messverfahren auf der Grundlage dieser optischen Anordnung können ein oder mehrere räumliche Interferogramme, auch als Linienstapel auf einer Matrixkamera, als Single-Shot-Datensätze in der Zeitdauer einer Bildaufnahme vollständig zur Verfügung gestellt werden.With the measurement method based on this optical arrangement, one or more spatial interferograms, even as a line stack on a matrix camera, can be fully provided as single-shot data sets in the period of image capture.

Von besonderem Vorteil ist bei diesem Ansatz mit dem Kippspiegel im Unendlich-Strahlengang, dass die Ortsfrequenz für die Schwerpunktwellenlänge, beziehungsweise die Schwerpunktwellenzahl, im räumlichen Interferogramm am Ausgang des Interferometers in erster Näherung nicht von der Neigung der Objektoberfläche in Relation zum Interferometer beeinflusst wird. Diese Invarianz der Ortsfrequenz stellt einen großen Vorteil für die Auswertung von räumlichen Interferogrammen dar.It is particularly advantageous in this approach with the tilting mirror in the infinity beam path that the spatial frequency for the centroid wavelength, or the center of gravity wave number, in the spatial interferogram at the output of the interferometer in a first approximation is not affected by the inclination of the object surface in relation to the interferometer. This invariance of the spatial frequency represents a major advantage for the evaluation of spatial interferograms.

Diese in [1] beschriebene nachgeordnete Neigungsvorrichtung ist jedoch aufwendig – auch in der Justierung – und in der Regel recht anfällig für unerwünschte Dejustierungen und somit ist das Interferometer in der Regel auch nicht langzeitstabil. Damit kann sich auch die Signalform eines kurzkohärenten räumlichen Interferogramms in unbekannter Weise verändern, was für die Auswertung einen erheblichen Nachteil darstellen kann.However, this subordinate tilting device described in [1] is expensive - even in the adjustment - and generally quite vulnerable to undesired misalignments and thus the interferometer is usually not long-term stability. Thus, the waveform of a short-coherent spatial interferogram can change in an unknown manner, which can represent a significant disadvantage for the evaluation.

Eine gezielte Veränderung des Winkelbetrages mittels Neigungsvorrichtung, beispielsweise um die Ortsfrequenz für die Schwerpunktwellenlänge im räumlichen Interferogramm vorbestimmt zu verändern, kann zu einem unerwünschten Lateralversatz von Objektwellenfront und Referenz-Wellenfront bei der Detektion führen, der nur aufwendig oder durch eine Justierung in einigen Fällen gar nicht zu kompensieren ist. Damit ist bei dieser Anordnung die Möglichkeit, die Ortsfrequenz für die Schwerpunktwellenlänge im räumlichen Interferogramm in einfacher Art und Weise zu verändern, stark eingeschränkt. Weiterhin kann es bei einer suboptimalen Justierung des recht komplexen Interferometers permanent zu einer nur teilweisen lateralen Überdeckung von Objektwellenfront und Referenzwellenfront kommen, was eine Quelle von Messfehlern darstellen oder den Tiefenmessbereich erheblich einschränken, kann, da bei fehlender Überlagerung der Interferenzeffekt verschwindet.A targeted change in the angle by tilt device, for example, to change the spatial frequency for the centroid wavelength in the spatial interferogram predetermined, can lead to an unwanted lateral displacement of the object wavefront and reference wavefront during detection, the only consuming or by an adjustment in some cases not to compensate. Thus, in this arrangement, the ability to change the spatial frequency for the center wavelength in the spatial interferogram in a simple manner, severely limited. Furthermore, a suboptimal adjustment of the rather complex interferometer can permanently lead to only partial lateral coverage of the object wavefront and reference wavefront, which is a source of measurement errors or severely limit the depth measurement range, since the interference effect disappears in the absence of superimposition.

In der Veröffentlichung von M. Hering u. a. in Applied Optics, Vol. 48, Nummer 3, Seite 525 bis 538 vom 20. Januar 2009 [2] zeigen die gemessenen räumlichen Interferogramme in das Potenzial dieses Ansatzes gemäß [1]. Die in der präsentierte interferometrische One-Shot-Messanordnung stellt einen Experimentalaufbau zu Studienzwecken dar und ist für die wirtschaftliche Umsetzung eher zu komplex und zu voluminös sowie auch sehr justieraufwendig. Das optische Prinzip bedingt, dass hierbei die technischen und konstruktiven Maßnahmen, um eine hohe mechanische Stabilität und Temperatur-Stabilität zu erreichen, recht aufwendig sind. Typische Messergebnisse auf der Grundlage dieses Ansatzes wurden von M. Hering u. a. bereits im Jahr 2006 in den Proceedings of SPIE, Vol. 6188, 61880E-1 bis 61880E-11 in der 7 dargestellt [3].In the publication by M. Hering et al. In Applied Optics, vol. 48, number 3, pages 525 to 538 of 20 January 2009 [2], the measured spatial interferograms in the potential of this approach according to [1]. The in the presented interferometric one-shot measurement arrangement is an experimental setup for study purposes and is for the economic implementation rather complex and too voluminous and also very easy to adjust. The optical principle requires that in this case the technical and constructive measures to achieve a high mechanical stability and temperature stability, quite expensive. Typical measurement results based on this approach were already reported by M. Hering in 2006 in the Proceedings of SPIE, Vol. 6188, 61880E-1 to 61880E-11 in the 7 represented [3].

Das Gewinnen räumlicher Interferogramme für die One-Shot-Messtechnik, beispielsweise zur Messung des Abstandes oder des Profils, mittels Neigungsvorrichtung in Form eines planen Kippspiegels im Interferometer, wobei sich dieser jedoch stets außerhalb des objektabbildenden und auch außerhalb des fokussierten Referenz-Strahlenganges, also in einem Unendlich-Strahlengang befindet, wird als der hier zu betrachtende Stand der Technik angesehen.Obtaining spatial interferograms for the one-shot measurement technique, for example, for measuring the distance or the profile by means of inclination device in the form of a plane tilting mirror in the interferometer, but this always outside the objektabbildenden and outside of the focused reference beam path, ie in an infinity beam path is considered as the prior art considered here.

Bei diesem Prinzip führt die Neigung einer Objektoberfläche in Bezug zum Interferometer vorteilhafterweise nicht zu einem Verändern der Ortsfrequenz für die Schwerpunktwellenlänge, beziehungsweise die Schwerpunktwellenzahl, in einem räumlichen Interferogramm. Jedoch kann sich der Interferenzkontrast schon bei geringen Kippungen der Objektoberfläche dem Wert null nähern.In this principle, the inclination of an object surface with respect to the interferometer advantageously does not lead to a change of the spatial frequency for the centroid wavelength, or the centroid wave number, in a spatial interferogram. However, the interference contrast can approach the value zero even at slight tilting of the object surface.

Ein vergleichsweise hoher Interferenzkontrast im detektierten räumlichen Interferogramm kann über einen vergleichsweise großen Kippwinkelbereich der Objektoberfläche nur dann erreicht werden, wenn diese Objektoberfläche mittels Optik mit hoher numerischer Apertur und mit lateral nahezu beugungsbegrenzten Fokuspunkten oder fokussierten Linienbildern beleuchtet wird.A comparatively high interference contrast in the detected spatial interferogram can only be achieved over a comparatively large tilt angle range of the object surface if this object surface is illuminated by means of optics with a high numerical aperture and laterally almost diffraction-limited focus points or focused line images.

Dagegen sind Michelson-Typ-Interferometer mit einem planem Referenzspiegel, bei denen die Ortsfrequenz für die Schwerpunktwellenlänge in einem räumlichen Interferogramm am Ausgang des Interferometers durch Kippung des Referenzspiegels oder durch Kippung des Objekts in Bezug zum Interferometer oder des Interferometers in Bezug zum Objekt zu verändern ist, für Messobjekte mit variierender und unbekannter Oberflächenneigung hinsichtlich der Auswertung von räumlichen Interferogrammen hier nicht von Interesse. Deshalb werden Ansätze auf dieser Grundlage nicht als Stand der Technik in Bezug zu dieser Erfindung angesehen und werden deshalb hier auch nicht weiter betrachtet. In contrast, Michelson-type interferometers are with a plane reference mirror in which the spatial frequency for the centroid wavelength in a spatial interferogram at the output of the interferometer by tilting the reference mirror or by tilting the object relative to the interferometer or the interferometer with respect to the object to change , for measuring objects with varying and unknown surface inclination with respect to the evaluation of spatial interferograms not of interest here. Therefore, approaches on this basis are not considered to be prior art in relation to this invention and, therefore, will not be considered further here.

Das Gewinnen räumlicher Interferogramme für die One-Shot-Messtechnik mittels Lateral-Shear zwischen Objekt- und Referenzwellenfronten am Ausgang eines Zweistrahl-Interferometers stellt grundsätzlich eine weitere Möglichkeit der Erzeugung räumlicher Interferogramme für die One-Shot-Messtechnik, beispielsweise zur Erfassung des Abstands, dar. Denn Lateral-Shear kann in einer optischen Anordnung als Grundlage zur Generierung von Interferenzen zueinander geneigter Wellenfronten genutzt werden. Einen ganz klassischen Ansatz stellt dafür eine Michelson-Interferometer-Anordnung mit zwei Dachkant-Reflektoren dar, um die erforderliche Lateral-Shear zu erzeugen. Dieser Ansatz mit zwei Dachkant-Reflektoren wird in der Regel zur Wellenfrontanalyse eingesetzt und ist den Fachleuten gut bekannt, s. a. D. Malaccra, Optical Shop Testing, John Wiley & Sons, Inc., 1992, S. 140–141, 4.16 [4] und auch W. H. Steel, Interferometry, Cambridge University Press, 1967, S. 83 letzter Absatz bis S. 84 oben [5].The acquisition of spatial interferograms for the one-shot measurement technique by means of lateral shear between object and reference wavefronts at the output of a two-beam interferometer basically represents another possibility of generating spatial interferograms for the one-shot measurement technique, for example for detecting the distance Because lateral shears can be used in an optical arrangement as a basis for generating interference of mutually inclined wavefronts. A classic approach is to use a Michelson interferometer with two ridge reflectors to create the required lateral shear. This approach with two ridge reflectors is typically used for wavefront analysis and is well known to those skilled in the art, see D. Malaccra, Optical Shop Testing, John Wiley & Sons, Inc., 1992, pp. 140-141, 4 .16 [4] and also WH Steel, Interferometry, Cambridge University Press, 1967, p. 83 last paragraph to p. 84 above [5].

Um diesen Interferometer-Ansatz mit zwei Dachkant-Reflektoren für die Abstandsmessung und Profilmessung nutzen zu können, muss demzufolge im Objektstrahlengang des Interferometers der Objektoberfläche ein zusätzlicher Planspiegel zugeordnet werden, wobei dieser Planspiegel mit der Objektoberfläche dann eine Dachkante bildet. Im Referenzstrahlengang ist hierbei der zweite Dachkantreflektor angeordnet. Diese Anordnung liefert bei entsprechender Justierung Lateral-Shear, vermeidet die Wellenfront-Inversion, weist aber in der Regel eindeutige Nachteile wegen des Bauvolumens im Objektstrahlengang, also bezüglich der Zugänglichkeit zum Objekt auf, beispielsweise bei der Messung in Innenräumen.In order to be able to use this interferometer approach with two roof edge reflectors for the distance measurement and profile measurement, an additional plane mirror must therefore be assigned to the object surface in the object beam path of the interferometer, this plane mirror then forming a roof edge with the object surface. In the reference beam path in this case the second roof edge reflector is arranged. This arrangement provides with appropriate adjustment lateral shear, avoids the wavefront inversion, but usually has clear disadvantages because of the volume in the object beam path, so in terms of accessibility to the object, for example, when measuring indoors.

Bekannt ist auch der von D. Kelsall im Jahr 1959 in Proc. Phys. Society, 73, S. 470, 1 [6] veröffentlichte Ansatz mit zwei Tripelreflektoren als Endreflektoren eines Michelson-Interferometers. Die laterale Verschiebung eines Tripelreflektors erzeugt ebenfalls eine Lateral-Shear zwischen Objekt- und Referenzwellenfronten am Ausgang eines Michelson-Interferometers. Der Einsatz eines Tripelreflektors im Referenzstrahlengang eines Michelson-Interferometers geht ja nach bestem Wissen jedoch bereits auf F. Twyman und A. Green zurück, s. a. US-Patent 1 565 533 , 6, [7] zurück.Also known is that of D. Kelsall in 1959 in Proc. Phys. Society, 73, p. 470, 1 [6] published the approach using two triple reflectors as final reflectors of a Michelson interferometer. The lateral displacement of a triple reflector also creates a lateral shear between object and reference wavefronts at the output of a Michelson interferometer. The use of a triple reflector in the reference beam path of a Michelson interferometer is, however, to the best of our knowledge, already on F. Twyman and A. Green back, sa U.S. Patent 1,565,533 . 6 , [7] back.

Diesen Interferometer-Ansatz als Anordnung für einen interferometrischen Sensor zur Abstandsmessung u. a. zu nutzen, bei dem ein Planspiegel des Tripelreflektors in Form einer Würfelecke, auch als Corner Cube bekannt, durch die Objektoberfläche ersetzt ist, führt dazu, dem Objekt oder der Objektoberfläche im Objektstrahlengang noch einen Dachkant-Reflektor oder zwei Planspiegel beiordnen zu müssen, wenn die unerwünschte Wellenfrontinversion zwischen Objekt- und Referenzstrahlung vermieden werden soll. Dies vergrößert aber das Sensorvolumen ganz erheblich, was für viele Applikationen sehr nachteilig ist oder dies schließt den Einsatz einer derartigen Lösung völlig aus. Auch ist hierbei keine Invarianz der Lateral-Shear und damit der Neigung der interferierenden Wellenfronten beispielsweise gegenüber lateralem Wegdriften des Tripelreferenz-Reflektors oder auch des Objekts selbst gegeben. Damit kann sich die Ortsfrequenz für die Schwerpunktwellenlänge im räumlichen Interferogramm ändern, was sehr nachteilig für die Auswertung sein kann.This interferometer approach as an arrangement for an interferometric sensor for distance measurement u. a. to use, in which a plane mirror of the triple reflector in the form of a cube corner, also known as Corner Cube, is replaced by the object surface leads to the object or the object surface in the object beam path still a roof edge reflector or two plane mirror must order if the unwanted wavefront inversion between object and reference radiation should be avoided. However, this considerably increases the sensor volume, which is very disadvantageous for many applications or this completely excludes the use of such a solution. Also, in this case no invariance of the lateral shear and thus the inclination of the interfering wavefronts, for example, given to lateral drifting away of the triple reference reflector or the object itself. Thus, the spatial frequency for the center wavelength in the spatial interferogram change, which can be very disadvantageous for the evaluation.

Beschreibung der ErfindungDescription of the invention

Das Ziel der Erfindung besteht zum einen darin, kostengünstige und vor Allem robuste One-Shot-Messtechnik zur Erfassung von Abstand, Tiefe, Profil, Form, Welligkeit und/oder Rauheit oder der optischen Weglänge in oder an technischen oder biologischen Objekten, auch in Schichtenform oder auch zur optischen Kohärenz-Tomografie (OCT), insbesondere auch mit Single-Shot-Multi-Punkt-Antastung, der wirtschaftlichen Nutzung zuzuführen.The object of the invention is, firstly, cost-effective and, above all, robust one-shot measurement technology for detecting distance, depth, profile, shape, waviness and / or roughness or the optical path length in or on technical or biological objects, also in layer form or also for optical coherence tomography (OCT), in particular with single-shot multi-point probing, for economic use.

Damit ist also die erfinderische Aufgabe zu lösen, beim optischen Antasten der Objektoberfläche oder eines Objektvolumens mit einem Interferometer optische Signale in bestgeeigneter, also möglichst gut auswertbarer Signalform für ein punktförmiges, linienhaftes Messfeld oder auch einem flächigen Messfeld mit vielen einzelnen Messpunkten ohne einen mechanischen, zeitseriell erfolgenden Tiefen-Scan bereitzustellen.So that is the inventive task to solve the optical probing of the object surface or an object volume with an interferometer optical signals in bestgeeigneter, so the best possible evaluable waveform for a punctiform, line-like field or even a flat measuring field with many individual measuring points without a mechanical, time-serial provide depth scan.

Es sollen dabei viele lateral benachbarte Objektelemente oder Objektpunkte gleichzeitig angemessen werden können. Das heißt, es besteht die Aufgabe, gut auswertbare optische Signale bei der optischen Antastung von Objekten durch das erfindungsgemäße Verfahren und die erfindungsgemäße Anordnung mittels eines das Objekt anmessenden Interferometers möglichst schnell bereitzustellen.In doing so, many laterally adjacent object elements or object points should be able to be appropriate at the same time. That is, there is the task of providing readily evaluable optical signals in the optical probing of objects by the method according to the invention and the arrangement according to the invention by means of an interferometer measuring the object as quickly as possible.

Die Ortsfrequenz für die Schwerpunktwellenlänge, beziehungsweise die Schwerpunktwellenzahl, kS in einem räumlichen Interferogramm soll dabei in hohem Maße konstant oder vorbestimmt einstellbar sowie von der Neigung der Objektoberfläche in hohem Maße unabhängig sein. Dabei ist im Einzelnen die Aufgabe zu lösen, den Betrag der Neigung interferierender Wellenfronten, die auf einem Detektor ein räumliches Interferogramms bilden, mit einfachen Mitteln, kostengünstig, möglichst langzeitstabil und weitgehend unveränderlich durch Umgebungseinflüsse zu realisieren. Die beim Einsatz eines optischen Systems typischerweise auftretenden Dejustierungen durch Veränderung der Lage von Komponenten, auch durch Temperaturveränderungen im Umfeld sowie durch veränderliche mechanische Verspannungen, z. B. in den Halteelementen der Komponenten im Messsystem, sollen keinen oder nur einen vergleichsweise geringen Einfluss auf den Betrag der Neigung der interferierenden Wellenfronten bei der Detektion haben. Das kann bekannterweise natürlich nur erreicht werden, wenn auch das Spektrum des interferierenden Lichts unveränderlich bleibt. The spatial frequency for the centroid wavelength, or the centroid, kS in a spatial interferogram should be highly constant or predetermined and highly independent of the inclination of the object surface. In particular, the problem to be solved, the amount of inclination of interfering wavefronts that form a spatial interferogram on a detector, with simple means to realize cost-effective, long-term stable and largely invariable by environmental influences. The misalignments typically occurring when using an optical system by changing the position of components, also by temperature changes in the environment as well as by varying mechanical stresses, eg. B. in the holding elements of the components in the measuring system, should have no or only a relatively small effect on the amount of inclination of the interfering wavefronts in the detection. Of course, this can of course only be achieved if the spectrum of the interfering light remains invariable.

Einsatzgebiete der erfinderischen Lösung sollen sein: Die Mikroform- und die Mikroprofilmessung, die Messung der Rauheit sowie auch die Miniform-Messung, die Form-Messung an nicht oder nur wenig kooperativen Oberflächen, wie auch z. B. menschliches Lebergewebe. Ein Beispiel für die Anwendung der Erfindung ist hier auch die Erfassung der Mikroform am Innenohr beim Menschen in der chirurgischen Operationsphase. Der Einsatz bei endoskopischen 3D-Systemen soll zu gut miniaturisierbaren Sensorlösungen hoher Messgenauigkeit führen.Fields of application of the inventive solution should be: The microform and the micro-profile measurement, the measurement of roughness and the mini-form measurement, the shape measurement on not or little cooperative surfaces, as well as z. B. human liver tissue. An example of the application of the invention is also the detection of the microform at the inner ear in humans in the surgical operation phase. The use in endoscopic 3D systems should lead to well-miniaturized sensor solutions with high measurement accuracy.

Ein weiteres Anwendungsgebiet soll auch die Messung von nichtpolierten Asphären und Freiformflächen darstellen.Another field of application is also the measurement of unpolished aspheres and free-form surfaces.

Eine besondere Motivation für die Anwendung der Erfindung ist die Nutzbarmachung der interferometrischen Verstärkung eines schwachen Objektsignals für Messungen auch in einer mesoskopischen Skala. Das ist beispielsweise im Maschinenbau von sehr großem Vorteil, wo bei der Messung vieler technischer Objekte eine Messunsicherheit im Sub-Mikrometerbereich nicht in jedem Fall erforderlich ist. Durch die Nutzung der interferometrischen Verstärkung, auch als „Interferometric Gain” bekannt, sollen auch Objektelemente geringster Reflektivität messtechnisch noch vergleichsweise gut in der Tiefe, beispielsweise mit einer Messunsicherheit im einstelligen Mikrometerbereich, erfasst werden können. Deshalb soll die hochgenaue Messung der Form von teilspiegelnden, schwach lichtstreuenden und dabei geneigten Getriebezahnflächen auch ein bevorzugtes Einsatzgebiet der Erfindung darstellen.A particular motivation for the application of the invention is the utilization of the interferometric amplification of a weak object signal for measurements also in a mesoscopic scale. This is of great advantage, for example, in mechanical engineering, where measuring uncertainty in the sub-micron range is not always necessary when measuring many technical objects. By using the interferometric amplification, also known as "interferometric gain", even object elements of the lowest reflectivity should be able to be measured relatively well in depth, for example with a measurement uncertainty in the single-digit micrometer range. Therefore, the highly accurate measurement of the shape of partially reflecting, low light scattering and thereby inclined gear tooth surfaces should also represent a preferred field of application of the invention.

Die Messanordnung und das Verfahren sollen auch zur optischen Kohärenz-Tomografie (OCT), insbesondere mit Multi-Punkt-Antastung, für technische oder biologische Objekte eingesetzt werden können.The measuring arrangement and the method should also be used for optical coherence tomography (OCT), in particular with multi-point probing, for technical or biological objects.

In der erfindungsgemäßen Messanordnung soll auf den Einsatz von Mitteln zur dispersiven Spektroskopie stets verzichtet werden können.In the measuring arrangement according to the invention, the use of agents for dispersive spectroscopy should always be possible.

Hier wird der Begriff Licht stets als Synonym für elektromagnetische Strahlung vom Terahertz-, über den Infrarot- bis zum tiefen UV-Bereich verwendet.Here, the term light is always used as a synonym for electromagnetic radiation from the terahertz, over the infrared to the deep UV range.

Merkmale zum Hauptanspruch der AnordnungFeatures of the main claim of the arrangement

  • 1. Es handelt sich um ein Verfahren und eine Anordnung zur robusten Interferometrie zur Erfassung von Abstand, Tiefe, Profil, Form, Welligkeit und/oder Rauheit oder der optischen Weglänge in oder an technischen oder biologischen Objekten, in auch Schichtenform, oder auch zur optischen Kohärenz-Tomografie (OCT) für technische oder biologische Objekte. Im Folgenden wird die Anordnung beschrieben. Dabei werden im Verfahren die folgenden Mittel eingesetzt: – eine Quelle kurzkohärenter elektromagnetischer Strahlung zur Beleuchtung des Objekts, – ein Interferometer, insbesondere auch in Form eines Interferenzmikroskops, mit einem Objekt- und mit mindestens einem Referenzstrahlengang, in dem mindestens ein End-Reflektor angeordnet ist, und einer Messebene im Objektstrahlengang, in der sich zumindest näherungsweise die optisch anzumessenden Oberflächen- oder Volumenelemente des Objekts befinden. – sowie mindestens einen gerasterten Detektor zur Detektion elektromagnetischer Strahlung in Form mindestens eines räumlichen Interferogramms.1. It is a method and an arrangement for robust interferometry for detecting distance, depth, profile, shape, waviness and / or roughness or the optical path length in or on technical or biological objects, in a layer form, or even for optical Coherence tomography (OCT) for technical or biological objects. The arrangement will be described below. The following means are used in the process: A source of short-coherent electromagnetic radiation for illuminating the object, An interferometer, in particular also in the form of an interference microscope, with an object and at least one reference beam, in which at least one end reflector is arranged, and a measuring plane in the object beam, in which at least approximately the optically to be measured surface or volume elements of Object are located. - As well as at least one screened detector for detecting electromagnetic radiation in the form of at least one spatial interferogram.

Die Quelle kurzkohärenter elektromagnetischer Strahlung wird im Folgenden auch als Lichtquelle bezeichnet, wobei hier Licht im Sinne elektromagnetischer Strahlung von Terahertz- über IR-, VIS- bis UV-Strahlung verstanden wird. Die Lichtquelle kann ein lateral feinstrukturiertes Beleuchtungsmuster auf dem Objekt erzeugen. Dabei kann die Lichtquelle einen Punktstrahler, einen lateralen Linienstrahler oder eine Gruppe von Punktstrahlern in Linien- oder Matrixform auch mit einzeln schaltbaren punktförmigen oder linienförmigen Leuchtelementen darstellen.The source of short-coherent electromagnetic radiation is also referred to below as the light source, light in the sense of electromagnetic radiation being understood to mean terahertz, IR, VIS or UV radiation. The light source can produce a laterally finely structured illumination pattern on the object. In this case, the light source can be a point emitter, a lateral line emitter or a group of point emitters in line or matrix form even with individually switchable point-shaped or line-shaped lighting elements.

Die Lichtquelle kann eine ein- oder mehrfarbige LED oder OLED, eine Superlumineszenz-Diode darstellen, einen Superkontinuums-Lichtquelle, einen Laser auf Frequenzkamm-Basis, eine Halogenlampe oder auch Lichtquellen auf der Basis von Glühlicht.The light source may be a single or multi-color LED or OLED, a super-luminescent diode, a supercontinuum light source, a frequency comb-based laser, a Halogen lamp or light sources based on incandescent light.

Der gerasterte Detektor kann eine Grauwert- oder Farb-CCD bzw. eine Grauwert- oder Farb-CMOS-Kamera in Linien- oder Matrixform sein.The rasterized detector may be a grayscale or color CCD or grayscale or color CMOS camera in line or matrix form.

Der wellenoptische Schärfentiefebereich definiert hier zumindest näherungsweise den Tiefenbereich der Messanordnung, in welchem sich die Messebene befindet, so dass hier auch von einem Messvolumen im Objektvolumen gesprochen werden kann. In diesem müssen sich die zur optischen Antastung kommenden Oberflächen- oder Volumenelemente befinden.The wave-optical depth of field defines here at least approximately the depth range of the measuring arrangement in which the measuring plane is located, so that it is also possible here to speak of a measuring volume in the object volume. This must be the surface or volume elements coming to the optical probing.

Erfindungsgemäß ist im Referenzstrahlengang des Interferometers mindestens ein End-Reflektor mit drei Planspiegeln als Referenzreflektor, also mindestens ein Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor, angeordnet und die Flächen dieser drei Planspiegel liegen jeweils zumindest näherungsweise senkrecht zu einer gemeinsamen Bezugsebene BE.According to the invention, at least one end reflector with three plane mirrors as the reference reflector, ie at least one three-plane mirror reference end reflector, is arranged in the reference beam path of the interferometer, and the surfaces of these three plane mirrors each lie at least approximately perpendicular to a common reference plane BE.

Dabei bilden die drei Spurgeraden der Ebenen, welche durch die Flächen der drei Planspiegel dargestellt werden, in der Bezugsebene BE ein Dreieck ABC, damit bei diesem Interferometer zwischen Referenz- und Objektbündel eine Lateral-Shear besteht, die eine Strecke mit dem Betrag delta_q darstellt. Die Strecken AB, BC und CA dieses Dreiecks ABC müssen dazu eine gewisse Länge aufweisen. Beispielsweise kann die Länge dieser Strecken typischerweise jeweils in der Größenordnung von einigen Zehntel Millimeter bis zu einigen Millimeter mm liegen. Die Winkel dieses Dreiecks sind dabei weder extrem spitz, noch stellt dieses Dreieck ein rechtwinkliges Dreieck dar. Die sich ergebende Lateral-Shear kann einen Betrag delta_q in der Größenordnung typischerweise von 0,1 mm bis zu einigen Millimeter aufweisen. Bei einer Anordnung mit einem lateral hochauflösenden Mikroskop und einer Schwerpunktwellenlänge im UV-Bereich kann der Betrag delta_q jedoch auch in der Größenordnung von wenigen Hundertstel Millimeter sein. Dies basiert auf entsprechend kleinen Längen der Strecken AB, BC und CA und den entsprechenden drei Winkeln des Dreiecks ABC. Dieser Ansatz ist hinsichtlich des Betrages delta_q weit skalierbar.The three spur lines of the planes, which are represented by the surfaces of the three plane mirrors, form in the reference plane BE a triangle ABC, so that there is a lateral shear between reference and object bundles in this interferometer, which represents a distance with the amount delta_q. The distances AB, BC and CA of this triangle ABC must have a certain length. For example, the length of each stretch may typically be on the order of a few tenths of a millimeter to a few millimeters of mm. The angles of this triangle are neither extremely pointed nor is this triangle a right triangle. The resulting lateral shear may have an amount delta_q on the order of typically from 0.1 mm to several millimeters. In an arrangement with a laterally high-resolution microscope and a centroid wavelength in the UV range, however, the amount delta_q can also be in the order of a few hundredths of a millimeter. This is based on correspondingly small lengths of the distances AB, BC and CA and the corresponding three angles of the triangle ABC. This approach is widely scalable in terms of the amount delta_q.

Die Lateral-Shear vom Betrag delta_q zwischen Referenz- und Objektbündel besteht in der virtuellen Spiegelebene VSE des Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektors im Referenzstrahlengang. Die virtuelle Spiegelebene VSE ist mit der Messebene ME des Objektstrahlenganges durch Strahlteilung zumindest näherungsweise optisch konjugiert. Dabei ist der Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor winkelmäßig so ausgerichtet, dass elektromagnetische Strahlung aus dem Referenzstrahlengang auf den gerasterten Detektor gelangt.The lateral shear of the amount delta_q between reference and object bundles exists in the virtual mirror plane VSE of the three-plane mirror reference end reflector in the reference beam path. The virtual mirror plane VSE is at least approximately optically conjugate with the measurement plane ME of the object beam path by beam splitting. In this case, the three-plane mirror reference end reflector is angularly aligned so that electromagnetic radiation passes from the reference beam path to the screened detector.

