DE102008051050A1 - Opto-electronic semiconductor module for e.g. projection application, has semiconductor segments characterized by operating voltages, where one of voltage range includes weighted sum of natural numbers with different voltage ranges - Google Patents

Opto-electronic semiconductor module for e.g. projection application, has semiconductor segments characterized by operating voltages, where one of voltage range includes weighted sum of natural numbers with different voltage ranges Download PDF

Info

Publication number
DE102008051050A1
DE102008051050A1 DE102008051050A DE102008051050A DE102008051050A1 DE 102008051050 A1 DE102008051050 A1 DE 102008051050A1 DE 102008051050 A DE102008051050 A DE 102008051050A DE 102008051050 A DE102008051050 A DE 102008051050A DE 102008051050 A1 DE102008051050 A1 DE 102008051050A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
optoelectronic semiconductor
module
semiconductor elements
semiconductor
segments
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE102008051050A
Other languages
German (de)
Inventor
Norwin Von Dr. Malm
Klaus Dr. Streubel
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ams Osram International GmbH
Original Assignee
Osram Opto Semiconductors GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Osram Opto Semiconductors GmbH filed Critical Osram Opto Semiconductors GmbH
Priority to DE102008051050A priority Critical patent/DE102008051050A1/en
Publication of DE102008051050A1 publication Critical patent/DE102008051050A1/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/15Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components having potential barriers, specially adapted for light emission
    • H01L27/153Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components having potential barriers, specially adapted for light emission in a repetitive configuration, e.g. LED bars
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/075Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L33/00
    • H01L25/0753Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L33/00 the devices being arranged next to each other
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/02Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
    • H01L33/08Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a plurality of light emitting regions, e.g. laterally discontinuous light emitting layer or photoluminescent region integrated within the semiconductor body

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Led Devices (AREA)

Abstract

The module has a set of opto-electronic semiconductor elements (1, 2, 3) i.e. LED chip, each with semiconductor segments (5, 6, 7) connected in series for radiating electromagnetic radiations. The semiconductor segments are characterized by segment operating voltages that are connected in series define an operating voltage of the opto-electronic semiconductor elements. The operating voltages lie within a voltage range or within one of a group of preset voltage ranges, where one of the voltage ranges includes the weighted sum of the natural numbers with different voltage ranges.

Description

Die Erfindung betrifft ein Modul mit optoelektronischen Halbleiterelementen.The The invention relates to a module with optoelectronic semiconductor elements.

Optoelektronische Halbleiterelemente werden für eine Vielzahl verschiedener Lichtanwendungen verwendet. Sie bieten sich vor allem an, wenn eine hohe Lichtausbeute auf einem geringen Raum erforderlich ist. Beispiele für die Verwendung von optoelektronischen Halbleiterelementen finden sich in Projektionsanwendungen und auch im Automotivbereich, dort unter anderem in der Verwendung von Frontscheinwerfern.Optoelectronic Semiconductor elements are used for used a variety of different lighting applications. they offer especially when a high luminous efficacy on a small Space is required. Examples of the use of optoelectronic Semiconductor elements are found in projection applications and also in the automotive sector, there among other things in the use of headlights.

Bei Schaltungen mit optoelektronischen Halbleiterelementen, die in verschiedenen Farben abstrahlen, werden die verschiedenfarbigen Halbleiterelemente mit separaten Treiberkomponenten angesteuert. Die Treiberkomponenten stellen die verschiedenen Betriebsspannungen und Leistungen für die verschiedenfarbigen Halbleiterelemente bereit.at Circuits with optoelectronic semiconductor elements, which in different Color radiate become the different colored semiconductor elements controlled with separate driver components. The driver components represent the different operating voltages and powers for the differently colored ones Semiconductor elements ready.

Erfindungsgemäß ist ein Modul mit optoelektronischen Halbleiterelementen vorgesehen, wobei jedes optoelektronisches Halbleiterelement des Moduls in Reihe geschaltete zur Abstrahlung elektromagnetischer Strahlung geeignete Halbleitersegmente umfasst. Jedes Halbleitersegment ist durch eine Segmentbetriebsspannung charakterisiert. Die Segmentbetriebsspannung der in Reihe geschalteten Halbleitersegmente bestimmt im Wesentlichen eine Betriebsspannung des optoelektronischen Halbleiterelements. Die Betriebsspannungen der optoelektronischen Halbleiterelemente liegen innerhalb eines Spannungsbereichs oder innerhalb eines Spannungsbereichs einer Gruppe von vorgegebenen Spannungsbereichen, wobei einer der Spannungsbereiche die Summe der mit natürlichen Zahlen gewichteten anderen Spannungsbereiche umfasst.According to the invention is a Module provided with optoelectronic semiconductor elements, each Optoelectronic semiconductor element of the module connected in series comprises semiconductor segments suitable for the emission of electromagnetic radiation. Each semiconductor segment is characterized by a segment operating voltage. The segment operating voltage of the series connected semiconductor segments essentially determines an operating voltage of the optoelectronic Semiconductor element. The operating voltages of the optoelectronic Semiconductor elements are within a voltage range or within a voltage range of a group of predetermined voltage ranges, where one of the voltage ranges is the sum of natural Includes numbers weighted other voltage ranges.

Bei der ersten Alternative sind die Betriebspannungen der Halbleiterelemente gleich oder derart in einem einzigen Spannungsbereich liegend, dass die Halbleiterelemente in einer Spaltungsanordnung parallel schaltbar sind.at The first alternative is the operating voltages of the semiconductor elements equal or in a single voltage range, that the semiconductor elements in a cleavage arrangement in parallel switchable are.

Bei der zweiten Alternative sind die Betriebsspannungen der Halbleiterelemente derart verteilt, dass eine Reihenschaltung von Halbleiterelementen parallel zu einem weiteren Halbleiterelement schaltbar ist. Die Summe der Betriebspannungen der in Reihe geschalteten Halbleiterelemente ist gleich der Betriebsspannung des weiteren Halbleiterelements. Die Betriebsspannung des weiteren Halbleiterelements ist gleich der mit natürlichen Zahlen gewichteten anderen Betriebsspannungen. Die natürlichen Zahlen sind 0, 1, 2, 3, 4, ....at The second alternative is the operating voltages of the semiconductor elements distributed such that a series circuit of semiconductor elements in parallel can be switched to a further semiconductor element. The sum of Operating voltages of the series-connected semiconductor elements equal to the operating voltage of the further semiconductor element. The Operating voltage of the further semiconductor element is the same with natural Numbers weighted other operating voltages. The natural numbers are 0, 1, 2, 3, 4, ....

Folgendes Beispiel mag die zweite Alternative verdeutlichen. Ein Ausführungsbeispiel umfasst ein erstes Halbleiterelement mit einer Betriebspannung von ungefähr 2 Volt, ein zweites Halbleiterelement mit einer Betriebsspannung von ungefähr 4 Volt und ein drittes Halbleiterelement mit einer Betriebspannung von ungefähr 6 Volt. Eine Reihenschaltung des ersten und des zweiten Halbleiterelements ließe sich parallel zum dritten Halbleiterelement schalten. Die Betriebsspannung des dritten Halbleiterelements ist die Summe der Betriebsspannungen der anderen Halbleiterelemente. Dabei sind die Summanden jeweils mit 1 gewichtet.following Example may clarify the second alternative. An embodiment comprises a first semiconductor element with an operating voltage of approximately 2 volts, a second semiconductor element with an operating voltage of about 4 volts and a third semiconductor element with an operating voltage of about 6 volts. A series connection of the first and the second semiconductor element could be switch parallel to the third semiconductor element. The operating voltage of the third semiconductor element is the sum of the operating voltages the other semiconductor elements. The summands are respectively weighted with 1.

Ein weiteres Ausführungsbeispiel umfasst ein erstes Halbleiterelement mit einer Betriebspannung von ungefähr 2 Volt, ein zweites Halbleiterelement mit einer Betriebspannung von ungefähr 8 Volt und ein drittes Halbleiterelement mit einer Betriebspannung von ungefähr 12 Volt. Die Reihenschaltung von zwei ersten Halbleiterelementen und einem zweiten Halbleiterelement ließe sich parallel zum dritten Halbleiterelement schalten. Dessen Betriebsspannung ist die Summe der Betriebsspannungen der anderen Halbleiterelemente. Bei der Summenbildung wird die Betriebsspannung des ersten Halbleiterelements mit 2 gewichtet und die Betriebsspannung des zweiten Halbleiterelements mit 1 gewichtet.One another embodiment comprises a first semiconductor element with an operating voltage of approximately 2 volts, a second semiconductor element with an operating voltage of about 8 volts and a third semiconductor element with an operating voltage of about 12 volts. The series connection of two first semiconductor elements and a second semiconductor element could be parallel to the third Switch semiconductor element. Its operating voltage is the sum the operating voltages of the other semiconductor elements. At the summation the operating voltage of the first semiconductor element is weighted by 2 and the operating voltage of the second semiconductor element is weighted by one.

Ein derartiger spannungsangepasster Satz optoelektronischer Halbleiterelemente erlaubt es Schaltungsanordnungen aufzubauen, sodass sie mit einer selben Versorgungsspannung betreibbar sind, was Platz, Aufwand und Kosten sparend ist.One such voltage-matched set of optoelectronic semiconductor elements allows it to build circuit arrangements, so they with a same supply voltage can be operated, giving space, effort and Cost saving is.

Ein Ausführungsbeispiel eines Halbleiterelements ist ein Chip mit einem Halbleiterkörper. Ein Ausführungsbeispiel eines Halbleiterelements ist ein Halbleiterbauelement. In einem Ausführungsbeispiel sind als Halbleitersegmente Chips oder Halbleiterkörper vorgesehen.One embodiment a semiconductor element is a chip with a semiconductor body. An embodiment a semiconductor element is a semiconductor device. In one Embodiment are provided as semiconductor segments chips or semiconductor body.

In einer Ausgestaltung unterscheiden sich die optoelektronischen Halbleiterelemente hinsichtlich ihrer abstrahlbaren elektromagnetischen Strahlung, sodass durch eine Kombination der Halbleiterelemente deren emittierte Strahlungen überlagert werden.In In one embodiment, the optoelectronic semiconductor elements differ with regard to their radiant electromagnetic radiation, so that emitted by a combination of the semiconductor elements Radiation superimposed become.

In einer Ausgestaltung haben die Halbleitersegmente eines Halbleiterelements gleiche Segmentbetriebsspannungen, sodass die Betriebsspannung des Halbleiterelements ein Vielfaches der Segmentbetriebsspannung ist.In In one embodiment, the semiconductor segments of a semiconductor element same segment operating voltages, so that the operating voltage of Semiconductor element is a multiple of the segment operating voltage.

In einer Ausgestaltung mit einem ersten optoelektronischen Halbleiterelement, dessen in Reihe geschaltete Halbleitersegmente jeweils eine erste Segmentbetriebsspannung haben, und einem zweiten optoelektronischen Halbleiterelement, dessen in Reihe geschaltete Halbleitersegmente jeweils eine zweite Segmentbetriebsspannung haben, umfasst der vorgegebene Spannungsbereich ein gemeinsames Vielfaches der ersten und zweiten Segmentbetriebsspannung. Die gemeinsame Betriebsspannung beider Halbleiterelemente wird durch die unterschiedliche Anzahl der Halbleitersegmente bestimmt. Die Betriebsspannung geteilt durch die Segmentbetriebsspannung ist die Anzahl der für die Betriebsspannung benötigten Segmente.In one embodiment, with a first optoelectronic semiconductor element, whose semiconductor segments connected in series each have a first segment operating voltage, and a second optoelectronic semiconductor element, whose series-connected semiconductor segments each have one second segment operating voltage, the predetermined voltage range comprises a common multiple of the first and second segment operating voltage. The common operating voltage of both semiconductor elements is determined by the different number of semiconductor segments. The operating voltage divided by the segment operating voltage is the number of segments required for the operating voltage.

Vorteilhafterweise unterscheiden sich die Halbleiterelemente hinsichtlich der Farbe des Lichts, das sie abstrahlen. Die Halbleiterelemente lassen sich kombinieren, um eine Mischfarbe zu generieren.advantageously, The semiconductor elements differ in color the light they emit. The semiconductor elements can be combine to create a mixed color.

Um weißes Licht zu mischen, werden vorteilhafterweise optoelektronische Halbleiterelemente in den Farben rot, grün und blau kombiniert. Alternativ können auch optoelektronische Halbleiterelemente in den Farben weiß-grün und rot, insbesondere tiefrot, verwendet werden, um warm-weißes Licht zu mischen. Weiße Lichtquellen können für eine Allgemeinbeleuchtung oder eine Display-Hinterleuchtung verwendet werden.Around white Light to be mixed, are advantageously optoelectronic semiconductor elements in the colors red, green and blue combined. Alternatively, optoelectronic Semiconductor elements in the colors white-green and red, especially deep red, used become warm white To mix light. white Light sources can for one General lighting or a display backlight used become.

Die Halbleitersegmente umfassen in einer Ausführung eine aktive Schicht, die geeignet ist elektromagnetische Strahlung zu emittieren. In einer Ausgestaltung unterscheiden sich die Halbleitersegmente verschiedener Halbleiterelemente und/oder die Halbleitersegmente eines Halbleiterelements hinsichtlich ihrer Art und/oder ihrer Dimensionierung.The Semiconductor segments in one embodiment comprise an active layer, which is suitable for emitting electromagnetic radiation. In In one embodiment, the semiconductor segments differ from one another Semiconductor elements and / or the semiconductor segments of a semiconductor element in terms of their nature and / or their dimensions.

Durch die Dimensionierung der Halbleitersegmente lässt sich auch bei unterschiedlicher Stromeffizienz der verschiedenen Segmenttypen ein gewünschter Gesamtfarbton einstellen, wie im Folgenden verdeutlicht. Ein erstes Halbleitersegment, das eine erste Farbe abstrahlt, jedoch eine geringere Stromeffizienz hat als ein zweites Halbleitersegment, welches eine zweite Farbe abstrahlt, strahlt in einer Ausgestaltung, bei der das erste und das zweite Halbleitersegment gleich dimensioniert sind, mit geringerer Intensität ab. Wenn das erste Halbleitersegment jedoch größer dimensioniert ist als das zweite, lässt sich der Intensitätsunterschied ausgleichen.By The dimensioning of the semiconductor segments can also be achieved with different current efficiency set the desired overall color tone for the various segment types, as illustrated below. A first semiconductor segment, the emits a first color, but less power efficiency has as a second semiconductor segment, which is a second color radiates, radiates in an embodiment in which the first and the second semiconductor segment are the same size, with less intensity from. However, if the first semiconductor segment is larger than that second, lets the intensity difference compensate.

Halbleitersegmente unterschiedlicher Art unterscheiden sich beispielsweise durch das verwendete Materialsystem oder die Art, Dicke oder Struktur von Wellenlängenkonversionsschichten, die über der aktiven, emittierenden Schicht angeordnet sind. Die Wellenlängenkonversionsschicht beeinflusst das Spektrum des von der aktiven Schicht abgestrahlten Lichts.Semiconductor segments different types differ for example by the used material system or the type, thickness or structure of Wavelength conversion layers, the above the active, emitting layer are arranged. The wavelength conversion layer affects the spectrum of the light emitted by the active layer.

Somit ist die Gestaltung der Halbleitersegmente ein geeignetes Mittel, um die abgestrahlte Strahlung hinsichtlich ihres Spektrums, aber auch hinsichtlich ihrer Intensität zu beeinflussen.Consequently is the design of the semiconductor segments a suitable means to the radiated radiation in terms of its spectrum, but also in terms of their intensity to influence.

Eine Ausführung des Moduls mit den optoelektronischen Halbleiterelementen umfasst vorteilhafterweise ein erstes optoelektronisches Halbleiterelement und ein zweites optoelektronisches Halbleiterelement, welche parallel geschaltet sind. Auf Grund der gleichen Betriebsspannungen der Halbleiterelemente ist diese Art der Verschaltung möglich.A execution of the module with the optoelectronic semiconductor elements Advantageously, a first optoelectronic semiconductor element and a second optoelectronic semiconductor element which is parallel are switched. Due to the same operating voltages of the semiconductor elements this type of interconnection is possible.

In einer alternativen Ausgestaltung ist ein erstes optoelektronisches Halbleiterelement parallel zu einer Reihenschaltung von Halbleiterelementen mit zumindest einem zweiten Halbleiterelement geschaltet. Die Reihenschaltung kann beispielsweise zwei Halbleiterelemente verschiedenen oder gleichen Typs umfassen. Die optoelektronischen Halbleiterelemente haben verschiedene Betriebsspannungen, die derart gewählt sind, dass die Parallelschaltung mit der Reihenschaltung kombinierbar ist.In an alternative embodiment is a first optoelectronic Semiconductor element in parallel with a series circuit of semiconductor elements with connected at least a second semiconductor element. The series connection For example, two semiconductor elements may be different or the same Type include. The optoelectronic semiconductor elements have different Operating voltages chosen such that the parallel connection can be combined with the series connection.

Bei einer platz- und kosteneffizienten Ausgestaltung sind die Halbleiterelemente in einem Gehäuse oder auf einer Trägerplatte, einem so genannten Board, angeordnet.at a space and cost efficient design are the semiconductor elements in a housing or on a carrier plate, a so-called board.

Vorteilhafterweise ist eine gemeinsame Treiberkomponente für die Halbleiterelemente vorgesehen, die es erlaubt, die parallel angeordneten Halbleiterelemente gleichzeitig anzusteuern. Es ist nicht mehr erforderlich, dass verschiedene Treiberkomponenten für die verschiedenen Halbleiterelemente vorgesehen sind.advantageously, a common driver component is provided for the semiconductor elements, which allows the semiconductor elements arranged in parallel at the same time head for. It is no longer necessary that different driver components for the various semiconductor elements are provided.

In einer Ausgestaltung sind die Halbleiterelemente der Schaltungsanordnung derart dimensioniert und angeordnet, dass die Mischung des abgestrahlten Lichts der optoelektronischen Halbleiterelemente weiß ist.In In one embodiment, the semiconductor elements of the circuit arrangement dimensioned and arranged so that the mixture of the radiated Light of the optoelectronic semiconductor elements is white.

Damit sich die Farbe, die durch die Kombination der Halbleiterelemente abgestrahlt wird, auch während des Alterungsprozesses der Halbleiterelemente oder unter Temperatureinfluss nicht verändert, haben die optoelektronischen Halbleiterelemente ein ähnliches Alterungs- beziehungsweise Temperaturverhalten.In order to the color caused by the combination of semiconductor elements is emitted even during the aging process of the semiconductor elements or under the influence of temperature not changed, have the optoelectronic semiconductor elements a similar aging or Temperature behavior.

In einem Ausführungsbeispiel erfolgt die Reihenschaltung der Halbleitersegmente durch leitende Verbindungen auf der von einer Strahlungsdurchtrittsfläche abgewandten Seite der optoelektronischen Halbleitersegmente. Die Kontaktierung der Halbleitsegmente erfolgt auf der von der Strahlungsdurchtrittsfläche abgewandten Seite durch Kontaktschichten, die zumindest teilweise überlappen. Die Kontaktelemente zur Kontaktierung der Elemente sind auf der von der Strahlungsdurchtrittsfläche abgewandten Seite der Halbleitersegmente vorgesehen, dabei kann die Kontaktierung auf der Rückseite oder im Seitenbereich der Halbleitersegmente erfolgen. Die Kontaktelemente sind mit den Kontaktschichten verbunden oder zugängliche Bereiche der Kontaktschichten. Somit wird die Reihenschaltung der Halbleitersegmente innerhalb der Halbleiterelemente durch eine leitende Verbindung der Kontaktelemente realisiert, die sich auf der der Strahlungsdurchtrittsfläche abgewandten Seite der Strahlung emittierenden Schicht befinden.In one exemplary embodiment, the series connection of the semiconductor segments is effected by conductive connections on the side of the optoelectronic semiconductor segments which faces away from a radiation passage area. The contacting of the semiconductor segments takes place on the side facing away from the radiation passage area side by contact layers which overlap at least partially. The contact elements for contacting the elements are provided on the side facing away from the radiation passage surface side of the semiconductor segments, while the contact can be made on the back or in the side region of the semiconductor segments. The contact elements are with the contact layers connected or accessible areas of the contact layers. Thus, the series connection of the semiconductor segments within the semiconductor elements is realized by a conductive connection of the contact elements, which are located on the side facing away from the radiation passage surface of the radiation-emitting layer.

Im Folgenden wird die Erfindung anhand von Zeichnungen erläutert.in the The invention will be explained with reference to drawings.

Es zeigen:It demonstrate:

1 ein Ausführungsbeispiel eines Satzes von optoelektronischen Halbleiterelementen, 1 an embodiment of a set of optoelectronic semiconductor elements,

2 ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Satzes von optoelektronischen Halbleiterelementen, 2 Another embodiment of a set of optoelectronic semiconductor elements,

3 ein Ausführungsbeispiel einer Schaltungsanordnung mit optoelektronischen Halbleiterelementen, 3 An embodiment of a circuit arrangement with optoelectronic semiconductor elements,

4 ein weiteres Ausführungsbeispiel einer Schaltungsanordnung mit optoelektronischen Halbleiterelementen, 4 Another embodiment of a circuit arrangement with optoelectronic semiconductor elements,

5 ein Ausführungsbeispiel einer Schaltungsanordnung mit optoelektronischen Halbleiterelementen, 5 An embodiment of a circuit arrangement with optoelectronic semiconductor elements,

6A, 6B jeweils eine schematische Schnittdarstellung gemäß eines Ausführungsbeispiels eines optoelektronischen Halbleiterelements, 6A . 6B each a schematic sectional view according to an embodiment of an optoelectronic semiconductor element,

6C, 6D jeweils Ersatzschaltbilder der Ausführungsbeispiele in den 6A beziehungsweise 6B, 6C . 6D each equivalent circuit diagrams of the embodiments in the 6A respectively 6B .

6E, 6F jeweils Draufsichten auf einen optoelektronischen Halbleiterkörper geteilt in vier Teilbereiche korrespondierend zu der Schnittdarstellung und den Ersatzschaltbildern der 6A bis 6D und 6E . 6F each plan views of an optoelectronic semiconductor body divided into four sub-areas corresponding to the sectional view and the equivalent circuits of 6A to 6D and

7 eine Schnittdarstellung eines optoelektronischen Halbleiterelements gemäß eines weiteren Ausführungsbeispiels. 7 a sectional view of an optoelectronic semiconductor element according to another embodiment.

1 zeigt ein Ausführungsbeispiel eines Satzes mit optoelektronischen Halbleiterelementen 1, 2, 3. 1 shows an embodiment of a set of optoelectronic semiconductor elements 1 . 2 . 3 ,

Ein erstes optoelektronische Halbleiterelement 1 ist als LED-Chip ausgeführt. Der erste Chip 1 umfasst zwei in Reihe geschaltete Halbleitersegmente 5, die eine aktive Schicht zur Abstrahlung elektromagnetischer Strahlung aufweisen. Der erste Chip 1 ist ausgebildet, grünes Licht zu emittieren.A first optoelectronic semiconductor element 1 is designed as an LED chip. The first chip 1 includes two series-connected semiconductor segments 5 having an active layer for emitting electromagnetic radiation. The first chip 1 is designed to emit green light.

Des Weiteren sind zwei Kontakte 4 zur Kontaktierung des Chips 1 vorgesehen.Furthermore, there are two contacts 4 for contacting the chip 1 intended.

Ein zweites optoelektronisches Halbleiterelement 2 ist als LED-Chip ausgeführt. Der Chip 2 umfasst zwei in Reihe geschaltete Halbleitersegmente 6, die eine aktive Schicht zur Abstrahlung elektromagnetischer Strahlung aufweisen. Der zweite Chip 2 ist ausgebildet, blaues Licht zu emittieren. Zur Kontaktierung des Chips 2 sind Kontakte 4 vorgesehen.A second optoelectronic semiconductor element 2 is designed as an LED chip. The chip 2 includes two series-connected semiconductor segments 6 having an active layer for emitting electromagnetic radiation. The second chip 2 is designed to emit blue light. For contacting the chip 2 are contacts 4 intended.