Eine Spurgerade nennt man bekannterweise in der darstellenden Geometrie die Schnittgerade zwischen einer Ebene im Raum, hier jeweils eine Ebene, die durch eine Planspiegelfläche definiert ist, und einer Grundebene, hier die Bezugsebene BE.A Spurgerade is known as the intersecting line between a plane in space, here in each case a plane which is defined by a plane mirror surface, and a ground plane, here the reference plane BE in the performing geometry.

Eine laterale Verschiebung eines Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektors führt nicht zu einer Veränderung des Betrages der Lateral-Shear delta_q. Diese Invarianz wird als ein großer technischer Vorteil angesehen, da sich somit eine hohe Robustheit der Signalentstehung gegenüber derartigen Dejustierungen ergibt. Diese Invarianz stellt auch eine gute Voraussetzung für den Einsatz von Doppelspalt- oder Doppellochblenden in einem abbildenden Detektionsstrahlengang dar, da ein konstanter Betrag der Lateral-Shear delta_q im Detektionsstrahlengang zu einem langzeitig konstanten Abstand räumlich kohärenter Punktbilder führt. Mittels Doppelblende, die auch durch einen räumlichen Lichtmodulator dargestellt sein kann, können diese räumlich kohärenten Punktbilder zur Erzeugung von Point-Diffraction-Interferogrammen mit einem hohen Kontrast genutzt werden. Die Messebene ME im Objektstrahlengang und die Ebene, in der sich die Doppelblende befindet, sind dabei zumindest näherungsweise optisch konjugiert.A lateral displacement of a three-plane mirror reference end reflector does not result in a change in the amount of lateral shear delta_q. This invariance is regarded as a great technical advantage, since this results in a high robustness of the signal generation over such misalignments. This invariance is also a good prerequisite for the use of double-slit or double-hole apertures in an imaging detection beam path, since a constant amount of the lateral shear delta_q in the detection beam path leads to a long-term constant distance spatially coherent point images. By means of a double diaphragm, which can also be represented by a spatial light modulator, these spatially coherent point images can be used to produce point-diffraction interferograms with a high contrast. The measurement plane ME in the object beam path and the plane in which the double diaphragm is located are at least approximately optically conjugate.

Der Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor ist ein im erfindungsgemäßen Interferometer Lateral-Shear erzeugender Reflektor. Dabei weist der Drei-Spiegel-Referenz-Endreflektor, wie bereits dargestellt, eine virtuelle Spiegelebene VSE auf. Dieser virtuellen Spiegelebene VSE kann das Auftreten der Lateral-Shear räumlich zugeordnet werden. Beispielsweise führt die Interferenz von einer Objektkugelwelle und einer Referenzkugelwelle, die durch das Interferometer erzeugt werden und deren Kugelzentren durch eine Lateral-Shear vom Betrag delta_q separiert sind, zumindest in einem begrenzten Teilbereich der Detektorebene zu einem räumlichen Interferogramm mit einer zumindest näherungsweise konstanten Ortsfrequenz für die Schwerpunktwellenlänge, da die interferierenden Wellenflächen auf dem Detektor zueinander geneigt sind. In einem begrenzten Ausschnitt der Kugelwellenflächen sind diese in der Regel hinreichend gut durch Planwellen zu approximieren. Diese auf einem Detektor zu registrierende Interferenzerscheinung von zwei räumlich kohärenten Kugelwellenflächen ist dem Fachmann in der Optik als das klassische Youngsche Doppelspaltexperiment hinreichend bekannt, wobei der Spaltabstand d im Doppelspaltexperiment hier der Lateral-Shear mit dem Betrag delta_q entspricht.The three-plane mirror reference end reflector is a reflector which generates a lateral shear in the interferometer according to the invention. As already mentioned, the three-mirror reference end reflector has a virtual mirror plane VSE. This virtual mirror plane VSE can be spatially assigned to the occurrence of the lateral shears. For example, the interference of an object spherical wave and a reference spherical wave, which are generated by the interferometer and whose spherical centers are separated by a lateral shear of the amount delta_q, at least in a limited portion of the detector plane to a spatial interferogram with an at least approximately constant spatial frequency for the Center wavelength because the interfering wave surfaces on the detector are inclined to each other. In a limited section of the spherical wave surfaces, these are generally sufficiently well approximated by plane waves. This interference phenomenon of two spatially coherent spherical wave surfaces to be registered on a detector is sufficiently known to the person skilled in the art as the classic Young's double-slit experiment, the gap distance d in the double-slit experiment corresponding here to the lateral shear with the amount delta_q.

Die Lateral-Shear mit dem Betrag delta_q dient hier also als Grundlage für die Erzeugung von einem oder mehreren räumlichen Interferogrammen, welche in ihrer Ortsfrequenz für die Schwerpunktwellenlänge nicht oder nur ganz unwesentlich durch die Neigung der Objektoberfläche zu beeinflussen sind, wenn das punktförmige Zentrum der Objekt-Kugelwelle auf einem Oberflächenelement liegt, also das Objekt auch durch fokussiertes Licht zumindest näherungsweise punktförmig beleuchtet wird. Voraussetzung ist hierbei natürlich auch die Konstanz des Spektrums der zur Interferenz kommenden Lichtanteile. Diese Invarianz der Ortsfrequenz für die Schwerpunktwellenlänge ist für die Auswertung räumlicher Interferogramme von sehr großem Vorteil, da hier beispielsweise aufgrund der Vorab-Kenntnis der Ortsfrequenz für die Schwerpunktwellenlänge im Signal robuste und vergleichsweise schnelle Lock-in. Ansätze zur Anwendung kommen können, die zumindest näherungsweise auf diese Ortsfrequenz für die Schwerpunktwellenlänge eingestellt sind. Algorithmen auf der Basis eines Lock-in Ansatzes gestatten, auch aus stark verrauschten und durch Aberrationen beeinflussten Signalen, hier räumliche Interferogramme, Tiefeninformationen mit vergleichsweise geringer Messunsicherheit bereitzustellen. Da hier eine Quelle kurzkohärenter elektromagnetischer Strahlung eingesetzt wird, entstehen hier Kurzkohärenz-Inteferogramme, die eine Einhüllende aufweisen. Im einfachsten Fall kann das Maximum oder der Schwerpunkt der Einhüllenden, beispielsweise zur Bestimmung der Tiefe eines Objektpunktes oder der optischen Weglänge an einem Punkt eines Objekts, verwendet werden. Dabei kann auch die optische Schichtdicke von transparenten Medien bestimmt werden. Dies ist besonders einfach, wenn die Schichtdicke größer als die Kohärenzlänge der elektromagnetischen Strahlung der Quelle ist, da dann die Maxima oder die Schwerpunkte der Einhüllenden der Kurzkohärenz-Inteferogramme deutlich separiert sind. Der dabei im Kurzkohärenz-Interferogramm des tiefer liegenden Objektpunktes auftretende Chirp-Effekt durch Dispersion im brechenden Medium kann bei der Auswertung modellgestützt behandelt werden.The lateral-shear with the amount delta_q serves as a basis for the generation of one or more spatial interferograms, which are not or only slightly influenced by the inclination of the object surface in their spatial frequency for the centroid wavelength when the point-shaped center of the object spherical wave is on a surface element, so the object by focused light at least approximately punctiform is illuminated. The prerequisite for this, of course, is the constancy of the spectrum of the light components coming to the interference. This invariance of the spatial frequency for the centroid wavelength is for the evaluation of spatial interferograms of very great advantage, since here, for example, due to the advance knowledge of the spatial frequency for the centroid wavelength in the signal robust and relatively fast lock-in. Approaches may be used, which are at least approximately set to this spatial frequency for the centroid wavelength. Algorithms based on a lock-in approach make it possible to provide depth information with comparatively low measurement uncertainty even from strongly noisy and aberration-influenced signals, in this case spatial interferograms. Since a source of short-coherent electromagnetic radiation is used here, short-coherence integerograms arise here, which have an envelope. In the simplest case, the maximum or the centroid of the envelope can be used, for example for determining the depth of an object point or the optical path length at a point of an object. In this case, the optical layer thickness of transparent media can be determined. This is particularly simple if the layer thickness is greater than the coherence length of the electromagnetic radiation of the source, since then the maxima or the centroids of the envelope of the short-coherence integerograms are clearly separated. The chirp effect occurring in the short-coherence interferogram of the lower-lying object point due to dispersion in the refractive medium can be treated model-supported during the evaluation.

Auf dem gerasterten Detektor wird vorzugsweise für jeden Objektpunkt in einem lateral ausgedehnten Bereich ein kurzkohärentes räumliches Interferogramm detektiert, so dass durch Aufnahme eines einzigen Bildes mit vorzugsweise vielen nebeneinander liegenden räumlichen Interferogrammen und deren Auswertung ein vollständiges Linienprofil gewonnen werden kann.On the rasterized detector, a short-coherent spatial interferogram is preferably detected for each object point in a laterally extended area, so that a complete line profile can be obtained by taking a single image with preferably many adjacent spatial interferograms and their evaluation.

Es soll hier festgestellt werden, dass grundsätzlich End-Reflektoren mit einer beliebigen ungeradzahligen Anzahl 2n + 1 von Planspiegelflächen – mit n größer/gleich 2 – als Referenzreflektoren eingesetzt werden können, wenn diese Planspiegelflächen jeweils zu einer Bezugsebene BE senkrecht stehen und nur einmal passiert werden. In all diesen Fällen wird die für das Messverfahren benötigte Lateral-Shear delta_q erzeugt. Außerdem tritt optimalerweise keine Inversion der Referenzwellenfront in Bezug zur Objektwellenfront auf, wenn dort nur eine einmalige Reflexion oder eine ebenfalls ungeradzahlige Anzahl 2n + 1 – mit n größer/gleich 1 – am Objekt oder weiteren Planspiegelflächen erfolgt. Hier gilt, dass die Differenz der Anzahl der Reflexionen zwischen Referenz- und Objektstrahlengang 2n – mit n größer/gleich 0 – betragen muss. Sowohl aus wirtschaftlicher Sicht als auch aus Gründen eines optimalen Sensordesigns und der Sensorfertigung stellt die Nutzung eines End-Reflektors mit drei Planspiegeln als Referenzreflektor und einem direkten optischen Antasten des Objekts ohne weitere Planspiegel, so dass eine einmalige Reflexion im Objektstrahlengang erfolgt, für die große Mehrzahl der Fälle die optimale technische und auch wirtschaftliche Lösung dar (A1).It should be noted here that in principle end reflectors with an arbitrary odd number 2n + 1 of plane mirror surfaces - with n greater than / equal to 2 - can be used as reference reflectors, if these plane mirror surfaces are perpendicular to a reference plane BE and only happen once , In all these cases, the lateral shear delta_q required for the measurement process is generated. In addition, optimally no inversion of the reference wavefront occurs in relation to the object wavefront, if there is only a single reflection or an odd number also 2n + 1 - where n is greater than / equal to 1 - at the object or other planar mirror surfaces. In this case, the difference between the number of reflections between reference and object beam path must be 2n, with n greater than or equal to 0. Both from an economic point of view as well as for the sake of optimal sensor design and sensor manufacturing, the use of an end reflector with three plane mirrors as a reference reflector and a direct optical probing of the object without further plane mirror, so that a one-time reflection in the object beam path, for the great majority the best technical and economical solution (A1).

Weitere Merkmale der AnordnungOther features of the arrangement

  • 2. Vorzugsweise bilden bei der Anordnung zur robusten Interferometrie die drei Spurgeraden in der Bezugsebene BE ein stumpfwinkliges Dreieck ABC. Vorteilhaft ist hierbei, dass bei einer derartigen Spiegelanordnung die Einfallswinkel auf die drei Planspiegel – auch die der Randstrahlen eines Beleuchtungsbündels – unter 60° gehalten werden können. Beispielsweise, wenn der halbe Öffnungswinkel des Beleuchtungsbündels 8, 6 Altgrad, also die numerische Apertur etwa 0,15 beträgt, und die Winkelwerte 21 Altgrad, 24 Altgrad und 135 Altgrad betragen (A2).2. Preferably, in the arrangement for robust interferometry, the three spur lines in the reference plane BE form an obtuse-angled triangle ABC. It is advantageous here that with such a mirror arrangement, the angle of incidence on the three plane mirrors-even those of the marginal rays of a lighting beam-can be kept below 60 °. For example, when half the opening angle of the illumination beam 8, 6 degrees, that is, the numerical aperture is about 0.15, and the angle values are 21 degrees, 24 degrees and Altgrad degrees 135 (A2).
  • 3. Vorzugsweise bilden bei der Anordnung zur robusten Interferometrie die drei Spurgeraden in der Bezugsebene BE ein spitzwinkliges Dreieck ABC. Beispielsweise können die Winkelwerte in der Größe von 52, 64 und 64 Altgrad sein. Vorteilhaft ist hierbei, dass die Fertigung eines Drei-Spiegel-Referenz-Endreflektors, bei dem die Spurgeraden der drei Planspiegel ein spitzwinkliges Dreieck bilden, in der Regel vergleichsweise einfach ist, beispielsweise durch Single-Point-Diamantbearbeitung oder Abformtechnik, da die Zugänglichkeit zu den Flächen der drei Planspiegel in der Regel gut gegeben ist. Es treten jedoch vergleichsweise große Einfallswinkel auf den drei Planspiegeln auf, was einen erheblichen Einfluss auf die Polarisation des Lichts und den polarisationsabhängigen Reflexionsgrad haben kann.3. Preferably, in the arrangement for robust interferometry, the three spur lines in the reference plane BE form an acute-angled triangle ABC. For example, the angle values in the size of 52, 64 and 64 may be old degrees. It is advantageous in this case that the production of a three-mirror reference end reflector, in which the track straight lines of the three plane mirrors form an acute-angled triangle, is generally comparatively simple, for example by single-point diamond machining or impression technology, since accessibility to the Surfaces of the three plane mirrors are usually well given. However, there are comparatively large angles of incidence on the three plane mirrors, which can have a considerable influence on the polarization of the light and the polarization-dependent reflectance.
  • 4. Vorzugsweise sind bei der Anordnung zur robusten Interferometrie die drei Planspiegel in Rachenform angeordnet. Eine Spiegelanordnung in Rachenform lässt sich vergleichsweise gut herstellen.4. Preferably, in the arrangement for robust interferometry, the three plane mirrors are arranged in the form of a pharynx. A mirror arrangement in pharyngeal shape can be produced comparatively well.
  • 5. Vorzugsweise sind bei der Anordnung zur robusten Interferometrie die drei Planspiegel in Labyrinthform angeordnet. Also drei einzelne Planspiegelflächen sind in einem Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor jeweils als offener Spiegelrachen oder als Spiegellabyrinth angeordnet. Dabei kann der Strahlengang im Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor beim Rachen in gekreuzter Form bestehen. Beim Labyrinth dagegen kann der Strahlengang in unregel- oder regelmäßiger M-Form ausgebildet sein. Dabei können ein oder mehrere Drei-Spiegel-Referenz-Endreflektoren in einer Metallplatte miniaturisiert ausgebildet sein. Insbesondere bietet sich für die Herstellung der Drei-Spiegel-Referenz-Endreflektoren in Rachenform die Single-Point-Diamantbearbeitungstechnik an. Es kann aber auch die Abform-, Präge oder auch Drucktechnik zur Anwendung kommen.5. Preferably, in the arrangement for robust interferometry, the three plane mirrors are arranged in labyrinth form. So three single plane mirror surfaces are each more open in a three-plane mirror reference end-reflector Mirror Dragon or arranged as a mirror labyrinth. In this case, the beam path in the three-plane mirror reference end reflector when throat in crossed form. In the labyrinth, however, the beam path can be formed in irregular or regular M-shape. In this case, one or more three-mirror reference end reflectors can be miniaturized in a metal plate. In particular, the production of the three-mirror reference end reflectors in pharyngeal shape offers the single-point diamond machining technique. But it can also be the impression, embossing or printing technique used.
  • 6. Vorzugsweise ist bei der Anordnung zur robusten Interferometrie der Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor winkelmäßig im Interferometer so angeordnet, dass sich der Hauptstrahl des ausgehenden Referenzbündels nach Passieren des Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektors zumindest näherungsweise parallel zum Hauptstrahl des eingehenden Referenzbündels ausbreitet. Dabei weist dann der Versatz der Hauptstrahlen den Betrag der Lateral-Shear delta_q auf. Von Vorteil für die Auswertung von Interferogrammen ist hierbei, dass die Lateral-Shear vom Betrag delta_q invariant hinsichtlich lateraler Verschiebungen des Referenzreflektors ist. Weiterhin gibt es bei einem Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor mit drei zueinander geneigten Planspiegeln keine Wellenfrontinversion zwischen Objekt- und Referenzstrahlung. Das reduziert die Anforderungen an die Beleuchtungsoptik erheblich.6. Preferably, in the arrangement for robust interferometry, the three-plane mirror reference end reflector is angularly arranged in the interferometer such that the main beam of the outgoing reference beam propagates after passing the three-plane mirror reference end reflector at least approximately parallel to the main beam of the incoming reference beam , In this case, the offset of the principal rays then has the magnitude of the lateral shear delta_q. An advantage for the evaluation of interferograms is that the lateral shear of the amount delta_q is invariant with respect to lateral displacements of the reference reflector. Furthermore, there is no wavefront inversion between object and reference radiation in a three-plane mirror reference end reflector having three mutually inclined plan mirrors. This considerably reduces the requirements for the illumination optics.

Beim Einsatz einer Lichtquelle mit Strahlformungsoptik zur Beleuchtung des Objekts mit einem Fokusfleck oder einer linienhaften Beleuchtung mit der Längsachse in Richtung der Schnittgeraden g spielt eine kleine Verkippung eines monolithisch ausgebildeten und somit in sich starren Drei-Spiegel-Referenz-Endreflektors eine praktisch untergeordnete Rolle.When using a light source with beam shaping optics for illuminating the object with a focus spot or a linear illumination with the longitudinal axis in the direction of the cutting line g plays a small tilting of a monolithic trained and thus inherently rigid three-mirror reference end reflector a practically subordinate role.

In einer Umgebung mit starken Erschütterungen kann eine gepulste Lichtquelle eingesetzt werden, um gut auswertbare Signale auf der Basis räumlicher Interferogramme zu erhalten.In a high-vibration environment, a pulsed light source can be used to obtain well-interpretable spatial interferogram signals.

Fällt der Fokuspunkt BF eines Referenzstrahlenbündels auf die virtuelle Spiegelebene VSE des Drei-Spiegel-Referenz-Endreflektors, wird dieser um die Lateral-Shear mit dem Betrag delta_q in der virtuellen Spiegelebene VSE versetzt und es entsteht der Fokuspunkt BF'. Die Strecke, welche die Lateral-Shear mit dem Betrag delta_q darstellt, ist dabei stets parallel zur Schnittgeraden g von Bezugsebene BE und virtueller Spiegelebene VSE.

  • 7. Vorzugsweise ist bei der Anordnung zur robusten Interferometrie ein Objektiv mit der Brennweite f13' bzw. f17', welches das Objektbündel in Richtung Detektion kollimiert, so angeordnet, dass dessen dem Objekt zugewandte Brennebene F13 bzw. F17 mit der virtuellen Spiegelebene VSE des Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektors zusammenfällt. Oder durch eine weitere Abbildungsstufe zwischen einem Objektiv zur Kollimierung und der virtuellen Spiegelebene VSE des Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektors kann dieses Zusammenfallen als optische Konjugation (VSE-F13 bzw. VSE-F17) erreicht werden. Die optische Konjugation kann auch durch Strahlvereinigung erzeugt werden. Die virtuelle Spiegelebene VSE des Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektors, die auch als die virtuelle Reflexionsebene dieses Endreflektors angesehen werden kann, stellt dann eine zur Messebene des Objektstrahlenganges optisch konjugierte Ebene dar. Die Lateral-Shear vom Betrag delta_q entsteht in diesem Fall auch in der Brennebene F13 bzw. F17 des Objektivs welches das Objektbündel in Richtung Detektion kollimiert.
If the focal point BF of a reference beam falls on the virtual mirror plane VSE of the three-mirror reference end reflector, this is offset by the lateral shear with the amount delta_q in the virtual mirror plane VSE and the focus point BF 'is formed. The distance representing the lateral shear with the amount delta_q is always parallel to the line of intersection g of the reference plane BE and the virtual mirror plane VSE.
  • 7. Preferably, in the arrangement for robust interferometry, a lens with the focal length f13 'or f17', which collimates the object beam in the direction of detection, is arranged so that its object facing focal plane F13 or F17 with the virtual mirror plane VSE of the three Plane mirror reference end reflector coincides. Or by a further imaging stage between a lens for collimation and the virtual mirror plane VSE of the three-plane mirror reference end reflector, this coincidence can be achieved as optical conjugation (VSE-F13 or VSE-F17). The optical conjugation can also be generated by beam combination. The virtual mirror plane VSE of the three-plane mirror reference end reflector, which can also be regarded as the virtual reflection plane of this end reflector, then represents a plane optically conjugate to the measurement plane of the object beam path. The lateral shear of the amount delta_q also arises in this case the focal plane F13 or F17 of the objective which collimates the object beam in the direction of detection.

Die virtuelle Spiegelebene VSE stellt also genau eine baugruppenfeste Ebene im beschriebenen Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor mit drei Planspiegeln dar, auf die der Hauptstrahl eines einfallenden homozentrischen Bündels senkrecht auftreffen kann. Weiterhin kann das Zentrum BF des homozentrischen Bündels in der virtuellen Spiegelebene VSE liegen. Dann ist das Zentrum des ausfallenden homozentrischen Bündels BF' um die Lateral-Shear mit dem Betrag delta_q in der VSE versetzt und dessen Hauptstrahl steht auch senkrecht auf der VSE. Dabei steht die Verbindungsstrecke der beiden Bündelzentren, die ja den Betrag, also die Länge, delta_q aufweist, parallel zur Bezugsebene BE, die durch die drei Planspiegelflächen definiert ist.The virtual mirror plane VSE thus represents exactly one module-fixed plane in the described three-plane mirror reference end reflector with three plane mirrors on which the main beam of an incident homocentric beam can impinge perpendicularly. Furthermore, the center BF of the homocentric beam may lie in the virtual mirror plane VSE. Then the center of the failing homocentric bundle BF 'around the lateral shear is offset by the amount delta_q in the VSE and its principal ray is also perpendicular to the VSE. In this case, the connection path of the two bundle centers, which indeed has the amount, ie the length, delta_q, is parallel to the reference plane BE, which is defined by the three plane mirror surfaces.

Mit diesem erfinderischen Ansatz können die räumlichen Interferogramme von allen Objektpunkten, die sich auf einem beliebigen Punkt des nutzbaren Objektfeldes befinden, welches zumindest näherungsweise in der Brennebene (F13) liegt, auf derselben Detektorfläche detektiert werden. Denn es erfolgt in der Brennebene (F13') kein laterales Wandern des Objektbündels in Abhängigkeit von der lateralen Position eines Messpunktes im Objektfeld. Im Idealfall entstehen dann bei einem achssenkrecht justierten Planspiegel als Objekt, der in der Brennebene F13 liegt, und hochkorrigierter Optik beim lateralen Durchschalten des Beleuchtungsmusters im Objektfeld, wodurch beliebige Punkte im Objektfeld angetastet werden können, die Maxima der Einhüllenden des Kurzkohärenz-Interferogramms bzw. auch deren Schwerpunkte zumindest näherungsweise an jeweils derselben Stelle, also jeweils demselben Pixeln oder in deren unmittelbarer Umgebung, auf dem Detektor. Bei einer schwachen Kippung des Planspiegels um eine Achse senkrecht zur Bezugsebene BE und zeitsequenzieller Abtastung des Planspiegels mit Lichtpunkten einer gesteuerten Lichtquelle entlang einer Linie parallel zur Bezugsebene BE liegen die Schwerpunkte im Idealfall dann auf dem Detektor ebenfalls auf einer Linie.With this inventive approach, the spatial interferograms of all object points located on any point of the usable object field which is at least approximately in the focal plane (F13) can be detected on the same detector surface. For there is no lateral movement of the object bundle in the focal plane (F13 ') as a function of the lateral position of a measuring point in the object field. Ideally, in the case of an axis-perpendicularly adjusted plane mirror as an object lying in the focal plane F13 and highly corrected optics, the arbitrary points in the object field can then be used to scan through the illumination pattern in the object field, the maximums of the envelopes of the short-coherence interferogram or their focal points at least approximately at the same location, ie in each case the same pixel or in their immediate vicinity, on the detector. At a weak tilt of the plane mirror about an axis perpendicular to the reference plane BE and time-sequential scanning of the plane mirror with light points of a controlled light source along a Line parallel to the reference plane BE are the focal points ideally then on the detector also on a line.

Bei Positionierung eines Objekts in der Brennebene F13 im Objektstrahlengang, wobei die Detektion räumlicher Interferogramme in der Brennebene F13' oder einer optisch konjugierten Ebene erfolgt, ist die Ortsfrequenz für die Schwerpunktwellenlänge, beziehungsweise die Schwerpunktwellenzahl, der räumlichen Interferogramme nicht durch die Neigung der Objektoberfläche zu beeinflussen, wenn diese spektral nicht selektiv ist, also beispielsweise grau ist. Dabei ist es für einen hohen Kontrast der Interferenz jedoch von Vorteil, wenn das Objekt durch fokussiertes Licht punktförmig oder linienhaft beleuchtet wird. Diese Invarianz der Ortsfrequenz für die Schwerpunktwellenlänge, die nur unter der Voraussetzung eines konstanten Lichtspektrums besteht, ist für die Auswertung räumlicher Interferogramme von sehr großem Vorteil, da hier beispielsweise aufgrund der Vorab-Kenntnis dieser Ortsfrequenz im Signal robuste und vergleichsweise schnelle Lock-in Ansätze zur Anwendung kommen können, die zumindest näherungsweise auf diese Ortsfrequenz für die Schwerpunktwellenlänge eingestellt sind. Algorithmen auf der Basis eines Lock-in Ansatzes gestatten in der Tendenz, auch aus stark verrauschten und durch Aberrationen beeinflussten Signalen, hier räumliche Interferogramme, Tiefeninformationen mit einer vergleichsweise verringerten Messunsicherheit bereitzustellen.

  • 8. Vorzugsweise ist bei der Anordnung zur robusten Interferometrie die Lateral-Shear vom Betrag delta_q kleiner als der Betrag oder gleich 30% des Betrags der Brennweite f13' des Objektivs, welches das Objektbündel am Ausgang des Interferometers kollimiert. Der Betrag delta_q der Lateral-Shear sollte das Feld, in dem das Objektiv gut korrigiert ist, nicht überschreiten. In der Regel ist die Lateral-Shear deutlich kleiner als 10% des Betrags der Brennweite f13' bzw. der Brennweite f17' zu wählen.
  • 9. Vorzugsweise ist bei der Anordnung zur robusten Interferometrie der gerasterte Detektor jeweils zumindest näherungsweise in der Brennebene (F13') eines Objektivs, welches das Objektbündel am Ausgang des Interferometers kollimiert, angeordnet oder der gerasterte Detektor ist in Lichtrichtung in einer – dieser Brennebene (F13') nachgeordneten und – zu dieser Brennebene (F13') optisch konjugierten Ebene EK angeordnet, wobei die optische Konjugation von Brennebene (F13') und der Ebene EK durch mindestens ein Strahlenbüschel gegeben ist. Das bedeutet, es werden Punkte dieser Brennebene (F13') in die Ebene EK durch mindestens ein Strahlenbüschel abgebildet.
  • 10. Vorzugsweise ist bei der Anordnung zur robusten Interferometrie die Achse y einer Zylinderoptik parallel zu einer Geraden g angeordnet ist, welche die Schnittgerade von der Bezugsebene BE und der virtuellen Spiegelebene VSE darstellt.
When positioning an object in the focal plane F13 in the object beam path, wherein the detection of spatial interferograms in the focal plane F13 'or an optically conjugate plane, the spatial frequency for the centroid wavelength, or the center of gravity wave, the spatial interferograms is not affected by the inclination of the object surface if this is spectrally non-selective, ie gray, for example. However, for a high contrast of the interference, it is advantageous if the object is illuminated punctiform or linearly by focused light. This invariance of the spatial frequency for the centroid wavelength, which exists only under the condition of a constant light spectrum is for the evaluation of spatial interferograms of great advantage, since here, for example, due to the advance knowledge of this spatial frequency in the signal robust and relatively fast lock-in approaches to Application can be used, which are at least approximately set to this spatial frequency for the centroid wavelength. Algorithms based on a lock-in approach make it possible to provide depth information with a comparatively reduced measurement uncertainty even from strongly noisy and aberration-influenced signals, in this case spatial interferograms.
  • 8. Preferably, in the arrangement for robust interferometry, the lateral shear of magnitude delta_q is less than or equal to 30% of the amount of focal length f13 'of the objective, which collimates the object beam at the output of the interferometer. The amount delta_q of the lateral shear should not exceed the field where the lens is well corrected. As a rule, the lateral shear should be chosen to be significantly smaller than 10% of the amount of the focal length f13 'or the focal length f17'.
  • 9. Preferably, in the arrangement for robust interferometry, the screened detector is arranged at least approximately in the focal plane (F13 ') of a lens which collimates the object beam at the output of the interferometer, or the screened detector is in the light direction in one - this focal plane (F13 ') arranged downstream and - to this focal plane (F13') optically conjugate level EK, wherein the optical conjugation of the focal plane (F13 ') and the plane EK is given by at least one beam of radiation. This means that points of this focal plane (F13 ') are imaged into the plane EK by at least one ray bundle.
  • 10. Preferably, in the arrangement for robust interferometry, the axis y of a cylinder optic is arranged parallel to a straight line g, which represents the line of intersection of the reference plane BE and the virtual mirror plane VSE.

Dies führt für das von einem optisch angetasteten Objektpunkt zurückkommende Licht und dem überlagerten Referenzlicht zu einer eindimensionalen Fokussierung des interferierenden Lichts entlang einer Linie und führt somit zu einer vergleichsweise hohen Lichtkonzentration der interferierenden Wellenfronten, hier in Zylinderform. Zusätzlich gibt diese Strahlführung die Möglichkeit, gleichzeitig die räumlichen Interferogramme mehrerer Objektpunkte, beispielweise die entlang einer Linie LO auf dem Objekt aufzunehmen. Die Detektion dieser linienförmigen Interferogramme erfolgt jeweils in einem ebenfalls linienhaften Bereich, d. h. entlang einer oder weniger Zeilen des gerasterten Detektors. Die Längsachsen dieser linienhaften Bereiche stehen jeweils senkrecht zu dieser Linie LO.For the light returning from an optically touched object point and the superposed reference light, this leads to a one-dimensional focusing of the interfering light along a line and thus leads to a comparatively high light concentration of the interfering wavefronts, here in cylindrical form. In addition, this beam guidance gives the possibility of simultaneously recording the spatial interferograms of a plurality of object points, for example those along a line LO, on the object. The detection of these line-shaped interferograms takes place in each case also in a line-like area, ie. H. along one or fewer lines of the rasterized detector. The longitudinal axes of these linear areas are each perpendicular to this line LO.