Ein drittes optoelektronisches Halbleiterelement 3 ist als LED-Chip ausgeführt. Der Chip 3 umfasst drei in Reihe geschaltete Halbleitersegmente 7, die eine aktive Schicht zur Abstrahlung elektromagnetischer Strahlung aufweisen. Der dritte Chip 3 ist ausgebildet, rotes Licht zu emittieren. Zur Kontaktierung des Chips 3 sind Kontakte 4 vorgesehen.A third optoelectronic semiconductor element 3 is designed as an LED chip. The chip 3 includes three series-connected semiconductor segments 7 having an active layer for emitting electromagnetic radiation. The third chip 3 is designed to emit red light. For contacting the chip 3 are contacts 4 intended.

Die Kombination von grünem, blauem und rotem Licht ergibt weißes Licht, sodass der dargestellte Chipsatz 1, 2, 3 geeignet ist, weißes Licht zu emittieren.The combination of green, blue and red light results in white light, so the chipset shown 1 . 2 . 3 is suitable to emit white light.

Die optoelektronischen Halbleiterelemente 1, 2, 3 des Satzes unterscheiden sich hinsichtlich der Anzahl ihrer Halbleitersegmente 5, 6, 7. Die zum Betrieb der Halbleiterelemente 1, 2, 3 erforderliche Betriebsspannung ist gleich. Sie liegt innerhalb eines vorgegebenen Spannungsbereichs, sodass die Bauelemente mit der gleichen Spannung, beispielsweise in einer Parallelschaltung, betrieben werden können.The optoelectronic semiconductor elements 1 . 2 . 3 of the sentence differ in terms of the number of their semiconductor segments 5 . 6 . 7 , The for the operation of the semiconductor elements 1 . 2 . 3 required operating voltage is the same. It is within a predetermined voltage range, so that the components with the same voltage, for example in a parallel circuit, can be operated.

Die Betriebsspannung jedes Chips 1, 2, 3 wird im Wesentlichen durch die Segmentbetriebsspannungen bestimmt. Die Segmentbetriebsspannung eines Halbleitersegments fällt beim Betrieb des Chips über dem entsprechenden Halbleitersegment ab. Die Verwendung verschiedener Materialsysteme in den optoelektronischen Halbleiterelementen 1, 2, 3 bedingt, dass über deren Halbleitersegmente 5, 6, 7 verschiedene Segmentbetriebsspannungen abfallen.The operating voltage of each chip 1 . 2 . 3 is essentially determined by the segment operating voltages. The segment operating voltage of a semiconductor segment drops during operation of the chip above the corresponding semiconductor segment. The use of different material systems in the optoelectronic semiconductor elements 1 . 2 . 3 conditionally that over their semiconductor segments 5 . 6 . 7 different segment operating voltages fall off.

Im dargestellten Ausführungsbeispiel fällt, bei gleichen Halbleitersegmenten in einem Chip, die Hälfte der Betriebsspannung über den Halbleitersegmenten 5, 6 des ersten und des zweiten Chips 1, 2 ab. Ein Drittel der Betriebsspannung fällt über den Halbleitersegmenten 7 des dritten Chips 3 ab. Es sei bemerkt, dass beispielsweise Fertigungstoleranzen dazu führen können, dass diese Spannungsverteilungen geringfügig variieren.In the illustrated embodiment falls, with the same semiconductor segments in a chip, half of the operating voltage across the semiconductor segments 5 . 6 the first and the second chip 1 . 2 from. One third of the operating voltage drops over the semiconductor segments 7 of the third chip 3 from. It should be noted that, for example, manufacturing tolerances may cause these voltage distributions to vary slightly.

Wegen der Reihenschaltung der Halbleitersegmente 5, 6, 7 in den Chips 1, 2, 3 addieren sich die jeweiligen Segmentbetriebsspannungen zur Betriebsspannung des Chips. Somit hängt die Betriebsspannung von der Anzahl der Halbleitersegmente 5, 6, 7 ab.Because of the series connection of the semiconductor segments 5 . 6 . 7 in the chips 1 . 2 . 3 the respective segment operating voltages add up to the operating voltage of the chip. Thus, the operating voltage depends on the number of semiconductor segments 5 . 6 . 7 from.

Wenn beispielsweise über den grünen und blauen Halbleitersegmenten 5, 6 ungefähr 3 Volt abfallen, so beträgt die Betriebsspannung ungefähr 6 Volt.If, for example, over the green and blue semiconductor segments 5 . 6 fall about 3 volts, the operating voltage is about 6 volts.

Bei den roten Halbleitersegmenten 7 beträgt die Segmentbetriebsspannung beispielsweise ungefähr 2 Volt, sodass die Betriebsspannung des Chips 3, mit drei roten Halbleitersegmenten 7, ebenfalls ungefähr 6 Volt beträgt.For the red semiconductor segments 7 is the segment operating voltage, for example, about 2 volts, so that the operating voltage of the chip 3 , with three red semiconductor segments 7 , is also about 6 volts.

Bei diesem Ausführungsbeispiel ist die Betriebsspannung das kleinste gemeinsame Vielfache der Segmentbetriebsspannungen der Halbleitersegmente 5, 6, 7 in den Chips 1, 2, 3 des Satzes.In this embodiment, the operating voltage is the least common multiple of the segment operating voltages of the semiconductor segments 5 . 6 . 7 in the chips 1 . 2 . 3 of the sentence.

Die emittierenden Halbleitersegmente 5, 6, 7 der Chips 1, 2, 3 unterscheiden sich hinsichtlich ihrer Form und Fläche.The emitting semiconductor segments 5 . 6 . 7 the chips 1 . 2 . 3 differ in terms of their shape and area.

Derartig Dimensionsunterschiede sind geeignet, bei unterschiedlicher Stromeffizienz der Halbleitersegmente Helligkeitsunterschiede auszugleichen und einen gewünschten Farbton einzustellen, der durch eine Kombination der Chips erreicht werden soll.Such Dimensional differences are appropriate, with different current efficiency the semiconductor segments to compensate for brightness differences and a desired one Adjust hue achieved by a combination of chips shall be.

Bei gleichem Stromfluss durch die Segmente ist das abgestrahlte Licht pro Flächeneinheit der Halbleitersegmente 6 beim zweiten Chip 2 weniger als beim ersten Chip 1. Durch die größere Fläche der Halbleitersegmente im zweiten Chip 2 wird diese geringere Stromeffizienz ausgeglichen, sodass der erste und der zweite Chip 1, 2 mit gleicher Helligkeit abstrahlen.With the same current flow through the segments, the emitted light per unit area of the semiconductor segments 6 at the second chip 2 less than the first chip 1 , Due to the larger area of the semiconductor segments in the second chip 2 this lower power efficiency is compensated so that the first and the second chip 1 . 2 radiate with the same brightness.

2 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Satzes mit optoelektronischen Halbleiterelementen 1', 2', 3'. 2 shows a further embodiment of a set of optoelectronic semiconductor elements 1' . 2 ' . 3 ' ,

Ein erstes optoelektronische Halbleiterelement 1' ist als LED-Chip ausgeführt. Der erste Chip 1' umfasst vier in Reihe geschaltete Halbleitersegmente 5, die eine Schicht zur Abstrahlung elektromagnetischer Strahlung aufweisen. Der erste Chip 1' ist ausgebildet, grünes Licht zu emittieren.A first optoelectronic semiconductor element 1' is designed as an LED chip. The first chip 1' includes four series-connected semiconductor segments 5 having a layer for emitting electromagnetic radiation. The first chip 1' is designed to emit green light.

Des Weiteren sind zwei Kontakte 4 zur Kontaktierung des ersten Chips 1 vorgesehen.Furthermore, there are two contacts 4 for contacting the first chip 1 intended.

Ein zweites optoelektronische Halbleiterelement 2' ist als LED-Chip ausgeführt. Der zweite Chip 2' umfasst vier in Reihe geschaltete Halbleitersegmente 6, 6', die eine Schicht zur Abstrahlung elektromagnetischer Strahlung aufweisen. Die Halbleitersegmente 6, 6' im zweiten Chip 2' sind unterschiedlich dimensioniert. Der zweite Chip 2' ist ausgebildet, blaues Licht zu emittieren. Zur Kontaktierung des zweiten Chips 2' sind Kontakte 4 vorgesehen.A second optoelectronic semiconductor element 2 ' is designed as an LED chip. The second chip 2 ' includes four series-connected semiconductor segments 6 . 6 ' having a layer for emitting electromagnetic radiation. The semiconductor segments 6 . 6 ' in the second chip 2 ' are dimensioned differently. The second chip 2 ' is designed to emit blue light. For contacting the second chip 2 ' are contacts 4 intended.

Ein drittes optoelektronische Halbleiterelement 3' ist als LED-Chip ausgeführt. Der dritte Chip 3' umfasst sechs in Reihe geschaltete Halbleitersegmente 7, die eine Schicht zur Abstrahlung elektromagnetischer Strahlung aufweisen. Der dritte Chip 3' ist ausgebildet, rotes Licht zu emittieren. Zur Kontaktierung des dritten Chips 3' sind Kontakte 4 vorgesehen.A third optoelectronic semiconductor element 3 ' is designed as an LED chip. The third chip 3 ' includes six series-connected semiconductor segments 7 having a layer for emitting electromagnetic radiation. The third chip 3 ' is designed to emit red light. For contacting the third chip 3 ' are contacts 4 intended.

Der dargestellte Chipsatz 1', 2', 3' ist geeignet, als Mischung von blauem, grünem und rotem Licht weißes Licht zu emittieren.The illustrated chipset 1' . 2 ' . 3 ' is suitable to emit white light as a mixture of blue, green and red light.

Die zum Betrieb der Halbleiterelemente 1', 2', 3' erforderliche Betriebsspannung ist gleich.The for the operation of the semiconductor elements 1' . 2 ' . 3 ' required operating voltage is the same.

Ausgehend von den in 1 beispielhaft gewählten Segmentbetriebsspannungen, ungefähr 3 Volt für die Halbleitersegmente 5, 6, 6' des ersten und zweiten Chips 1', 2' sowie ungefähr 2 Volt für die Halbleitersegmente 7 des dritten Chips 3', ist die Betriebsspannung der Chips 1', 2', 3' ungefähr 12 Volt. Dies ist ein Vielfaches der Segmentbetriebsspannungen, jedoch nicht das kleinste gemeinsame Vielfache.Starting from the in 1 example selected segment operating voltages, about 3 volts for the semiconductor segments 5 . 6 . 6 ' of the first and second chips 1' . 2 ' and about 2 volts for the semiconductor segments 7 of the third chip 3 ' , is the operating voltage of the chips 1' . 2 ' . 3 ' about 12 volts. This is a multiple of the segment operating voltages, but not the least common multiple.

3 zeigt ein Ausführungsbeispiel einer Schaltungsanordnung mit optoelektronischen Halbleiterelementen. 3 shows an embodiment of a circuit arrangement with optoelectronic semiconductor elements.

Die Schaltungsanordnung, die als Modul ausgebildet sein kann, umfasst einen Satz mit zwei optoelektronischen Halbleiterelementen 3, 8, bei denen es sich um LED-Chips handelt. Ein erster Chip 8 umfasst zwei in Reihe geschaltete Halbleitersegmente 9, welche durch geeignete Wellenlängenkonversion grün-weißes Licht emittieren. Des Weiteren sind Kontakte 4 zur Kontaktierung des ersten Chips 8 vorgesehen. Die Kontakte sind auf der Strahlung emittierenden Seite des Chips 8 angeordnet. In alternativen Ausführungsbeispielen des Chips sind beide Kontakte oder nur einer von beiden auf der von der Strahlung emittierenden Seite abgewandten Seite des Chips angeordnet.The circuit arrangement, which can be designed as a module, comprises a set with two optoelectronic semiconductor elements 3 . 8th , which are LED chips. A first chip 8th includes two series-connected semiconductor segments 9 which emit green-white light by suitable wavelength conversion. Furthermore, contacts 4 for contacting the first chip 8th intended. The contacts are on the radiation emitting side of the chip 8th arranged. In alternative embodiments of the chip, both contacts or only one of the two are arranged on the side of the chip which faces away from the radiation-emitting side.

Ausführungsbeispiele grün-weißes Licht emittierender Halbleitersegmente haben eine aktive Schicht, die blaues Licht emittiert und eine darüber angeordnete Wellenlängenkonversationsschicht. Die Wellenlängenkonversationsschicht bewirkt, dass das Spektrum des Lichts verändert wird und das Segment grün-weißes Licht abstrahlt.embodiments green-white light emitting Semiconductor segments have an active layer that emits blue light and one above it Wavelength conversation layer. The wavelength conversion layer causes the spectrum of light to change and the segment green-white light radiates.

Des Weiteren ist ein zweiter Chip 3 vorgesehen, der drei Halbleitersegmente 4 zur Emission von tiefrotem Licht umfasst, welche in Reihe geschaltet sind. Ferner sind Kontakte 4 zur Kontaktierung des zweiten Chips 3 vorgesehen. Die Kontakte sind auf Strahlung emittierenden Seite des Chips 3 angeordnet.Furthermore, there is a second chip 3 provided, the three semiconductor segments 4 for emitting deep red light, which are connected in series. Further, contacts 4 for contacting the second chip 3 intended. The contacts are on the radiation emitting side of the chip 3 arranged.

Die Betriebsspannung beider Chips 8, 3 ist gleich.The operating voltage of both chips 8th . 3 is equal to.

Der erste und der zweite Chip 8, 3 sind in einem Gehäuse 10 angeordnet, welches Schaltungskontakte 11 umfasst, über die die Schaltungsanordnung mit den Chips 8, 3 gespeist werden kann.The first and the second chip 8th . 3 are in a housing 10 arranged which circuit contacts 11 includes, via which the circuit arrangement with the chips 8th . 3 can be fed.

Die Schaltungskontakte 11 sowie der erste und der zweite Chip 3, 8 sind mittels Bondverbindungen 12 parallel geschaltet.The circuit contacts 11 as well as the first and the second chip 3 . 8th are by means of bond connections 12 connected in parallel.

Zum Betrieb der Schaltungsanordnung wird die Betriebsspannung an die Schaltungskontakte 11 angelegt. Durch die Parallelschaltung der Chips 8, 3 liegt die Betriebsspannung auch an den Chips 8, 3 an.For operation of the circuit arrangement, the operating voltage to the circuit contacts 11 created. By the parallel connection of the chips 8th . 3 the operating voltage is also at the chips 8th . 3 at.

4 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel einer Schaltungsanordnung, die als Modul ausgebildet sein kann, mit einem Satz optoelektronischer Halbleiterelemente 1, 2, 3, die als LED-Chips ausgeführt sind. 4 shows a further embodiment of a circuit arrangement, which may be formed as a module, with a set of optoelectronic semiconductor elements 1 . 2 . 3 , which are designed as LED chips.

Auf einem Board 14 sind die Chips 1, 2, 3 nebeneinander angeordnet.On a board 14 are the chips 1 . 2 . 3 arranged side by side.

Der erste Chip 1 umfasst zwei Halbleitersegmente 5, welche blaues Licht emittieren. Der zweite Chip 2 umfasst zwei Halbleitersegmente 6, welches grünes Licht emittieren, und der dritte Chip 3 umfasst drei Halbleitersegmente 7, welche rotes Licht emittieren. Die Mischung dieser drei Farben ist weißes Licht.The first chip 1 includes two semiconductor segments 5 which emit blue light. The second chip 2 includes two semiconductor segments 6 , which emit green light, and the third chip 3 includes three semiconductor segments 7 which emit red light. The mixture of these three colors is white light.

Auch rotes, grünes, gelbes und blaues Licht emittierende Chips sind in Kombination geeignet, weißes Licht zu emittieren.Also red, green, Yellow and blue light emitting chips are suitable in combination, white light to emit.

Natürlich ist das Prinzip nicht auf solche Kombinationen von Chips beschränkt, die weißes Licht emittieren. Durch geeignete Kombination verschiedene Farben emittierender Chips kann auch farbiges Licht emittiert werden.of course is the principle is not limited to such combinations of chips that White light emit. By suitable combination different colors emitting Chips can also be emitted colored light.

Im in 4 dargestellten Ausführungsbeispiel sind die Chips 1, 2, 3 durch Leiterbahnen 13 parallel geschaltet.Im in 4 illustrated embodiment, the chips 1 . 2 . 3 through tracks 13 connected in parallel.

Ferner sind Kontaktbereiche 120 zur Kontaktierung der Schaltungsanordnung vorgesehen. In einem Ausführungsbeispiel kontaktieren die Leiterbahnen die Chips auf der von der Strahlung emittierenden Seite abgewandten Seite. Bei einem alternativen Ausführungsbeispiel kontaktieren die Leiterbahnen die Chips auf Strahlung emittierenden Seite.Further, contact areas 120 provided for contacting the circuit arrangement. In one embodiment, the traces contact the chips on the side away from the radiation-emitting side. In an alternative embodiment, the traces contact the radiation-emitting-side chips.

Zur Kontaktierung der Chips sind neben Bonddrähten oder Leiterbahnen auch andere Kontaktierungsmöglichkeiten denkbar, beispielsweise Folienverbindung (CPHF).to Contacting the chips are in addition to bonding wires or traces as well other contacting options conceivable, for example, film connection (CPHF).

Die Kombination verschiedenfarbiger spannungsangepasster Chips auf engem Raum bietet die Möglichkeit, eine homogene Farbmischung bereits im geringen Abstand zur Lichtquelle zu erreichen.The Combination of different colored voltage-matched chips on narrow Space offers the opportunity a homogeneous color mixture even at a small distance to the light source to reach.

5 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel einer Schaltungsanordnung mit optoelektronischen Halbleiterelementen. 5 shows a further embodiment of a circuit arrangement with optoelectronic semiconductor elements.

In diesem Ausführungsbeispiel umfasst der Chipsatz zwei verschiedene Chips, 8, 3'. Einer der beiden Chiptypen ist in der Schaltungsanordnung zweimal vorgesehen.In this embodiment, the chipset comprises two different chips, 8th . 3 ' , One of the two chip types is provided twice in the circuit arrangement.

In diesem Ausführungsbeispiel sind zwei erste Chips 8 und ein zweiter Chip 3' auf einem Board 14, oder Träger, vorgesehen.In this embodiment, two first chips 8th and a second chip 3 ' on a board 14 , or carrier provided.

Die ersten Chips 8 umfassen jeweils zwei in Reihe geschaltete Halbleitersegmente 9, die grün-weißes Licht emittieren. Der zweite Chip 3' umfasst sechs tiefrotes Licht emittierende Halbleitersegmente 7.The first chips 8th each comprise two series-connected semiconductor segments 9 that emit green-white light. The second chip 3 ' includes six deep red light-emitting semiconductor segments 7 ,

Die ersten Chips 8 sind in Reihe geschaltet, und diese Reihenschaltung ist parallel zum zweiten Chip 3' geschaltet. Die Verbindung der Chips 6, 3' erfolgt durch Leiterbahnen 13.The first chips 8th are connected in series, and this series connection is parallel to the second chip 3 ' connected. The connection of the chips 6 . 3 ' is done by tracks 13 ,

Zur Kontaktierung des Boards 14 sind zwei Kontaktbereiche 120 vorgesehen. Eine Treiberkomponente 15 stellt an den Kontaktbereichen 120 eine Versorgungsspannung bereit. Als Treiberkomponenten kommen beispielsweise Spannungsquellen, Konstantstromquellen oder pulsweitenmodulierte Stromquellen in Betracht.For contacting the board 14 are two contact areas 120 intended. A driver component 15 puts at the contact areas 120 a supply voltage ready. Possible driver components are, for example, voltage sources, constant current sources or pulse-width-modulated current sources.

Es sei bemerkt, dass auch die in den 3 und 4 gezeigten Ausführungsbeispiele von einer gemeinsamen Treiberkomponente gespeist werden können, die die Betriebsspannung an den Schaltungskontakten 11 beziehungsweise Kontaktbereichen 120 bereitstellt.It should be noted that also in the 3 and 4 shown embodiments of a common driver component can be fed, the operating voltage to the circuit contacts 11 or contact areas 120 provides.

Die Versorgungsspannung für die in 5 gezeigte Schaltungsanordnung beträgt beispielsweise 12 Volt. Dieses ist auch die Betriebsspannung für den zweiten Chip 3', dessen sechs Halbleitersegmente 7 jeweils eine Segmentbetriebsspannung von 2 Volt haben.The supply voltage for the in 5 shown circuitry is for example 12 volts. This is also the operating voltage for the second chip 3 ' , whose six semiconductor segments 7 each have a segment operating voltage of 2 volts.

Die ersten Chips 8 haben jeweils eine Betriebsspannung von 6 Volt. An den Halbleitersegmenten 9 fällt eine Segmentbetriebsspannung von jeweils 3 Volt ab. Durch die Reihenschaltung liegt an beiden Chips 8 ihre Betriebsspannung an.The first chips 8th each have an operating voltage of 6 volts. At the semiconductor segments 9 falls a segment operating voltage of 3 volts from. Through the series connection is on both chips 8th their operating voltage.

Bei der Verwendung mehrerer Chips einer Farbe in einem Ausführungsbeispiel der Schaltungsanordnung können die Chips derart anordnet werden, dass Farbhomogenität verbessert wird, beispielsweise indem grün-weiß emittierenden Chips zu beiden Seiten eines rot emittierenden Chips angeordnet werden. Auch die erforderliche Spannung für den Betrieb der Schaltung kann geringer sein, als wenn lediglich parallel geschaltete Chips verwendet werden.When using multiple chips one Color in one embodiment of the circuit arrangement, the chips can be arranged so that color homogeneity is improved, for example, by green-white emitting chips are arranged on both sides of a red-emitting chip. Also, the required voltage for the operation of the circuit may be less than if only parallel-connected chips are used.

Es sei bemerkt, dass die gezeigten Schaltungsanordnungen nur beispielhaft sind. Die Merkmale der Ausführungsbeispiele sind kombinierbar.It It should be noted that the circuit arrangements shown only by way of example are. The features of the embodiments can be combined.

Im Folgenden werden Ausführungsbeispiele optoelektronischer Halbleiterelemente beschrieben.in the Below, embodiments become opto-electronic Semiconductor elements described.

Eine Ausführungsform eines optoelektronischen Halbleiterelements umfasst eine im Wesentlichen flächig angeordnete Halbleiterschichtfolge mit einer ersten und einer zweiten Hauptseite sowie eine zur Erzeugung elektromagnetischer Strahlung geeignete aktive Schicht.A embodiment an optoelectronic semiconductor element comprises a substantially flat arranged semiconductor layer sequence with a first and a second Main page and one for generating electromagnetic radiation suitable active layer.

Die aktive Schicht kann hierbei einen pn-Übergang, eine Doppelheterostruktur, einen Einfachquantentopf (SQW, single quantum well) oder eine Mehrfachquantentopfstruktur (MQW, multi quantum well) zur Strahlungserzeugung aufweisen. Die Bezeichnung Quantentopfstruktur entfaltet keinerlei Bedeutung hinsichtlich der Dimensionalität der Quantisierung. Sie umfasst im Allgemeinen unter anderem Quantentröge, Quantendrähte und Quantenpunkte sowie jede Kombination dieser Strukturen.The active layer can in this case a pn junction, a double heterostructure, a single quantum well (SQW) or a multiple quantum well structure (MQW, multi quantum well) for generating radiation. The Designation Quantum well structure unfolds no significance regarding the dimensionality the quantization. It generally includes, among others, quantum wells, quantum wires and Quantum dots as well as any combination of these structures.

In einer Ausgestaltung ist die erste Hauptseite zur Emission elektromagnetischer Strahlung vorgesehen. Des Weiteren ist zumindest die aktive Schicht der Halbleiterschichtenfolge durch einen die aktive Schicht durchdringenden Graben in wenigstens zwei elektrisch voneinander isolierte aktive Teilschichten unterteilt. Mit anderen Worten durchtrennt der Graben die aktive Schicht der Halbleiterschichtenfolge, wodurch elektrisch voneinander isolierte aktive Teilschichten in der Halbleiterschichtenfolge ausgebildet sind.In In one embodiment, the first main side for emission is electromagnetic Radiation provided. Furthermore, at least the active layer the semiconductor layer sequence by a penetrating the active layer Digging into at least two electrically isolated active ones Sublayers divided. In other words, the trench cuts through the active layer of the semiconductor layer sequence, thereby electrically mutually isolated active partial layers in the semiconductor layer sequence are formed.