Die Abtastung eines Objekts entlang einer Linie mit einer Vielzahl von räumlichen Interferogrammen und daraus folgend die Berechnung eines Profils wurde bereits von M. Hering u. a. in [3] dargestellt.

  • 11. Vorzugsweise ist bei der Anordnung zur robusten Interferometrie im Referenzstrahlengang eine Vielzahl von miniaturisierten Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektoren in Form eines Arrays angeordnet. Damit kann ein Objektfeld wie bei einem Nadelkissen oder einem Nagelbrett mit einer steuerbaren Lichtquelle zeitsequenziell durch Fokuspunkte abgetastet werden, wodurch beispielsweise eine Formmessung an einem kleinen Objekt begrenzter Tiefenausdehnung, beispielsweise eine Mikrodelle oder eine flache Schmiertasche in einem Metallkörper, möglich ist (A3).
  • 12. Vorzugsweise erfolgt bei der Anordnung zur robusten Interferometrie die Anordnung von Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektoren in diesem Array in einer linien-, flächenhaften oder einer dreidimensionalen Struktur. Dabei können jeweils Messpunkte entlang einer Linie gleichzeitig in einem Schuss aufgenommen werden.
  • 13. Vorzugsweise sind bei der Anordnung zur robusten Interferometrie miniaturisierte Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektoren in Form einer dreidimensionalen Treppen-Struktur angeordnet. Damit können schwach geneigte Objektoberflächen vermessen werden, ohne dass die Schwerpunkte der Einhüllenden der Interferogramme stark lateral verschoben sind.
  • 14. Vorzugsweise ist bei der Anordnung zur robusten Interferometrie die Quelle kurzkohärenter elektromagnetischer Strahlung als ein Punktmatrixstrahler ausgebildet.
  • 15. Vorzugsweise ist bei der Anordnung zur robusten Interferometrie die Punktmatrix auf der Quelle kurzkohärenter elektromagnetischer Strahlung verdreht um einen spitzen Winkel zur Schnittlinie der interferierenden Wellenfronten auf dem gerasterten Detektor angeordnet. Die Drehachse ist dabei also senkrecht zur VSE und parallel zur BE angeordnet. So kann gleichzeitig eine Vielzahl von Interferogrammen auf dem Detektor platziert werden.
  • 16. Vorzugsweise ist bei der Anordnung zur robusten Interferometrie die Quelle kurzkohärenter elektromagnetischer Strahlung mit schaltbaren Punktlichtquellen ausgebildet. Damit ist das Abtastmuster frei wählbar, beispielsweise auch nach Relevanz von Objektmerkmalen aus Vorab-Informationen.
  • 17. Vorzugsweise ist bei der Anordnung zur robusten Interferometrie die gerasterte Lichtquelle mit schaltbaren Linienlichtquellen ausgebildet. Damit kann ein Objektfeld zur Formmessung besonders schnell vermessen werden.
  • 18. Vorzugsweise ist bei der Anordnung zur robusten Interferometrie die Quelle kurzkohärenter elektromagnetischer Strahlung zur lateral feinstrukturierten Beleuchtung eines Objekts mittels eines schaltbaren räumlichen Lichtmodulator-Arrays ausgebildet, so dass diese Quelle kurzkohärenter elektromagnetischer Strahlung lateral schaltbar ausgebildet ist. Damit ist eine hohe Flexibilität gegeben. Damit sind unterschiedliche Beleuchtungsmuster auf dem Objekt in einer zeitlichen Folge realisierbar, so dass beispielsweise bei einer Ausbildung des Referenzreflektors mit linienhaften, miniaturisierten Drei-Spiegel-Referenz-Endreflektoren nacheinander jeweils eine Beleuchtung von dem Objekt mit einer einzelnen Linie und von definierten Orten auf dem Gesamt-Referenzreflektor erfolgt bis das Objektfeld vollständig beispielsweise durch eine sich schrittweise lateral fortbewegende Linie abgescannt ist. Die laterale Dichte des Abtastmusters ist wählbar, wodurch relevante Bereiche bei Bedarf mit einer höheren Abtastdichte vermessen werden können (A4).
  • 19. Vorzugsweise ist bei der Anordnung zur robusten Interferometrie im Referenzstrahlengang eine räumliche Korrespondenz zwischen der lateralen Struktur des Beleuchtungsmusters und der lateralen Anordnung von miniaturisierten Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektoren gegeben, so dass jedem miniaturisierten Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor mindestens ein Lichtfleck oder eine Lichtlinie der Lichtquelle, zumindest in der Zeitdauer der Zeitdauer einer Bildaufnahme, zugeordnet ist.
  • 20. Vorzugsweise ist bei der Anordnung zur robusten Interferometrie mindestens eine Doppelblende auf der Basis von Spalten oder Pinholes in einer gemeinsam benutzten Abbildungsstufe für Referenz- und Objektstrahlung angeordnet. Dabei ist eine erste Öffnung der Doppelblende der Referenzstrahlung und eine zweite Öffnung der Objektstrahlung vorbehalten. So kann eine konfokale Diskriminierung der Objektstrahlung durchgeführt werden. Der erste Bereich dient zum Durchtritt des Referenzlichtes in Richtung Detektor und kann aber auch unerwünschtes Störlicht aus dem Referenzstrahlengang ausblenden. Die Spalte bzw. Pinholes, also die Blendenelemente, können aber auch so fein ausgebildet sein, dass Zylinder-, bzw. Kugelwellen hoher räumlicher Kohärenz gebildet werden (A5).
  • 21. Vorzugsweise ist bei der Anordnung zur robusten Interferometrie die Doppelblende () in einer zur Messebene ME optisch konjugierten Ebene angeordnet, wobei die optisch konjugierte Ebene durch mindestens ein Strahlenbüschel dargestellt ist. So kann eine konfokale Diskriminierung von Objektstrahlung durchgeführt werden.
  • 22. Vorzugsweise sind bei der Anordnung zur robusten Interferometrie Mittel zur vorbestimmt gesteuerten Änderung des Abstands und/oder der Lage der Spalte oder der Pinholes der Doppelblende angeordnet, damit die konfokale Filterung optimal erfolgen kann.
  • 23. Vorzugsweise sind bei der Anordnung zur robusten Interferometrie im Objektstrahlengang Mittel zur chromatischen Tiefenaufspaltung von Foki angeordnet. So kann ein deutlich größerer Tiefenmessbereich bei dennoch beugungsbegrenzter lateraler Auflösung als die wellenoptische Schärfentiefe realisiert werden. Dieser Ansatz, insbesondere mit einer Multipunkt-Antastung des Objekts, kann mit einem Linnik-Typ-Interferometer mit einer vergleichsweise geringen Numerischen Apertur gut umgesetzt werden. Hierbei können die Mittel zur chromatischen Tiefenaufspaltung in der Fourier-Ebene des objektabbildenden Objektivs angeordnet sein. Es kann hierzu ein diffraktiv-optisches Element eingesetzt werden. Die Anordnung eines diffraktiv-optischen Elements in der Fourier-Ebene wurde bereits in DE 103 21 895 A1 dargestellt. Dies führt zu einem konstanten Abbildungsmaßstab für Strahlung aller Wellenlängen (A6).
  • 24. Vorzugsweise ist bei der Anordnung zur robusten Interferometrie im Objektstrahlengang mindestens eine konfokal diskriminierende Blende angeordnet. Diese ermöglicht bei der chromatischen Tiefenaufspaltung nur den Durchtritt von Licht, welches auf der Objektoberfläche oder in einem teiltransparenten Objekt an einem Lichtstreuer scharf fokussiert war (A7).
The scanning of an object along a line with a multitude of spatial interferograms and consequently the calculation of a profile has already been described by M. Hering et al. In [3].
  • 11. Preferably, in the arrangement for robust interferometry in the reference beam path, a multiplicity of miniaturized three-plane mirror reference end reflectors are arranged in the form of an array. Thus, an object field as in a pincushion or a nail board with a controllable light source can be scanned time-sequentially by focus points, whereby, for example, a shape measurement on a small object of limited depth extent, for example a microdelle or a flat lubricating pocket in a metal body, is possible (A3).
  • 12. Preferably, in the arrangement for robust interferometry, the arrangement of three-plane mirror reference end reflectors in this array takes place in a line-like, planar or three-dimensional structure. In each case, measuring points along a line can be recorded simultaneously in one shot.
  • 13. In the arrangement for robust interferometry, miniaturized three-plane mirror reference end reflectors are preferably arranged in the form of a three-dimensional staircase structure. In this way, slightly inclined object surfaces can be measured without the center of gravity of the interferogram envelope being shifted much laterally.
  • 14. Preferably, in the arrangement for robust interferometry, the source of short-coherent electromagnetic radiation is formed as a dot matrix radiator.
  • 15. Preferably, in the arrangement for robust interferometry, the dot matrix is on The source of short-coherent electromagnetic radiation is rotated at an acute angle to the intersection of the interfering wavefronts on the rasterized detector. The axis of rotation is thus arranged perpendicular to the VSE and parallel to the BE. At the same time, a large number of interferograms can be placed on the detector.
  • 16. Preferably, in the arrangement for robust interferometry, the source of short-coherent electromagnetic radiation is formed with switchable point light sources. Thus, the scanning pattern is freely selectable, for example, according to relevance of object features from pre-information.
  • 17. Preferably, the rastered light source is formed with switchable line light sources in the arrangement for robust interferometry. This allows an object field for form measurement to be measured particularly quickly.
  • 18. In the arrangement for robust interferometry, the source of short-coherent electromagnetic radiation for laterally finely structured illumination of an object is preferably formed by means of a switchable spatial light modulator array, so that this source of short-coherent electromagnetic radiation is formed laterally switchable. This gives a high degree of flexibility. Thus, different illumination patterns on the object in a time sequence can be realized, so that, for example, in an embodiment of the reference reflector with linear, miniaturized three-mirror reference Endreflektoren successively each illumination of the object with a single line and defined locations on the whole Referee Reflector takes place until the object field is completely scanned, for example, by a stepwise laterally moving line. The lateral density of the scan pattern is selectable, allowing relevant areas to be measured at higher sample density if required (A4).
  • 19. Preferably, in the arrangement for robust interferometry in the reference beam path, there is a spatial correspondence between the lateral structure of the illumination pattern and the lateral arrangement of miniaturized three-plane mirror reference end reflectors, so that each miniaturized three-plane mirror reference end reflector has at least one light spot or a light line of the light source, at least in the period of time of an image recording, is assigned.
  • 20. In the arrangement for robust interferometry, at least one double diaphragm based on columns or pinholes is preferably arranged in a jointly used reference and object radiation imaging stage. In this case, a first opening of the double diaphragm of the reference radiation and a second opening of the object radiation is reserved. Thus, a confocal discrimination of the object radiation can be performed. The first area serves for the passage of the reference light in the direction of the detector and can also hide unwanted stray light from the reference beam path. However, the gaps or pinholes, that is to say the diaphragm elements, can also be designed so finely that cylinder or spherical waves of high spatial coherence are formed (A5).
  • 21. Preferably, in the arrangement for robust interferometry, the double diaphragm (12) is arranged in a plane optically conjugate with the measurement plane ME, wherein the optically conjugate plane is represented by at least one radiation pencil. Thus, a confocal discrimination of object radiation can be performed.
  • 22. Preferably, in the arrangement for robust interferometry means are arranged for the predetermined controlled change in the distance and / or the position of the column or pinholes of the double diaphragm, so that the confocal filtering can be carried out optimally.
  • 23. Preferably, means for chromatic depth splitting of foci are arranged in the arrangement for robust interferometry in the object beam path. Thus, a significantly greater depth measuring range can be realized with a diffraction-limited lateral resolution than the wave-optical depth of field. This approach, particularly with multi-point probing of the object, can be well implemented with a Linnik-type interferometer with a comparatively small numerical aperture. In this case, the chromatic depth splitting means may be arranged in the Fourier plane of the object-imaging objective. It can be used for this purpose a diffractive-optical element. The arrangement of a diffractive-optical element in the Fourier plane was already in DE 103 21 895 A1 shown. This leads to a constant magnification for radiation of all wavelengths (A6).
  • 24. Preferably, at least one confocal discriminating diaphragm is arranged in the arrangement for robust interferometry in the object beam path. In the case of chromatic depth splitting, this only allows the passage of light which was sharply focused on the object surface or in a partially transparent object on a light scatterer (A7).

Fokussierte Strahlung zur Objektbeleuchtung wird also am Objekt reflektiert und/oder gestreut, passiert noch einmal die Mittel zur chromatischen Tiefenaufspaltung von Foki, wodurch eine wellenlängenabhängige Brechkraft wirksam wird, die zur zumindest teilweisen Kollimierung der Anteile der elektromagnetischen Strahlung führt, welche Foki auf oder im Objekt gebildet haben. Anschließend passiert die kollimierte elektromagnetische Strahlung ein Objektiv zur Fokussierung und anschließend zumindest teilweise die konfokal diskriminierende Blende. Nur die Anteile der elektromagnetischen Strahlung, welche Foki auf oder im Objekt gebildet haben, können diese konfokal diskriminierende Blende im Wesentlichen passieren.Focused radiation for object illumination is thus reflected and / or scattered on the object, once again passing through the means for chromatic depth splitting of foci, whereby a wavelength-dependent refractive power is effective, which leads to at least partial collimation of the portions of the electromagnetic radiation, which focuses on or in Have formed object. Subsequently, the collimated electromagnetic radiation passes through a lens for focusing and then at least partially the confocal discriminating aperture. Only the portions of the electromagnetic radiation which have formed foci on or in the object can essentially pass through this confocal discriminating aperture.

Dabei kann diese konfokal diskriminierende Blende auch zur Erzeugung von Foki zur strukturierten Objektbeleuchtung benutzt werden. Dann wird diese Blende insgesamt zweimal von Strahlung durchsetzt, also von hin- als auch zurückpropagierender Strahlung. In diesem Fall befindet sich diese Blende am Eingang des Interferometers. Nach der Rückkehr von Objekt- und Referenzstrahlung zum Interferometereingang, der dann auch den Interferometerausgang darstellt, kommt es zur konfokalen Diskriminierung von Objektlicht und zur Interferenz auf dem Detektor.In this case, this confocal discriminating aperture can also be used to produce foci for structured object illumination. Then, this aperture is interspersed twice by radiation, that is, by backward and back propagating radiation. In this case, this aperture is located at the input of the interferometer. After the return of object and reference radiation to the interferometer input, which then also represents the interferometer output, there is confocal discrimination of object light and interference on the detector.

Von Vorteil ist hierbei, wenn die Mittel zur chromatischen Tiefenaufspaltung von Foki für die mittlere Wellenlänge des Spektrums der verwendeten elektromagnetischen Strahlung die Brechkraft null aufweisen, also brechkraftkompensiert sind, beispielsweise als diffraktiv-refraktives System mit entgegen gesetzter Brechkraft der Komponenten. Dann kann bei entsprechender Kompensation der optischen Weglängen im Referenzstrahlengang das Interferometer zumindest näherungsweise am optischen Gangunterschied null oder in einem vergleichsweise engen Bereich um den optischen Gangunterschied null betrieben werden und die Dispersion ist weitgehend zu vernachlässigen. Von Vorteil kann dieser Ansatz in einem Linnik-Typ-Interferometer zur Anwendung kommen, in welchem nach Unendlich korrigierte Mikroskopobjektives eingesetzt sind. In diesem Linnik-Typ-Interferometer ist mindestens ein Drei-Spiegel-Referenz-Endreflektor im Referenzstrahlengang angeordnet.

  • 25. Vorzugsweise ist bei der Anordnung zur robusten Interferometrie das Interferometer im Grundtyp als Michelson-, Linnik-, Mirau- oder Schulz-Minor-Interferometer ausgebildet und mindestens ein Drei-Spiegel-Referenz-Endreflektor im Referenzstrahlengang angeordnet. Die numerische Apertur ist dabei nicht extrem hoch zu wählen, da sonst die Reflexion mittels eines Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektors nicht mehr möglich ist. Der Schwerpunkt des Einsatzes der erfindungsgemäßen Anordnung liegt deshalb recht eindeutig im Bereich einer mittleren oder geringeren numerischen Apertur für Objektbeleuchtung und Detektion.
It is advantageous here if the means for chromatic depth splitting of foci for the mean wavelength of the spectrum of the electromagnetic radiation used have the refractive power zero, that is to say refractive power compensated, for example as a diffractive refractive system with opposing refractive power of the components. Then, with a corresponding compensation of the optical path lengths in the reference beam path, the interferometer can be operated at least approximately zero at the optical path difference zero or in a comparatively narrow range around the optical path difference zero and the dispersion is largely negligible. Advantageously, this approach can be used in a Linnik-type interferometer in which infinitely corrected microscope objectives are used. In this Linnik-type interferometer at least a three-mirror reference end reflector is arranged in the reference beam path.
  • 25. Preferably, in the arrangement for robust interferometry, the interferometer in the basic type is designed as a Michelson, Linnik, Mirau or Schulz minor interferometer, and at least one three-mirror reference end reflector is arranged in the reference beam path. The numerical aperture is not extremely high to choose, otherwise the reflection by means of a three-plane mirror reference end reflector is no longer possible. The focus of the use of the arrangement according to the invention therefore lies quite clearly in the range of a medium or lower numerical aperture for object illumination and detection.

Beispielsweise kann ein Objektiv mit einer numerischen Apertur von 0,2 noch recht gut in Verbindung mit einem Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor im Referenzstrahlengang eingesetzt werden.For example, a lens with a numerical aperture of 0.2 can still be used quite well in conjunction with a three-plane mirror reference end reflector in the reference beam path.

Bei einer Michelson-Interferometer-Anordnung kann hier weit von der Rechtwinkligkeit zwischen Referenz- und Objektstrahlengang abgewichen werden. So stellt ein Winkel zwischen den Hauptstrahlenbündeln von Referenz- und Objektstrahlung von 160 Altgrad vorzugsweise eine gute Option dar, um einen schlanken Sensor mit guter Zugänglichkeit zum Messobjekt zu realisieren.In a Michelson interferometer arrangement, it is possible to deviate far from the perpendicularity between the reference beam and the object beam path. Thus, an angle between the main beams of reference and object radiation of 160 degrees is preferably a good option for realizing a slim sensor with good accessibility to the measurement object.

Bei einem Mirau- oder Schulz-Minor-Interferometer kann die Mittenabschattung, welche durch den Referenzreflektor auftritt, durch den Einsatz einer Doppelspalt- oder Doppel-Pinhole-Blende mit geeignetem Spalt- oder Pinhole-Abstand, die jeweils sehr fein ausgebildet sind, also eine Point-Diffraction-Anordnung darstellen, unschädlich gemacht werden. Dadurch können jedoch erhebliche Lichtverluste auftreten. Dies ist in der Regel technisch jedoch mit Lichtquellen hoher räumlicher Kohärenz und Lichtleistung machbar (A8).

  • 26. Vorzugsweise sind bei der Anordnung zur robusten Interferometrie Mittel zur vorbestimmten Variation der numerischen Apertur der Beleuchtung angeordnet. Damit kann der wellenoptische Schärfentiefebereich optimal an eine Messaufgabe angepasst werden.
In a Mirau or Schulz minor interferometer, the center shading, which occurs through the reference reflector, by the use of a double-slit or double-pinhole aperture with a suitable gap or pinhole distance, which are each formed very fine, so one Point-Diffraction arrangement represent, be made harmless. However, this can cause significant light losses. However, this is usually technically feasible with light sources of high spatial coherence and light output (A8).
  • 26. Preferably, in the arrangement for robust interferometry means are arranged for the predetermined variation of the numerical aperture of the illumination. Thus, the wave-optical depth of field can be optimally adapted to a measuring task.

Für die gelegentlich auftretende Messaufgabe, dass eine Objektoberfläche geneigt zur optischen Achse des Objektstrahlenganges angemessen werden soll, beispielsweise eine 45°-Fasenfläche an einem feingefrästen Werkstück, kann im Objektstrahlengang des Interferometers ein zusätzlicher Planspiegel der Objektoberfläche zugeordnet sein, wobei dieser Planspiegel mit der Objektoberfläche dann zumindest näherungsweise einen rechten Winkel einschließen sollte, also zumindest näherungsweise eine 90°-Dachkante bildet. Im Referenzstrahlengang ist hierbei ein 90°-Dachkantreflektor angeordnet, wobei dessen Spiegelflächen stets nur eine einmalige Reflexion erfahren sollen. Diese Anordnung in Verbindung mit einem Michelson-Interferometer liefert Lateral-Shear, vermeidet die Wellenfront-Inversion, weist aber in der Regel eindeutige Nachteile wegen des Bauvolumens im Objektstrahlengang, also bezüglich der Zugänglichkeit zum Objekt, beispielsweise in Innenräumen, auf und wird deshalb hier nicht weiter verfolgt. Diese Michelson-Interferometer-Anordnung, mit der Möglichkeit Lateral-Shear mittels zwei Doppeldachkant-Reflektoren zu erzeugen, ist klassisch und wird in der Regel zur Wellenfrontanalyse eingesetzt, s. a. [4] und [5].For the occasional measurement task that an object surface is to be inclined to the optical axis of the object beam path appropriate, for example, a 45 ° chamfer surface on a fine-milled workpiece, an additional plane mirror of the object surface can be assigned in the object beam path of the interferometer, said plane mirror with the object surface then at least approximately should include a right angle, so at least approximately forms a 90 ° roof edge. In the reference beam path in this case a 90 ° roof edge reflector is arranged, the mirror surfaces should always experience only a single reflection. This arrangement in conjunction with a Michelson interferometer provides lateral shear, avoids the wavefront inversion, but usually has clear disadvantages because of the volume in the object beam path, so in terms of accessibility to the object, for example, indoors, and will therefore not here followed up. This Michelson interferometer arrangement, with the possibility of generating lateral shear by means of two double-sided reflectors, is classical and is generally used for wavefront analysis, s. a. [4] and [5].

Den in [6] veröffentlichten Ansatz mit zwei Tripelreflektoren in einem Michelson-Interferometer, hier als Anordnung für einen interferometrischen Sensor zur Abstandsmessung u. a. zu nutzen, bei dem ein Planspiegel des Tripelreflektors in Form einer Würfelecke, auch als Corner Cube bekannt, durch die Objektoberfläche ersetzt ist, führt dazu, dem Objekt im Objektstrahlengang noch einen Dachkantreflektor beiordnen zu müssen, wenn die unerwünschte Wellenfrontinversion zwischen Objekt- und Referenzstrahlung vermieden werden soll. Das ist eine mögliche Sensorlösung, vergrößert aber das ganz Sensorvolumen erheblich, was für viele Applikationen sehr nachteilig ist oder schließt den Einsatz einer derartigen Lösung völlig aus. Auch ist hierbei keine Invarianz der Lateral-Shear – und damit der Neigung der interferierenden Wellenfronten beispielsweise gegenüber lateralem Wegdriften des Tripelreferenz-Reflektors oder auch des Objekts selbst gegeben. Damit kann sich die Ortsfrequenz im räumlichen Interferogramm ändern, was nachteilig sein kann.To use the approach published in [6] with two triple reflectors in a Michelson interferometer, here as an arrangement for an interferometric sensor for distance measurement, among others a plane mirror of the triple reflector in the form of a cube corner, also known as corner cube, is replaced by the object surface leads to the object in the object beam path still having to assign a roof edge reflector when the unwanted wavefront inversion between object and reference radiation is to be avoided. This is a possible sensor solution, but increases the whole sensor volume considerably, which is very disadvantageous for many applications or excludes the use of such a solution completely. Again, there is no invariance of the lateral shear - and thus the inclination of the interfering wavefronts, for example, given lateral drifting away of the triple reference reflector or the object itself. Thus, the spatial frequency in the spatial interferogram change, which can be disadvantageous.

Vorzugsweise können zur Schrägbeleuchtung einer Objektoberfläche auch zwei weitere Planspiegel, je einer rechts und je einer links, flankierend beigeordnet sein und im Referenzstrahlengang befindet sich der bereits beschriebene Drei-Spiegel-Referenz-Endreflektor mit stumpf- oder spitzwinkligem Dreieck ABC der Spurgeraden. In diesem Fall ist die Differenz der Anzahl der Planspiegelflächen von Referenz- und Objektstrahlengang, die einmalig vom Licht passiert werden, null, so dass keine Wellenfront-Inversion auftritt. Der Betrag delta_q der Lateral-Shear kann hierbei durch laterales Schieben des End-Reflektors mit drei Planspiegeln frei eingestellt werden. Diese Anordnung gestattet, nahezu ebene Objektoberflächen sehr schräg zu beleuchten, beispielsweise mit einem Einfallswinkel von 85°. So kann Schräglicht-Interferometrie zur Geradheits-, Form- und Welligkeitserfassung an vergleichsweise rauen technischen Oberflächen, wie feinbearbeitete ebene Metalloberflächen, betrieben werden. Durch den Schrägeinfall ergibt sich bekannterweise eine Verringerung der Tiefen-Messempfindlichkeit des Interferometers um den Faktor des Kosinus dieses Einfallswinkels auf die Objektoberfläche, auch als Lambda-Dehnung bekannt.Preferably, for oblique illumination of an object surface, two further plane mirrors, one each on the right and one on the left, be flanking assigned and in the reference beam path is the already described three-mirror reference end reflector with obtuse or acute-angled triangle ABC of Spurgeraden. In this case, the difference in the number of reference plane and object path plane mirror surfaces once passed by the light is zero so that wavefront inversion does not occur. The amount delta_q of the lateral shear can hereby be set freely by laterally sliding the end reflector with three plane mirrors. This arrangement allows to illuminate almost flat object surfaces very obliquely, for example, with an incident angle of 85 °. For example, oblique interferometry for straightness, shape and waviness detection on comparatively rough technical surfaces, such as precision machined flat metal surfaces, can be operated. As a result of the oblique incidence, it is known to reduce the depth measuring sensitivity of the interferometer by the factor of the cosine of this angle of incidence on the object surface, also known as lambda elongation.

Wird im Objektstrahlengang der erfinderischen Anordnung ein 90°-Umlenkspiegel beispielsweise zur Messung an der Innenwand einer kleinen Bohrung benutzt, der sowohl im Hin- als auch im Rücklauf vom Licht passiert wird, ist dieser 90°-Umlenkspiegel wegen der zweifachen Reflexion an demselben ohne jeden Einfluss auf die Orientierung der Objektwellenfronten bei der Detektion und kann somit hinsichtlich der Problematik der Wellenfrontinversion unbeachtet bleiben.Is in the object beam path of the inventive arrangement, a 90 ° -Umlenkspiegel example used to measure on the inner wall of a small hole that is passed both in the outward and in the return of the light, this 90 ° -Umlenkspiegel is due to the double reflection on the same without any Influence on the orientation of the object wavefronts in the detection and thus can remain unnoticed with regard to the problem of wavefront inversion.

Merkmale zum VerfahrenCharacteristics of the procedure

  • 27. Beim Verfahren zur robusten Interferometrie zur Erfassung von Abstand, Tiefe, Profil, Form, Welligkeit und/oder Rauheit oder der optischen Weglänge in oder an technischen oder biologischen Objekten, auch in Schichtenform, oder auch zur optischen Kohärenz-Tomografie (OCT), mit den Mitteln der Anordnung im Oberbegriff werden die Verfahrensschritte: • Erzeugen mindestens eines Objektstrahlenbündels elektromagnetischer Strahlung zur Beleuchtung des Objekts, • Erzeugen mindestens eines Referenzstrahlenbündels mittels Strahlteilung in einem Interferometer, • Erzeugen von räumlichen Kurzkohärenz-Interferenzen von Objekt- und Referenzstrahlen, • Detektion von räumlichen Kurzkohärenz-Interferenzen auf einem gerasterten Detektor elektromagnetischer Strahlung durchgeführt.27. In the method for robust interferometry for the detection of distance, depth, profile, shape, waviness and / or roughness or the optical path length in or on technical or biological objects, also in layer form, or also for optical coherence tomography (OCT), with the means of the arrangement in the preamble, the method steps are: Generating at least one object beam of electromagnetic radiation for illuminating the object, Generating at least one reference beam by means of beam splitting in an interferometer, Generating spatial short-coherence interference of object and reference beams, • Detection of spatial short-coherence interference on a screened detector of electromagnetic radiation carried out.

Erfindungsgemäß werden

  • • im Referenzstrahlengang drei direkt aufeinanderfolgende Reflexionen an je drei Planspiegeln durchgeführt,
  • • dabei liegen die Flächen dieser drei Planspiegel jeweils zumindest näherungsweise senkrecht zu einer gemeinsamen Bezugsebene BE und bilden somit einen Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor
  • • und durch die drei Reflexionen wird eine Lateral-Shear mit dem Betrag delta_q zwischen Objektstrahlenbündel und Referenzstrahlenbündel im Interferometer eingeführt, wodurch auf dem gerasterten Detektor mindestens ein räumliches Kurzkohärenz-Interferogramm erzeugt wird,
  • • und mindestens ein räumliches Interferogramm wird zur Gewinnung von Informationen über Abstand, Tiefe, Profil, Form, Welligkeit und/oder Rauheit oder der optischen Weglänge eines Objekts, auch in der optischen Kohärenz-Tomografie, ausgewertet.
According to the invention
  • In the reference beam path, three directly successive reflections are carried out on three plane mirrors each,
  • • The surfaces of these three plane mirrors are each at least approximately perpendicular to a common reference plane BE and thus form a three-plane mirror reference end reflector
  • And the three reflections introduce a lateral shear of the amount delta_q between the object beam and the reference beam in the interferometer, thereby producing at least one spatial short-coherence interferogram on the screened detector,
  • And at least one spatial interferogram is evaluated to obtain information about distance, depth, profile, shape, waviness and / or roughness or the optical path length of an object, also in optical coherence tomography.