Das optoelektronische Halbleiterelement umfasst weiterhin jeweils eine auf der zweiten Hauptseite angeordnete erste und zweite Anschlussschicht zur Kontaktierung der aktiven Teilschichten. Dabei bedeutet der Begriff einer auf der zweiten Hauptseite angeordneten Anschlussschicht, dass zumindest ein Teil der ersten beziehungsweise zweiten Anschlussschicht der Halbleiterschichtfolge in Richtung von der Vorderseite zur Rückseite hin nachfolgt. Es ist dabei jedoch nicht notwendig, dass die erste beziehungsweise zweite Anschlussschicht direkt auf der zweiten Hauptseite der Halbleiterschichtenfolge aufgebracht ist. Auch muss die erste und zweite Anschlussschicht die zweite Hauptseite der Halbleiterschichtenfolge nicht vollständig überdecken. Vielmehr sind die erste und zweite Anschlussschicht zur Kontaktierung der aktiven Teilschichten zumindest teilweise auf der zweiten Hauptseite angeordnet. Sie sind somit der zweiten Hauptseite näher als der ersten Hauptseite der Halbleiterschichtenfolge.The Optoelectronic semiconductor element further comprises one each on the second main page arranged first and second connection layer to Contacting of the active partial layers. The term means a connection layer arranged on the second main side, that at least a part of the first and second connection layer the semiconductor layer sequence in the direction from the front to the back succeeds. However, it is not necessary that the first or second connection layer directly on the second main page the semiconductor layer sequence is applied. Also, the first one must and second terminal layer not the second main side of the semiconductor layer sequence completely cover up. Rather, the first and second connection layer for contacting the active partial layers at least partially on the second main page arranged. They are thus closer to the second main page than the first main side of the semiconductor layer sequence.

Erfindungsgemäß sind die ersten und zweiten Anschlussschichten, welche jeweils die wenigstens zwei elektrisch isolierten aktiven Teilschichten kontaktieren, derart miteinander elektrisch leitend verbunden, dass die aktiven Teilschichten eine Serienschaltung bilden.According to the invention first and second terminal layers, each of which at least Contact two electrically isolated active sub-layers, such electrically connected to each other, that the active sub-layers form a series connection.

Mit anderen Worten sind die beiden Anschlussschichten der aktiven Teilschichten so miteinander verbunden, dass die aktiven Teilschichten eine Serienschaltung bilden.With In other words, the two attachment layers are the active sublayers interconnected so that the active sublayers are connected in series form.

Das optoelektronische Halbleiterelement ist somit in Teilbereiche aufgeteilt, die elektrisch miteinander unter Bildung einer Serienschaltung durch die verschiedenen Anschlussschichten verbunden sind. Das optoelektronische Halbleiterelement kann somit spannungsgetrieben bei gleichzeitig niedrigen Strömen gespeist werden. Dadurch lassen sich beispielsweise teure Treiberstufen sowie Hochstromquellen durch entsprechende Hochspannungsquellen ersetzen, welche leichter zu fertigen sind. Durch die Unterteilung in Teilbereiche kann das optoelektronische Halbleiterelement somit mit verschiedenen abhängig von der Unterteilung wählbaren Spannungen betrieben werden.The Optoelectronic semiconductor element is thus divided into subareas, electrically interconnecting to form a series circuit the different terminal layers are connected. The optoelectronic Semiconductor element can thus voltage driven at the same time low currents be fed. This allows, for example, expensive driver stages as well as high current sources through corresponding high voltage sources replace which are easier to manufacture. By subdivision in partial areas, the optoelectronic semiconductor element can thus with different depending on the subdivision selectable Voltages are operated.

In einer Ausgestaltung ist das Halbleiterelement ein Dünnfilm-Leuchtdiodenchip.In In one embodiment, the semiconductor element is a thin-film light-emitting diode chip.

Die 6A bis 6F zeigen eine schematische Darstellung eines Ausführungsbeispiels eines optoelektronischen Halbleiterelements.The 6A to 6F show a schematic representation of an embodiment of an optoelectronic semiconductor element.

In den Ausführungsbeispielen sind die Größenverhältnisse der dargestellten Elemente grundsätzlich nicht als maßstabsgerecht zu betrachten. Vielmehr können einzelne Elemente etwa Schichten zum besseren Verständnis und/oder zur besseren Darstellbarkeit übertrieben groß beziehungsweise dick dargestellt sein.In the embodiments are the proportions the elements shown in principle not to scale consider. Rather, you can individual elements such as layers for better understanding and / or exaggerated for better presentation big or fat be shown.

6A ist eine Schnittdarstellung durch ein optoelektronisches Halbleiterelement entlang der in 6E gezeigten Richtung. 6A is a sectional view through an optoelectronic semiconductor element along the in 6E shown direction.

Zwischen unterschiedlich dotierten Schichten 21 und 23 einer Halbleiterschichtenfolge 20 bildet sich ein pn-Übergang 22 aus, in der die im Betrieb injizierten Ladungsträger rekombinieren und elektromagnetische Strahlung emittieren.Between differently doped layers 21 and 23 a semiconductor layer sequence 20 a pn junction forms 22 in which the charge carriers injected during operation recombine and emit electromagnetic radiation.

Die Halbleiterschichtenfolge 20 basiert auf einem Halbleitermaterialsystem, welches je nach Anwendung unterschiedlich dotiert sein kann. Beispielsweise können so genannte III/V-Verbindungs-Halbleiter oder auch II/VI- Verbindungs-Halbleiter verwendet werden. Die Halbleiterschichtenfolge 21, 22, 23 hat vorliegend eine Dicke zwischen einem Mikrometer und sieben Mikrometer.The semiconductor layer sequence 20 Based on a semiconductor material system, which can be doped differently depending on the application. For example, so-called III / V compound semiconductors or also II / VI compound semiconductors can be used. The semiconductor layer sequence 21 . 22 . 23 in this case has a thickness between one micron and seven microns.

Ein III/V-Verbindungs-Halbleitermaterial weist wenigstens ein Element aus der dritten Hauptgruppe, wie beispielsweise Al, Ga, In, und ein Element aus der V-Hauptgruppe, wie beispielsweise B, N, P, As, auf. Insbesondere umfasst der Begriff ”III/V-Verbindungs-Halbleitermaterial” die Gruppe der binären, ternären oder quaternären Verbindungen, die wenigstens ein Element aus der dritten Hauptgruppe und wenigstens ein Element aus der fünften Hauptgruppe enthalten, insbesondere Nitrid- und Phosphid-Verbindungs-Halbleiter. Eine solche binäre, ternäre oder quaternäre Verbindung kann zudem beispielsweise ein oder mehrere Dotierstoffe sowie zusätzliche Bestandteile aufweisen. Zu den III/V-Verbindungs-Halbleitermaterialen gehören beispielsweise Nitrid-III-Verbindungs-Halbleitermaterial und Phosphid-III-Verbindungs-Halbleitermaterial, etwa GaN, GaAs, und InGaAlP. Ebenso wird das Materialsystem AlGaN/GaN zu den oben genannten Verbindungshalbleitern gezählt.One III / V compound semiconductor material has at least one element from the third main group, such as Al, Ga, In, and an element of the V main group, such as B, N, P, As, on. In particular, the term "III / V compound semiconductor material" includes the group the binary, ternary or quaternary Compounds containing at least one element from the third main group and contain at least one element from the fifth main group, in particular nitride and phosphide compound semiconductors. Such binary, ternary or quaternary In addition, compound can, for example, one or more dopants as well as additional Have constituents. The III / V compound semiconductor materials include, for example Nitride III-compound semiconductor material and phosphide III compound semiconductor material, about GaN, GaAs, and InGaAlP. Likewise, the material system AlGaN / GaN counted to the above compound semiconductors.

Entsprechend weist ein II/VI-Verbindungs-Halbleitermaterial wenigstens ein Element aus der zweiten Hauptgruppe, wie beispielsweise Be, Mg, Ca, Sr, und ein Element aus der sechsten Hauptgruppe, wie beispielsweise O, S, Se, auf. Insbesondere umfasst ein II/VI-Verbindungs-Halbleitermaterial eine binäre, ternäre oder quaternäre Verbindung, die wenigstens ein Element aus der zweiten Hauptgruppe und wenigstens ein Element aus der sechsten Hauptgruppe umfasst. Eine solche binäre, ternäre oder quaternäre Verbindung kann zudem beispielsweise ein oder mehrere Dotierstoffe sowie zusätzliche Bestandteile aufweisen. Zu den II/VI-Verbindungs- Halbleitermaterialen gehören zum Beispiel ZnO, ZnMgO, CdS, CnCdS, MgBeO.Corresponding For example, an II / VI compound semiconductor material comprises at least one element the second main group such as Be, Mg, Ca, Sr, and a member of the sixth main group, such as O, S, Se, up. In particular, an II / VI compound semiconductor material comprises a binary, ternary or quaternary Compound comprising at least one element from the second main group and at least one element of the sixth main group. Such a binary, ternary or quaternary In addition, compound can, for example, one or more dopants as well as additional Have constituents. The II / VI compound semiconductor materials include Example ZnO, ZnMgO, CdS, CnCdS, MgBeO.

Abhängig von der gewünschten Wellenlänge oder dem gewünschten Wellenlängenspektrum können eine oder auch mehrere der oben genannten Verbindungen als Materialsystem für ein optoelektronisches Bauelement bereitgestellt werden.Depending on the desired Wavelength or the desired one Wavelength spectrum can one or more of the above compounds as a material system for a Optoelectronic device can be provided.

Eine Kontaktierung des Halbleiterkörpers erfolgt jeweils im Randbereich durch die Kontaktelemente 410 beziehungsweise 411. Das Kontaktelement 410 ist mit Durchbrüchen 446 elektrisch leitend verbunden, welche die Schicht 21 der Halbleiterschichtenfolge 20 kontaktieren.A contacting of the semiconductor body takes place in each case in the edge region by the contact elements 410 respectively 411 , The contact element 410 is with breakthroughs 446 electrically connected, which the layer 21 the semiconductor layer sequence 20 to contact.

Auf die Schicht 23 ist zudem eine laterale Stromverteilungsschicht 450 angeordnet, die aus dem gleichen Material besteht wie die Kontaktschicht 411 des zweiten Teilbereichs des elektronischen Halbleiterkörpers. Diese leitende Schicht kann zudem reflektierend sein, sodass bei einem späteren Betrieb emittierte elektromagnetische Strahlung in Richtung auf die elektrisch leitende Schicht von dieser reflektiert und in die gewünschte Richtung abgestrahlt wird. Das leitende Material kann beispielsweise Silber oder ein anderes reflektierendes Metall umfassen. Die erste beziehungsweise die zweite elektrische Anschlussschicht 460, 410 kann mit einer leitenden Spiegelschicht ausgestaltet sein, sodass elektromagnetische Strahlung reflektiert wird. In einem anderen Ausführungsbeispiel ist zwischen der Halbleiterschichtenfolge und/oder der zweiten elektrischen Anschlussschicht wenigstens stellenweise eine Spiegelschicht angeordnet.On the shift 23 is also a lateral power distribution layer 450 arranged, which consists of the same material as the contact layer 411 the second portion of the electronic semiconductor body. This conductive layer may also be reflective, so that in a later operation emitted electromagnetic radiation toward the electrically conductive layer is reflected by this and emitted in the desired direction. The conductive material may comprise, for example, silver or another reflective metal. The first and the second electrical connection layer 460 . 410 may be configured with a conductive mirror layer so that electromagnetic radiation is reflected. In another exemplary embodiment, at least in places a mirror layer is arranged between the semiconductor layer sequence and / or the second electrical connection layer.