Die Invarianz der Lateral-Shear mit dem Betrag delta_q zwischen dem Objektstrahlenbündel und Referenzstrahlenbündel gegenüber lateralen Verschiebungen des Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektors stellt einen großen Vorteil dar, da so die Ortsfrequenz für die Schwerpunktwellenlänge des räumlichen Interferogramms bei einem unveränderlichen Spektrum der Lichtquelle, z. B. auch bei thermisch verursachtem lateralem Wegdriften des Reflektors als monolithische Baugruppe konstant ist. Dagegen führt ein Verschieben des Reflektors in der Tiefe wegen der sich ändernden optischen Weglänge zum lateralen Verschieben des räumlichen Interferogramms auf dem Detektor (A9).The invariance of the lateral shear with the amount delta_q between the object beam and reference beam against lateral displacements of the three-plane mirror reference end reflector represents a great advantage, since the spatial frequency for the center wavelength of the spatial interferogram with a fixed spectrum of the light source, for , B. is constant even when thermally caused lateral drifting away of the reflector as a monolithic assembly. In contrast, shifting the reflector in depth, due to the changing optical path length, leads to lateral displacement of the spatial interferogram on the detector (A9).

Merkmale zu Unteransprüchen des Verfahrens Features to dependent claims of the method

  • 28. Beim Verfahren zur robusten Interferometrie erfolgt vorzugsweise eine punktförmige oder eine lateral strukturierte Beleuchtung des Objekts, um beispielsweise das Streulicht zu minimieren (A10).28. In the method for robust interferometry, a point-like or a laterally structured illumination of the object is preferably carried out in order to minimize, for example, the scattered light (A10).
  • 29. Beim Verfahren zur robusten Interferometrie werden vorzugsweise die Reflexionen des Hauptstrahls des Referenzstrahlenbündels so durchgeführt, dass die Auftreffpunkte des Hauptstrahls des Referenzbündels auf die drei Planspiegel zumindest näherungsweise in einer gemeinsamen Ebene liegen, die parallel zu der gemeinsamen Bezugsebene BE ausgerichtet ist.29. In the method for robust interferometry, the reflections of the main beam of the reference beam are preferably carried out such that the points of impact of the main beam of the reference beam on the three plane mirrors lie at least approximately in a common plane, which is aligned parallel to the common reference plane BE.
  • 30. Beim Verfahren zur robusten Interferometrie wird vorzugsweise nach dem Objektiv (13), welches das Objektbündel kollimiert, in dessen nachgeordneter Brennebene F13' – aus der vorbestimmten Lateral-Shear delta_q von Referenz- und Objektbündel in der dem Objektiv (13) vorgeordneten Brennebene F13, welche die Messebene ME der Anordnung darstellt, – eine Verkippung um den Winkel delta_beta der Hauptstrahlen von Referenz- und Objektbündel erzeugt.30. The method of robust interferometry is preferably performed after the objective ( 13 ), which collimates the object bundle, in its subordinate focal plane F13 '- from the predetermined lateral shear delta_q of reference and object bundles in the lens ( 13 ) upstream focal plane F13, which represents the measurement plane ME of the arrangement, - generates a tilt by the angle delta_beta of the main beams of reference and object bundles.

Außerdem wird die Detektion eines räumlich ausgedehnten Zweistrahl-Interferogramms

  • – entweder in dieser Brennebene (F13')
  • – oder in einer zu dieser Brennebene (F13') in Lichtrichtung nachgeordneten, optisch konjugierten Ebene durchgeführt, wobei diese nachgeordnete, optisch konjugierte Ebene mindestens durch ein Strahlenbüschel in einer Ebene dargestellt ist.
In addition, the detection of a spatially extended two-beam interferogram
  • Either in this focal plane (F13 ')
  • - Or in a to this focal plane (F13 ') downstream in the light direction, optically conjugate plane, said subordinate, optically conjugate plane is at least represented by a pencil of rays in a plane.

Der Vorteil ist hierbei, dass die Verkippung der Hauptstrahlen von Referenz- und Objektbündel zueinander um den Winkel delta_beta gegenüber einer Änderung der Lage, wie Translationen in allen drei Raumachsen, eines in sich starren, also monolithischen Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektors im Referenzstrahlengang invariant ist. Dies gilt auch für das Objekt sowie den Strahlteiler, beispielsweise in einem Michelson-Typ-Interferometer. Kleinere Rotationen des in sich starren Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektors, des Objekts oder des Strahlteilers in der Interferometeranordnung, der sowohl für Strahlteilung als auch Vereinigung benutzt wird, führen ebenfalls zu keinem oder nur zu einem Einfluss zweiter Ordnung auf den Betrag des Winkels delta_beta, wodurch bei einem zeitlich konstanten Lichtquellenspektrum und einer grauen, schwarzen oder weißen Objektoberfläche die Ortsfrequenz für die Schwerpunktwellenlänge im räumlichen Interferogramm als nahezu unveränderlich anzusehen ist. Auch eine farbige Objektoberfläche hat in der Regel nur einen relativ kleinen Einfluss auf die Ortsfrequenz für die Schwerpunktwellenlänge. Ausnahmen können hier jedoch Schichtsysteme, wie spektrale Bandpässe, darstellen.

  • 31. Beim Verfahren zur robusten Interferometrie wird vorzugsweise eine Strahlformung von Referenzstrahlenbündel und Objektstrahlenbündel mittels abbildender Zylinder-Optik mit Fokussierung von mindestens einem Strahlenbüschel in die Brennebene (F13') des objektabbildenden Objektivs durchgeführt.
  • 32. Beim Verfahren zur robusten Interferometrie wird vorzugsweise eine Strahlformung von Referenzstrahlenbündel und Objektstrahlenbündel mittels abbildender Zylinder-Optik mit Fokussierung von mindestens einem Strahlenbüschel in eine zur Brennebene (F13') des objektabbildenden Objektivs in Lichtrichtung nachgeordneten, optisch konjugierten Ebene durchgeführt und diese konjugierte Ebene ist mindestens durch ein Strahlenbüschel gegeben.
  • 33. Beim Verfahren zur robusten Interferometrie wird vorzugsweise ein Ausschnitt der Brennebene (F13') durch eine in Lichtrichtung nachfolgende, anamorphotische Abbildungsstufe zumindest näherungsweise durch ein erstes Strahlenbüschel, dessen Fläche senkrecht Schnittlinie von Referenz- und Objektwellenfront in der Brennebene (F13') angeordnet ist, auf den Detektor abgebildet. Außerdem wird jeder optisch erfasste Objektpunkt vorzugsweise durch ein zweites Strahlenbüschel, das senkrecht zum ersten ausgerichtet ist, auf den Detektor fokussiert abgebildet, so dass für jeden optisch erfassten Objektpunkt auf dem Detektor mindestens ein räumlich ausgedehntes, linienförmiges Zweistrahl-Interferogramm zumindest näherungsweise in Linienform erzeugt wird und die linienförmigen Zweistrahl-Interferogramme der optisch erfassten Objektpunkte vorzugsweise auf dem Detektor in Stapelform angeordnet werden, wobei jedem linienförmigen Zweistrahl-Interferogramm ein eigener Bereich auf dem Detektor reserviert ist.
The advantage here is that the tilt of the main beams of reference and object bundles to each other by the angle delta_beta against a change in position, such as translations in all three spatial axes, a rigid, ie monolithic three-plane mirror reference end reflector in the reference beam path invariant is. This also applies to the object and the beam splitter, for example in a Michelson-type interferometer. Smaller rotations of the inherently rigid three-plane mirror reference end reflector, the object or the beam splitter in the interferometer arrangement, which is used for both beam splitting and combining, also result in no or only a second order influence on the magnitude of the angle delta_beta in which, with a temporally constant light source spectrum and a gray, black or white object surface, the spatial frequency for the centroid wavelength in the spatial interferogram can be regarded as virtually invariable. Even a colored object surface usually has only a relatively small influence on the spatial frequency for the centroid wavelength. However, exceptions can be layer systems, such as spectral bandpasses.
  • 31. In the method for robust interferometry, beam shaping of reference beam and object beam is preferably carried out by means of imaging cylinder optics with focusing of at least one beam of rays in the focal plane (F13 ') of the object-imaging lens.
  • 32. In the method for robust interferometry is preferably carried out a beam shaping of reference beam and object beam by imaging cylinder optics with focusing of at least one pencil of rays in the focal plane (F13 ') of the object-imaging lens in the light direction downstream, optically conjugate plane and this conjugate plane given at least by a ray bundle.
  • 33. In the method for robust interferometry is preferably a section of the focal plane (F13 ') by a subsequent light direction, anamorphic imaging stage at least approximately by a first bundle of rays whose surface is arranged perpendicular line of intersection of reference and object wavefront in the focal plane (F13') , imaged on the detector. In addition, each optically detected object point is preferably imaged focused on the detector by a second beam bundle, which is aligned perpendicular to the first, so that at least one spatially extended, line-shaped two-beam interferogram is generated at least approximately in line form for each optically detected object point on the detector and the line-shaped two-beam interferograms of the optically detected object points are preferably arranged on the detector in stack form, each line-shaped two-beam interferogram having its own area reserved on the detector.

Jedes Zweistrahl-Interferogramm weist dabei eine aus der Geometrie der Interferometeranordnung und dem Lichtquellenspektrum, einschließlich spektraler Reflexionseigenschaften, resultierende mittlere Modulationsfrequenz auf, die also vorbestimmt ist.

  • 34. Beim Verfahren zur robusten Interferometrie wird vorzugsweise eine lateral feinstrukturierte Beleuchtung vom Objekt und dem Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor in Form eines zeitseriell schaltbaren Beleuchtungsmusters durchgeführt und nach jedem Schaltvorgang wird mindestens ein räumliches Interferogramm mit dem gerasterten Detektor aufgenommen.
  • 35. Beim Verfahren zur robusten Interferometrie werden vorzugsweise die Messebene ME und die zu den Messpunkten der Messebene ME optisch korrespondierenden miniaturisierten Drei-Spiegel-Referenz-Endreflektoren im Referenzstrahlengang zeitlich lateral abgescannt, indem die Quelle kurzkohärenter elektromagnetischer Strahlung zur lateral feinstrukturierten Beleuchtung, welche also schaltbar ausgebildet ist, unterschiedliche laterale Bereiche des Objekts nach und nach beleuchtet und bei jedem Beleuchtungsmuster räumliche Interferogramme mittels gerastertem Detektor aufgenommen werden.
  • 36. Beim Verfahren zur robusten Interferometrie erfolgt der laterale Scan des Beleuchtungsmusters in der Messebene ME vorzugsweise schrittweise und entsprechend der lateralen Abstände der einzelnen Drei-Spiegel-Referenz-Endreflektoren im Referenzstrahlengang.
  • 37. Beim Verfahren zur robusten Interferometrie wird der Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor vorzugsweise synchronisiert mit dem Beleuchtungsmuster lateral verschoben. So kann die Messebene ME nach und nach, also über der Zeit, optisch lateral abgetastet werden.
  • 38. Beim Verfahren zur robusten Interferometrie sind die Reflexionsgrade benachbarter Mikro-Referenzreflektoren vorzugsweise stark unterschiedlich ausgeführt. Durch Beleuchten eines anderen Drei-Spiegel-Referenz-Endreflektors, der einen stark anderen Reflexionsgrad aufweist, und lateralem Nachpositionieren des Sensors zum Objekt kann eine bessere Anpassung der Intensität des Referenzbündels an die Intensität des Objektbündels erreicht werden, insbesondere wenn ein Objektbereich einen sehr geringen Reflexionsgrad aufweist.
  • 39. Beim Verfahren zur robusten Interferometrie ist vorzugsweise mindestens ein Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor in einem Metall- oder Kunststoffkörper durch eine Single-Point-Diamantbearbeitungstechnik hergestellt. Dies kann hochgenau und vergleichsweise kostengünstig erfolgen (A11).
  • 40. Beim Verfahren zur robusten Interferometrie ist vorzugsweise mindestens ein Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor durch Abformtechnik hergestellt.
  • 41. Beim Verfahren zur robusten Interferometrie ist vorzugsweise mindestens ein Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor durch Ätztechnik hergestellt.
  • 42. Beim Verfahren zur robusten Interferometrie ist vorzugsweise mindestens ein Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor durch Abform-, Heiß- oder Kaltpräge- oder auch Drucktechnik hergestellt.
  • 43. Beim Verfahren zur robusten Interferometrie wird vorzugsweise die Phase mindestens eines räumlichen Interferogramms zur Gewinnung von Informationen über Abstand, Tiefe, Profil, Form, Welligkeit und/oder Rauheit oder optische Weglänge eines Objekts ausgewertet.
  • 44. Beim Verfahren zur robusten Interferometrie wird vorzugsweise der Schwerpunkt der Einhüllenden mindestens eines räumlichen Interferogramms zur Gewinnung von Informationen über Abstand, Tiefe, Profil, Form, Welligkeit und/oder Rauheit oder optische Weglänge eines Objekts ausgewertet.
  • 45. Beim Verfahren zur robusten Interferometrie wird vorzugsweise das Maximum der Einhüllenden mindestens eines räumlichen Interferogramms zur Gewinnung von Informationen über Abstand, Tiefe, Profil, Form, Welligkeit und/oder Rauheit oder optische Weglänge eines Objekts ausgewertet.
  • 46. Beim Verfahren zur robusten Interferometrie wird vorzugsweise der Gleichanteil mindestens eines räumlichen Interferogramms zur Gewinnung von Informationen über Abstand, Tiefe, Profil, Form, Welligkeit und/oder Rauheit oder optische Weglänge eines Objekts ausgewertet. Aus räumlichen Verteilung des Gleichanteils des räumlichen Interferogramms können Informationen über das Objekt gewonnen werden.
  • 47. Beim Verfahren zur robusten Interferometrie wird vorzugsweise im Objektstrahlengang eine chromatische Tiefenaufspaltung von Foki mit spektral brechkraftvariablen Mitteln im Objektstrahlengang vorbestimmt durchgeführt. Damit kann der Tiefenmessbereich vergrößert werden.
  • 48. Beim Verfahren zur robusten Interferometrie wird vorzugsweise Strahlung vom Objekt nach dem zweiten Passieren der spektral brechkraftvariablen Mittel konfokal diskriminiert. Anschließend wird diese Strahlung vom Objekt mit Strahlung aus dem Referenzstrahlengang zur Bildung von mindestens einem räumlichen Interferogramm überlagert und die Intensitätsverteilung des räumlichen Interferogramms wird einer Fourier-Transformation nach dem Verfahren der Fourier-Transformations-Spektroskopie unterzogen, um das Spektrum auch von konfokal diskriminierter Strahlung vom Objekt nach chromatischer Tiefenaufspaltung zu gewinnen, um aus diesem Spektrum den Abstand, die Tiefe, das Profil, die Form, Welligkeit und/oder die Rauheit oder die optische Weglänge eines Objekts zu ermitteln. Hierzu kann eine Schwerpunktauswertung erfolgen. Hierbei führen im Wesentlichen nur die Wellenlängenanteile zu merklichen Anteilen im Spektrum, die auf dem Objekt scharf fokussiert waren, also dort Foki ausgebildet haben, und demzufolge eine konfokale Blende passieren konnten. Der spektral breitbandige Intensitätsanteil aus dem Referenzstrahlengang schlägt sich nicht in einer Modulation im Interferogramm nieder und somit auch nicht im durch Fourier-Transformation errechneten Spektrum, da die breitbandigen Intensitätsanteile aus dem Objektstrahlengang aufgrund der Tiefenaufspaltung von Foki mit nachfolgender konfokaler Diskriminierung bereits verloren gegangen sind und somit nicht zur Interferenzbildung beitragen können. Spektral vergleichsweise breitbandig ist hier nur der Anteil des Lichts aus dem Referenzstrahlengang, der aber wegen der fehlenden spektral breitbandigen Objektlichtanteile nicht zu einer Modulation im Interferogramm führen kann. Somit ergibt sich nach der Fourier-Transformation des räumlichen Interferogramms ein vergleichsweise schmalbandiges Spektrum von an der konfokalen Blende hindurchgelassener Strahlung aus dem Objektstrahlengang. Die Modulation ist in einem derartigen Interferogramm bei starker chromatischer Tiefenaufspaltung nicht sehr groß, aber aufgrund der vergrößerten Kohärenzlänge durch die konfokale Separierung spektral eingegrenzter Lichtanteile räumlich vergleichsweise stärker ausgedehnt. Durch die Fourier-Transformation des räumlichen Interferogramms kann die Schwerpunktwellenlänge der an der konfokalen Blende jeweils – in Abhängigkeit vom Objektabstand – hindurchgelassenen Strahlung vergleichsweise genau numerisch ermittelt werden. So kann durch eine Kalibrierung der Abstand, die Tiefe, das Profil, die Form, Welligkeit und/oder die Rauheit oder die optische Weglänge eines Objekts ermittelt werden. Dieser Ansatz erübrigt die Verwendung eines dispersiven Spektrometers zur Bestimmung des Spektrums beim chromatisch-konfokalen Verfahren. Dieser Ansatz mit Fourier-Transformation des räumlichen Interferogramms zur Gewinnung eines chromatisch-konfokalen Signals kann hier zusätzlich eingesetzt werden, um multivariat oder multiskalig messen zu können.
  • 49. Vorzugsweise wird Objektstrahlung aus der nachgeordneten Brennebene F13', welche die Fourier-Ebene des objektabbildenden Strahlenganges darstellt und in der Regel auch die Pupillenebene darstellen kann, durch die in Lichtrichtung dieser Brennebene F13' nachfolgende Strahlteilung aus dem Hauptstrahlengang ausgekoppelt. Diese Objektstrahlung wird zeitlich synchron zur Aufnahme von räumlichen Interferogrammen auf demselben oder einem zeitlich mit dem gerasterten Detektor synchronisierten Detektor mittels Abbildung zur Detektion gebracht. Damit können sowohl die von einem optisch angetasteten Objektpunkt sich ergebende Pupillenausleuchtung als auch das räumliche Interferogramm genau dieses Objektpunktes zeitgleich auf ein und demselben Kamera-Chip oder zwei zueinander elektronisch synchronisierten Kamera-Chips zur Verfügung stehen.
Each two-beam interferogram in this case has an average modulation frequency resulting from the geometry of the interferometer arrangement and the light source spectrum, including spectral reflection properties, which is thus predetermined.
  • 34. In the method for robust interferometry preferably a laterally finely structured illumination of the object and the three-plane mirror reference end reflector is performed in the form of a time-series switchable illumination pattern and after each switching operation, at least one spatial interferogram is recorded with the rastered detector.
  • 35. In the method for robust interferometry preferably the measuring plane ME and the miniaturized to the measuring points of the measuring plane ME miniaturized three-mirror reference end reflectors in Reference beam path scanned laterally in time by the source of short-coherent electromagnetic radiation for laterally finely structured illumination, which is designed switchable, gradually illuminate different lateral areas of the object and spatial interferograms are recorded by rasterized detector with each illumination pattern.
  • 36. In the method for robust interferometry, the lateral scan of the illumination pattern in the measurement plane ME preferably takes place stepwise and corresponding to the lateral distances of the individual three-mirror reference end reflectors in the reference beam path.
  • 37. In the method of robust interferometry, the three-plane mirror reference end-reflector is preferably laterally shifted in synchronization with the illumination pattern. Thus, the measurement level ME can be scanned optically laterally over time, so over time.
  • 38. In the method of robust interferometry, the reflectivities of adjacent micro-reference reflectors are preferably made very different. By illuminating another three-mirror reference end reflector, which has a very different reflectance, and later repositioning the sensor to the object, a better matching of the intensity of the reference beam to the intensity of the object beam can be achieved, especially if an object area has a very low reflectance having.
  • 39. In the method of robust interferometry, preferably at least one three-plane mirror reference end reflector is fabricated in a metal or plastic body by a single-point diamond machining technique. This can be done with high precision and comparatively cheaply (A11).
  • 40. In the method for robust interferometry, preferably at least one three-plane mirror reference end reflector is made by molding.
  • 41. In the method for robust interferometry, preferably at least one three-plane mirror reference end reflector is made by etching.
  • 42. In the method for robust interferometry, preferably at least one three-plane mirror reference end reflector is produced by molding, hot or cold embossing or also printing technology.
  • 43. In the method of robust interferometry, the phase of at least one spatial interferogram is preferably evaluated to obtain information about distance, depth, profile, shape, waviness and / or roughness or optical path length of an object.
  • 44. In the robust interferometry method, the center of gravity of the envelope of at least one spatial interferogram is preferably evaluated to obtain information about distance, depth, profile, shape, waviness and / or roughness or optical path length of an object.
  • 45. In the method for robust interferometry, the maximum of the envelope of at least one spatial interferogram is preferably evaluated for obtaining information about distance, depth, profile, shape, waviness and / or roughness or optical path length of an object.
  • 46. In the method of robust interferometry, the DC component of at least one spatial interferogram is preferably evaluated to obtain information about distance, depth, profile, shape, waviness and / or roughness or optical path length of an object. From spatial distribution of the DC component of the spatial interferogram, information about the object can be obtained.
  • 47. In the method for robust interferometry, a chromatic depth splitting of foci with spectrally refractive-power-variable means in the object beam path is preferably carried out in the object beam path in a predetermined manner. This allows the depth measuring range to be increased.
  • 48. In the method for robust interferometry, radiation from the object is preferably confocally discriminated after the second passage of the spectrally refractive power variable means. Subsequently, this radiation is superimposed by the object with radiation from the reference beam path to form at least one spatial interferogram and the intensity distribution of the spatial interferogram is subjected to a Fourier transform according to the method of Fourier transform spectroscopy to the spectrum of confocal discriminated radiation from To extract the object after chromatic depth splitting to determine from this spectrum the distance, depth, profile, shape, waviness and / or roughness or optical path length of an object. For this purpose, a focus analysis can be done. In this case, essentially only the wavelength components lead to significant proportions in the spectrum, which were sharply focused on the object, that is, where they formed foci, and consequently could pass through a confocal diaphragm. The spectrally broadband intensity component from the reference beam path is not reflected in a modulation in the interferogram and thus not in the spectrum calculated by Fourier transformation, since the broadband intensity components from the object beam path have already been lost due to the depth splitting of foci with subsequent confocal discrimination and thus can not contribute to the formation of interference. Spectral In this case, only the proportion of light from the reference beam path is comparatively broad-band, but because of the lack of spectrally broadband object light components, this can not lead to a modulation in the interferogram. Thus, after the Fourier transformation of the spatial interferogram, a comparatively narrow-band spectrum of radiation transmitted through the confocal aperture results from the object beam path. The modulation is not very large in such an interferogram with strong chromatic depth splitting, but due to the increased coherence length by the confocal separation spectrally limited light components spatially relatively more extensive. By means of the Fourier transformation of the spatial interferogram, the centroid wavelength of the radiation transmitted at the confocal diaphragm in each case-as a function of the object distance-can be determined comparatively accurately numerically. Thus, calibration can be used to determine the distance, depth, profile, shape, waviness and / or roughness or optical path length of an object. This approach eliminates the need for a dispersive spectrometer to determine the chromatic confocal spectrum. This approach with Fourier transformation of the spatial interferogram to obtain a chromatic-confocal signal can additionally be used here in order to be able to measure multivariate or multiscale.
  • 49. Preferably, object radiation from the downstream focal plane F13 ', which represents the Fourier plane of the object-imaging beam path and, as a rule, can also represent the pupil plane, is coupled out of the main beam path by the beam splitting following in the light direction of this focal plane F13'. This object radiation is brought into temporal synchronism with the recording of spatial interferograms on the same or a time synchronized with the rasterized detector detector by means of imaging for detection. Thus, both the pupil illumination resulting from an optically touched object point and the spatial interferogram of precisely this object point can be simultaneously available on one and the same camera chip or two camera chips synchronized with one another electronically.

Dabei wird die am Strahlteiler aus dem Hauptstrahlengang in diesen Nebenstrahlengang zur Pupillenbeobachtung hierbei gegebenenfalls mitausgekoppelte Referenzstrahlung beispielsweise in der Nähe eines Fokuspunktes derselben blockiert, also dort, wo Objekt- und Referenzstrahlung deutlich räumlich separiert sind. So ist es möglich, dass nur die Objektstrahlung zur Detektion kommen kann. Ein sowohl Objekt- als auch Referenzstrahlengang überdeckender Strahlteiler zur Auskopplung, der beispielsweise einen hochgenau gefertigten Würfel aus spannungsarmen Qualitätsglas darstellt, führt in gleicher oder nahezu gleicher Weise Dispersion und optische Weglängenänderung sowohl in den Objekt- und als auch den Referenzstrahlengang ein und ist damit für Weißlicht-Interferenzen praktisch nicht vorhanden, da im Idealfall sich der optische Gangunterschied als die Differenz der Weglängen von Objekt- und Referenzstrahlung durch das Einfügen dieses Auskoppel-Strahlteilerwürfel hier praktisch nicht ändert.In this case, the reference beam which is optionally coupled therewith at the beam splitter from the main beam path in this secondary beam path for pupil observation is thereby blocked, for example in the vicinity of a focal point thereof, ie where object and reference radiation are clearly spatially separated. So it is possible that only the object radiation can come to the detection. A beam splitter for decoupling covering both object and reference beam paths, which for example represents a high-precision manufactured cube of stress-free quality glass, introduces dispersion and optical path length change both in the object beam and the reference beam path in the same or almost the same way and is therefore white light Interference virtually absent, since ideally the optical path difference as the difference of the path lengths of object and reference radiation by inserting this decoupling beam splitter cube practically does not change here.

Damit ist in Echtzeit der Interferogramm-Aufnahme auch die Form der Ausleuchtung der Pupillenebene, also die Intensitätsverteilung in der Pupillenfläche detektierbar, die meist mit der Fourier-Ebene des objektabbildenden Objektivs zusammenfällt. Die Ausleuchtung dieser Pupillenebene wird weitgehend durch Objekteigenschaften wie beispielsweise Oberflächengradient und Mikrostruktur des angetasteten Objekts bestimmt und beinhaltet damit auch ganz wesentliche Informationen über die Charakteristik des angemessenen Objektpunkts. So können insbesondere wenig kooperative Messpunkte des Objekts oder gemessene Punkte mit besonderen Merkmalen wie Objektkanten eindeutig erkannt, entsprechend klassifiziert und der weiteren Bearbeitung oder der Aussonderung zugeführt werden.Thus, the form of the illumination of the pupil plane, that is to say the intensity distribution in the pupil surface, which coincides for the most part with the Fourier plane of the object-imaging objective, can also be detected in real time of the interferogram recording. The illumination of this pupil plane is largely determined by object properties, such as surface gradient and microstructure of the object being probed, and thus also contains very essential information about the characteristic of the appropriate object point. In particular, little cooperative measuring points of the object or measured points with special features such as object edges can be clearly recognized, correspondingly classified and fed to the further processing or to the sorting out.

Die Informationen aus der Ausleuchtung der Pupillenebene und räumlichen Interferogramm eines oder mehrerer Objektpunkte in einer konkreten Messsituation können zur umfassenderen Beschreibung des Objekts mittels eines Modells zusammengeführt werden.The information from the illumination of the pupil plane and the spatial interferogram of one or more object points in a specific measurement situation can be combined for a more comprehensive description of the object by means of a model.

Die Referenzstrahlung des Interferometers wird hierbei also eindeutig ausgeblendet, was durch diese Anordnung mit Lateral-Shear vergleichsweise einfach möglich ist. Diese relativ einfache Gewinnung der Pupillenausleuchtung stellt einen ganz besonderen Vorteil dieser erfindungsgemäßen Anordnung dar und kann bei bekannten scannenden Weißlicht-Interferometern eher nicht oder nur mit ganz erheblichem technischen Aufwand, beispielsweise zur Kompensation der optischen Wege und der Dispersion in einem Weißlicht-Interferometer, in Echtzeit realisiert werden.The reference radiation of the interferometer is thus clearly hidden, which is comparatively easy by this arrangement with lateral shear. This relatively easy acquisition of the pupil illumination represents a very particular advantage of this arrangement according to the invention and can not in known scanning white light interferometers rather or only with very considerable technical effort, for example, to compensate for the optical paths and the dispersion in a white light interferometer, in real time will be realized.

Die unbedingt gleichzeitige Gewinnung der Pupillenausleuchtung und des räumlichen Interferogramms ist bei Messungen rauer oder dreidimensional feinstrukturierter Oberflächen in einem Umfeld auch mit vergleichsweise kleinen Vibrationsamplituden zwingend notwendig, wobei hier eine gepulste oder geblitzte Lichtquelle eingesetzt werden kann. Bei Vibrationen können sich die Pupillenausleuchtung und das räumliche Interferogramm sehr schnell und signifikant, also auch in einer Zeitdauer von weniger als zehn Millisekunden, erheblich verändern, insbesondere wenn auch Speckle in den optischen Signalen auftreten.The absolutely simultaneous acquisition of the pupil illumination and the spatial interferogram is absolutely necessary for measurements of rough or three-dimensionally finely structured surfaces in an environment even with comparatively small vibration amplitudes, in which case a pulsed or flashed light source can be used. With vibrations, the pupil illumination and the spatial interferogram can be very fast and significant, so even in a period of less than ten milliseconds, change significantly, especially when speckle occur in the optical signals.

Merkmale zum Nebenanspruch der AnordnungCharacteristics of the secondary claim of the arrangement

  • 50. Es handelt sich um ein Verfahren und eine Anordnung zur robusten Interferometrie zur Erfassung von Abstand, Tiefe, Profil, Form, Welligkeit und Ebenheitsabweichung an technischen, spiegelnden Objekten, insbesondere polierte oder ultrapräzisions-bearbeitete Glas- und Metalloberflächen. Im Folgenden wird die Anordnung beschrieben. Dabei werden im Verfahren die folgenden Mittel eingesetzt: • eine monochromatische oder quasi-monochromatische Quelle elektromagnetischer Strahlung zur Beleuchtung des Objekts, • ein Interferometer, insbesondere auch in Form eines Interferenzmikroskops, mit einem Objekt- und mit mindestens einem Referenzstrahlengang, in dem mindestens ein End-Reflektor angeordnet ist, und einer Messebene im Objektstrahlengang, in der sich zumindest näherungsweise die optisch anzumessenden Oberflächen- oder Volumenelemente des Objekts befinden. • sowie mindestens einen gerasterten Detektor zur Detektion elektromagnetischer Strahlung in Form mindestens eines räumlichen Interferogramms.50. It is a method and arrangement for robust interferometry for detecting distance, depth, profile, shape, waviness and flatness deviation on technical specular objects, in particular polished or ultra-precision machined glass and metal surfaces. The arrangement will be described below. The following means are used in the process: A monochromatic or quasi-monochromatic source of electromagnetic radiation for illuminating the object, An interferometer, in particular also in the form of an interference microscope, with an object and at least one reference beam path, in which at least one end reflector is arranged, and a measuring plane in the object beam path, in which at least approximately the optically to be measured surface or volume elements of Object are located. And at least one screened detector for detecting electromagnetic radiation in the form of at least one spatial interferogram.

Die Quelle elektromagnetischer Strahlung wird im Folgenden auch als Lichtquelle bezeichnet, wobei hier Licht im Sinne elektromagnetischer Strahlung von Terahertz- über IR-, VIS- bis UV-Strahlung verstanden wird.The source of electromagnetic radiation is also referred to below as light source, in which case light in the sense of electromagnetic radiation of terahertz over IR, VIS to UV radiation is understood.

Die Lichtquelle stellt also eine monochromatische oder quasi-monochromatische Lichtquelle dar, beispielsweise eine Laserlichtquelle.The light source thus represents a monochromatic or quasi-monochromatic light source, for example a laser light source.

Die Lichtquelle kann ein lateral feinstrukturiertes Beleuchtungsmuster auf dem Objekt erzeugen. Dabei kann die Lichtquelle einen Punktstrahler, einen lateralen Linienstrahler oder eine Gruppe von Punktstrahlern in Linien- oder Matrixform auch mit einzeln schaltbaren punktförmigen oder linienförmigen Leuchtelementen darstellen.The light source can produce a laterally finely structured illumination pattern on the object. In this case, the light source can be a point emitter, a lateral line emitter or a group of point emitters in line or matrix form even with individually switchable point-shaped or line-shaped lighting elements.

Erfindungsgemäß ist im Referenzstrahlengang des Interferometers mindestens ein End-Reflektor mit drei Planspiegeln als Referenzreflektor, also mindestens ein Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor, angeordnet und die Flächen dieser drei Planspiegel liegen jeweils zumindest näherungsweise senkrecht zu einer gemeinsamen Bezugsebene BE.According to the invention, at least one end reflector with three plane mirrors as the reference reflector, ie at least one three-plane mirror reference end reflector, is arranged in the reference beam path of the interferometer, and the surfaces of these three plane mirrors each lie at least approximately perpendicular to a common reference plane BE.

Dabei bilden die drei Spurgeraden der Ebenen, welche durch die Flächen der drei Planspiegel dargestellt werden, in der Bezugsebene BE ein Dreieck ABC, damit bei diesem Interferometer zwischen Referenz- und Objektbündel eine Lateral-Shear besteht, die eine Strecke mit dem Betrag delta_q darstellt. Die Strecken AB, BC und CA dieses Dreiecks ABC müssen dazu eine gewisse Länge aufweisen. Beispielsweise kann die Länge dieser Strecken typischerweise jeweils in der Größenordnung von einigen Zehntel Millimetern bis zu einigen Millimetern mm liegen. Die Winkel dieses Dreiecks sind dabei weder extrem spitz, noch stellt dieses Dreieck ein rechtwinkliges Dreieck dar. Die sich ergebende Lateral-Shear kann einen Betrag delta_q in der Größenordnung typischerweise von 0,1 mm bis zu einigen Millimetern aufweisen. Bei einer Anordnung mit einem lateral hochauflösenden Mikroskop und einer Schwerpunktwellenlänge im UV-Bereich kann der Betrag delta_q jedoch auch in der Größenordnung von wenigen Hundertstel Millimetern sein. Dies basiert auf entsprechend kleinen Längen der Strecken AB, BC und CA und den entsprechenden drei Winkeln des Dreiecks ABC. Dieser Ansatz ist hinsichtlich des Betrages delta_q weit skalierbar.The three spur lines of the planes, which are represented by the surfaces of the three plane mirrors, form in the reference plane BE a triangle ABC, so that there is a lateral shear between reference and object bundles in this interferometer, which represents a distance with the amount delta_q. The distances AB, BC and CA of this triangle ABC must have a certain length. For example, the lengths of these sections may typically each be on the order of a few tenths of a millimeter to a few millimeters mm. The angles of this triangle are neither extremely pointed, nor is this triangle a right triangle. The resulting lateral shear may have an amount delta_q on the order of typically from 0.1 mm to several millimeters. In an arrangement with a laterally high-resolution microscope and a centroid wavelength in the UV range, however, the amount delta_q can also be on the order of a few hundredths of a millimeter. This is based on correspondingly small lengths of the distances AB, BC and CA and the corresponding three angles of the triangle ABC. This approach is widely scalable in terms of the amount delta_q.

Die Lateral-Shear vom Betrag delta_q zwischen Referenz- und Objektbündel besteht in der virtuellen Spiegelebene VSE des Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektors im Referenzstrahlengang. Die virtuelle Spiegelebene VSE ist mit der Messebene ME des Objektstrahlenganges durch Strahlteilung zumindest näherungsweise optisch konjugiert. Dabei ist der Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor winkelmäßig so ausgerichtet, dass elektromagnetische Strahlung aus dem Referenzstrahlengang auf den gerasterten Detektor gelangt.The lateral shear of the amount delta_q between reference and object bundles exists in the virtual mirror plane VSE of the three-plane mirror reference end reflector in the reference beam path. The virtual mirror plane VSE is at least approximately optically conjugate with the measurement plane ME of the object beam path by beam splitting. In this case, the three-plane mirror reference end reflector is angularly aligned so that electromagnetic radiation passes from the reference beam path to the screened detector.

Eine laterale Verschiebung eines Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektors führt nicht zu einer Veränderung des Betrages der Lateral-Shear delta_q. Diese Invarianz wird als ein großer technischer Vorteil angesehen, da sich somit eine hohe Robustheit der Signalentstehung gegenüber derartigen Dejustierungen ergibt.A lateral displacement of a three-plane mirror reference end reflector does not result in a change in the amount of lateral shear delta_q. This invariance is regarded as a great technical advantage, since this results in a high robustness of the signal generation over such misalignments.

Der Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor ist ein im erfindungsgemäßen Interferometer Lateral-Shear erzeugender Reflektor. Dabei weist der Drei-Spiegel-Referenz-Endreflektor, wie bereits dargestellt, eine virtuelle Spiegelebene VSE auf. Dieser virtuellen Spiegelebene VSE kann das Auftreten der Lateral-Shear räumlich zugeordnet werden. Beispielsweise führt die Interferenz von einer Objektkugelwelle und einer Referenzkugelwelle, die durch das Interferometer erzeugt werden und deren Kugelzentren durch eine Lateral-Shear vom Betrag delta_q separiert sind, zumindest in einem begrenzten Teilbereich der Detektorebene zu einem räumlichen Interferogramm mit einer zumindest näherungsweise konstanten Ortsfrequenz für die Schwerpunktwellenlänge, da die interferierenden Wellenflächen auf dem Detektor zueinander geneigt sind. In einem begrenzten Ausschnitt der Kugelwellenflächen sind diese in der Regel hinreichend gut durch Planwellen zu approximieren. Diese auf einem Detektor zu registrierende Interferenzerscheinung von zwei räumlich kohärenten Kugelwellenflächen ist dem Fachmann in der Optik als das klassische Youngsche Doppelspaltexperiment hinreichend bekannt, wobei der Spaltabstand d im Doppelspaltexperiment hier der Lateral-Shear mit dem Betrag delta_q entspricht.The three-plane mirror reference end reflector is a reflector which generates a lateral shear in the interferometer according to the invention. As already mentioned, the three-mirror reference end reflector has a virtual mirror plane VSE. This virtual mirror plane VSE can be spatially assigned to the occurrence of the lateral shears. For example, the interference of an object spherical wave and a reference spherical wave, which are generated by the interferometer and whose spherical centers are separated by a lateral shear of the amount delta_q, at least in a limited portion of the detector plane to a spatial interferogram with an at least approximately constant spatial frequency for the Center wavelength because the interfering wave surfaces on the Detector are inclined to each other. In a limited section of the spherical wave surfaces, these are generally sufficiently well approximated by plane waves. This interference phenomenon of two spatially coherent spherical wave surfaces to be registered on a detector is sufficiently known to the person skilled in the art as the classic Young's double-slit experiment, the gap distance d in the double-slit experiment corresponding here to the lateral shear with the amount delta_q.

Die Lateral-Shear mit dem Betrag delta_q dient hier also als Grundlage für die Erzeugung von einem oder mehreren räumlichen Interferogrammen, welche in ihrem Streifenabstand nicht oder nur ganz unwesentlich durch die Neigung der Objektoberfläche zu beeinflussen sind, wenn das punktförmige Zentrum der Objekt-Kugelwelle auf einem Oberflächenelement liegt, also das Objekt auch durch fokussiertes Licht zumindest näherungsweise punktförmig beleuchtet wird. Diese Invarianz des Streifenabstandes ist für die Auswertung räumlicher Interferogramme von sehr großem Vorteil, da hier beispielsweise aufgrund der Vorabkenntnis des Streifenabstandes im Signal robuste und vergleichsweise schnelle Lock-in Ansätze zur Bestimmung der Phasenlage des räumlichen Interferogramms zur Anwendung kommen können, die zumindest näherungsweise auf die Ortsfrequenz des räumlichen Interferogramms eingestellt sind, welche vorab zumindest näherungsweise bekannt ist. Zur Bestimmung der Phasenlage des räumlichen Interferogramms können aber auch vergleichsweise einfache Phasenauswerte-Ansätze kommen wie der 5-Phasen-Auswerte-Algorithmus nach J. Schwider. Es können aber auch Phasen-Auswerte-Algorithmen zur Anwendung kommen, die in der Größenordnung 100 Intensitätswerte zu einem Phasenwert modulo 2 PI verrechnen.The lateral-shear with the amount delta_q serves as a basis for the generation of one or more spatial interferograms, which are not or only slightly influenced by the inclination of the object surface in their stripe spacing, if the point-like center of the object spherical wave on a surface element is located, so the object is illuminated by focused light at least approximately punctiform. This invariance of the stripe distance is for the evaluation of spatial interferograms of great advantage, since here, for example, due to the advance knowledge of the stripe spacing in the signal robust and relatively fast lock-in approaches for determining the phase position of the spatial interferogram can be used, at least approximately to the Spatial frequency of the spatial interferogram are set, which is at least approximately known in advance. In order to determine the phase position of the spatial interferogram, however, comparatively simple phase evaluation approaches may also be used, such as the 5-phase evaluation algorithm according to J. Schwider. However, it is also possible to use phase evaluation algorithms which calculate on the order of magnitude 100 intensity values to a phase value modulo 2 PI.

Auf dem gerasterten Detektor wird vorzugsweise für jeden Objektpunkt in einem lateral ausgedehnten Bereich ein räumliches Interferogramm detektiert, so dass durch Aufnahme eines einzigen Bildes mit vorzugsweise vielen nebeneinander liegenden räumlichen Interferogrammen, die durch Strahlformung gebildet werden, und deren Auswertung ein vollständiges Linienprofil gewonnen werden kann.On the rasterized detector, a spatial interferogram is preferably detected for each object point in a laterally extended area, so that a complete line profile can be obtained by taking a single image with preferably many adjacent spatial interferograms, which are formed by beam shaping, and their evaluation.

Diese Anordnung kann mit besonderem Vorteil eingesetzt werden, wenn polierte ebene oder schwach gekrümmte Objekte in einem schwingenden Umfeld in sehr kurzer Zeit gemessen werden sollen, wo der interferometrische Ansatz mit zeitlichem Phasenschieben nicht eingesetzt werden kann und nur wenige Messpunkte, beispielsweise entlang einer Linie, zur Prüfung genügen. Besonders einfach stellt sich hier die Messung dar, wenn über das Messobjekt a priori-Kenntnisse bestehen, eine stetige Oberfläche desselben vorausgesetzt werden kann und die typischen, zu erwarteten Abweichungen von der Sollgeometrie in der Größenordnung der verwendeten Lichtwellenlänge oder erheblich darunter liegen oder die Abweichungen von der Sollgeometrie sich lateral über dem Messobjekt nur sehr wenig ändern (A12).This arrangement can be used with particular advantage when polished flat or weakly curved objects are to be measured in a vibrating environment in a very short time, where the interferometric approach with temporal phase shifting can not be used and only a few measuring points, for example along a line to Suffice testing. The measurement is particularly simple here if there is a priori knowledge about the measurement object, a steady surface of the same can be assumed and the typical, expected deviations from the desired geometry are on the order of magnitude of the wavelength of light used or significantly lower or the deviations from the setpoint geometry changes very little laterally over the measurement object (A12).

Merkmale zu einem weiteren Nebenanspruch der AnordnungCharacteristics of another additional claim of the arrangement

  • 51. Es handelt sich um ein Verfahren und eine Anordnung zur robusten Interferometrie zur Erfassung von Abstand, Tiefe, Profil, Form, Welligkeit und Ebenheitsabweichung an technischen, spiegelnden Objekten, insbesondere polierte oder ultrapräzisions-bearbeitete Glas- und Metalloberflächen. Im Folgenden wird die Anordnung beschrieben. Dabei werden im Verfahren die folgenden Mittel eingesetzt:51. It is a method and arrangement for robust interferometry for detecting distance, depth, profile, shape, waviness and flatness deviation on technical specular objects, in particular polished or ultra-precision machined glass and metal surfaces. The arrangement will be described below. The following means are used in the process:
  • • eine monochromatische oder quasi-monochromatische Quelle elektromagnetischer Strahlung und auch eine Quelle kurzkohärenter elektromagnetischer Strahlung zur Beleuchtung des Objekts,A monochromatic or quasi-monochromatic source of electromagnetic radiation and also a source of short-coherent electromagnetic radiation for illuminating the object,
  • • ein Interferometer, insbesondere auch in Form eines Interferenzmikroskops, mit einem Objekt- und mit mindestens einem Referenzstrahlengang, in dem mindestens ein End-Reflektor angeordnet ist, und einer Messebene im Objektstrahlengang, in der sich zumindest näherungsweise die optisch anzumessenden Oberflächen- oder Volumenelemente des Objekts befinden.An interferometer, in particular also in the form of an interference microscope, with an object and at least one reference beam path, in which at least one end reflector is arranged, and a measuring plane in the object beam path, in which at least approximately the optically to be measured surface or volume elements of Object are located.
  • • sowie mindestens einen gerasterten Detektor zur Detektion elektromagnetischer Strahlung in Form mindestens eines räumlichen Interferogramms.And at least one screened detector for detecting electromagnetic radiation in the form of at least one spatial interferogram.

Die Quelle elektromagnetischer Strahlung wird im Folgenden auch als Lichtquelle bezeichnet, wobei hier Licht im Sinne elektromagnetischer Strahlung von Terahertz- über IR-, VIS- bis UV-Strahlung verstanden wird.The source of electromagnetic radiation is also referred to below as light source, in which case light in the sense of electromagnetic radiation of terahertz over IR, VIS to UV radiation is understood.

Die Lichtquelle stellt eine monochromatische oder auch quasi-monochromatische Lichtquelle dar, beispielsweise eine Laserlichtquelle. Zusätzlich ist auch eine Quelle kurzkohärenter elektromagnetischer Strahlung zur Beleuchtung des Objekts angeordnet. Diese Wellenlänge ist im Gesamtspektrum dominant. Bei dieser Wellenlänge weisen die Aberrationen der optischen Anordnung, insbesondere in der Pupille des optischen Systems zur Objektabbildung, ein Minimum auf.The light source is a monochromatic or quasi-monochromatic light source, for example a laser light source. In addition, a source of short-coherent electromagnetic radiation for illuminating the object is also arranged. This wavelength is dominant in the overall spectrum. At this wavelength, the aberrations of the optical arrangement, especially in the pupil of the optical system for object imaging, have a minimum.

Die Lichtquelle kann ein lateral feinstrukturiertes Beleuchtungsmuster auf dem Objekt erzeugen. Dabei kann die Lichtquelle einen Punktstrahler, einen lateralen Linienstrahler oder eine Gruppe von Punktstrahlern in Linien- oder Matrixform auch mit einzeln schaltbaren punktförmigen oder linienförmigen Leuchtelementen darstellen.The light source can produce a laterally finely structured illumination pattern on the object. In this case, the light source can be a point emitter, a lateral line emitter or a group of point emitters in line or matrix form even with individually switchable point-shaped or line-shaped lighting elements.

Erfindungsgemäß ist im Referenzstrahlengang des Interferometers mindestens ein End-Reflektor mit drei Planspiegeln als Referenzreflektor, also mindestens ein Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor, angeordnet und die Flächen dieser drei Planspiegel Liegen jeweils zumindest näherungsweise senkrecht zu einer gemeinsamen Bezugsebene BE. According to the invention, at least one end reflector with three plane mirrors as a reference reflector, ie at least one three-plane mirror reference end reflector, is arranged in the reference beam path of the interferometer, and the surfaces of these three plane mirrors lie at least approximately perpendicular to a common reference plane BE.

Außerdem sind in der Anordnung Mittel zur spektralen Aufspaltung im Detektionsstrahlengang vorgesehen, so dass räumliche Interferogramme nach der Wellenlänge separiert sind. Hier kommt der bekannte Ansatz zur Spektral-Interferometrie zur Anwendung. So kann auch das räumliche Interferogramm der Lichtquelle mit monochromatischer oder quasi-monochromatischer Strahlung auf dem gerasterten Detektor zur hochgenauen Phasenauswertung separiert werden. Gleichzeitig liegen räumliche Interferogramme mit unterschiedlichen Wellenlängen separiert vor, so dass ein Multi-Wellenlängen-Ansatz zur Auswertung kommen kann. Durch Addition mehrerer räumlicher Interferogramme mit unterschiedlichen Wellenlängen kann ein numerisch generiertes Kurzkohärenz-Interferogramm errechnet werden und in bekannter Art und Weise zur Auswertung gebracht werden. So kann mittels Kurzkohärenz-Interferogramm- oder Multiwellenlängen-Technik die absolute Streifenordnung oder ein Referenzstreifen im räumlichen Interferogramm-Muster bestimmt werden. Aus dem räumlichen Interferogramm der Lichtquelle mit monochromatischer oder quasi-monochromatischer Strahlung wird die Phasenlage zur Bestimmung einer höchstgenauen Tiefen oder Abstandsinformation in einem Messpunkt numerisch ermittelt. Hier geht es um die höchstgenaue Messung an polierten oder ultrapräzisionsbearbeiteten Oberflächen, also um Auflösung und Messunsicherheit im Sub-Lambda-Bereich, beispielsweise für die Formmessung an Optiken im EUV-Bereich.In addition, means for spectral splitting in the detection beam path are provided in the arrangement, so that spatial interferograms are separated according to the wavelength. Here is the well-known approach to spectral interferometry used. Thus, the spatial interferogram of the light source with monochromatic or quasi-monochromatic radiation on the screened detector for highly accurate phase evaluation can be separated. At the same time, spatial interferograms with different wavelengths are separated so that a multi-wavelength approach can be used for evaluation. By adding several spatial interferograms with different wavelengths, a numerically generated short-coherence interferogram can be calculated and evaluated in a known manner. Thus, by means of short-coherence interferogram or multi-wavelength technique, the absolute fringe order or a reference fringe in the spatial interferogram pattern can be determined. From the spatial interferogram of the light source with monochromatic or quasi-monochromatic radiation, the phase position for determining a highly accurate depth or distance information in a measuring point is determined numerically. This involves the highest-precision measurement of polished or ultra-precision machined surfaces, ie resolution and measurement uncertainty in the sub-lambda range, for example for measuring the shape of optics in the EUV range.

Erfindungsgemäß bilden die drei Spurgeraden der Ebenen, welche durch die Flächen der drei Planspiegel dargestellt werden, in der Bezugsebene BE ein Dreieck ABC, damit bei diesem Interferometer zwischen Referenz- und Objektbündel eine Lateral-Shear besteht, die eine Strecke mit dem Betrag delta_q darstellt. Die Strecken AB, BC und CA dieses Dreiecks ABC müssen dazu eine gewisse Länge aufweisen. Beispielsweise kann die Länge dieser Strecken typischerweise jeweils in der Größenordnung von einigen Zehntel Millimeter bis zu einigen Millimetern liegen. Die Winkel dieses Dreiecks sind dabei weder extrem spitz, noch stellt dieses Dreieck ein rechtwinkliges Dreieck dar. Die sich ergebende Lateral-Shear kann einen Betrag delta_q in der Größenordnung typischerweise von 0,1 mm bis zu einigen Millimeter aufweisen. Bei einer Anordnung mit einem lateral hochauflösenden Mikroskop und einer Schwerpunktwellenlänge im UV-Bereich kann der Betrag delta_q jedoch auch in der Größenordnung von wenigen Hundertstel Millimetern sein. Dies basiert auf entsprechend kleinen Längen der Strecken AB, BC und CA und den entsprechenden drei Winkeln des Dreiecks ABC. Dieser Ansatz ist hinsichtlich des Betrages delta_q weit skalierbar.According to the invention, the three spur lines of the planes, which are represented by the surfaces of the three plane mirrors, form in the reference plane BE a triangle ABC, so that there is a lateral shear between reference and object bundles in this interferometer, which represents a distance with the amount delta_q. The distances AB, BC and CA of this triangle ABC must have a certain length. For example, the lengths of these sections may typically each be on the order of a few tenths of a millimeter to a few millimeters. The angles of this triangle are neither extremely pointed nor is this triangle a right triangle. The resulting lateral shear may have an amount delta_q on the order of typically from 0.1 mm to several millimeters. In an arrangement with a laterally high-resolution microscope and a centroid wavelength in the UV range, however, the amount delta_q can also be on the order of a few hundredths of a millimeter. This is based on correspondingly small lengths of the distances AB, BC and CA and the corresponding three angles of the triangle ABC. This approach is widely scalable in terms of the amount delta_q.

Die Lateral-Shear vom Betrag delta_q zwischen Referenz- und Objektbündel besteht in der virtuellen Spiegelebene VSE des Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektors im Referenzstrahlengang. Die virtuelle Spiegelebene VSE ist mit der Messebene ME des Objektstrahlenganges durch Strahlteilung zumindest näherungsweise optisch konjugiert. Dabei ist der Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor winkelmäßig so ausgerichtet, dass elektromagnetische Strahlung aus dem Referenzstrahlengang auf den gerasterten Detektor gelangt.The lateral shear of the amount delta_q between reference and object bundles exists in the virtual mirror plane VSE of the three-plane mirror reference end reflector in the reference beam path. The virtual mirror plane VSE is at least approximately optically conjugate with the measurement plane ME of the object beam path by beam splitting. In this case, the three-plane mirror reference end reflector is angularly aligned so that electromagnetic radiation passes from the reference beam path to the screened detector.

Eine laterale Verschiebung eines Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektors führt nicht zu einer Veränderung des Betrages der Lateral-Shear delta_q. Diese Invarianz wird als ein großer technischer Vorteil angesehen, da sich somit eine hohe Robustheit der Signalentstehung gegenüber derartigen Dejustierungen ergibt.A lateral displacement of a three-plane mirror reference end reflector does not result in a change in the amount of lateral shear delta_q. This invariance is regarded as a great technical advantage, since this results in a high robustness of the signal generation over such misalignments.

Der Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor ist ein im erfindungsgemäßen Interferometer Lateral-Shear erzeugender Reflektor. Dabei weist der Drei-Spiegel-Referenz-Endreflektor, wie bereits dargestellt, eine virtuelle Spiegelebene VSE auf. Dieser virtuellen Spiegelebene VSE kann das Auftreten der Lateral-Shear räumlich zugeordnet werden. Beispielsweise führt die Interferenz von einer Objektkugelwelle und einer Referenzkugelwelle, die durch das Interferometer erzeugt werden und deren Kugelzentren durch eine Lateral-Shear vom Betrag delta_q separiert sind, zumindest in einem begrenzten Teilbereich der Detektorebene zu einem räumlichen Interferogramm mit einer zumindest näherungsweise konstanten Ortsfrequenz für die Schwerpunktwellenlänge, da die interferierenden Wellenflächen auf dem Detektor zueinander geneigt sind. In einem begrenzten Ausschnitt der Kugelwellenflächen sind diese in der Regel hinreichend gut durch Planwellen zu approximieren. Diese auf einem Detektor zu registrierende Interferenzerscheinung von zwei räumlich kohärenten Kugelwellenflächen ist dem Fachmann in der Optik als das klassische Youngsche Doppelspaltexperiment hinreichend bekannt, wobei der Spaltabstand d im Doppelspaltexperiment hier der Lateral-Shear mit dem Betrag delta_q entspricht.The three-plane mirror reference end reflector is a reflector which generates a lateral shear in the interferometer according to the invention. As already mentioned, the three-mirror reference end reflector has a virtual mirror plane VSE. This virtual mirror plane VSE can be spatially assigned to the occurrence of the lateral shears. For example, the interference of an object spherical wave and a reference spherical wave, which are generated by the interferometer and whose spherical centers are separated by a lateral shear of the amount delta_q, at least in a limited portion of the detector plane to a spatial interferogram with an at least approximately constant spatial frequency for the Center wavelength because the interfering wave surfaces on the detector are inclined to each other. In a limited section of the spherical wave surfaces, these are generally sufficiently well approximated by plane waves. This interference phenomenon of two spatially coherent spherical wave surfaces to be registered on a detector is sufficiently known to the person skilled in the art as the classic Young's double-slit experiment, the gap distance d in the double-slit experiment corresponding here to the lateral shear with the amount delta_q.

Die Lateral-Shear mit dem Betrag delta_q dient hier also als Grundlage für die Erzeugung von einem oder mehreren räumlichen Interferogrammen, welche in ihrem Streifenabstand nicht oder nur ganz unwesentlich durch die Neigung der Objektoberfläche zu beeinflussen sind, wenn das punktförmige Zentrum der Objekt-Kugelwelle auf einem Oberflächenelement liegt, also das Objekt auch durch fokussiertes Licht zumindest näherungsweise punktförmig beleuchtet wird. Diese Invarianz des Streifenabstandes ist für die Auswertung räumlicher Interferogramme von sehr großem Vorteil, da hier beispielsweise aufgrund der Vorabkenntnis des Streifenabstandes im Signal robuste und vergleichsweise schnelle Lock-in Ansätze zur Bestimmung der Phasenlage des räumlichen Interferogramms zur Anwendung kommen können, die zumindest näherungsweise auf die Ortsfrequenz des räumlichen Interferogramms eingestellt sind, welche vorab zumindest näherungsweise bekannt ist. Zur Bestimmung der Phasenlage des räumlichen Interferogramms können aber auch vergleichsweise einfache Phasenauswerte-Ansätze zum Einsatz kommen wie der 5-Phasen-Auswerte-Algorithmus nach J. Schwider. Es können aber auch Phasen-Auswerte-Algorithmen zur Anwendung kommen, die in der Größenordnung 100 Intensitätswerte zu einem Phasenwert modulo 2 PI verrechnen.The lateral-shear with the amount delta_q serves as a basis for the generation of one or more spatial interferograms, which are not or only slightly influenced by the inclination of the object surface in their stripe spacing, if the point-like center of the object spherical wave on one Surface element is located, so the object is illuminated by focused light at least approximately punctiform. This invariance of the stripe distance is for the evaluation of spatial interferograms of great advantage, since here, for example, due to the advance knowledge of the stripe spacing in the signal robust and relatively fast lock-in approaches for determining the phase position of the spatial interferogram can be used, at least approximately to the Spatial frequency of the spatial interferogram are set, which is at least approximately known in advance. In order to determine the phase position of the spatial interferogram, it is also possible to use comparatively simple phase evaluation approaches, such as the 5-phase evaluation algorithm according to J. Schwider. However, it is also possible to use phase evaluation algorithms which calculate on the order of magnitude 100 intensity values to a phase value modulo 2 PI.

Auf dem gerasterten Detektor wird vorzugsweise für jeden Objektpunkt in einem lateral ausgedehnten Bereich ein räumliches Interferogramm der Lichtquelle mit mono- oder quasi-monochromatischer Strahlung detektiert als auch räumliche Kurzkohärenz-Interferogramme, die durch die spektralen Mittel im Detektionsstrahlengang räumlich separiert sind. So dass durch Aufnahme eines einzigen Bildes mit vorzugsweise vielen nebeneinander liegenden räumlichen Interferogrammen, die durch Strahlformung gebildet werden, eine eindeutige und höchstgenaue Tiefen- oder Abstandsinformation gewonnen werden.On the rasterized detector, a spatial interferogram of the light source with mono- or quasi-monochromatic radiation is preferably detected for each object point in a laterally extended area, as well as spatial short-coherence interferograms, which are spatially separated by the spectral means in the detection beam path. So that by recording a single image with preferably many adjacent spatial interferograms, which are formed by beam shaping, a unique and highly accurate depth or distance information can be obtained.

Diese Anordnung kann mit besonderem Vorteil eingesetzt werden, wenn polierte ebene oder schwach gekrümmte Objekte in einem schwingenden Umfeld in sehr kurzer Zeit gemessen werden sollen, wo der interferometrische Ansatz mit zeitlichem Phasenschieben nicht eingesetzt werden kann und nur wenige Messpunkte, beispielsweise entlang einer Linie, zur Prüfung genügen. Besonders einfach stellt sich hier die Messung dar, wenn über das Messobjekt a priori-Kenntnisse bestehen, eine stetige Oberfläche desselben vorausgesetzt werden kann und die typischen, zu erwartenden Abweichungen von der Sollgeometrie in der Größenordnung der verwendeten Lichtwellenlänge oder erheblich darunter liegen oder die Abweichungen von der Sollgeometrie sich lateral über dem Messobjekt nur sehr wenig ändern (A13).This arrangement can be used with particular advantage when polished flat or weakly curved objects are to be measured in a vibrating environment in a very short time, where the interferometric approach with temporal phase shifting can not be used and only a few measuring points, for example along a line to Suffice testing. The measurement is particularly simple here if there is a priori knowledge about the object to be measured, a steady surface of the same can be assumed and the typical, expected deviations from the desired geometry are on the order of magnitude of the wavelength of light used or significantly less, or the deviations from the setpoint geometry changes very little laterally over the measurement object (A13).