Die leitende Schicht 450 ist durch Gräben 442 in vier Teilbereiche unterteilt. Diese Gräben 442 erstrecken sich durch die Halbleiterschichtenfolge 20 inklusive der aktiven Schicht 22 hindurch und unterteilen die Halbleiterschichtenfolge 20 in vier Teilbereiche. Durch die Erzeugung mehrerer Durchbrüche in den verschiedenen Teilbereichen des optoelektronischen Halbleiterkörpers kann zudem eine homogene laterale Stromverteilung in der n-dotierten Schicht 21 erzielt werden.The conductive layer 450 is through trenches 442 divided into four subareas. These trenches 442 extend through the semiconductor layer sequence 20 including the active layer 22 through and subdivide the semiconductor layer sequence 20 in four subareas. In addition, the generation of a plurality of openings in the various subareas of the optoelectronic semiconductor body may result in a homogeneous lateral current distribution in the n-doped layer 21 be achieved.

Eine nichtleitende Schicht 447 ist an den Wänden der Durchbrüche 446 vorhanden. Optional können auch die Gräben 442 mit einem nichtleitenden Material ausgefüllt sein. Die isolierenden Seitenwände in den Durchbrüchen verhindern einen Kurzschluss mit den einzelnen Schichten der Halbleiterschichtenfolge 20.A non-conductive layer 447 is on the walls of the breakthroughs 446 available. Optionally, the trenches 442 filled with a non-conductive material. The insulating sidewalls in the openings prevent a short circuit with the individual layers of the semiconductor layer sequence 20 ,

Eine zweite Anschlussschicht 460 kontaktiert die Stromverteilungsschicht 450 des rechten Teilbereichs des optoelektronischen Halbleiterkörpers und bildet die Durchbruchskontaktierung für die Schicht 21 der Halbleiterschichtenfolge im linken Teilbereich des optoelektronischen Halbleiterelements. Die einzelnen Durchbrüche 446 gehen durch den pn-Übergang 22 der Halbleiterschichtenfolge 20 hindurch und kontaktieren somit die n-dotierte Schicht 21. Die p-dotierte Schicht 23 des rechten aktiven Teilbereichs ist durch die Anschlussschicht 460 mit einem n-dotierten Bereich des linken aktiven Teilbereichs elektrisch leitend verbunden. Dadurch bildet sich eine Serienschaltung aus den beiden aktiven Teilschichten aus.A second connection layer 460 contacts the power distribution layer 450 the right portion of the optoelectronic semiconductor body and forms the breakdown contact for the layer 21 the semiconductor layer sequence in the left portion of the optoelectronic semiconductor element. The individual breakthroughs 446 go through the pn junction 22 the semiconductor layer sequence 20 and thus contact the n-doped layer 21 , The p-doped layer 23 of the right active portion is through the connection layer 460 electrically connected to an n-doped region of the left active portion. As a result, a series circuit is formed from the two active partial layers.

Die zweite Anschlussschicht 410 ist mit der zweiten Schicht 23 der Halbleiterschichtenfolge 20 verbunden.The second connection layer 410 is with the second layer 23 the semiconductor layer sequence 20 connected.

Zwischen dem linken und dem rechten Teilbereich des optoelektronischen Halbleiterkörpers ist, wie in der Schnittfigur 6A sowie in der Draufsicht der 6E dargestellt, ein isolierender Graben 442 vorgesehen. Dadurch werden die Teilbereiche elektrisch voneinander getrennt. Im Ersatzschaltbild gemäß 6C sind somit jeweils zwei Dioden in Serie geschaltet. Die Diodenwirkung ergibt sich dabei aus dem dargestellten pn-Übergang der Halbleiterschichtenfolge 20.Between the left and the right subregion of the optoelectronic semiconductor body, as in the cut figure 6A as well as in the plan view of 6E shown, an insulating trench 442 intended. As a result, the subregions are electrically separated from each other. In the equivalent circuit diagram according to 6C Thus, two diodes are connected in series. The diode effect results from the illustrated pn junction of the semiconductor layer sequence 20 ,

Zur Verbesserung der Emission kann die obere Hauptseite der Schichtenfolge strukturiert sein. Ebenso ist es möglich, auf die obere Hauptseite ein Konversionsmaterial aufzubringen, um so die emittierte elektromagnetische Strahlung in eine zweite Strahlung unterschiedlicher Wellenlänge zu verwandeln. Bei einem entsprechend geeigneten Konversionsmaterial sowie bestimmten Materialsystemen für die aktive Schicht kann dadurch weißes Licht beispielsweise für Frontscheinwerfer oder Projektionssysteme erzeugt werden.to Improvement of the emission can be the upper main side of the layer sequence be structured. It is also possible on the upper main page apply a conversion material so as to emit the emitted electromagnetic To convert radiation into a second radiation of different wavelengths. For a suitable conversion material and certain Material systems for the active layer can thereby white Light for example for Front headlights or projection systems are generated.

6B zeigt eine alternative Ausgestaltung, bei der anstelle eines einfachen pn-Übergangs mehrere pn-Übergänge vorgesehen sind. Diese Übergänge wirken wie zwei hintereinander geschaltete Dioden, wie sich aus dem Ersatzschaltbild nach 6D ergibt. 6B shows an alternative embodiment in which a plurality of pn junctions are provided instead of a simple pn junction. These transitions act like two diodes connected in series, as can be seen from the equivalent circuit diagram 6D results.

Die Darstellung des Schnitts gemäß 6B erfolgt entlang der Achsen I, wie in 6F gezeigt. In diesem Ausführungsbeispiel ist das optoelektronische Halbleiterelement in vier Teilbereiche unterteilt, die jeweils von einem Graben 442 isolierend getrennt sind. Die verschiedenen Anschlussschichten 410, 411, 460 und 450 kontaktieren jeweils die Halbleiterschichtenfolgen der verschiedenen Teilbereiche und die darin befindlichen pn-Übergänge. Die Anschlussschichten 410, 411, 450 bis 470 sind dabei derart ausgestaltet, dass sie die vier Teilbereiche, wie in dem Ersatzschaltbild gemäß 6D erläutert, verschalten.The representation of the section according to 6B takes place along the axes I, as in 6F shown. In this embodiment, the optoelectronic semiconductor element is divided into four subregions, each of which is a trench 442 are isolated isolating. The different connection layers 410 . 411 . 460 and 450 contact in each case the semiconductor layer sequences of the various subregions and the pn junctions therein. The connection layers 410 . 411 . 450 to 470 are designed such that they the four sections, as in the equivalent circuit diagram 6D explained, interconnect.

Dadurch wird bei dem optoelektronischen Halbleiterelement nach dem vorgeschlagenen Prinzip eine Serienschaltung aus vier jeweils zwei hintereinander geschalteten Dioden realisiert. Im Betrieb der Anordnung wird demzufolge eine höhere Betriebsspannung notwendig.Thereby is in the optoelectronic semiconductor element according to the proposed Principle a series connection of four each two consecutive realized diodes realized. In the operation of the arrangement is consequently a higher one Operating voltage necessary.

Durch die Unterteilung in vier Teilbereiche wird der für den Betrieb notwendige Strom des optoelektronischen Halbleiterelements verringert, dafür jedoch aufgrund der Serienschaltung die für den Betrieb notwendige Spannung erhöht. In diesem Ausführungsbeispiel ist das optoelektronische Bauelement in vier Teilbereiche 41, 42, 43, 44 unterteilt, wodurch die Einsatzspannung um den Faktor vier erhöht und gleichzeitig der Stromverbrauch um den entsprechenden Faktor gesenkt wird. Durch eine meist höhere Leuchteffizienz bei niedrigen Strömen ergibt sich dadurch eine verbesserte Gesamteffizienz des Bauteils.By dividing into four subregions, the current required for the operation of the optoelectronic semiconductor element is reduced, but due to the series connection, the voltage required for the operation is increased. In this embodiment, the optoelectronic component is in four subregions 41 . 42 . 43 . 44 divided, which increases the threshold voltage by a factor of four and at the same time the power consumption is reduced by the corresponding factor. As a result of a generally higher luminous efficiency at low currents, this results in an improved overall efficiency of the component.

Durch die elegante Kombination aus mehreren Serienschaltungen in der Epitaxieschicht können teure Treiberstufen und Hochstromquellen eingespart werden, da die Leistungen nunmehr spannungsgetrieben bei niedrigen Strömen in den optoelektronischen Halbleiterelement gespeist wird. Zudem ergibt sich eine optimierte Flächennutzung durch Vermeidung von absorbierenden Kontakten, da alle Licht erzeugenden Bestandteile Strom sparend auf einem einzelnen Halbleiterkörper realisierbar sind. Zudem lässt sich eine Serienschaltung von Chips auch nur mit nur einem Topkontakt und einem leitenden Träger ausführen.By the elegant combination of several series circuits in the epitaxial layer can be expensive Driver stages and high current sources can be saved as the benefits now voltage-driven at low currents in the opto-electronic Semiconductor element is fed. In addition, there is an optimized Land use by Avoidance of absorbing contacts, since all light-generating Components can be realized saving energy on a single semiconductor body are. In addition, leaves a series connection of chips even with only one top contact and a senior wearer To run.

Ein derartiges Beispiel ist in 7 dargestellt. Im Gegensatz zu den vorhergehenden Ausführungsbeispielen ist der Durchbruch 403 in dem Ausführungsbeispiel gemäß 7 durch die aktive Zone als ein über die gesamte Dicke der Halbleiterschichtenfolge 20 verlaufender Durchbruch ausgeführt. Der Durchbruch 403 erstreckt sich also vorliegend von der ersten Hauptfläche an der Oberseite bis hinunter zur zweiten Hauptfläche 402 der Halbleiterschichtenfolge 20. Er bildet ein Loch in der Halbleiterschichtenfolge 20.Such an example is in 7 shown. In contrast to the previous embodiments, the breakthrough 403 in the embodiment according to 7 through the active zone as one over the entire thickness of the semiconductor layer sequence 20 running breakthrough executed. The breakthrough 403 In the present case, this extends from the first main surface on the upper side down to the second main surface 402 the semiconductor layer sequence 20 , It forms a hole in the semiconductor layer sequence 20 ,

Auf der strukturierten Oberseite 425 der Halbleiterschichtenfolge 20 ist eine weitere Stromaufweitungsschicht 409 aufgebracht. Diese ist zusätzlich zu der an der Rückseite der Halbleiterschichtenfolge vorgesehenen Stromaufweitungsschicht angeordnet. Beide Stromaufweitungsschichten dienen dazu, eine möglichst gute laterale Stromverteilung und Stromeinkopplung in die Halbleiterschichtenfolge zu gewährleisten. Dadurch wird die Effizienz des Bauelementes erhöht und andererseits eine lokale Erwärmung durch einen zu großen Stromfluss in die Halbleiterschichtenfolge vermieden. Hierzu weisen die Stromaufweitungsschichten einen möglichst geringen lateralen Flächenwiderstand auf.On the textured top 425 the semiconductor layer sequence 20 is another current spreading layer 409 applied. This is arranged in addition to the current spreading layer provided on the rear side of the semiconductor layer sequence. Both current spreading layers serve to ensure the best possible lateral current distribution and current injection into the semiconductor layer sequence. As a result, the efficiency of the component is increased and, on the other hand, local heating due to excessive current flow into the semiconductor layer sequence is avoided. For this purpose, the current spreading layers have the lowest possible lateral sheet resistance.

Daneben kann die Stromaufweitungsschicht 409 zusätzlich als transparentes Material, beispielsweise in Form eines transparenten leitfähigen Oxids wie ITO, ausgeführt sein. Die Stromaufweitungsschicht 409 auf der der Emissionsrichtung abgewandten Seite kann bevorzugt reflektierend, jedoch auch transparent ausgeführt sein. Im letzteren Fall weist wie dargestellt der optoelektronische Halbleiterkörper eine zusätzliche Spiegelschicht 412 auf. Diese ist bevorzugt nichtleitend ausgeführt, sofern nicht eine zusätzliche isolierende Passivierungsschicht zwischen der Spiegelschicht 412 und dem Material der Anschlussschicht 406 vorgesehen ist. In einer Ausführungsform kann die Spiegelschicht 412 das gleiche Material wie die Trennschichten 405 umfassen. Dadurch werden die Reflexionseigenschaften auch bei einer Abstrahlung parallel zur aktiven Schicht der Halbleiterschichtenfolge durch Reflexionen an den Seitenwänden verbessert.In addition, the current spreading layer 409 additionally be designed as a transparent material, for example in the form of a transparent conductive oxide such as ITO. The current spreading layer 409 On the side facing away from the emission direction may preferably be designed reflective, but also transparent. In the latter case, as shown, the optoelectronic semiconductor body has an additional mirror layer 412 on. This is preferably non-conductive, unless an additional insulating passivation layer between the mirror layer 412 and the material of the terminal layer 406 is provided. In one embodiment, the mirror layer 412 the same material as the release layers 405 include. This becomes the reflective property even with a radiation parallel to the active layer of the semiconductor layer sequence by reflections on the side walls improved.