Merkmale zu einem Nebenanspruch des VerfahrensCharacteristics of a secondary claim of the procedure

  • 52. Beim Verfahren zur robusten Interferometrie zur Erfassung von Abstand, Tiefe, Profil, Form, Welligkeit und/oder Rauheit oder der optischen Weglänge in oder an technischen oder biologischen Objekten, auch in Schichtenform, oder auch zur optischen Kohärenz-Tomografie (OCT), mit den Mitteln der Anordnung im Oberbegriff werden die Verfahrensschritte: durchgeführt. • Erzeugen mindestens eines Objektstrahlenbündels elektromagnetischer Strahlung zur Beleuchtung des Objekts, • Erzeugen mindestens eines Referenzstrahlenbündels mittels Strahlteilung in einem Interferometer, • Erzeugen von räumlichen Kurzkohärenz-Interferenzen von Objekt- und Referenzstrahlen, • Detektion von räumlichen Kurzkohärenz-Interferenzen auf einem gerasterten Detektor elektromagnetischer Strahlung durchgeführt.52. In the method of robust interferometry for the detection of distance, depth, profile, shape, waviness and / or roughness or the optical path length in or on technical or biological objects, also in layer form, or also for optical coherence tomography (OCT), with the means of the arrangement in the preamble, the method steps are performed. Generating at least one object beam of electromagnetic radiation for illuminating the object, Generating at least one reference beam by means of beam splitting in an interferometer, Generating spatial short-coherence interference of object and reference beams, • Detection of spatial short-coherence interference on a screened detector of electromagnetic radiation carried out.

Erfindungsgemäß werden

  • • im Referenzstrahlengang drei direkt aufeinanderfolgende Reflexionen an je drei Planspiegeln durchgeführt.
  • • Dabei liegen die Flächen dieser drei Planspiegel jeweils zumindest näherungsweise senkrecht zu einer gemeinsamen Bezugsebene BE und bilden somit einen Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor.
  • • Durch die drei Reflexionen wird eine Lateral-Shear mit dem Betrag delta_q zwischen Objektstrahlenbündel und Referenzstrahlenbündel im Interferometer eingeführt, wodurch auf dem gerasterten Detektor mindestens ein räumliches Kurzkohärenz-Interferogramm erzeugt wird.
  • • Es wird eine spektrale Aufspaltung von Objekt- und Referenzstrahlung im Detektionsstrahlengang durchgeführt.
  • • Mindestens ein räumliches Interferogramm-Muster mit spektraler Aufspaltung wird zur Gewinnung von Informationen über Abstand, Tiefe, Profil, Form, Welligkeit und/oder Rauheit oder der optischen Weglänge eines Objekts, auch in der optischen Kohärenz-Tomografie, detektiert und ausgewertet.
According to the invention
  • • In the reference beam path, three directly successive reflections are performed on each of three plane mirrors.
  • The surfaces of these three plane mirrors are each at least approximately perpendicular to a common reference plane BE and thus form a three-plane mirror reference end reflector.
  • • The three reflections introduce a lateral shear of the amount delta_q between the object beam and the reference beam in the interferometer, producing at least one spatial short-coherence interferogram on the screened detector.
  • • A spectral splitting of object and reference radiation in the detection beam path is performed.
  • • At least one spatial interferogram pattern with spectral splitting is detected and evaluated to obtain information about distance, depth, profile, shape, waviness and / or roughness or the optical path length of an object, also in optical coherence tomography.

Damit ist es möglich, räumliche Interferogramme gezielt spektral auszuwählen. Beispielsweise, wenn der Quelle kurzkohärenter Strahlung eine Laserdiode beigeordnet ist. Dadurch kann in einem Spektralbereich, in welches die Aberrationen des optischen Systems ein Minimum darstellen, die Phasenlage des Interferogramms hochgenau bestimmt werden. Die Interferogramme anderer Spektralbereiche dienen zum Bestimmen des Streifens der nullten Ordnung (A14).This makes it possible to selectively select spatial interferograms spectrally. For example, if the source of short-coherent radiation is associated with a laser diode. As a result, in a spectral range in which the aberrations of the optical system represent a minimum, the phase position of the interferogram can be determined with high precision. The interferograms of other spectral regions serve to determine the zero order stripe (A14).

Beschreibung der FigurenDescription of the figures

Die Erfindung wird beispielhaft anhand der 1 bis 30 beschrieben.The invention is exemplified by the 1 to 30 described.

Hier wird der Begriff Licht stets als Synonym für elektromagnetische Strahlung vom Terahertz-, über das Infrarot- bis zum tiefen UV-Spektrum verwendet.Here, the term light is always synonymous with terahertz electromagnetic radiation, used across the infrared to the deep UV spectrum.

Die 1 zeigt einen Sensor auf der Basis eines Michelson-Interferometers. Das Licht von einer spektral vergleichsweise breitbandigen Lichtquelle 1 im nah-infraroten Bereich wird mittels einer Strahlformungsoptik 2 in einen kleinen Fokusfleck FF gebracht, wobei hier auch die Anordnung eines Pinholes möglich ist, wird durch ein Objektiv 3 kollimiert und durch ein vergleichsweise gering-aperturiges Fokussierobjektiv 4 mit einer numerischen Apertur von 0,05 wieder fokussiert und gelangt anschließend in ein Michelson-Typ-Interferometer mit einem Strahlteiler 5 und einer Strahlteilerfläche 6, wo das Licht in ein Referenzbündel R und ein Objektbündel O aufgespaltet wird. Das den Strahlteiler 5 geradlinig passierende Objektlichtbündel O trifft fokussiert im Messpunkt MP auf die spiegelnde Objektoberfläche des Objekts 7, die sich hier nahezu in der Messebene ME befindet. Die Objektoberfläche soll sich innerhalb des wellenoptischen Schärfentiefebereiches des fokussierten Lichts befinden. Das vom Objekt 7 zurückkehrende Licht wird an der Strahlteilerfläche 6 durch Reflexion über den Interferometer-Ausgang IA in Richtung des gerasterten Detektors 12 gelenkt. Dargestellt ist der Objekthauptstrahl OHS. Das Licht, welches nach dem Eintritt in das Interferometer am Strahlteiler 5 in den Referenzstrahlengang R reflektiert wird, gelangt auf einen Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor 8, der aus den drei Planspiegeln 9, 10 und 11 besteht, die jeweils senkrecht auf der Bezugsebene BE stehen, die hier in der Zeichenebene liegen soll. Die drei Planspiegel 9, 10 und 11 stellen eine in sich starre, kompakte Baugruppe dar. Die Lage der drei Planspiegel 9, 10 und 11 wird im Folgenden stets als zueinander unveränderlich betrachtet.The 1 shows a sensor based on a Michelson interferometer. The light from a spectrally comparatively broadband light source 1 in the near-infrared range is by means of a beam-shaping optics 2 brought into a small focus spot FF, in which case the arrangement of a pinhole is possible, is achieved by a lens 3 collimated and by a comparatively low-aperture focusing lens 4 with a numerical aperture of 0.05 refocused and then passes into a Michelson-type interferometer with a beam splitter 5 and a beam splitter surface 6 where the light is split into a reference beam R and an object beam O. That the beam splitter 5 rectilinearly passing object light bundles O hits in focus at the measuring point MP on the specular object surface of the object 7 , which is almost in the ME trade fair center here. The object surface should be within the wave-optical depth of field of the focused light. The object 7 returning light is at the beam splitter surface 6 by reflection via the interferometer output IA in the direction of the screened detector 12 directed. Shown is the object main beam OHS. The light, which after entering the interferometer at the beam splitter 5 is reflected in the reference beam R, reaches a three-plane mirror reference end reflector 8th that from the three plan mirrors 9 . 10 and 11 exists, each of which is perpendicular to the reference plane BE, which should be here in the drawing plane. The three plane mirrors 9 . 10 and 11 represent a rigid, compact assembly. The position of the three plane mirrors 9 . 10 and 11 is always regarded as mutually immutable in the following.

Die drei Spurgeraden der drei Ebenen, welche durch die drei Flächen der Planspiegel 9, 10 und 11 aufgespannt werden und die sich durch den Schnitt dieser Ebenen mit der Bezugsebene BE ergeben, bilden hier ein stumpfwinkliges Dreieck ABC in der Bezugsebene BE. Mit AB ist hier ein Teil der Spurgeraden, die hier von der Ebene der Planspiegelfläche 11 dargestellt wird, dargestellt.The three Spurgeraden the three levels, which through the three surfaces of the plane mirror 9 . 10 and 11 spanned and resulting from the intersection of these planes with the reference plane BE, here form an obtuse triangle ABC in the reference plane BE. With AB is here a part of the Spurgeraden, here from the plane of the plane mirror surface 11 is shown represented.

Am Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor 8 erfährt das einfallende Referenzstrahlenbündel eine Lateral-Shear vom Betrag delta_q. Der Ort der Entstehung der Lateral-Shear wird der virtuellen Spiegelebene VSE zugeordnet. Die virtuelle Spiegelebene VSE stellt die virtuelle Reflexionsebene dieses Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektors 8 dar und ergibt sich aus der Lage des Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektors 8 im Raum und ist baugruppenfest, wenn der Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor 8 als Monolith angesehen wird. Die Gerade g stellt die Spurgerade zwischen der Ebene BE und der virtuellen Spiegelebene VSE dar, wobei die virtuelle Spiegelebene VSE senkrecht zur Bezugsebene BE steht. Die virtuelle Spiegelebene VSE soll hierbei, bezogen auf den Interferometer-Ausgang IA, eine zur Messebene ME des Objektstrahlenganges optisch konjugierte Ebene darstellen, was durch eine Justierung des Interferometers erreicht wird. Das am Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor 8 reflektierte Referenzstrahlenbündel, dargestellt durch den Referenzhauptstrahl RHS verlässt das Interferometer nach dem geradlinigen Passieren des Strahlteilers 5 mit der Strahlteilerfläche 6 über den Interferometer-Ausgang IA, gelangt ebenfalls auf den gerasterten Detektor 12 und es kommt dort zur Interferenz mit dem Licht aus dem Objektstrahlengang. Dadurch entsteht ein räumliches Interferogramm auf dem gerasterten Detektor 12 mit zumindest näherungsweise konstanter Ortsfrequenz für die Schwerpunktwellenlänge, da die dort interferierenden Kugelwellen vergleichsweise weit von ihren Zentren entfernt sind und der gerasterte Detektor 12 nur eine vergleichsweise kleine Fläche aufweist. Die Verhältnisse bei der Interferenz entsprechen bei hinreichend kleinen Fokuspunkten hierbei denen im Youngschen Doppelspaltversuch mit zwei Pinholes. Der Winkel zwischen den Tangentialebenen TR und TO von Referenz- und Objektkugelwellen schließen im Durchstoßpunkt der Symmetrielinie SL in der Zeichenebene einen Winkel delta_beta ein, aus dem sich der Streifenabstand dS für die Schwerpunktwellelänge Lambda schwer zumindest näherungsweise zu dS = (Lambda_schwer·r)/delta_q (1) ergibt, wenn r den Abstand der Mittelpunkte der beiden Kugelwellen aus Referenz- und Objektstrahlengang von der Detektionsebene auf dem Detektor 12 darstellt, wobei das Zentrum der Kugelwelle im Referenzstrahlengang mit dem virtuellen Bündelfokus BFV' zusammenfällt.At the three-plane mirror reference end reflector 8th the incident reference beam experiences a lateral shear of magnitude delta_q. The location of the formation of the lateral shear is assigned to the virtual mirror plane VSE. The virtual mirror plane VSE represents the virtual reflection plane of this three-plane mirror reference end reflector 8th and results from the position of the three-plane mirror reference end reflector 8th in the room and is built-in, if the three-plane mirror reference end reflector 8th is considered as a monolith. The straight line g represents the straight line between the plane BE and the virtual mirror plane VSE, wherein the virtual mirror plane VSE is perpendicular to the reference plane BE. In this case, the virtual mirror plane VSE is intended to represent, relative to the interferometer output IA, a plane optically conjugate with the measuring plane ME of the object beam path, which is achieved by an adjustment of the interferometer. The three-plane mirror reference end reflector 8th Reflected reference beams, represented by the reference main beam RHS leaves the interferometer after passing straight through the beam splitter 5 with the beam splitter surface 6 via the interferometer output IA, also passes to the screened detector 12 and there comes to interference with the light from the object beam path. This creates a spatial interferogram on the screened detector 12 with at least approximately constant spatial frequency for the centroid wavelength, since the there interfering spherical waves are relatively far away from their centers and the rasterized detector 12 has only a comparatively small area. The ratios in the interference correspond to sufficiently small focus points here those in Young's double-slit experiment with two pinholes. The angle between the tangent planes TR and TO of reference and object spherical waves form an angle delta_beta at the point of penetration of the line of symmetry SL in the plane of the drawing, from which the stripe distance dS for the center of gravity wavelength lambda hardly increases at least approximately dS = (lambda_chwer * r) / delta_q (1) gives, if r, the distance of the centers of the two spherical waves from the reference and object beam path from the detection plane on the detector 12 represents, wherein the center of the spherical wave in the reference beam path coincides with the virtual beam focus BFV '.

Der optische Gangunterschied kann im Interferometer für alle Wellenlängen nahezu zu null gemacht werden, wenn hier ein nahezu perfekter Strahlteilerwürfel mit gleichen optischen Weglängen eingesetzt wird. Kleinere Abweichungen der beiden optischen Weglängen im Würfel im Bereich einiger weniger Mikrometer sind jedoch in der Regel noch gut zu tolerieren und führen im räumlichen Interferogramm auf dem gerasterten Detektor 12 neben einer konstanten lateralen Verschiebung des Interferogramm-Wavelets außerdem zu einer Asymmetrie der Einhüllenden. Das kann jedoch durch die Algorithmen der Auswertung berücksichtigt werden. Durch Verschieben des Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektors 8 kann der Schwerpunkt des Interferogramm-Wavelets mittig auf dem gerasterten Detektor 12 positioniert werden.The optical path difference can be made almost zero in the interferometer for all wavelengths, if a nearly perfect beam splitter cube with the same optical path lengths is used here. Smaller deviations of the two optical path lengths in the cube in the range of a few micrometers, however, are generally still tolerable well and result in the spatial interferogram on the screened detector 12 In addition to a constant lateral displacement of the interferogram wavelet also to an asymmetry of the envelope. However, this can be taken into account by the algorithms of the evaluation. By moving the three-plane mirror reference end reflector 8th The center of gravity of the interferogram wavelet can be centered on the screened detector 12 be positioned.

Der optische Gangunterschied ist im hier dargestellten Interferometer durch eine geringe Ablage der spiegelnden Oberfläche des Objekts 7 von der Messebene ME zu einem Zeitpunkt t1 nicht exakt null. Dies führt zur Entstehung eines räumlichen Kurzkohärenz-Interferogramms KKI mit einem etwas zur Symmetrielinie SL der beiden Hauptstrahlen lateral verschobenen Maximum vom Betrag y(t1). Befindet sich die Objektoberfläche des Objekts 7 zum Zeitpunkt t2 in einer anderen Tiefenposition, entsteht ein lateral um den Betrag (–)y(t2) verschobenes Maximum des räumlichen Kurzkohärenz-Interferogramms in Form eines Wavelets.The optical path difference is in the interferometer shown here by a small Storage of the reflecting surface of the object 7 from the measurement plane ME at a time t1 not exactly zero. This leads to the formation of a spatial short-coherence interferogram KKI with a maximum of the magnitude y (t1) shifted laterally to the symmetry line SL of the two principal rays. Is the object surface of the object 7 At the time t2 in a different depth position, a maximum of the spatial short-coherence interferogram laterally shifted by the amount (-) y (t2) arises in the form of a wavelet.

Diese Anordnung eines Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektors 8 in der Form, dass das Dreieck ABC der Spurgeraden stumpfwinklig ist, führt zum Vorteil, dass die Einfallswinkel auf die drei Planspiegel für den Hauptstrahl des Referenzbündels jeweils so gewählt werden können, dass zu große Einfallswinkel, also streifender Einfall, auch für Randstrahlen eines fokussierten Bündels vermieden werden.This arrangement of a three-plane mirror reference end reflector 8th in the form that the triangle ABC of the straight line is obtuse, leads to the advantage that the angles of incidence on the three plane mirrors for the main beam of the reference beam can each be chosen so that too large angle of incidence, so grazing incidence, even for marginal rays of a focused beam be avoided.

Hier nicht dargestellt sind Mittel zur flächigen Beleuchtung des Objekts 7 und Mittel zur flächigen Abbildung des Objekts 7 auf eine weitere Kamera, um relevante Messpositionen mittels Sensor-Aktorik anfahren zu können. Das ist Stand der Technik und wird in allen nachfolgenden Anordnungen vorausgesetzt.Not shown here are means for surface illumination of the object 7 and means for planar imaging of the object 7 on another camera, in order to be able to approach relevant measuring positions by means of sensor actuators. This is prior art and is assumed in all subsequent arrangements.

Die 2 stellt den Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor 8 mit den drei Planspiegeln 9, 10 und 11 dar, deren Spurgeraden das Dreieck ABC bilden. Diese Spurgeraden ergeben sich durch den Schnitt der Ebenen, die durch die Flächen der Planspiegel 9, 10 und 11 aufgespannt werden, mit der Bezugsebenen BE, die hier mit der Zeichenebene zusammenfällt.The 2 represents the three-plane mirror reference end reflector 8th with the three plan mirrors 9 . 10 and 11 whose straight-line form the triangle ABC. These Spurgeraden emerge by the cut of the planes, by the surfaces of the plane mirror 9 . 10 and 11 be spanned, with the reference planes BE, which coincides here with the plane of the drawing.

Die drei Planspiegel 9, 10 und 11 sind hierbei durch eine Single-Point-Diamantbearbeitung hergestellt.The three plane mirrors 9 . 10 and 11 are manufactured here by a single-point diamond machining.

Der Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor 8 entspricht einem virtuellen Planspiegel in der virtuellen Spiegelebene VSE. Dieser virtuelle Planspiegel erzeugt eine Lateral-Shear delta_q in der virtuellen Spiegelebene VSE. In der Tiefe, also dem Abstand vom Strahlteilerwürfel 5 ist der Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor 8 hierbei durch Justierung so angeordnet, dass der Bündelfokus BF eines einfallenden homozentrischen Bündels 1 mit dem einfallenden Hauptstrahl EHS_1 auf der virtuellen Spiegelebene VSE als virtueller Fokuspunkt BFV liegt. Außerdem soll der Hauptstrahl EHS_1 senkrecht auf die virtuelle Spiegelebene VSE einfallen. Durch die Lateral-Shear erfährt dieser virtuelle Fokuspunkt BFV eine Verschiebung um den Betrag delta_q_1 und entsteht nun virtuell als BFV'. Scheinbar ausgehend vom virtuellen Fokuspunkt BFV' beginnt der Rücklauf des Lichts in Richtung Strahlteilerwürfel 5 und Interferometer-Ausgang IA. Auch dabei steht der Hauptstrahl des ausfallenden Bündels AHS_1 senkrecht auf der virtuellen Spiegelebene VSE.The three-plane mirror reference end reflector 8th corresponds to a virtual plane mirror in the virtual mirror plane VSE. This virtual plane mirror generates a lateral shear delta_q in the virtual mirror plane VSE. In the depth, so the distance from the beam splitter cube 5 is the three-plane mirror reference end reflector 8th in this case arranged by adjustment so that the bundle focus BF of an incident homocentric bundle 1 with the incident main beam EHS_1 on the virtual mirror plane VSE as the virtual focal point BFV. In addition, the main beam EHS_1 should be incident perpendicular to the virtual mirror plane VSE. Due to the lateral shear, this virtual focal point BFV undergoes a shift by the amount delta_q_1 and now arises virtually as BFV '. Apparently, starting from the virtual focus point BFV ', the return of the light begins in the direction of the beam splitter cube 5 and interferometer output IA. Here, too, the main beam of the outgoing beam AHS_1 is perpendicular to the virtual mirror plane VSE.

Hierbei ist von Vorteil, dass der reale Fokuspunkt BF des homozentrischen Bündels 1, beziehungsweise der Mittelpunkt einer Kugelwelle, nicht auf einer der Planspiegelflächen 9 oder 10 liegt, sondern in Luft entsteht. Somit kann die hier durch die Diamant-Mikrozerspanung in der Regel auf den Planspiegelflächen bestehende feine Mikrostruktur auch nicht auf den Detektor 12 scharf abgebildet werden, insbesondere wenn diese Planspiegelfläche deutlich außerhalb der wellenoptischen Schärfentiefe liegt. Die Lichtstreuung, die durch diese feine Mikrostruktur entsteht, wird im weiteren Strahlengang durch eine konfokale Diskriminierung eliminiert.It is advantageous that the real focal point BF of the homocentric bundle 1 , or the center of a spherical wave, not on one of the plane mirror surfaces 9 or 10 lies, but arises in air. As a result, the fine microstructure, which as a rule is present on the plane mirror surfaces by the diamond micro-machining, can not be applied to the detector 12 be shown sharply, especially if this plane mirror surface is well outside the optical depth of field. The light scattering that results from this fine microstructure is eliminated in the further beam path by a confocal discrimination.

Für ein parallel versetztes Bündel mit den Hauptstrahlen EHS_2 und AHS_2 beträgt der Betrag der Lateral-Shear delta_q_2. Bei perfekten Planspiegeln und jeweils senkrechter Position zur Bezugsebene BE gilt hier: Der Betrag der Lateral-Shear delta_q ist gleich dem Betrag delta_q_1. und auch gleich dem Betrag delta_q_2 und somit gilt delta_q_1 = delta_q_2 = delta_q (2) und es besteht eine Invarianz des Betrages der Lateral-Shear delta_q gegenüber einer variablen Strahleinfallshöhe.For a parallel offset bundle with the principal rays EHS_2 and AHS_2, the amount of lateral shear is delta_q_2. With perfect plane mirrors and in each case vertical position relative to the reference plane BE, the following applies here: The amount of the lateral shear delta_q is equal to the amount delta_q_1. and also equal to the amount delta_q_2 and thus applies delta_q_1 = delta_q_2 = delta_q (2) and there is an invariance of the amount of lateral shear delta_q versus a variable beam incidence height.

Die 3 zeigt auf, dass bei einem Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor 8 die Lateral-Shear delta_q stets in einer ausgezeichneten Ebene, der virtuellen Spiegelebene VSE stattfindet. Diese Strecke, welche die Lateral-Shear mit dem Betrag delta_q repräsentiert, ist im Betrag unveränderlich und wird durch den Abstand der Strahl-Durchstoßpunkte DP und DP' in der virtuellen Spiegelebene VSE bestimmt. Diese virtuelle Spiegelebene VSE ist in einem in sich starren Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor 8 ortsfest. Der rechts dargestellte Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor 8 ist um die Strecke v gegenüber dem links dargestellten verschoben und es ist dennoch keine Auswanderung des Ausgangsstrahls im Rahmen der Zeichengenauigkeit zu beobachten, denn PA1 und PA2 liegen auf gleicher Höhe. Dies zeigt die Invarianz eines Drei-Planspiegel-Referenz-Endreulektors 8 bezüglich des Strahlaustritts gegenüber lateralen Verschiebungen desselben.The 3 indicates that in a three-plane mirror reference end reflector 8th the lateral shear delta_q always takes place in an excellent plane, the virtual mirror plane VSE. This distance, which represents the lateral shear with the amount delta_q, is immutable in magnitude and is determined by the distance of the jet piercing points DP and DP 'in the virtual mirror plane VSE. This virtual mirror plane VSE is in a rigid three-plane mirror reference end reflector 8th stationary. The three-plane mirror reference end reflector shown on the right 8th is shifted by the distance v from the one shown on the left and it is still observed no emigration of the output beam in the context of character accuracy, because PA1 and PA2 are at the same height. This shows the invariance of a three-plane mirror reference end-reulector 8th with respect to the beam exit from lateral displacements thereof.

Jedoch ist der Einfluss einer Kippung der Baugruppe „Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor 8”, hier dargestellt mit Drehung um eine Hochachse, auf ein einfallendes Bündel oder eine Wellenfront vergleichbar mit der Kippung eines Planspiegels. Also muss der Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor 6 als in sich starre Baugruppe auch winkelmäßig justiert werden, um den Hauptstrahl des Bündels zumindest näherungsweise senkrecht auf die virtuelle Spiegelebene VSE einfallen zu lassen, um hier den lateralen Versatz der interferierenden Wellenfronten in der Detektionsebene der Interferenz klein zu halten. Eine Kippung der Baugruppe „Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor 8” um eine Hochachse kann auch zu einer Verringerung des Kontrastes der Interferenz in der Detektionsebene führen. Bei einem sehr kleinen Fokusdurchmesser entschärft sich dieser Einfluss auf den Kontrast der Interferenz jedoch ganz erheblich.However, the influence of tilting the assembly is "three-plane mirror reference end reflector 8th ", Shown here with rotation about a vertical axis, on an incident bundle or a wavefront comparable to the tilting of a plane mirror. So the three-plane mirror reference end reflector has to be 6 as in itself rigid assembly also be angularly adjusted to the main beam of the bundle at least approximately perpendicular to the virtual Mirror plane VSE to minimize the lateral offset of the interfering wavefronts in the detection plane of interference. A tilt of the assembly "three-plane mirror reference end reflector 8th "Around a vertical axis can also lead to a reduction in the contrast of the interference in the detection plane. With a very small focus diameter, however, this influence on the contrast of the interference defuses considerably.

Die 4 stellt einen Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor 8 mit den Planspiegeln 9, 10, und 11 in M-Form dar. Diese Anordnung in M-Form entspricht ebenfalls einem virtuellem Planspiegel mit einer zusätzlichen Lateral-Shear delta_q. Ein homozentrisches Bündel mit dem einfallenden Hauptstrahl EHS und dem realen Fokuspunkt BF auf dem Planspiegel 11 wird in der der virtuellen Spiegelebene VSE von BFV um die Lateral-Shear mit dem Betrag delta_q versetzt und es entsteht der virtuelle Fokuspunkt BFV'. Auch dieser Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor 8 in M-Form muss winkelmäßig wie ein Planspiegel in einem klassischen Michelson-Interferometer ausgerichtet werden, um das Licht zur Interferenz bringen zu können.The 4 provides a three-plane mirror reference end reflector 8th with the plane mirrors 9 . 10 , and 11 in M-shape. This M-shape arrangement also corresponds to a virtual planar mirror with an additional lateral shear delta_q. A homocentric bundle with the incident principal ray EHS and the real focus point BF on the plane mirror 11 In the virtual mirror plane VSE of BFV, the lateral shear is offset by the amount delta_q and the virtual focal point BFV 'is created. Also this three-plane mirror reference end reflector 8th in M-shape, it must be angularly aligned like a plane mirror in a classic Michelson interferometer to bring the light into interference.

Die 5 stellt einen Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor 8 mit den Planspiegeln 9, 10, und 11 auf der Grundlage eines spitzwinkligen Dreiecks ABC der drei Spurgeraden dar. Hierbei wird mit linear polarisiertem Licht mit s-Polarisation gearbeitet, um einen hohen Reflexionsgrad auch bei streifendem Lichteinfall zu sichern. Der Bündelfokus BF entsteht auf der Spiegelfläche 10, wodurch sich höhere Anforderungen an die „Sauberkeit” derselben stellen und eine geringe Restrauheit der Spiegelfläche 10 gegeben sein muss.The 5 provides a three-plane mirror reference end reflector 8th with the plane mirrors 9 . 10 , and 11 on the basis of an acute-angled triangle ABC of the three spur lines dar. Here, working with linearly polarized light with s-polarization, in order to ensure a high degree of reflection even in grazing incidence of light. The bundle focus BF is created on the mirror surface 10 , which make higher demands on the "cleanliness" of the same and a low residual roughness of the mirror surface 10 must be given.

Die 6 zeigt einen von einer hier nicht dargestellten Lichtquelle 1 beleuchteten Lichtmodulator 15, der nacheinander durchgeschaltet, so dass zu jedem Zeitpunkt t1, t2, t3 ein fokussiertes Bündel in einer anderen lateralen Position besteht. Im Referenzstrahlengang ist ein Referenzreflektor 18 angeordnet, der aus einer Vielzahl von parallel zueinander angeordneten Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektoren 8.1, 8.2, 8.i ... aufgebaut ist, denen jeweils nacheinander in einem telezentrischen Strahlengang ein homozentrischen Bündel mit einem Bündelfokus BFV in der virtuellen Spiegelebene zugeordnet wird. Der optische Strahlengang mit dem Lichtmodulator 15 und dem Objektiv 4 mit einer geringen numerischen Apertur von 0,05 ist hierbei so aufgebaut, dass die Bündelfoki jeweils zum Zeitpunkt ti in einen Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektoren 8.i gelangen und dort eine Lateral-Shear mit dem Betrag delta_gi erfahren, wobei sich dieser Betrag delta_q von Position zu Position aufgrund einer Präzisionsfertigung des Referenzreflektors 18 möglichst wenig ändern soll. So können zeitlich nacheinander auf dem Objekt 7 unterschiedliche Objektpositionen punktweise angefahren werden und die entstehenden räumlichen Interferogramme mittels eines großflächigen gerasterten Detektors 12 aufgenommen werden. Die Lichtquelle mit dem Lichtmodulator 15 wird hierbei sequenziell lateral durchgeschaltet. Der wellenoptische Schärfentiefebereich beträgt Tz.The 6 shows a light source, not shown here 1 illuminated light modulator 15 , which turns on successively, so that at each time t1, t2, t3 there is a focused beam in a different lateral position. In the reference beam path is a reference reflector 18 arranged, which consists of a plurality of mutually parallel three-plane mirror reference end reflectors 8.1 . 8.2 . 8.i ... is constructed, each of which is assigned in succession in a telecentric beam path, a homocentric bundle with a bundle focus BFV in the virtual mirror plane. The optical beam path with the light modulator 15 and the lens 4 with a small numerical aperture of 0.05 is constructed so that the bundle foci each at the time ti in a three-plane mirror reference end reflectors 8.i and there experience a lateral shear with the amount delta_gi, wherein this amount delta_q from position to position due to a Präzisionsfertigung the reference reflector 18 to change as little as possible. So you can temporally succession on the object 7 different object positions are approached pointwise and the resulting spatial interferograms by means of a large-scale screened detector 12 be recorded. The light source with the light modulator 15 is hereby switched through laterally sequentially. The wave-optical depth of field is Tz.

Die 7 zeigt einen Referenzreflektor 118 von Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektoren 8.i in linienhafter Struktur auf der Basis einer Anordnung von Planspiegeln in M-Form. Auch hier erfolgt die Beleuchtung zeitsequentiell.The 7 shows a reference reflector 118 of three-plane mirror reference end reflectors 8.i in a linear structure based on an arrangement of M-shaped plane mirrors. Again, the lighting is time sequential.

Die 8 zeigt einen Sensor auf der Basis eines Michelson-Interferometers für ein relativ großes Objektfeld, also am oberen Ende der mikroskopischen Skala. Das Licht von einer spektral vergleichsweise breitbandigen Lichtquelle 1 im nah-infraroten Bereich wird mittels einer Strahlformungsoptik 2 in eine Fokuspunkt-Linie FPL gebracht, wobei hier auch die Anordnung eines Spaltes möglich ist. Das Licht der Fokuspunkt-Linie FPL wird durch ein Objektiv 3 kollimiert und durch ein Fokussierobjektiv 4 mit einer numerischen Apertur von 0,05 wieder fokussiert und gelangt anschließend in ein Michelson-Typ-Interferometer mit einem Strahlteiler 5 und einer Strahlteilerfläche 6, wo das Licht in ein Referenzbündel R und ein Objektbündel O aufgespaltet wird. Das den Strahlteiler 5 geradlinig passierende Objektlichtbündel O trifft fokussiert auf die Objektoberfläche des Objekts 7, die sich hier nahezu in der Messebene ME befindet und bildet eine Messpunkt-Linie MPL. Die Objektoberfläche soll sich innerhalb des wellenoptischen Schärfentiefebereiches des fokussierten Lichts Tz befinden. Das vom Objekt 7 zurückkehrende Licht wird an der Strahlteilerfläche 6 durch Reflexion über den Interferometer-Ausgang IA in Richtung des gerasterten Detektors 12 gelenkt. Dargestellt ist der Objekthauptstrahl OS-BE in der Ebene BE.The 8th shows a sensor based on a Michelson interferometer for a relatively large object field, ie at the upper end of the microscopic scale. The light from a spectrally comparatively broadband light source 1 in the near-infrared range is by means of a beam-shaping optics 2 brought into a focal point line FPL, whereby the arrangement of a gap is possible here. The light of the focal point line FPL is through a lens 3 collimated and through a focusing lens 4 with a numerical aperture of 0.05 refocused and then passes into a Michelson-type interferometer with a beam splitter 5 and a beam splitter surface 6 where the light is split into a reference beam R and an object beam O. That the beam splitter 5 rectilinearly passing object light bundles O is focused on the object surface of the object 7 , which is located here almost in the measurement level ME and forms a measurement point line MPL. The object surface should be located within the wave-optical depth of field of the focused light Tz. The object 7 returning light is at the beam splitter surface 6 by reflection via the interferometer output IA in the direction of the screened detector 12 directed. Shown is the object main beam OS-BE in the plane BE.

Das Licht, welches nach dem Eintritt in das Interferometer am Strahlteiler 5 in den Referenzstrahlengang R reflektiert wird, gelangt auf einen Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor 8, der aus den drei Planspiegeln 9, 10 und 11 besteht.The light, which after entering the interferometer at the beam splitter 5 is reflected in the reference beam R, reaches a three-plane mirror reference end reflector 8th that from the three plan mirrors 9 . 10 and 11 consists.

Am Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor 8 erfährt jeder Fokuspunkt des einfallenden Referenzlichtes eine Lateral-Shear vom Betrag delta_q. Der Ort der Entstehung der Lateral-Shear ist die virtuelle Spiegelebene VSE.At the three-plane mirror reference end reflector 8th Each focal point of the incident reference light experiences a lateral shear of the amount delta_q. The place of origin of the lateral shear is the virtual mirror plane VSE.

Die virtuelle Spiegelebene VSE stellt hierbei, bezogen auf den Interferometer-Ausgang IA, eine zur Messebene ME des Objektstrahlenganges optisch konjugierte Ebene dar, was durch die Justierung des Interferometers gegeben ist. Das am Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor 8 reflektierte Referenzlicht, dargestellt durch den Referenzhauptstrahl RS-BE verlässt das Interferometer nach dem geradlinigen Passieren des Strahlteilers 5 mit der Strahlteilerfläche 6 über den Interferometer-Ausgang IA.The virtual mirror plane VSE in this case, based on the interferometer output IA, represents a plane optically conjugate with the measuring plane ME of the object beam path, which is given by the adjustment of the interferometer. The three-plane mirror reference end reflector 8th reflected Reference light, represented by the reference main beam RS-BE leaves the interferometer after passing straight through the beam splitter 5 with the beam splitter surface 6 via the interferometer output IA.

Dem vergleichsweise langbrennweitigen Objektiv 13, mit einer Brennweite von 120 mm ist ein Zylinder-Objektiv 14 mit der Zylinderachse y' nachgeordnet. Der gerasterte Detektor 12 steht in der Brennebene F13' des Objektivs 13, welche auch die Fourier-Ebene dieses Objektivs 13 darstellt. Zur Bestimmung der Lage der Fourier-Ebene wird hier allein die Brechkraft des Objektivs 13 betrachtet. Dabei steht die Messebene ME zumindest näherungsweise in der Fokalebene F13 des Objektivs 13. Nach dem Objektiv 13 schließen eine Referenzwelle RW und eine Objektwelle OW jeweils den Winkel delta_beta ein, der sich als Quotient aus dem Betrag delta_q der Lateral-Shear und der Brennweite f13' im Bogenmaß ergibt. Der Winkel delta_beta ist hier wegen der Invarianz des Betrages delta_q der Lateral-Shear als konstant anzusehen und damit auch die Interferenzstreifenbreite dS, die sich für die Schwerpunktwellenlänge Lambda schwer zumindest näherungsweise aus dS = (Lambda_schwer·f')/delta_q (3) ergibt.The comparatively long focal length lens 13 , with a focal length of 120 mm is a cylinder lens 14 downstream with the cylinder axis y '. The rasterized detector 12 is in the focal plane F13 'of the lens 13 which also has the Fourier plane of this lens 13 represents. To determine the position of the Fourier plane here alone the refractive power of the lens 13 considered. In this case, the measurement plane ME is at least approximately in the focal plane F13 of the objective 13 , After the lens 13 For example, a reference wave RW and an object wave OW each include the angle delta_beta, which is a quotient of the amount delta_q of the lateral shear and the focal length f13 'in radians. The angle delta_beta is to be regarded as constant here because of the invariance of the amount delta_q of the lateral shear, and thus also the interference fringe width dS, which is difficult for the centroid wavelength Lambda at least approximately dS = (lambda_chwer · f ') / delta_q (3) results.

Im Detail A ist die Zylinderspiegel-Baugruppe 14 dargestellt, die aus den Zylinderspiegeln 14a und 14b besteht, und welche die Messpunkte P1 und P2 in der Messebene ME durch Strahlenbüschel in die Messpunktbilder P1' und P2' auf dem gerasterten Detektor 12 im Zusammenwirken mit dem Objektiv 13 abbildet. Durch die resultierende Brechkraft des Objektivs 13 und der Zylinderoptik 14 sind die Messebene ME und die Ebene des gerasterten Detektors 12 durch Strahlenbüschel, welche durch die Zylinderspiegel-Baugruppe 14 fokussiert werden, optisch konjugiert.In detail A is the cylinder mirror assembly 14 shown from the cylinder mirrors 14a and 14b and which the measuring points P1 and P2 in the measuring plane ME by beam tufts in the measuring point images P1 'and P2' on the rasterized detector 12 in cooperation with the lens 13 maps. Due to the resulting refractive power of the lens 13 and the cylinder optics 14 are the measurement plane ME and the level of the screened detector 12 through beam tufts, which through the cylinder mirror assembly 14 be focused, optically conjugated.

Das Detail B stellt die Ebene des gerasterten Detektors 12 mit den räumlichen Kurzkohärenz-Interferogrammen KKI der einzelnen Messpunkte der Messpunkt-Linie MPL dar.Detail B represents the plane of the screened detector 12 with the spatial short-coherence interferograms KKI of the individual measuring points of the measuring point line MPL.

Das Detail C zeigt das räumliche Interferogramm eines Messpunktes Pi und das Detail D stellt ein aus den räumlichen Kurzkohärenz-Interferogrammen punktweise errechnetes Profil z(x) des Objekts 7 entlang der Messpunktlinie MPL dar.The detail C shows the spatial interferogram of a measuring point Pi and the detail D represents a point-wise calculated profile z (x) of the object from the short-coherence interferogram 7 along the measuring point line MPL dar.

Die 9 zeigt einen hinsichtlich des Interferometers entfalteten Strahlengang mit der Lateral-Shear vom Betrag delta_q und einer nachgeordneten Zylinder-Optik 114. Diese dient der Bildung eines Stapels von räumlichen Kurzkohärenz-Interferogrammen auf dem gerasterten Detektors 12. Die Ebene des gerasterten Detektors 12 ist dabei optisch konjugiert zur Brennebene F13' des Objektivs 13 durch die rotationssymmetrischen Objektive 15 und 17. Gleichzeitig besteht eine optische Konjugation zur Ebene des Doppelspalts 16 und zur Messebene ME durch die Abbildung von Strahlenbüscheln durch die Zylinder-Optik 114. Dabei ist die Zylinder-Optik 114 chromatisch und hinsichtlich der Verzeichnung gut korrigiert. Die Achse y' der Zylinderoptik 114 liegt parallel zur Ebene BE und auch parallel zur Geraden g im Schnitt von der Bezugsebene BE und der virtuellen Spiegelebene VSE.The 9 shows an unfolded with respect to the interferometer beam path with the lateral shear of the amount delta_q and a downstream cylinder optics 114 , This serves to form a stack of spatial short-coherence interferograms on the screened detector 12 , The plane of the rasterized detector 12 is optically conjugate to the focal plane F13 'of the lens 13 through the rotationally symmetrical lenses 15 and 17 , At the same time there is an optical conjugation to the double gap plane 16 and to the measurement level ME by the imaging of bundles of rays through the cylinder optics 114 , Here is the cylinder optics 114 chromatically and well corrected in terms of distortion. The axis y 'of the cylinder optics 114 lies parallel to the plane BE and also parallel to the straight line g in the section of the reference plane BE and the virtual mirror plane VSE.

Die 10 stellt eine um 90° gedrehte Ansicht dar. Es ist die optische Konjugation der Objektpunkte P1, P2 vom Objekt 7 sowie P1', P2' und P1'', P2'' in der Detektorebene erkennbar.The 10 represents a 90 ° rotated view. It is the optical conjugation of the object points P1, P2 from the object 7 as well as P1 ', P2' and P1 ", P2" in the detector plane.

Die 11 zeigt eine Anordnung, bei der in einem Objektfeld verschiedene Messpunkte räumlich adressiert werden können. Das Licht von einer Quelle kurzkohärenter Strahlung 101 mit Strahlformungsoptik und räumlichem Lichtmodulator passiert die Objektive 3 und 4 und tritt in das Michelson-Interferometer ein. Dargestellt ist hier ein Array 18 von linienhaften Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektoren 8.i, welches im Referenzstrahlengang angeordnet ist. Das Objekt 70, hier eine Dichtscheibe zur Ebenheitsprüfung, wird gleichzeitig mit einer Anzahl von Lichtpunkten zur Ebenheitsmessung beleuchtet, wobei hier zu jedem Messpunkt jeweils ein Referenzlichtpunkt R und ein Objektlichtpunkt O gehören, die ein Paar kohärenter Lichtpunkte bilden, aus welchen jeweils ein räumliches Interferogramm erzeugt wird. Nach Abbildung gemäß des Strahlenganges nach 8 entsteht in der Ebene des Detektors 12, der Fourier-Ebene F13', ein Stapel von räumlichen Kurzkohärenz-Interferogrammen KKI, aus denen die Ebenheitsabweichung über dem Winkel ϕ errechnet werden kann. Voraussetzung ist eine Kalibrierung des Messsystems, beispielsweise mit einem Planspiegel in der Objektposition.The 11 shows an arrangement in which different measurement points can be spatially addressed in an object field. The light from a source of short-coherent radiation 101 with beam shaping optics and spatial light modulator happens the lenses 3 and 4 and enters the Michelson interferometer. Shown here is an array 18 of linear three-plane mirror reference end reflectors 8.i which is arranged in the reference beam path. The object 70 , here a sealing disk for flatness testing, is illuminated simultaneously with a number of light points for measuring flatness, in which case a reference light point R and an object light point O belong to each measuring point, which form a pair of coherent light points, from which a spatial interferogram is generated. After picture according to the beam path to 8th arises in the plane of the detector 12 , the Fourier plane F13 ', a stack of spatial short-coherence interferograms KKI, from which the flatness deviation over the angle φ can be calculated. Prerequisite is a calibration of the measuring system, for example with a plane mirror in the object position.

Die 12 zeigt ein biologisches Schichtenobjekt 700. Das Schichtenobjekt 700 wird gleichzeitig mit einer Anzahl von Lichtpunkten zum Zeitpunkt t1 beleuchtet. Es entstehen an jeder Schicht Reflexionen, die zu kurzkohärenten räumlichen Interferogrammen führen. Nach Abbildung gemäß des Strahlenganges nach den 9 und 10 entsteht in der Ebene des Detektors 12, der Fourier-Ebene F13', ein Stapel von Paaren von räumlichen Kurzkohärenz-Interferogrammen KKI, aus denen die optische Dicke oD des biologischen Schichtenobjekts 700 über einer Lateralkoordinate bestimmt werden kann.The 12 shows a biological layered object 700 , The layered object 700 is illuminated simultaneously with a number of light spots at time t1. Reflections occur at each layer, resulting in short coherent spatial interferograms. After picture according to the beam path after the 9 and 10 arises in the plane of the detector 12 , the Fourier plane F13 ', a stack of pairs of spatial short-coherence interferograms KKI that make up the optical thickness oD of the biological layered object 700 can be determined via a lateral coordinate.

In der 13 ist durch die Quelle kurzkohärenter Strahlung 101 mittels Steuerung des räumlichem Lichtmodulators zum Zeitpunkt t2 ein anderer Bereich des biologischen Schichtenobjekts 700, also ein lateral etwas verschobener Bereich entlang einer Linie, adressiert.In the 13 is due to the source of short-coherent radiation 101 by controlling the spatial light modulator at time t2 another area of the biological layered object 700 , so a laterally slightly displaced area along a line, addressed.

So kann der Verlauf der optischen Dicke oD des biologischen Schichtenobjekts 700 ortsaufgelöst, hier entlang der Koordinate y, bestimmt werden. Voraussetzung ist auch hier eine Kalibrierung des Messsystems.Thus, the course of the optical thickness oD of the biological layered object 700 spatially resolved, here along the coordinate y. A prerequisite here is also a calibration of the measuring system.

In der 14 ist ein Linnik-Typ-Interferometer für die Anwendung als Mehrpunkt-Sensor dargestellt. Das Licht von einer spektral vergleichsweise breitbandigen Lichtquelle 1 im nah-infraroten Bereich wird nach dem Passieren eines Strahlteilers 66 – zur späteren Auskopplung des Lichts – mittels einer Strahlformungsoptik 2 in eine Fokuspunkt-Linie FPL gebracht. In der Ebene der Fokuspunkt-Linie FPL befindet sich eine asymmetrische konfokale Multi-Doppel-Blende 116b, die im Detail E dargestellt ist. Das Licht der Foki der Fokuspunkt-Linie FPL tritt durch die Pinholes im linken Bereich der Blende 116b hindurch. Das Objektiv 3 kollimiert die Bündel von den einzelnen Pinholes, die anschließend in das Linnik-Typ-Interferometer mit einer numerischen Apertur von 0,25 der Objektive 113-R und 113-O eintreten. Die verlustarme Strahlteilerschicht 6 dieses Interferometers ist dabei hochtransmissiv, hier beträgt der Transmissionsgrad 85%, damit auch schwach reflektierende Objekte gut vermessen werden können.In the 14 is a Linnik-type interferometer for use as a multipoint sensor shown. The light from a spectrally comparatively broadband light source 1 in the near-infrared region becomes after passing a beam splitter 66 - For later decoupling of the light - by means of a beam shaping optics 2 brought into a focal point line FPL. In the plane of the focal point line FPL is an asymmetrical confocal multi-double iris 116b , which is shown in detail E. The light of the foci of the focus point line FPL passes through the pinholes in the left area of the aperture 116b therethrough. The objective 3 collimates the bundles from the individual pinholes, which subsequently into the Linnik-type interferometer with a numerical aperture of 0.25 of the lenses 113-R and 113-O enter. The low-loss beam splitter layer 6 This interferometer is highly transmissive, here the degree of transmission is 85%, so that even weakly reflecting objects can be measured well.

Im Objektstrahlengang dieses Linnik-Typ-Interferometers ist hier ein brechkraft-kompensiertes Objektivsystem 19 mit einem diffraktiv-optischen Element zur chromatischen Tiefenaufspaltung von Foki zur Vergrößerung des Tiefenmessbereiches eingesetzt. Das Objektivsystem 19 besitzt die Brechkraft null für die Schwerpunktwellenlänge im genutzten Spektrum, also verhält sich das Objektivsystem 19 für die Schwerpunktwellenlänge hinsichtlich der Brechkraft wie eine Planparallelplatte. Für Wellenlängen ober- und unterhalb der Schwerpunktwellenlänge ergeben sich somit divergente beziehungsweise konvergente Strahlenbündel, wenn für die Schwerpunktwellenlänge ein Bündel mit dem Fokuspunkt im Unendlichen besteht. Durch die chromatische Tiefenaufspaltung soll der Tiefenmessbereich des Systems hier etwa um Faktor 5 gegenüber der wellenoptischen Schärfetiefe vergrößert werden, die sich aus der numerischen Apertur und dem genutzten Spektrum ergibt. Im Referenzstrahlengang ist ein Kompensationselement 20 zur Angleichung des optischen Gangunterschiedes angeordnet.In the object beam path of this Linnik-type interferometer here is a refractive power-compensated objective system 19 used with a diffractive-optical element for chromatic depth splitting of Foki to increase the depth measuring range. The lens system 19 has the refractive power zero for the centroid wavelength in the spectrum used, so behaves the lens system 19 for the center wavelength in terms of refractive power as a plane parallel plate. For wavelengths above and below the centroid wavelength, divergent or convergent beams thus result if, for the centroid wavelength, there is a bundle with the focal point at infinity. The chromatic depth splitting is intended to increase the depth measuring range of the system by about a factor of 5 compared to the wavelength of the optical fiber depth of field, which results from the numerical aperture and the spectrum used. In the reference beam path is a compensation element 20 arranged to equalize the optical path difference.

Die Auswertung der räumlichen Interferogramme erfolgt hier durch eine Schwerpunktauswertung des durch die chromatisch–konfokale Diskriminierung erheblich verbreiterten räumlichen Interferogramms KKI, welches aber immer noch ein Kurzkohärenz-Interferogramm darstellt. Das vom Objekt 7 zurückkehrende Licht wird an der asymmetrischen konfokalen Multi-Doppel-Blende 116b im linken Bereich durch die Pinholes konfokal diskriminiert. Das nach Reflexion am Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor 8 aus dem Interferometer zurückkehrende Licht passiert den vergleichsweise zu den Pinholes großen rechten Bereich der konfokalen Multi-Doppel-Blende 116b. Objekt- und Referenzlicht werden nach Passieren der konfokalen Multi-Doppel-Blende 116b mittels Strahlteiler 66 in den Detektionsstrahlengang ausgekoppelt. Mittels der Abbildungsstufe, bestehend aus dem rotationssymmetrischen Objektiv 17 und der Zylinderoptik 14, erfolgt die Erzeugung eines Stapels von räumlichen Interferogrammen, von denen der Schwerpunkt der Einhüllenden ausgewertet wird. Das Detail F zeigt ein einzelnes räumliches Interferogramm KKI, von dem der Schwerpunkt der Einhüllenden ausgewertet wird. Hierbei ist jedoch die Ortsfrequenz im räumlichen Kurzkohärenz-Interferogramm KKI auch von der Tiefenlage des Objekts 7 abhängig, da durch die konfokale Ausblendung von Spektralanteilen sich die Schwerpunktlänge verändert. Dies muss bei der Auswertung beachtet werden.The evaluation of the spatial interferograms is done here by a focus analysis of the chromatic-confocal discrimination significantly widened spatial interferogram KKI, which still represents a short-coherence interferogram. The object 7 returning light is at the asymmetric confocal multi-double aperture 116b in the left area confocally discriminated by the pinholes. That after reflection at the three-plane mirror reference end reflector 8th light returning from the interferometer passes the right-hand area of the confocal multi-double iris, which is large relative to the pinholes 116b , Object and reference light will be after passing through the confocal multi-double iris 116b by means of a beam splitter 66 decoupled in the detection beam path. By means of the imaging stage, consisting of the rotationally symmetrical lens 17 and the cylinder optics 14 , the generation of a stack of spatial interferograms, of which the center of gravity of the envelope is evaluated. The detail F shows a single spatial interferogram KKI, from which the center of gravity of the envelope is evaluated. In this case, however, the spatial frequency in the spatial short-coherence interferogram KKI is also dependent on the depth of the object 7 dependent, since the focal length changes due to the confocal suppression of spectral components. This must be considered during the evaluation.

Deshalb bietet sich hier, also im Fall einer chromatischen Tiefenaufspaltung von Foki im Objektstrahlengang, alternativ zur Schwerpunktauswertung der Einhüllenden des räumlichen Kurzkohärenz-Interferogramms KKI an, eine Fourier-Transformation der Intensitätsverteilung des räumlichen Interferogramms durchzuführen, um aus dem räumlichen Kurzkohärenz-Interferogramm KKI, s. a. Detail F, das Spektrum des konfokal diskriminierten, also des hindurch gelassenen Lichtes zu bestimmen. Dies ist im Detail G dargestellt. Die Schwerpunktwellenzahl kS, mit kS = 2Pi/Schwerpunktwellenlänge, dieses Spektrum hängt in jedem Messpunkt – aufgrund der chromatischen Tiefenaufspaltung im Objektstrahlengang – direkt von der Tiefe z eines angemessenen Objektpunktes ab. Dies entspricht dem chromatisch-konfokalen Ansatz, der hier über die Bestimmung der Schwerpunktwellenzahl kS mittels einer schnellen Fourier-Transformation der Intensitätsverteilung von räumlichen Interferogrammen zur Anwendung kommt. Der numerische Zusammenhang zwischen der Schwerpunktwellenzahl kS und der Tiefe z eines angemessenen Objektpunktes kann im Ergebnis einer Sensor-Kalibrierung in einer Tabelle abgespeichert werden und mittels Rechner im Messvorgang zur Verfügung gestellt werden.Therefore, here, so in the case of a chromatic depth splitting of foci in the object beam path, alternatively to the emphasis analysis of the envelope of the spatial short-coherence interferogram KKI to perform a Fourier transform the intensity distribution of the spatial interferogram to from the spatial short-coherence interferogram KKI, s , a. Detail F, to determine the spectrum of the confocal discriminated light. This is shown in detail G. The centroid wave number kS, with kS = 2Pi / centroid wavelength, this spectrum depends in each measurement point - due to the chromatic depth splitting in the object beam path - directly from the depth z of a suitable object point. This corresponds to the chromatic-confocal approach, which is used here by determining the centroid wave number kS by means of a fast Fourier transformation of the intensity distribution of spatial interferograms. The numerical relationship between the center of gravity wave number kS and the depth z of a suitable object point can be stored as a result of a sensor calibration in a table and made available by computer in the measurement process.

Die 15 stellt ein Linnik-Typ-Interferometer für die Anwendung als Punktsensor dar. Das Detail H zeigt die hier verwendete symmetrische konfokale Doppel-Blende 116a mit nur zwei Öffnungen. Der Strahlverlauf entspricht dem in 14 und im Detail E beschriebenen. Jedoch wird hier auch die Pupillenausleuchtung PA detektiert. Das wird durch einen Strahlteiler 67 möglich gemacht.The 15 represents a Linnik-type interferometer for use as a dot sensor. Detail H shows the symmetrical confocal double iris used here 116a with only two openings. The beam path corresponds to that in 14 and described in detail E. However, the pupil illumination PA is also detected here. This is done by a beam splitter 67 made possible.

Das Detail I in 15 stellt das räumliche Interferogramm und die Pupillenausleuchtung auf dem gerasterten Detektor 12 für einen Messpunkt gleichzeitig dar. Bei einem Punktsensor kann hier eine Pupillenbeobachtung mit geblocktem Referenzstrahlengang auf den gleichen gerasterten Detektor 12 erfolgen. Das ist in Echtzeit möglich. Im oberen Bereich des Detektors 12 ist ein räumliches Kurzkohärenz-Interferogramm (KKI) und im unteren Bereich die Pupillenausleuchtung PA erfasst. Diese beinhaltet wesentliche Informationen über die Charakteristik des angemessenen Objektpunkts. Die Pupillenabbildung erfolgt jedoch hier ohne eine Abbildung über die Zylinderoptik 14 mit geeigneten optischen Mitteln auf den Detektor 12. The detail I in 15 represents the spatial interferogram and the pupil illumination on the rasterized detector 12 For a point sensor can here a pupil observation with blocked reference beam path to the same screened detector 12 respectively. This is possible in real time. In the upper area of the detector 12 is a spatial short-coherence interferogram (KKI) and recorded in the lower part of the pupil illumination PA. This contains essential information about the characteristic of the appropriate object point. However, the pupil imaging is done here without an illustration of the cylinder optics 14 with appropriate optical means on the detector 12 ,

Die 16 zeigt eine Anordnung auf der Basis eines Michelson-Typ-Interferometers für die Multi-Punkt-Abtastung entlang einer Linie. Außerdem weist das System einen großen Winkel zwischen Objekt- und Referenzarm auf, um eine vergleichsweise schlanke Sensorbauweise zu ermöglichen.The 16 shows an arrangement based on a Michelson-type interferometer for multi-point scanning along a line. In addition, the system has a large angle between the object and reference arm to allow a comparatively slim sensor design.

Das Licht von einer spektral vergleichsweise breitbandigen Lichtquelle 1 im nah-infraroten Bereich wird mittels einer Strahlformungsoptik 2 in eine Fokuspunkt-Linie FPL gebracht und passiert die Blendenanordnung 116b durch die Pinholes. Zuvor erfolgte noch ein Durchgang durch einen Strahlteiler 51, welcher der späteren Auskopplung dient. Das Licht der Fokuspunkt-Linie FPL wird nach der Blendenanordnung 116b durch ein Objektiv 3 kollimiert und durch ein Fokussierobjektiv 4 mit einer numerischen Apertur von 0,05 wieder fokussiert und gelangt anschließend in das Michelson-Typ-Interferometer mit einem vergleichsweise schwach gekippten Doppelplatten-Strahlteiler 51 und einer Strahlteilerfläche 6, wo das einfallende Licht in ein Referenzbündel R und ein Objektbündel O aufgespaltet wird. Das vom Objekt 7 und vom Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor 8 zurückkommende Licht gelangt über den Doppelplatten-Strahlteiler 52 wieder in Richtung Blendenanordnung 116b. Hier wird das Objektlicht durch die Pinholes im rechten Teil der Blendenanordnung 116b konfokal diskriminiert. Das Referenzlicht passiert die vergleichsweise große Öffnung im linken Teil der Blendenanordnung 116b ohne konfokale Diskriminierung. Am Strahlteiler 51 erfolgt die Auskopplung in Richtung Detektion über das Objektiv 17 und die Zylinder-Optik 14, welche zur Ausbildung von linienhaften Kurzkohärenz-Interferogrammen KKI in der Fourier-Ebene des Objektivs 17 führt, die mittels gerastertem Detektor 12 aufgenommen werden, aus denen das Profil über die Koordinate x errechnet werden kann.The light from a spectrally comparatively broadband light source 1 in the near-infrared range is by means of a beam-shaping optics 2 brought into a focal point line FPL and passes through the aperture arrangement 116b through the pinholes. Before that, there was another passage through a beam splitter 51 , which serves the later decoupling. The light of the focus point line FPL becomes after the aperture arrangement 116b through a lens 3 collimated and through a focusing lens 4 with a numerical aperture of 0.05 refocused and then passes into the Michelson-type interferometer with a comparatively slightly tilted double-plate beam splitter 51 and a beam splitter surface 6 where the incident light is split into a reference beam R and an object beam O. The object 7 and the three-plane mirror reference end reflector 8th returning light passes over the double plate beam splitter 52 again towards the aperture arrangement 116b , Here the object light is through the pinholes in the right part of the aperture arrangement 116b confocally discriminated. The reference light passes through the comparatively large opening in the left part of the diaphragm arrangement 116b without confocal discrimination. At the beam splitter 51 the extraction takes place in the direction of detection via the lens 17 and the cylinder optics 14 which is used to form linear short-coherence interferograms KKI in the Fourier plane of the objective 17 leads, which by means of rastered detector 12 from which the profile can be calculated via the coordinate x.