Zur Kontaktierung ist die Stromaufweitungsschicht über Zuführungsdurchbrüche 410a mit der elektrischen Anschlussschicht 404 verbunden. Diese ist über eine elektrische Zwischenschicht 408 mit einem Kontaktelement 407 auf der Rückseite gekoppelt. Das Kontaktelement 407 bildet gleichzeitig auch das Ersatzträgersubstrat für den optoelektronischen Halbleiterkörper.For contacting, the current spreading layer is via feed openings 410a with the electrical connection layer 404 connected. This is about an electrical intermediate layer 408 with a contact element 407 coupled on the back. The contact element 407 at the same time forms the replacement carrier substrate for the optoelectronic semiconductor body.

In dem Ausführungsbeispiel nach 7 ist lediglich ein erster Teilbereich des Halbleiterkörpers gezeigt. Ein weiterer Teilbereich des Halbleiterkörpers schließt sich linksseitig an den hier dargestellten ersten Teilbereich an. Dieser ist so ausgeführt, dass die zweite Anschlussschicht 404 mit einem nicht gezeigten Durchbruch in der Halbleiterschichtenfolge elektrisch leitend verbunden ist. Dieses kontaktiert die erste Schicht 421 der Halbleiterschichtenfolge des zweiten Teilbereichs und bildet so eine Serienschaltung. Gleichzeitig bildet das linksseitig angeordnete isolierende Material 405 und 413 den die Halbleiterschichtenfolge in Teilbereiche auftrennenden Graben.In the embodiment according to 7 only a first portion of the semiconductor body is shown. A further subregion of the semiconductor body adjoins the first subregion shown here on the left side. This is designed so that the second connection layer 404 is electrically connected to a breakthrough, not shown, in the semiconductor layer sequence. This contacts the first layer 421 the semiconductor layer sequence of the second portion and thus forms a series circuit. At the same time forms the left side arranged insulating material 405 and 413 the trench separating the semiconductor layer sequence into subareas.

In den bisherigen Ausführungsbeispielen wurde eine Serienschaltung vor allem durch eine entsprechende Anordnung der Anschlussschichten innerhalb des Halbleiterkörpers realisiert. Darüber hinaus ist es jedoch auch denkbar, einen Teil der Serienschaltung beziehungsweise Verschaltungsvarianten extern auszubilden, um so sowohl Serien- als auch Parallelschaltung und Kombinationen davon zu realisieren. Dadurch kann durch eine entsprechende Ansteuerelektronik charakteristische Eigenschaften des Halbleiterkörpers je nach Anwendung verändert werden. Beispielsweise ist es denkbar, im Fall von Lichtscheinwerfern durch ein entsprechendes hinzu- beziehungsweise wegschalten einzelner Teilbereiche des Halbleiterkörpers die Lichtstärke zu variieren.In the previous embodiments has been a series connection especially by a corresponding arrangement realized the connection layers within the semiconductor body. Furthermore However, it is also conceivable, a part of the series circuit or Externally develop interconnection variants so that both serial as well as parallel connection and to realize combinations thereof. This can be characteristic by a corresponding control electronics Properties of the semiconductor body changed depending on the application become. For example, it is conceivable in the case of light projectors by a corresponding addition or disconnect individual Subareas of the semiconductor body the light intensity to vary.

Ferner kann das Fernfeld der emittierten Gesamtstrahlung durch die Anwesenheit von diftraktiven und streuenden Strahlungsdurchtrittsflächen homogenisiert oder anderweitig beeinflusst werden. Diese können auf der Außenseite des Moduls oder Boards befestigt sein.Further can the far field of the emitted total radiation by the presence homogenized by diffractive and scattering radiation passage surfaces or otherwise affected. These can be on the outside attached to the module or board.

Auch die Winkelverteilung der Gesamtstrahlung kann durch die Form des Modulkörpers oder zusätzliche Reflektoren variiert werden.Also The angular distribution of the total radiation can be determined by the shape of the module body or additional Reflectors are varied.

Claims (15)

Modul mit optoelektronischen Halbleiterelementen (1, 2, 3; 8, 3'), wobei jedes optoelektronische Halbleiterelement des Moduls (1, 2, 3; 8, 3') in Reihe geschaltete zur Abstrahlung elektromagnetischer Strahlung geeignete Halbleitersegmente (5, 6, 7, 9) aufweist, von denen jedes Halbleitersegment (5, 6, 7, 9) durch eine Segmentbetriebsspannung charakterisiert ist, und die Segmentbetriebsspannungen der in Reihe geschalteten Halbleitersegmente (5, 6, 7, 9) im Wesentlichen eine Betriebsspannung des optoelektronischen Halbleiterelements (1, 2, 3; 8, 3') bestimmen, und wobei die Betriebsspannungen der optoelektronischen Halbleiterelemente (1, 2, 3; 8, 3') innerhalb eines Spannungsbereichs liegen oder innerhalb eines Spannungsbereichs einer Gruppe von vorgegebenen Spannungsbereichen liegen, wobei einer der Spannungsbereiche die Summe der mit natürlichen Zahlen gewichteten anderen Spannungsbereiche umfasst.Module with optoelectronic semiconductor elements ( 1 . 2 . 3 ; 8th . 3 ' ), wherein each optoelectronic semiconductor element of the module ( 1 . 2 . 3 ; 8th . 3 ' ) connected in series for the emission of electromagnetic radiation suitable semiconductor segments ( 5 . 6 . 7 . 9 ), of which each semiconductor segment ( 5 . 6 . 7 . 9 ) is characterized by a segment operating voltage, and the segment operating voltages of the series-connected semiconductor segments ( 5 . 6 . 7 . 9 ) substantially an operating voltage of the optoelectronic semiconductor element ( 1 . 2 . 3 ; 8th . 3 ' ), and wherein the operating voltages of the optoelectronic semiconductor elements ( 1 . 2 . 3 ; 8th . 3 ' ) within a voltage range or within a voltage range of a group of predetermined voltage ranges, wherein one of the voltage ranges comprises the sum of the other voltage ranges weighted by natural numbers. Modul mit optoelektronischen Halbleiterelementen (1, 2, 3; 8, 3') nach Anspruch 1, wobei sich die optoelektronischen Halbleiterelemente (1, 2, 3; 8, 3') des Moduls hinsichtlich ihrer abstrahlbaren elektromagnetischen Strahlung unterscheiden.Module with optoelectronic semiconductor elements ( 1 . 2 . 3 ; 8th . 3 ' ) according to claim 1, wherein the optoelectronic semiconductor elements ( 1 . 2 . 3 ; 8th . 3 ' ) of the module with respect to their radiated electromagnetic radiation. Modul mit optoelektronischen Halbleiterelementen (1, 2, 3; 8, 3') nach Anspruch 1 oder 2, wobei die in Reihe geschalteten Halbleitersegmente (5, 6, 7, 9) eines der optoelektronischen Halbleiterelemente (1, 2, 3; 8, 3') die im Wesentlichen gleiche Segmentbetriebsspannung haben.Module with optoelectronic semiconductor elements ( 1 . 2 . 3 ; 8th . 3 ' ) according to claim 1 or 2, wherein the series-connected semiconductor segments ( 5 . 6 . 7 . 9 ) one of the optoelectronic semiconductor elements ( 1 . 2 . 3 ; 8th . 3 ' ) have substantially the same segment operating voltage. Modul mit optoelektronischen Halbleiterelementen (1, 2, 3) nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei in Reihe geschaltete Halbleitersegmente (5) eines ersten optoelektronischen Halbleiterelements (1) jeweils eine gleiche erste Segmentbetriebsspannung haben und in Reihe geschaltete Halbleitersegmente (7) eines zweiten optoelektronischen Halbleiterelements (3) jeweils eine gleiche zweite Segmentbetriebsspannung haben, und wobei der vorgegebene Spannungsbereich ein gemeinsames Vielfaches der ersten und zweiten Segmentbetriebsspannung umfasst.Module with optoelectronic semiconductor elements ( 1 . 2 . 3 ) according to one of claims 1 to 3, wherein series-connected semiconductor segments ( 5 ) of a first optoelectronic semiconductor element ( 1 ) each have a same first segment operating voltage and series-connected semiconductor segments ( 7 ) of a second optoelectronic semiconductor element ( 3 ) each have a same second segment operating voltage, and wherein the predetermined voltage range comprises a common multiple of the first and second segment operating voltage. Modul mit optoelektronischen Halbleiterelementen (1, 2, 3) nach Anspruch 4, wobei der vorgegebene Spannungsbereich das kleinste gemeinsame Vielfache der ersten und zweiten Segmentbetriebsspannung umfasst.Module with optoelectronic semiconductor elements ( 1 . 2 . 3 ) according to claim 4, wherein the predetermined voltage range comprises the least common multiple of the first and second segment operating voltage. Modul mit optoelektronischen Halbleiterelementen (1, 2, 3; 8, 3') nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei sich die optoelektronischen Halbleiterelemente (1, 2, 3; 8, 3') des Moduls in der Farbe des abstrahlbaren Lichts unterscheiden.Module with optoelectronic semiconductor elements ( 1 . 2 . 3 ; 8th . 3 ' ) according to one of claims 1 to 5, wherein the optoelectronic semiconductor elements ( 1 . 2 . 3 ; 8th . 3 ' ) of the module in the color of the radiatable light. Modul mit optoelektronischen Halbleiterelementen (1, 2, 3) nach Anspruch 6, wobei eines der optoelektronischen Halbleiterelemente (1, 2, 3) des Moduls geeignet ist, eine der Farben aus der Gruppe rot, grün, blau abzustrahlen oder wobei eines der optoelektronischen Halbleiterelemente (8, 3') des Moduls geeignet ist, eine der Farben aus der Gruppe weiß-grün und rot abzustrahlen.Module with optoelectronic semiconductor elements ( 1 . 2 . 3 ) according to claim 6, wherein one of the optoelectronic semiconductor elements ( 1 . 2 . 3 ) of the module is suitable, one of the colors from the group red, green, blue or where one of the optoelectronic semiconductor elements ( 8th . 3 ' ) of the module is suitable for emitting one of the colors from the group white-green and red. Modul mit optoelektronischen Halbleiterelementen (1', 2', 3') nach einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei ein erstes Halbleitersegment (6), das eine aktive Schicht zur Erzeugung der elektromagnetischen Strahlung umfasst, in einem ersten optoelektronischen Halbleiterelement (2') und ein zweites Halbleitersegment (6'; 7), das eine aktive Schicht zur Erzeugung der elektromagnetischen Strahlung umfasst, in dem ersten oder in einem zweiten optoelektronischen Halbleiterelement (2'; 3') sich hinsichtlich ihrer Art und/oder ihrer Dimensionierung unterscheiden.Module with optoelectronic semiconductor elements ( 1' . 2 ' . 3 ' ) according to one of claims 1 to 7, wherein a first semiconductor segment ( 6 ), which comprises an active layer for generating the electromagnetic radiation, in a first optoelectronic semiconductor element ( 2 ' ) and a second semiconductor segment ( 6 '; 7 ), which comprises an active layer for generating the electromagnetic radiation, in the first or in a second optoelectronic semiconductor element ( 2 '; 3 ' ) differ in their nature and / or their dimensions. Modul mit optoelektronischen Halbleiterelementen nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei ein erstes optoelektronisches Halbleiterelement (1) und ein zweites optoelektronisches Halbleiterelemente (2) parallel geschaltet sind.Module with optoelectronic semiconductor elements according to one of claims 1 to 8, wherein a first optoelectronic semiconductor element ( 1 ) and a second optoelectronic semiconductor element ( 2 ) are connected in parallel. Modul mit optoelektronischen Halbleiterelementen nach einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei ein erstes optoelektronisches Halbleiterelement (3') parallel zu einer Reihenschaltung (8, 13) von Halbleiterelementen mit zumindest einem zweiten geschalteten Halbleiterelement (8) geschaltet ist.Module with optoelectronic semiconductor elements according to one of claims 1 to 9, wherein a first optoelectronic semiconductor element ( 3 ' ) parallel to a series circuit ( 8th . 13 ) of semiconductor elements with at least one second switched semiconductor element ( 8th ) is switched. Modul nach einem der Ansprüche 9 und 10, wobei die Halbleiterelemente in einem Gehäuse (10) oder auf einem Träger (14) angeordnet sind.Module according to one of claims 9 and 10, wherein the semiconductor elements in a housing ( 10 ) or on a support ( 14 ) are arranged. Modul nach einem der Ansprüche 9 bis 11, wobei die optoelektronischen Halbleiterelemente (8, 3') mit einer gemeinsamen Treiberkomponente (15) angesteuert werden.Module according to one of claims 9 to 11, wherein the optoelectronic semiconductor elements ( 8th . 3 ' ) with a common driver component ( 15 ). Modul nach einem der Ansprüche 9 bis 12, wobei die Mischung des abgestrahlten Lichts der optoelektronischen Halbleiterelemente (1, 2, 3; 8, 3') weiß ist.Module according to one of claims 9 to 12, wherein the mixture of the radiated light of the optoelectronic semiconductor elements ( 1 . 2 . 3 ; 8th . 3 ' ) is white. Modul nach einem der Ansprüche 9 bis 13, wobei die optoelektronisches Halbleiterelemente (1, 2, 3; 8, 3') ein ähnliches Alterungs- und/oder Temperaturverhalten haben.Module according to one of claims 9 to 13, wherein the optoelectronic semiconductor elements ( 1 . 2 . 3 ; 8th . 3 ' ) have a similar aging and / or temperature behavior. Modul nach einem der Ansprüche 1 bis 14, wobei die Reihenschaltung der Halbleitersegmente durch leitende Verbindungen (410, 411, 460) auf der von einer Strahlungsdurchtrittsfläche abgewandten Seite der optoelektronischen Halbleitersegmente erfolgt.Module according to one of claims 1 to 14, wherein the series connection of the semiconductor segments by conductive connections ( 410 . 411 . 460 ) takes place on the side facing away from a radiation passage surface side of the optoelectronic semiconductor segments.
DE102008051050A 2008-10-09 2008-10-09 Opto-electronic semiconductor module for e.g. projection application, has semiconductor segments characterized by operating voltages, where one of voltage range includes weighted sum of natural numbers with different voltage ranges Withdrawn DE102008051050A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102008051050A DE102008051050A1 (en) 2008-10-09 2008-10-09 Opto-electronic semiconductor module for e.g. projection application, has semiconductor segments characterized by operating voltages, where one of voltage range includes weighted sum of natural numbers with different voltage ranges