Die 17 stellt eine Anordnung auf der Basis eines Michelson-Typ-Interferometers für die Ein-Punkt-Abtastung dar. Das Licht von einer spektral vergleichsweise breitbandigen Lichtquelle 1 im nah-infraroten Bereich wird mittels einer Strahlformungsoptik 2 in eine Fokuspunkt-Linie FPL gebracht und passiert die Blendenanordnung 116a durch die Pinholes. Zuvor erfolgte noch ein Durchgang durch einen Strahlteiler 51, welcher der späteren Auskopplung dient. Das Licht des Fokuspunktes wird nach der Blendenanordnung 116a, die ein Pinhole und eine vergleichsweise große Öffnung aufweist, durch ein Objektiv 3 kollimiert und durch ein Fokussierobjektiv 4 mit einer numerischen Apertur von 0,08 wieder fokussiert und gelangt anschließend in das Michelson-Typ-Interferometer mit einem vergleichsweise schwach gekippten Doppelplatten-Strahlteiler 51 und einer Strahlteilerfläche 6, wo das einfallende Licht in ein Referenzbündel R und ein Objektbündel O aufgespaltet wird. Das vom Objekt 7 und vom Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor 8 zurückkommende Licht gelangt über den Doppelplatten-Strahlteiler 52 wieder in Richtung Blendenanordnung 116a. Hier wird das Objektlicht durch das Pinhole im rechten Teil der Blendenanordnung 116b konfokal diskriminiert. Das Referenzlicht passiert die vergleichsweise große Öffnung im linken Teil der Blendenanordnung 116a ohne konfokale Diskriminierung. Am Strahlteiler 51 erfolgt die Auskopplung in Richtung Detektion über das Objektiv 17 und die Zylinder-Optik 14, welche zur Ausbildung eines einzelnen, linienhaften Kurzkohärenz-Interferogramms KKI in der Fourier-Ebene F17' des Objektivs 17 führt, das mittels gerastertem Zeilen-Detektor 102 aufgenommen wird, aus dem ein Messpunkt MP auf dem Objekt 7, der eine Abstandsinformation enthält, berechnet werden kann.The 17 FIG. 12 illustrates a Michelson-type interferometer arrangement for one-point scanning. The light from a spectrally comparatively broadband light source 1 in the near-infrared range is by means of a beam-shaping optics 2 brought into a focal point line FPL and passes through the aperture arrangement 116a through the pinholes. Before that, there was another passage through a beam splitter 51 , which serves the later decoupling. The light of the focal point is after the aperture arrangement 116a having a pinhole and a comparatively large opening through a lens 3 collimated and through a focusing lens 4 with a numerical aperture of 0.08 again and then enters the Michelson-type interferometer with a comparatively slightly tilted double-plate beam splitter 51 and a beam splitter surface 6 where the incident light is split into a reference beam R and an object beam O. The object 7 and the three-plane mirror reference end reflector 8th returning light passes over the double plate beam splitter 52 again towards the aperture arrangement 116a , Here, the object light is through the pinhole in the right part of the aperture arrangement 116b confocally discriminated. The reference light passes through the comparatively large opening in the left part of the diaphragm arrangement 116a without confocal discrimination. At the beam splitter 51 the extraction takes place in the direction of detection via the lens 17 and the cylinder optics 14 which is used to form a single, linear short-coherence interferogram KKI in the Fourier plane F17 'of the objective 17 leads, by means of a rastered line detector 102 is taken, from which a measuring point MP on the object 7 which contains distance information can be calculated.

Die 18 stellt eine Anordnung auf der Basis eines Michelson-Typ-Interferometers für die Ein-Punkt-Abtastung entlang einer Linie dar. Das Licht von einer spektral vergleichsweise breitbandigen Lichtquelle 1 im nah-infraroten Bereich wird mittels einer Strahlformungsoptik 2 in eine Fokuspunkt-Linie FPL gebracht und passiert die Blendenanordnung 116a durch die Pinholes. Zuvor erfolgte noch ein Durchgang durch einen Strahlteiler 51, welcher der späteren Auskopplung dient. Das Licht des Fokuspunktes wird nach der Blendenanordnung 116a, die ein Pinhole und eine vergleichsweise große Öffnung aufweist, durch ein Objektiv 3 kollimiert und durch ein vergleichsweise langbrennweitiges Fokussierobjektiv 4 mit einer numerischen Apertur von 0,1 wieder fokussiert und gelangt anschließend in das Michelson-Typ-Interferometer mit einem vergleichsweise schwach gekippten Doppelplatten-Strahlteiler 51 und einer Strahlteilerfläche 6, wo das einfallende Licht in ein Referenzbündel R und ein Objektbündel O aufgespaltet wird. Im Objektstrahlengang ist ein diffraktiv-optisches Phasenelement 21 in Form einer Fresnel-Linse mit positiver Brechkraft angeordnet. Es erfolgt im Objektraum eine Tiefenaufspaltung von Foki im Tiefenbereich delta_z_chrom, wodurch der Tiefenmessbereich etwa auf 400 μm vergrößert wird. Das vom Objekt 7 und vom Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor 8 zurückkommende Licht gelangt über den Doppelplatten-Strahlteiler 52 wieder in Richtung Blendenanordnung 116a. Hier wird das Objektlicht durch das Pinhole im rechten Teil der Blendenanordnung 116b konfokal diskriminiert, wobei nur die Spektralanteile des Lichts das Pinhole passieren können, die zuvor scharf auf dem Objekt 7 abgebildet waren. Das Referenzlicht passiert die vergleichsweise große Öffnung im linken Teil der Blendenanordnung 116a ohne konfokale Diskriminierung. Am Strahlteiler 51 erfolgt die Auskopplung in Richtung Detektion über das Objektiv 17 und die Zylinder-Optik 14, welche zur Ausbildung eines einzelnen, linienhaften Kurzkohärenz-Interferogramms KKI in der Fourier-Ebene F17' des Objektivs 17 führt, das mittels gerastertem Zeilen-Detektor 102 aufgenommen wird, aus dem ein Messpunkt MP auf dem Objekt 7, der eine Abstandsinformation enthält, berechnet werden kann. Dazu wird das vergleichsweise breite linienhafte Kurzkohärenz-Interferogramm KKI einer schnellen Fourier-Transformation unterzogen, um die Schwerpunktwellenzahl kS, siehe Detail J, zu bestimmen, aus der die Tiefeninformation über den Messpunkt MP gewonnen wird. Alternativ kann auch eine Bestimmung des Schwerpunktes des linienhaften Kurzkohärenz-Interferogrammes KKI zur Bestimmung der Tiefeninformation über den Messpunkt MP durchgeführt werden.The 18 illustrates a Michelson-type interferometer based arrangement for one-point scanning along a line. The light from a spectrally comparatively broadband light source 1 in the near-infrared range is by means of a beam-shaping optics 2 brought into a focal point line FPL and passes through the aperture arrangement 116a through the pinholes. Before that, there was another passage through a beam splitter 51 , which serves the later decoupling. The light of the focal point is after the aperture arrangement 116a having a pinhole and a comparatively large opening through a lens 3 collimated and by a comparatively long focal length focusing lens 4 with a numerical aperture of 0.1 refocused and then enters the Michelson-type interferometer with a comparatively slightly tilted double-plate beam splitter 51 and a beam splitter surface 6 where the incident light is split into a reference beam R and an object beam O. In the object beam path is a diffractive-optical phase element 21 arranged in the form of a Fresnel lens with positive refractive power. A depth splitting of foci in the depth range delta_z_chrom takes place in the object space, as a result of which the depth measuring range is increased approximately to 400 μm. The object 7 and the three-plane mirror reference end reflector 8th returning light passes over the double plate beam splitter 52 again towards the aperture arrangement 116a , Here, the object light is through the pinhole in the right part of the aperture arrangement 116b Confocal discriminated, where only the spectral components of the light can pass through the pinhole, previously sharp on the object 7 were pictured. The reference light passes through the comparatively large opening in the left part of the diaphragm arrangement 116a without confocal discrimination. At the beam splitter 51 the extraction takes place in the direction of detection via the lens 17 and the cylinder optics 14 which is used to form a single, linear short-coherence interferogram KKI in the Fourier plane F17 'of the objective 17 leads, by means of a rastered line detector 102 is taken, from which a measuring point MP on the object 7 which contains distance information can be calculated. For this purpose, the comparatively wide linear short-coherence interferogram KKI is subjected to a fast Fourier transformation in order to determine the centroid wave number kS, see detail J, from which the depth information is obtained via the measuring point MP. Alternatively, it is also possible to carry out a determination of the center of gravity of the linear short-coherence interferogram KKI for determining the depth information about the measuring point MP.

Die 19 stellt eine Anordnung auf der Basis eines Michelson-Typ-Interferometers für die Ein-Punkt-Abtastung dar, die auf der Darstellung in 17 aufbaut. Zusätzlich ist in der Lichtquellenbaugruppe 110 eine hier nicht im Detail dargestellte wellenlängenstabilisierte Laserdiode integriert. Zusätzlich befinden sich im Detektionsstrahlengang Mittel zur spektroskopischen Aufspaltung, hier in Form einen Phasengitters 22, wobei die Achse der spektralen Aufspaltung hier in der Zeichenebene und parallel zur y-Achse liegt. So kommt es auf dem Detektor zur lateralen Aufspaltung. 20 zeigt die entstehenden Interferenzmuster, auch als Müllersche Streifen oder als Tolansky-Streifen bekannt. Das räumliche Interferogramm KKI-22 stellt eines von vielen linienhaften Kurzkohärenz-Interferogrammen auf dem gerasterten Detektor 12 dar. Das räumliche Interferogramm mon_Int stammt von der Laserdiode und dient zur höchstgenauen Phasenauswertung, während die aufgespreizten Kurzkohärenz-Interferogramme in der Berechnung auf der Basis eines Multiwellenlängen-Ansatzes die nullte Streifenordnung liefern und damit die absolute Tiefen- oder Abstandsinformation für den Messpunkt MP auf dem Objekt 7. Zusätzlich wird auch noch die Pupillenausleuchtung detektiert, um das Winkelspektrum des angemessenen Objektpunktes zu gewinnen. Dies gibt Aufschluss über weitere Merkmale der Oberfläche im Messpunkt MP.The 19 FIG. 12 illustrates an arrangement based on a Michelson-type interferometer for the one-point scan shown in FIG 17 builds. Additionally, in the light source assembly 110 a wavelength-stabilized laser diode not shown here in detail integrated. In addition, there are means for spectroscopic splitting in the detection beam path, here in the form of a phase grating 22 , where the axis of the spectral splitting is here in the plane of the drawing and parallel to the y-axis. So it comes on the detector for lateral splitting. 20 shows the resulting interference patterns, also known as Müllersche stripes or as Tolansky stripes. The spatial interferogram KKI-22 represents one of many linear short-coherence interferograms on the rasterized detector 12 The spatial interferogram mon_Int derives from the laser diode and is used for highly accurate phase evaluation, while the spread short-coherence interferograms in the calculation on the basis of a multi-wavelength approach, the zeroth stripe order and thus provide the absolute depth or distance information for the measuring point MP on the object 7 , In addition, the pupil illumination is also detected in order to obtain the angular spectrum of the appropriate object point. This gives information about further features of the surface in the measuring point MP.

Claims (14)

Anordnung zur robusten Interferometrie zur Erfassung von Abstand, Tiefe, Profil, Form, Welligkeit und/oder Rauheit oder der optischen Weglänge in oder an technischen oder biologischen Objekten, auch in Schichtenform, oder auch zur optischen Kohärenz-Tomografie (OCT), welche folgende Mittel umfasst: • eine Quelle kurzkohärenter elektromagnetischer Strahlung (1, 101) zur Beleuchtung des Objekts, • ein Interferometer, insbesondere auch in Form eines Interferenzmikroskops, mit einem Objekt-(O) und mit mindestens einem Referenzstrahlengang (R), in dem mindestens ein End-Reflektor angeordnet ist, und einer Messebene (ME) im Objektstrahlengang, in der sich zumindest näherungsweise die optisch anzumessenden Oberflächen- oder Volumenelemente des Objekts (7) befinden. • sowie mindestens einen gerasterten Detektor (12, 102) zur Detektion elektromagnetischer Strahlung in Form mindestens eines räumlichen Interferogramms, gekennzeichnet dadurch, dass im Referenzstrahlengang des Interferometers • mindestens ein End-Reflektor (8, 8i) mit drei Planspiegeln (9, 10, 11) als Referenzreflektor im Referenzstrahlengang angeordnet ist und die Flächen dieser drei Planspiegel (9, 10, 11) jeweils zumindest näherungsweise senkrecht zu einer gemeinsamen Bezugsebene BE liegen • und die drei Spurgeraden der Ebenen, welche durch die Flächen der drei Planspiegel (9, 10, 11) dargestellt werden, in der Bezugsebene BE ein Dreieck ABC bilden, damit bei diesem Interferometer zwischen Referenz-(RS) und Objektbündel (OS) eine Lateral-Shear vom Betrag delta_q besteht.Arrangement for robust interferometry for detecting distance, depth, profile, shape, waviness and / or roughness or the optical path length in or on technical or biological objects, also in layer form, or also for optical coherence tomography (OCT), which means includes: • a source of short-coherent electromagnetic radiation ( 1 . 101 ) for illuminating the object, • an interferometer, in particular also in the form of an interference microscope, with an object (O) and at least one reference beam path (R), in which at least one end reflector is arranged, and a measuring plane (ME) in Object beam path in which at least approximately the optically to be measured surface or volume elements of the object ( 7 ) are located. • as well as at least one screened detector ( 12 . 102 ) for the detection of electromagnetic radiation in the form of at least one spatial interferogram, characterized in that in the reference beam path of the interferometer • at least one end reflector ( 8th . 8i ) with three plane mirrors ( 9 . 10 . 11 ) is arranged as a reference reflector in the reference beam path and the surfaces of these three plane mirror ( 9 . 10 . 11 ) are each at least approximately perpendicular to a common reference plane BE • and the three Spurgeraden the levels, which by the surfaces of the three plane mirror ( 9 . 10 . 11 ) in the reference plane BE form a triangle ABC, so that in this interferometer between reference (RS) and object bundle (OS) a lateral shear of the amount delta_q exists. Anordnung zur robusten Interferometrie nach Anspruch 1, gekennzeichnet dadurch, dass die drei Spurgeraden (AB, BC, CA) in der Bezugsebene BE ein stumpfwinkliges Dreieck ABC bilden.Arrangement for robust interferometry according to claim 1, characterized in that the three spur lines (AB, BC, CA) form an obtuse-angled triangle ABC in the reference plane BE. Anordnung zur robusten Interferometrie nach mindestens einem der Ansprüche 1 und 2, gekennzeichnet dadurch, dass im Referenzstrahlengang eine Vielzahl von miniaturisierten Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektoren (8, 8i) in Form eines Arrays (18) angeordnet ist.Arrangement for robust interferometry according to at least one of claims 1 and 2, characterized in that in the reference beam path a plurality of miniaturized three-plane mirror reference end reflectors ( 8th . 8i ) in the form of an array ( 18 ) is arranged. Anordnung zur robusten Interferometrie nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 3, gekennzeichnet dadurch, dass die Quelle kurzkohärenter elektromagnetischer Strahlung (1, 101, 110) zur lateral feinstrukturierten Beleuchtung eines Objekts (7, 70, 700) mittels eines schaltbaren räumlichen Lichtmodulator-Arrays (15) ausgebildet ist.Arrangement for robust interferometry according to at least one of claims 1 to 3, characterized in that the source of short-coherent electromagnetic radiation ( 1 . 101 . 110 ) for laterally finely structured illumination of an object ( 7 . 70 . 700 ) by means of a switchable spatial light modulator array ( 15 ) is trained. Anordnung zur robusten Interferometrie nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 4, gekennzeichnet dadurch, dass mindestens eine Doppelblende (16, 116a, 116b) auf der Basis von Spalten oder Pinholes in einer gemeinsam benutzten Abbildungsstufe (15, 17) für Referenz- und Objektstrahlung angeordnet ist, wobei eine erste Öffnung der Doppelblende (16, 116a, 116b) der Referenzstrahlung und eine zweite Öffnung der Objektstrahlung vorbehalten ist.Arrangement for robust interferometry according to at least one of claims 1 to 4, characterized in that at least one Double iris ( 16 . 116a . 116b ) based on columns or pinholes in a shared mapping stage ( 15 . 17 ) is arranged for reference and object radiation, wherein a first opening of the double diaphragm ( 16 . 116a . 116b ) of the reference radiation and a second aperture of the object radiation is reserved. Anordnung zur robusten Interferometrie nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 5, gekennzeichnet dadurch, dass im Objektstrahlengang Mittel (19, 21) zur chromatischen Tiefenaufspaltung von Foki angeordnet sind.Arrangement for robust interferometry according to at least one of claims 1 to 5, characterized in that in the object beam path means ( 19 . 21 ) are arranged for chromatic depth splitting of foci. Anordnung zur robusten Interferometrie nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 23, gekennzeichnet dadurch, dass im Objektstrahlengang mindestens eine konfokal diskriminierende Blende (16, 116a, 116b) angeordnet ist.Arrangement for robust interferometry according to at least one of claims 1 to 23, characterized in that in the object beam path at least one confocal discriminating diaphragm ( 16 . 116a . 116b ) is arranged. Anordnung zur robusten Interferometrie nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 7, gekennzeichnet dadurch, dass das Interferometer im Grundtyp als Michelson-, Linnik-, Mirau- oder Schulz-Minor-Interferometer ausgebildet ist und mindestens ein Drei-Spiegel-Referenz-Endreflektor (8, 8i) im Referenzstrahlengang angeordnet ist.Arrangement for robust interferometry according to at least one of Claims 1 to 7, characterized in that the interferometer in the basic type is designed as a Michelson, Linnik, Mirau or Schulz-Minor interferometer and at least one three-mirror reference end reflector ( 8th . 8i ) is arranged in the reference beam path. Verfahren zur robusten Interferometrie zur Erfassung von Abstand, Tiefe, Profil, Form, Welligkeit und/oder Rauheit oder der optischen Weglänge in oder an technischen oder biologischen Objekten, in auch Schichtenform, oder auch zur optischen Kohärenz-Tomografie (OCT) mit den Mitteln im Oberbegriff der Anordnung nach Anspruch 1 und den A Verfahrensschritten: • Erzeugen mindestens eines Objektstrahlenbündels elektromagnetischer Strahlung zur Beleuchtung des Objekts (7, 70, 700), • Erzeugen mindestens eines Referenzstrahlenbündels mittels Strahlteilung in einem Interferometer, • Erzeugen von räumlichen Kurzkohärenz-Interferenzen von Objekt- und Referenzstrahlen, • Detektion von räumlichen Kurzkohärenz-Interferenzen auf einem gerasterten Detektor (12, 102) elektromagnetischer Strahlung, gekennzeichnet dadurch, • dass im Referenzstrahlengang drei, direkt aufeinanderfolgende Reflexionen an je drei Planspiegeln (9, 10, 11) durchgeführt werden, • dabei die Flächen dieser drei Planspiegel (9, 10, 11) jeweils zumindest näherungsweise senkrecht zu einer gemeinsamen Bezugsebene BE liegen und somit ein Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor (8, 8i) gebildet ist, • durch die drei Reflexionen eine Lateral-Shear mit dem Betrag delta_q zwischen Objektstrahlenbündel und Referenzstrahlenbündel im Interferometer eingeführt wird, wodurch auf dem gerasterten Detektor (12, 102) mindestens ein räumliches Kurzkohärenz-Interferogramm erzeugt wird und • mindestens ein räumliches Interferogramm zur Gewinnung von Informationen über Abstand, Tiefe, Profil, Form, Welligkeit und/oder Rauheit oder der optischen Weglänge eines Objekts (7, 70, 700), auch in der optischen Kohärenz-Tomografie, ausgewertet wird.Method for robust interferometry for detecting distance, depth, profile, shape, waviness and / or roughness or the optical path length in or on technical or biological objects, also in layer form, or also for optical coherence tomography (OCT) with the means in The generic term of the arrangement according to claim 1 and the A method steps: generating at least one object beam of electromagnetic radiation for illuminating the object ( 7 . 70 . 700 ), • generating at least one reference beam by means of beam splitting in an interferometer, • generating spatial short-coherence interference of object and reference beams, • detecting spatial short-coherence interference on a screened detector ( 12 . 102 ) electromagnetic radiation, characterized in that • in the reference beam path three, directly successive reflections on three plan mirrors ( 9 . 10 . 11 ), while the surfaces of these three plane mirrors ( 9 . 10 . 11 ) are each at least approximately perpendicular to a common reference plane BE and thus a three-plane mirror reference end reflector ( 8th . 8i ) is introduced by the three reflections, a lateral shear with the amount delta_q between the object beam and the reference beam in the interferometer, whereby on the rasterized detector ( 12 . 102 ) at least one spatial short-coherence interferogram is generated, and • at least one spatial interferogram for obtaining information about distance, depth, profile, shape, waviness and / or roughness or the optical path length of an object ( 7 . 70 . 700 ), also in optical coherence tomography. Verfahren zur robusten Interferometrie nach Anspruch 9, gekennzeichnet dadurch, dass eine punktförmige oder eine lateral strukturierte Beleuchtung des Objekts (7, 70, 700) erfolgt.Method for robust interferometry according to claim 9, characterized in that a punctiform or laterally structured illumination of the object ( 7 . 70 . 700 ) he follows. Verfahren zur robusten Interferometrie nach mindestens einem der Ansprüche 9 und 10, gekennzeichnet dadurch, dass mindestens ein Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor (8, 8i) in einem Metall- oder Kunststoffkörper (18) durch eine Single-Point-Diamantbearbeitungstechnik hergestellt ist.Method for robust interferometry according to at least one of Claims 9 and 10, characterized in that at least one three-plane mirror reference end reflector ( 8th . 8i ) in a metal or plastic body ( 18 ) is made by a single point diamond machining technique. Anordnung zur robusten Interferometrie zur Erfassung von Abstand, Tiefe, Profil, Form, Welligkeit und Ebenheitsabweichung in oder an technischen Objekten, welche folgende Mittel umfasst: • eine monochromatische oder quasimonochromatische Quelle elektromagnetischer Strahlung (1, 101) zur Beleuchtung des Objekts, • ein Interferometer, insbesondere auch in Form eines Interferenzmikroskops, mit einem Objekt-(O) und mit mindestens einem Referenzstrahlengang (R), in dem mindestens ein End-Reflektor angeordnet ist, und einer Messebene (ME) im Objektstrahlengang, in der sich zumindest näherungsweise die optisch anzumessenden Oberflächen- oder Volumenelemente des Objekts (7, 70, 700) befinden. • sowie mindestens einen gerasterten Detektor (12, 102) zur Detektion elektromagnetischer Strahlung in Form mindestens eines räumlichen Interferogramms, gekennzeichnet dadurch, dass im Referenzstrahlengang des Interferometers • mindestens ein End-Reflektor (8, 8i) mit drei Planspiegeln (9, 10, 11) als Referenzreflektor im Referenzstrahlengang angeordnet ist und die Flächen dieser drei Planspiegel (9, 10, 11) jeweils zumindest näherungsweise senkrecht zu einer gemeinsamen Bezugsebene BE liegen • und die drei Spurgeraden der Ebenen, welche durch die Flächen der drei Planspiegel (9, 10, 11) dargestellt werden, in der Bezugsebene BE ein Dreieck ABC bilden, damit bei diesem Interferometer zwischen Referenz- und Objektbündel eine Lateral-Shear vom Betrag delta_q besteht.Arrangement for robust interferometry for detecting distance, depth, profile, shape, waviness and flatness deviation in or on technical objects, comprising the following means: a monochromatic or quasi-monochromatic source of electromagnetic radiation ( 1 . 101 ) for illuminating the object, • an interferometer, in particular also in the form of an interference microscope, with an object (O) and at least one reference beam path (R), in which at least one end reflector is arranged, and a measuring plane (ME) in Object beam path in which at least approximately the optically to be measured surface or volume elements of the object ( 7 . 70 . 700 ) are located. • as well as at least one screened detector ( 12 . 102 ) for the detection of electromagnetic radiation in the form of at least one spatial interferogram, characterized in that in the reference beam path of the interferometer • at least one end reflector ( 8th . 8i ) with three plane mirrors ( 9 . 10 . 11 ) is arranged as a reference reflector in the reference beam path and the surfaces of these three plane mirror ( 9 . 10 . 11 ) are each at least approximately perpendicular to a common reference plane BE • and the three Spurgeraden the levels, which by the surfaces of the three plane mirror ( 9 . 10 . 11 ), in the reference plane BE form a triangle ABC, so that there is a lateral shear of the amount delta_q in this interferometer between reference and object bundles. Anordnung zur robusten Interferometrie zur Erfassung von Abstand, Tiefe, Profil, Form, Welligkeit und Ebenheitsabweichung in oder an technischen Objekten, welche folgende Mittel umfasst: • eine monochromatische oder quasi-monochromatische Quelle elektromagnetischer Strahlung und auch eine Quelle (1, 101) kurzkohärenter elektromagnetischer Strahlung zur Beleuchtung des Objekts (7, 70, 700), • ein Interferometer, insbesondere auch in Form eines Interferenzmikroskops, mit einem Objekt-(O) und mit mindestens einem Referenzstrahlengang (R), in dem mindestens ein End-Reflektor angeordnet ist, und einer Messebene (ME) im Objektstrahlengang, in der sich zumindest näherungsweise die optisch anzumessenden Oberflächen- oder Volumenelemente des Objekts (7, 70, 700) befinden. • sowie mindestens einen gerasterten Detektor (12, 102) zur Detektion elektromagnetischer Strahlung in Form mindestens eines räumlichen Interferogramms, gekennzeichnet dadurch, dass im Referenzstrahlengang des Interferometers • mindestens ein End-Reflektor (8, 8i) mit drei Planspiegeln (9, 10, 11) als Referenzreflektor im Referenzstrahlengang angeordnet ist und die Flächen dieser drei Planspiegel (9, 10, 11) jeweils zumindest näherungsweise senkrecht zu einer gemeinsamen Bezugsebene BE liegen • und die drei Spurgeraden der Ebenen, welche durch die Flächen der drei Planspiegel (9, 10, 11) dargestellt werden, in der Bezugsebene BE ein Dreieck ABC bilden, damit bei diesem Interferometer zwischen Referenz-(R) und Objektbündel (O) eine Lateral-Shear vom Betrag delta_q besteht • Mittel (19, 21) zur spektralen Aufspaltung im Detektionsstrahlengang angeordnet sind.Arrangement for robust interferometry for detecting distance, depth, profile, shape, waviness and flatness deviation in or on technical objects, which comprises the following means: a monochromatic or quasi-monochromatic source of electromagnetic radiation and also a source ( 1 . 101 ) of short coherent electromagnetic radiation for illuminating the object ( 7 . 70 . 700 ), • an interferometer, in particular also in the form of an interference microscope, with an object (O) and at least one reference beam path (R), in which at least one end reflector is arranged, and a measurement plane (ME) in the object beam path, in the at least approximately the optically to be measured surface or volume elements of the object ( 7 . 70 . 700 ) are located. • as well as at least one screened detector ( 12 . 102 ) for the detection of electromagnetic radiation in the form of at least one spatial interferogram, characterized in that in the reference beam path of the interferometer • at least one end reflector ( 8th . 8i ) with three plane mirrors ( 9 . 10 . 11 ) is arranged as a reference reflector in the reference beam path and the surfaces of these three plane mirror ( 9 . 10 . 11 ) are each at least approximately perpendicular to a common reference plane BE • and the three Spurgeraden the levels, which by the surfaces of the three plane mirror ( 9 . 10 . 11 ), in the reference plane BE form a triangle ABC, so that in this interferometer between reference (R) and object bundle (O) there is a lateral shear of the amount delta_q. 19 . 21 ) are arranged for spectral splitting in the detection beam path. Verfahren zur robusten Interferometrie zur Erfassung von Abstand, Tiefe, Profil, Form, Welligkeit und/oder Rauheit oder der optischen Weglänge in oder an technischen oder biologischen Objekteng, auch in Schichtenform, oder auch zur optischen Kohärenz-Tomografie (OCT) mit den Mitteln im Oberbegriff der Anordnung nach Anspruch 12 und den Verfahrensschritten: • Erzeugen mindestens eines Objektstrahlenbündels elektromagnetischer Strahlung zur Beleuchtung des Objekts (7, 70,700), • Erzeugen mindestens eines Referenzstrahlenbündels mittels Strahlteilung in einem Interferometer, • Erzeugen von räumlichen Kurzkohärenz-Interferenzen von Objekt- und Referenzstrahlen, • Detektion von räumlichen Kurzkohärenz-Interferenzen auf einem gerasterten Detektor (12, 102) elektromagnetischer Strahlung, gekennzeichnet dadurch, dass • im Referenzstrahlengang drei direkt aufeinanderfolgende Reflexionen an je drei Planspiegeln (8, 9, 10) durchgeführt werden, • wobei die Flächen dieser drei Planspiegel jeweils zumindest näherungsweise senkrecht zu einer gemeinsamen Bezugsebene BE liegen und somit einen Drei-Planspiegel-Referenz-Endreflektor (8, 8i) bilden, • und durch die drei Reflexionen eine Lateral-Shear mit dem Betrag delta_q zwischen Objektstrahlenbündel und Referenzstrahlenbündel im Interferometer eingeführt wird, wodurch auf dem gerasterten Detektor (12, 102) mindestens ein räumliches Kurzkohärenz-Interferogramm erzeugt wird, • und eine spektrale Aufspaltung von Objekt- und Referenzstrahlung im Detektionsstrahlengang durchgeführt wird • und mindestens ein räumliches Interferogramm-Muster mit spektraler Aufspaltung zur Gewinnung von Informationen über Abstand, Tiefe, Profil, Form, Welligkeit und/oder Rauheit oder der optischen Weglänge eines Objekts (7, 70, 700), auch in der optischen Kohärenz-Tomografie, detektiert und ausgewertet wird.Method for robust interferometry for detecting distance, depth, profile, shape, waviness and / or roughness or the optical path length in or on technical or biological objects, also in layer form, or also for optical coherence tomography (OCT) with the means in The generic term of the arrangement according to claim 12 and the method steps: generating at least one object beam of electromagnetic radiation for illuminating the object ( 7 . 70 . 700 ), • generating at least one reference beam by means of beam splitting in an interferometer, • generating spatial short-coherence interference of object and reference beams, • detecting spatial short-coherence interference on a screened detector ( 12 . 102 ) electromagnetic radiation, characterized in that • in the reference beam path three directly successive reflections on each of three plane mirrors ( 8th . 9 . 10 ), wherein the surfaces of these three plane mirrors each lie at least approximately perpendicular to a common reference plane BE and thus a three-plane mirror reference end reflector ( 8th . 8i ) and the three reflections introduce a lateral shear with the amount delta_q between the object beam and the reference beam in the interferometer, whereby on the screened detector ( 12 . 102 ) at least one spatial short-coherence interferogram is generated, and • a spectral splitting of object and reference radiation in the detection beam path is performed • and at least one spatial interferogram pattern with spectral splitting to obtain information about distance, depth, profile, shape, ripple and roughness or the optical path length of an object ( 7 . 70 . 700 ), also in optical coherence tomography, is detected and evaluated.
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