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102008051050A DE102008051050A1 (en) 2008-10-09 2008-10-09 Opto-electronic semiconductor module for e.g. projection application, has semiconductor segments characterized by operating voltages, where one of voltage range includes weighted sum of natural numbers with different voltage ranges

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102008051050A1 true DE102008051050A1 (en) 2010-04-15

Family

ID=41821208

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102008051050A Withdrawn DE102008051050A1 (en) 2008-10-09 2008-10-09 Opto-electronic semiconductor module for e.g. projection application, has semiconductor segments characterized by operating voltages, where one of voltage range includes weighted sum of natural numbers with different voltage ranges

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE102008051050A1 (en)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102010048159A1 (en) * 2010-10-11 2012-04-12 Osram Opto Semiconductors Gmbh LED chip
DE102011015821A1 (en) * 2011-04-01 2012-10-04 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelectronic semiconductor chip
DE102011015726A1 (en) * 2011-03-31 2012-10-04 Osram Opto Semiconductors Gmbh Semiconductor chip, display with a plurality of semiconductor chips and method for their production
CN102891140A (en) * 2012-09-13 2013-01-23 惠州雷曼光电科技有限公司 Light emitting diode (LED) wafer and power type LED
DE102012112530A1 (en) * 2012-12-18 2014-06-18 Osram Opto Semiconductors Gmbh Method for producing optoelectronic semiconductor chips and optoelectronic semiconductor chip
DE102013101367A1 (en) * 2013-02-12 2014-08-14 Osram Opto Semiconductors Gmbh Semiconductor chip
DE102013103409A1 (en) * 2013-04-05 2014-10-09 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelectronic semiconductor chip and optoelectronic module
DE102013212294A1 (en) * 2013-06-26 2014-12-31 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelectronic semiconductor chip
DE102014100773A1 (en) * 2014-01-23 2015-07-23 Osram Opto Semiconductors Gmbh Semiconductor device and method for manufacturing a semiconductor device
DE102015107526A1 (en) * 2015-05-13 2016-11-17 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelectronic semiconductor chip and optoelectronic module
DE102016106831A1 (en) * 2016-04-13 2017-10-19 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelectronic semiconductor chip
DE102018125281A1 (en) * 2018-10-12 2020-04-16 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelectronic semiconductor component
DE102019126026A1 (en) * 2019-09-26 2021-04-01 OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung RADIATION EMITTING SEMI-CONDUCTOR CHIP
DE102021201131A1 (en) 2021-02-08 2022-08-11 OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung OPTOELECTRONIC SEMICONDUCTOR COMPONENT WITH A GOLD LAYER IN THE REGION

Cited By (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102010048159B4 (en) 2010-10-11 2023-10-05 OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung LED chip
CN103140927A (en) * 2010-10-11 2013-06-05 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司 Light-emitting diode chip
CN103140927B (en) * 2010-10-11 2017-02-15 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司 Light-emitting diode chip
DE102010048159A1 (en) * 2010-10-11 2012-04-12 Osram Opto Semiconductors Gmbh LED chip
US9548433B2 (en) 2010-10-11 2017-01-17 Osram Opto Semiconductors Gmbh Light-emitting diode chip
DE102011015726B9 (en) 2011-03-31 2023-07-13 OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung Semiconductor chip, display with a plurality of semiconductor chips and method for their production
US9112089B2 (en) 2011-03-31 2015-08-18 Osram Opto Semiconductors Gmbh Semiconductor chip, display comprising a plurality of semiconductor chips and methods for the production thereof
DE102011015726A1 (en) * 2011-03-31 2012-10-04 Osram Opto Semiconductors Gmbh Semiconductor chip, display with a plurality of semiconductor chips and method for their production
DE102011015726B4 (en) 2011-03-31 2023-04-27 OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung Semiconductor chip, display with a plurality of semiconductor chips and method for their production
US9343642B2 (en) 2011-04-01 2016-05-17 Osram Opto Semiconductor Gmbh Optoelectronic semiconductor chip
DE102011015821B4 (en) 2011-04-01 2023-04-20 OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung Optoelectronic semiconductor chip
DE102011015821A1 (en) * 2011-04-01 2012-10-04 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelectronic semiconductor chip
CN102891140B (en) * 2012-09-13 2016-05-18 惠州雷曼光电科技有限公司 A kind of power-type LED
CN102891140A (en) * 2012-09-13 2013-01-23 惠州雷曼光电科技有限公司 Light emitting diode (LED) wafer and power type LED
US20150333047A1 (en) * 2012-12-18 2015-11-19 Osram Opto Semiconductors Gmbh Method for producing optoelectronic semiconductor chips, and optoelectronic semiconductor chip
DE102012112530A1 (en) * 2012-12-18 2014-06-18 Osram Opto Semiconductors Gmbh Method for producing optoelectronic semiconductor chips and optoelectronic semiconductor chip
US9379161B2 (en) 2013-02-12 2016-06-28 Osram Opto Semiconductors Gmbh Monolithic semiconductor chip array
DE102013101367A1 (en) * 2013-02-12 2014-08-14 Osram Opto Semiconductors Gmbh Semiconductor chip
DE102013103409A1 (en) * 2013-04-05 2014-10-09 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelectronic semiconductor chip and optoelectronic module
US9947847B2 (en) 2013-04-05 2018-04-17 Osram Opto Semiconductor Gmbh Optoelectronic semiconductor chip and optoelectronic module
DE102013212294A1 (en) * 2013-06-26 2014-12-31 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelectronic semiconductor chip
CN105934834B (en) * 2014-01-23 2019-11-08 欧司朗光电半导体有限公司 Semiconductor devices and the method being used for producing the semiconductor devices
CN105934834A (en) * 2014-01-23 2016-09-07 欧司朗光电半导体有限公司 Semiconductor component and method for producing semiconductor component
DE102014100773A1 (en) * 2014-01-23 2015-07-23 Osram Opto Semiconductors Gmbh Semiconductor device and method for manufacturing a semiconductor device
US10217903B2 (en) 2015-05-13 2019-02-26 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelectronic semiconductor chip and optoelectronic module
DE102015107526A1 (en) * 2015-05-13 2016-11-17 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelectronic semiconductor chip and optoelectronic module
DE102016106831A1 (en) * 2016-04-13 2017-10-19 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelectronic semiconductor chip
US10629777B2 (en) 2016-04-13 2020-04-21 Osram Oled Gmbh Optoelectronic semiconductor chip
DE102018125281A1 (en) * 2018-10-12 2020-04-16 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelectronic semiconductor component
DE102019126026A1 (en) * 2019-09-26 2021-04-01 OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung RADIATION EMITTING SEMI-CONDUCTOR CHIP
DE102021201131A1 (en) 2021-02-08 2022-08-11 OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung OPTOELECTRONIC SEMICONDUCTOR COMPONENT WITH A GOLD LAYER IN THE REGION

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102008051050A1 (en) Opto-electronic semiconductor module for e.g. projection application, has semiconductor segments characterized by operating voltages, where one of voltage range includes weighted sum of natural numbers with different voltage ranges
EP2245667B1 (en) Monolithic, optoelectronic semi-conductor body and method for the production thereof
DE102006021648B4 (en) AC voltage light emitting device and manufacturing process therefor
EP2248175B1 (en) Optoelectronic semi-conductor body and method for the production thereof
DE102008021572B4 (en) Solid-state lamp and luminaire with it
DE19952932C1 (en) LED white light source with broadband excitation
DE112005003841B4 (en) Light emitting device with a plurality of light emitting cells
DE102006051745B4 (en) LED semiconductor body and use of an LED semiconductor body
EP1966836B1 (en) Led semiconductor body and use of an led semiconductor body
DE102009037186A1 (en) Radiation-emitting semiconductor component
DE112016002349T5 (en) Light emission device and vehicle lamp with this
DE112011101981T5 (en) Surface-emitting LED with high voltage and low current
DE19901916A1 (en) Semiconductor light emitting module
DE102011116232B4 (en) Optoelectronic semiconductor chip and method for its production
DE102012108763B4 (en) OPTOELECTRONIC SEMICONDUCTOR CHIP AND LIGHT SOURCE WITH THE OPTOELECTRONIC SEMICONDUCTOR CHIP
DE102015107580A1 (en) Radiation-emitting optoelectronic component
DE112005002855B4 (en) Integrated type LED and manufacturing method thereof
DE10322705B4 (en) Manufacturing Method for LED with Thick III-V Semiconductor Epitaxial Layer and Such LED
DE102016119539A1 (en) Light-emitting semiconductor chip and light-emitting device
DE102008016525A1 (en) Monolithic optoelectronic semiconductor body, useful for illumination, includes layer sequence divided into partial segments and at least three contact pads and conductor planes
WO2014124853A1 (en) Monolithic semiconductor chip array
DE102011013504A1 (en) Light emitting device
DE102004052245A1 (en) Radiation emitting semiconductor chip e.g. luminescent diode chip, has reemission structure, and reemission layer formed for widening spectrums of chip against respective spectrum of radiation of peak wavelength
DE102017100705B4 (en) Lighting device and operating method for such a lighting device
DE102016206524A1 (en) LED for emission of illumination radiation

Legal Events

Date Code Title Description
OR8 Request for search as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law
R163 Identified publications notified
R163 Identified publications notified

Effective date: 20111125

R012 Request for examination validly filed
R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee