DE102007034879A1 - Filter element that can be treated with UV radiation as well as filter device, respiratory mask and respiratory protection set with such a filter element - Google Patents

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Abstract

Es wird ein Filterelement (1) mit einer Durchströmungszone für ein Fluid angegeben, wobei das Filterelement (1) ein Filtermaterial (2) aufweist. Dieses Filterelement (1) ist im Hinblick auf eine vereinfachte und verbesserte antimikrobielle Behandlung des Filtermaterials (2) und im Hinblick auf eine verbesserte Abscheideleistung für Mikroorganismen so ausgestaltet, dass das Filtermaterial (2) für UV-Strahlung mit einer Wellenlänge von ca. 450 nm oder weniger durchlässig und/oder leitfähig ist. Auf Grundlage des erfindungsgemäßen Filterelements (1) werden des Weiteren eine Filtereinrichtung, eine Atemschutzmaske sowie ein Atemschutzset vorgeschlagen.The invention relates to a filter element (1) with a flow-through zone for a fluid, wherein the filter element (1) has a filter material (2). This filter element (1) is designed with a view to a simplified and improved antimicrobial treatment of the filter material (2) and with regard to an improved separation efficiency for microorganisms, that the filter material (2) for UV radiation having a wavelength of about 450 nm or less permeable and / or conductive. On the basis of the filter element (1) according to the invention further a filter device, a respiratory mask and a respiratory protection set are proposed.

Description

Die Erfindung betrifft ein Filterelement mit einer Durchströmungszone für ein Fluid, wobei das Filterelement ein Filtermaterial aufweist. Die Erfindung betrifft des Weiteren eine Filtereinrichtung mit einem solchen Filterelement und einer UV-Strahlungsquelle. Außerdem betrifft die Erfindung eine Atemschutzmaske mit einer solchen Filtereinrichtung. Schließlich betrifft die Erfindung noch ein Atemschutzset, das eine Atemschutzmaske und eine UV-Basisstation aufweist.The The invention relates to a filter element with a flow zone for a fluid, wherein the filter element is a filter material having. The invention further relates to a filter device with such a filter element and a UV radiation source. Furthermore The invention relates to a respirator with such a filter device. Finally, the invention relates to a respiratory protection set, having a respirator and a UV base station.

Filterelemente der eingangs genannten Art sind aus praktisch jedem Gebiet der Technik bekannt. Solche Filter werden im Allgemeinen zur Reinigung von Fluiden, bspw. von Luft, verwendet. Die Luft durchströmt dabei die Durchströmungszone vom Eintritt bis zum Austritt des Filters. Solch ein Filter weist im Allgemeinen eine vorher festgelegte bzw. gewünschte Durchlasscharakteristik auf. Abhängig von dieser Durchlasscharakteristik hält der Filter Verunreinigungen des durchströmenden Fluids zurück, welche eine vorbestimmte Größe überschreiten oder spezielle elektrostatische Eigenschaften aufweisen.filter elements of the type mentioned are from virtually every field of technology known. Such filters are generally used for cleaning fluids, For example, of air, used. The air flows through the Flow zone from the inlet to the outlet of the filter. Such a filter generally has a predetermined one Pass-through characteristic. Depending on this transmission characteristic keeps the filter impurities from flowing through Fluids back, which exceed a predetermined size or have special electrostatic properties.

Die genannten Verunreinigungen können Schmutzteilchen oder dgl. Fremdkörper aufweisen. Diese Fremdkörper sollen in dem Filter zurückgehalten werden, so dass am Auslass des Filters ein von bestimmten Inhaltsstoffen befreites Fluid erhalten werden kann. In manchen Anwendungsfällen soll der Filter dabei auch Mikroorganismen zurückgehalten, insbesondere bakterielle Zellaglomerate, die an Staub oder Wassertröpfchen anhaften, aber auch Sporen, einzelne Bakterien, Viren und dergleichen.The mentioned impurities can dirt particles or Like. Foreign body. These foreign bodies should be held back in the filter so that on Outlet of the filter liberated from certain ingredients Fluid can be obtained. In some applications the filter should also retain microorganisms, in particular bacterial cell agglomerates attached to dust or water droplets attach, but also spores, individual bacteria, viruses and the like.

Solch eine Reinigungswirkung wird insbesondere bei Filtern erwartet, die zur Reinigung von Atemluft ausgelegt sind, bspw. in Atemschutzmasken.Such a cleaning effect is especially expected in filters that are designed for the purification of breathing air, for example. In respirators.

In der Praxis ist allerdings festgestellt worden, dass die Reinigungswirkung von Filterelementen, die ein herkömmliches Filtermaterial aufweisen, insbesondere in Bezug auf den Schutz vor Mikroorganismen begrenzt ist. Bspw. können sich Mikroorganismen in dem Filtermaterial ansiedeln und sogar Kulturen bilden, die die ausströmende Luft erneut kontaminieren können. Auf der Oberfläche des Filtermaterials kann es zur Entstehung eines sog. Biofilms kommen. Im ungünstigsten Fall kommt es schlussendlich zu einem sog. „Durchbruch" der Mikroorganismen durch das Filterelement. Des Weiteren können solche Filter bei diskontinuierlicher Belastung nach einem besonders großen Belastungsschub über längere Zeit Mikroorganismen abgeben. Die vorgenannten Phänomene können dazu führen, dass die den Auslass des Filters verlassende Luft sogar stärker belastet ist als die zuströmende, zu reinigende Luft.In In practice, however, has been found that the cleaning effect of filter elements that are a conventional filter material especially with regard to protection against microorganisms is limited. For example. can be microorganisms in the Filter material settle and even form cultures that the outflowing Can contaminate air again. On the surface of the filter material can lead to the formation of a so-called biofilm. In the worst case, it eventually comes to a so-called "breakthrough" of the microorganisms through the filter element. Furthermore, such filters may be discontinuous Load after a particularly large load over long-term release microorganisms. The aforementioned Phenomena can cause the the air leaving the outlet of the filter even stronger is loaded as the inflowing, to be purified air.

Im Allgemeinen ist bei Filterelementen mit einem konventionellen Filtermaterial eine befriedigende Abscheideleistung für Mikroorganismen nur erreichbar, indem die Porengröße, d. h. der Durchmesser der Strömungspfade für das zu reinigende Fluid, auf einen sehr geringen Wert (im Allgemeinen kleiner als 1 μm) reduziert wird. Bei einem solch geringen Porendurchmesser sinkt die Durchflussleistung des Filterelements jedoch rapide ab, was durch einen sehr großen Druckunterschied zwischen Ein- und Auslass ausgeglichen werden muss.in the General is with filter elements with a conventional filter material a satisfactory separation efficiency for microorganisms achievable only by the pore size, d. H. of the Diameter of the flow paths for the to be cleaned Fluid, to a very low value (generally less than 1 μm) is reduced. With such a small pore diameter However, the flow rate of the filter element decreases rapidly, which is due to a very large pressure difference between and outlet must be balanced.

Des Weiteren besteht bei der manuellen Wartung von mit Mikroorganismen belasteten Filtern aus herkömmlichem Filtermaterial eine erhöhte Infektionsgefahr für das Wartungspersonal sowie die gesamte Umgebung, was insbesondere im Gesundheitswesen höchst unerwünscht ist.Of Further, there is manual maintenance of microorganisms loaded filters made of conventional filter material increased risk of infection for maintenance personnel as well as the whole environment, which is especially true in healthcare is highly undesirable.

Aus der DE 197 16 277 A1 ist ein Filterelement bekannt, welches ein Filtermaterial aufweist, das für UV-Strahlung in einem begrenzten Wellenlängenbereich durchlässig oder leitfähig ist. Dabei lassen sich im Filtermaterial befindliche Mikroorganismen durch das Beaufschlagen mit UV-Strahlung abtöten.From the DE 197 16 277 A1 For example, a filter element is known which has a filter material which is transparent or conductive to UV radiation in a limited wavelength range. In the process, microorganisms present in the filter material can be killed by exposure to UV radiation.

Beim gattungsbildenden Filterelement ist nachteilig, dass es für einen Großteil des Wellenlängenspektrums des eingestrahlten Lichts nicht durchlässig ist. Dadurch ist eine optimale antimikrobielle Behandlung des Filtermaterials behindert. Andererseits ist nachteilig, dass die beaufschlagte UV-Strahlung beim gattungsbildenden Filterelement nicht bis in die Innenbereiche des Filtermaterials gelangt. Daher muss beim gattungsgemäßen Filterelement eine UV-Strahlungsquelle entweder innerhalb des Filtermaterials positioniert werden, oder es muss sich um ein Filterelement geringer Größe handeln, so dass eingestrahltes UV-Licht in alle Bereiche des Filterelements vordringen kann.At the generic type filter element is disadvantageous that it is for a large part of the wavelength spectrum of the irradiated Light is not permeable. This is an optimal impeded antimicrobial treatment of the filter material. on the other hand is disadvantageous that the applied UV radiation in the generic Filter element not into the interior of the filter material arrives. Therefore, in the generic filter element a UV radiation source either within the filter material be positioned or it must be smaller by one filter element Act size, allowing irradiated UV light can penetrate into all areas of the filter element.

Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Filterelement der eingangs genannten Art derart auszugestalten und weiterzubilden, dass eine ver einfachte und verbesserte antimikrobielle Behandlung des Filtermaterials sowie eine verbesserte Abscheideleistung des Filterelements für Mikroorganismen während der Beaufschlagung mit UV-Strahlung erreicht ist. Des Weiteren liegt der vorliegenden Erfindung die Aufgabe zugrunde, eine Filtereinrichtung, eine Atemschutzmaske sowie ein Atemschutzset mit einem solchen Filterelement anzugeben.Of the The present invention is therefore based on the object, a filter element of the type mentioned above to design and develop, that a simplified and improved antimicrobial treatment of the filter material and an improved separation efficiency of the Filter element for microorganisms during the Exposure to UV radiation is reached. Furthermore lies the present invention has the object, a filter device, a respirator and a respirator with such a filter element specify.

Die vorgenannte Aufgabe ist in Bezug auf ein Filterelement mit den Merkmalen des Patentanspruchs 1 gelöst. Danach ist ein gattungsgemäßes Filterelement dadurch gekennzeichnet, dass das Filtermaterial für UV-Strahlung mit einer Wellenlänge von ca. 450 nm oder weniger durchlässig und/oder leitfähig ist.The above object is achieved with respect to a filter element having the features of claim 1. After that is a generic Filter element characterized in that the filter material for UV radiation having a wavelength of about 450 nm or less is permeable and / or conductive.

Erfindungsgemäß ist zunächst erkannt worden, dass UV-Strahlung mit einer Wellenlänge von ca. 450 nm oder weniger einen besonders vorteilhaften Effekt bei der Behandlung von mikrobiellen Verunreinigungen bereitstellt. Demzufolge weist das erfindungsgemäße Filterelement ein Filtermaterial auf, das für Strahlung in diesem Wellenlängenbereich durchlässig und/oder leitfähig ist.According to the invention First, it has been recognized that UV radiation with one wavelength of about 450 nm or less, a particularly advantageous effect in the treatment of microbial contaminants. Consequently, the filter element according to the invention a filter material that is transparent to radiation in this wavelength range and / or is conductive.

Des Weiteren ist erfindungsgemäß erkannt worden, dass eine Kombination von Durchlässigkeit und Leitfähigkeit des Filtermaterials für eingestrahltes UV-Licht es erlaubt, eine UV-Strahlungsquelle außerhalb des Filterelements zu positionieren. Bei dem erfindungsgemäßen Filterelement ist es trotzdem möglich, jeden Punkt des Filtermaterials mit eingestrahltem UV-Licht zu erreichen. Nahe an der UV-Strahlungsquelle angeordnete Bereiche des Filtermaterials werden erreicht, da das Filtermaterial für UV-Strahlung durchlässig ist. Weiter beabstandete Bereiche des Filtermaterials werden jedoch ebenfalls erreicht, da das Filtermaterial gleichzeitig lichtleitende Eigenschaften aufweist, wodurch die UV-Strahlung an der Oberfläche des Filtermaterials eindringen kann und durch das Material zu abgeschatteten Bereichen des Filterelements geleitet wird.Of Furthermore, it has been recognized according to the invention that a combination of permeability and conductivity of the filter material for irradiated UV light allows, a UV radiation source outside the filter element too position. In the filter element according to the invention It is still possible, every point of the filter material to reach with irradiated UV light. Close to the UV radiation source arranged areas of the filter material are achieved because the Filter material is transparent to UV radiation. However, further spaced areas of the filter material are also achieved, since the filter material has at the same time light-conducting properties, whereby the UV radiation on the surface of the filter material can penetrate and through the material to shadowed areas the filter element is passed.

Die erfindungsgemäße Kombination von Strahlungsdurchlässigkeit und Strahlungsleitfähigkeit stellt dabei eine Abkehr vom gattungsbildenden Stand der Technik dar, der lediglich jeweils eine Durchlässigkeit oder Leitfähigkeit vorsieht.The inventive combination of radiation transmission and radiation conductivity represents a departure from generic form of the prior art, the only one each permeability or conductivity.

Mit dem erfindungsgemäßen Filterelement können auch großvolumige bzw. großflächige Filtermaterialien mit einer außerhalb des Filterelements positionierten UV- Strahlungsquelle einfach und sicher antimikrobiell behandelt werden. Somit ist auch eine verbesserte Abscheideleistung des Filterelements für Mikroorganismen während der Beaufschlagung mit UV-Strahlung erreicht.With the filter element according to the invention can also large-volume or large-area filter materials with a UV radiation source positioned outside the filter element simply and safely treated antimicrobially. Thus is also one improved separation efficiency of the filter element for microorganisms during exposure to UV radiation.

In einer ersten Ausführungsform der Erfindung ist das Filtermaterial für UV-Strahlung mit einer Wellenlänge von ca. 380 nm bis ca. 420 nm, insbesondere für UV-Strahlung mit einer Wellenlänge von ca. 400 nm bis ca. 420 nm, durchlässig und/oder leitfähig. In diesen Wellenlängenbereichen ist eine besonders wirksame antimikrobielle Wirkung der UV-Strahlung festgestellt worden.In A first embodiment of the invention is the filter material for UV radiation with a wavelength of approx. 380 nm to about 420 nm, in particular for UV radiation with a wavelength of about 400 nm to about 420 nm, permeable and / or conductive. In these wavelength ranges is a particularly effective antimicrobial effect of UV radiation been found.

In einer Weiterbildung des Erfindungsgedankens beträgt der Porendurchmesser innerhalb der Durchströmungszone ca. 1 μm bis ca. 10 μm, und beträgt in besonders bevorzugter Weise ca. 1 μm bis ca. 2 μm. Wie bereits erwähnt, muss ein konventioneller Filter, der zur Abscheidung von Mikroorganismen, insbesondere von Viren geeignet ist, einen Porendurchmesser von ca. 1 μm oder weniger aufweisen. Der Porendurchmesser innerhalb der Durchströmungszone gibt dabei den Durchmesser des Strömungspfads für das zu filternde Fluid an. Mit dem erfindungsgemäßen Filterelement ist es nun möglich, diesen Durchmesser deutlich zu vergrößern, wodurch die Durchflussleistung ansteigt und der Druckverlust über den Filter gesehen deutlich sinkt. Dabei weist das Filtermaterial bevorzugt eine definierte Porengröße auf, wobei die Größe der Poren im Vergleich zu benachbarten Poren nur wenig schwankt. Beim erfindungsgemäßen Filterelement ist neben der konventionellen mechanischen Filterwirkung die antimikrobielle Behandlung durch UV-Strahlung ermöglicht. Das durch den Filter strömende Fluid tritt wie bei einem herkömmlichen Filter durch die Poren der Strömungszone. Größere Partikel werden dabei mechanisch zurückgehalten. Kleinere Mikroorganismen können zwar theoretisch durch den Filter hindurchtreten, werden aber während des Durchtritts durch das eindringende UV-Licht abgetötet. Dasselbe gilt für die mechanisch zurückgehaltenen größeren Mikroorganismen. Mit anderen Worten werden Mikroorganismen jeder beliebigen Größe inaktiviert, selbst wenn der kleinste Porendurchmesser der Durchströmungszone des Filterelements größer ist als der Durchmesser des kleinsten Mikroorganismus, der sich im zu behandelnden Fluid findet.In a development of the inventive concept is the Pore diameter within the flow zone about 1 micron to about 10 microns, and is particularly preferred Way about 1 micron to about 2 microns. As already mentioned, must be a conventional filter used for the deposition of microorganisms, in particular of viruses is suitable, a pore diameter of about 1 micron or less. The pore diameter within the flow zone gives the diameter of the flow path for the fluid to be filtered. With the invention Filter element, it is now possible to clear this diameter to increase, reducing the flow capacity rises and the pressure drop across the filter seen clearly sinks. In this case, the filter material preferably has a defined Pore size on, with the size the pores vary only slightly compared to neighboring pores. At the filter element according to the invention is in addition to the conventional mechanical filtering effect the antimicrobial treatment UV radiation allows. The flowing through the filter Fluid will pass through as in a conventional filter Pores of the flow zone. Larger particles are retained mechanically. Smaller microorganisms can Although theoretically pass through the filter, but during the passage is killed by the penetrating UV light. The same applies to the mechanically retained larger microorganisms. In other words Inactivates microorganisms of any size, even if the smallest pore diameter of the flow zone of the filter element is greater than the diameter the smallest microorganism that is in the fluid to be treated place.

In besonders bevorzugter Weise weist das Filtermaterial lichtleitende Eigenschaften auf. Dies bedeutet, dass innerhalb des Filtermaterials Leitungspfade für das einge strahlte Licht ausgebildet sind, bspw. durch im Filtermaterial angeordnete Lichtleiter oder dadurch, dass das Filtermaterial lichtleitende Teilchen aufweist. Dabei kann es sich insbesondere um langgestreckte Elemente, bspw. Fasern handeln.In Particularly preferably, the filter material has light-conducting Properties on. This means that inside the filter material Conducting paths are formed for the irradiated light, For example, by arranged in the filter material light guide or thereby, the filter material comprises photoconductive particles. It can in particular, they are elongate elements, for example fibers.

Vorzugsweise weist das Filtermaterial ein Polymer oder eine Polymermischung auf. Solch ein Material lässt sich leicht herstellen und handhaben. Die Poren der Durchströmungszone bzw. die Strömungspfade für das Fluid können durch Schäumen des Polymers gebildet werden. Alternativ kann ein poröses Polymer verwendet werden. Bei den genannten Materialien lässt sich der Porendurchmesser im Allgemeinen gut einstellen und weist über das gesamte Filtermaterial gesehen nur geringe Schwankungen auf.Preferably For example, the filter material comprises a polymer or a polymer blend. Such a material is easy to manufacture and handle. The Pores of the flow-through zone or the flow paths for the fluid can be achieved by foaming the Polymers are formed. Alternatively, a porous polymer be used. With the mentioned materials can be the pore diameter is generally good and has over the entire filter material seen only small fluctuations.

In einer bevorzugten Ausführungsform weist das Filtermaterial Fasern auf. Dabei kann es sich um Polymerfasern handeln. Des Weiteren kann das Filtermaterial aus einem Polymer bestehen, in dem Fasern dispergiert sind. Die Fasern weisen dabei in bevorzugter Weise lichtleitende Eigenschaften auf. Die Fasern können untereinander eine Vielzahl von Berührungsstellen bilden. Eingestrahltes UV-Licht kann dann an den Berührungsflächen zwischen einzelnen Fasern von einer Faser zur nächsten übertreten, da die Fasern die UV-Strahlung weiterleiten. An den Berührungsstellen findet der direkte Übergang der UV-Strahlung von einer Faser zur nächsten statt. Dadurch kann die UV-Strahlung auch in Bereiche gelangen, die eine größere Entfernung von der Oberfläche des Filterelements aufweisen. Die UV-Strahlung kann an der Oberfläche des erfindungsgemäßen Filterelements in die Fasern „eingekoppelt" werden, bspw. indem eine UV-Strahlungsquelle benachbart zum Filterelement positioniert wird. Im Ergebnis kann die zur Verfügung stehende Filterquerschnittsfläche groß gewählt werden, ohne dass zu befürchten ist, dass die Inaktivierungswirkung der Filtereinrichtung in einer größeren Entfernung von der UV-Strahlungsquelle unter einen Mindestwert abfällt.In a preferred embodiment, the filter material comprises fibers. These may be polymer fibers. Furthermore, the filter material may consist of a polymer in which fibers are dispersed. The fibers preferably have photoconductive properties. The Fibers can form a plurality of points of contact with each other. Irradiated UV light can then pass from fiber to fiber at the interfaces between individual fibers as the fibers pass UV radiation. At the points of contact, the direct transfer of UV radiation from one fiber to the next takes place. As a result, the UV radiation can also reach areas which have a greater distance from the surface of the filter element. The UV radiation can be "coupled" into the fibers at the surface of the filter element according to the invention, for example by positioning a UV radiation source adjacent to the filter element. As a result, the available filter cross-sectional area can be selected to be large without fear of the deactivating effect of the filter device falls below a minimum value at a greater distance from the UV radiation source.

In Bezug auf die vorgenannte Ausführungsform werden als Lichtleiter Fasern mit einem Durchmesser von ca. 0,5 μm bis ca. 500 μm bevorzugt. Solche Fasern eignen sich besonders dazu, das Filtermaterial für das erfindungsgemäße Filterelement zu bilden. Die Poren für das durchströmende Fluid bilden sich dabei zwischen den eng aneinander liegenden Fasern aus.In With respect to the aforementioned embodiment, as a light guide Fibers with a diameter of about 0.5 microns to about 500 microns prefers. Such fibers are particularly suitable for the filter material for the filter element according to the invention to build. The pores for the fluid flowing through are formed between the closely spaced fibers.

Im Allgemeinen wird eine Ausführungsform der Erfindung bevorzugt, bei der das Filtermaterial ein Nonwoven-Material, insbesondere ein Vlies, aufweist. Ein solches Nonwoven-Material ist ganz besonders dazu geeignet, gleichzeitig eine Durchlässigkeit von eingestrahltem UV-Licht und auch eine gewisse Lichtleitfähigkeit bereitzustellen. Dabei wird in bevorzugter Weise ein Nonwoven-Material verwendet, das die vorgenannten Fasern aufweist. Demgemäß kann emittiertes Licht einer benachbarten UV-Strahlungsquelle in die lichtdurchlässige Struktur des Nonwoven-Materials eindringen, wodurch der UV-Strahlungsquelle benachbarte Bereiche des Filtermaterials antimikrobiell behandelbar sind. Andererseits kann innerhalb des Nonwoven-Materials eine Weiterleitung der UV-Strahlung an entfernte, eigentlich im Schatten der UV-Strahlungsquelle liegende Bereiche stattfinden.in the Generally, an embodiment of the invention is preferred in which the filter material is a nonwoven material, in particular a Fleece, has. Such a nonwoven material is very special suitable at the same time a permeability of irradiated UV light and also to provide a certain light conductivity. In this case, a nonwoven material is preferably used, having the aforementioned fibers. Accordingly, can emitted light of an adjacent UV radiation source in the permeable translucent structure of nonwoven material, whereby the UV radiation source adjacent areas of the filter material are antimicrobially treatable. On the other hand, within the Nonwoven material, a transmission of UV radiation to remote, actually lying in the shadow of the UV radiation source areas occur.

In einer ganz besonders bevorzugten Weiterbildung weist das erfindungsgemäße Filtermaterial ein Halbleitermaterial, insbesondere ein Fotohalbleitermaterial, auf. Neben der mechanischen Filterwirkung des Filtermaterials und einer ggf. vorhandenen direkten Einstrahlung von UV-Licht bewirkt das Halbleitermaterial eine weitere Inaktivierung von Mikroorganismen. Durch auftreffende UV-Strahlung wird das Halbleitermaterial angeregt, also fotoaktiviert. Fotoaktivierung bedeutet hier, dass durch die Lichtabsorption im Halbleitermaterial Elektronen vom Valenzband in das Leitungsband angehoben werden. Hierdurch entsteht ein Redoxpotential, das über die Bildung von Radikalen zur Abtötung von Mikroorganismen bzw. zu der Behinderung ihrer Vermehrung führt. Der Halbleiter verändert sich hierbei in chemischer Hinsicht nicht, wirkt dementsprechend als Katalysator. Zusätzlich oder alternativ zur Inaktivierung der Mikroorganismen lassen sich ebenfalls unerwünschte oxidierbare Inhaltsstoffe des zu reinigenden Fluids abbauen, wie bspw. Nikotin, Lösungsmittel, Formaldehyd und dergleichen.In a particularly preferred embodiment, the invention Filter material is a semiconductor material, in particular a photo semiconductor material, on. In addition to the mechanical filtering effect of the filter material and a possibly existing direct irradiation of UV light causes the semiconductor material further inactivates microorganisms. Due to incident UV radiation, the semiconductor material is excited, so photo-activated. Photo activation here means that through the Light absorption in the semiconductor material Electrons from the valence band be lifted into the conduction band. This creates a redox potential, that about the formation of radicals to kill of microorganisms or to obstruct their multiplication. The semiconductor changes in chemical terms not, therefore acts as a catalyst. additionally or alternatively for inactivating the microorganisms can be also undesirable oxidizable ingredients of cleansing fluid, such as nicotine, solvents, Formaldehyde and the like.

Der Anteil des Halbleitermaterials an dem Filtermaterial kann ca. 0,5 Gew.-% bis ca. 2 Gew.-% betragen, und kann insbesondere ca. 1 Gew.-% betragen. Demzufolge kann das Halbleitermaterial bereits bei geringer Konzentration eine vorteilhafte Wirkung entfalten.Of the Proportion of the semiconductor material to the filter material can be about 0.5 Wt .-% to about 2 wt .-%, and in particular about 1 wt .-% be. As a result, the semiconductor material can already be at low Concentration unfold a beneficial effect.

Das Halbleitermaterial kann auf der Oberfläche des Filtermaterials verteilt sein und/oder in Filtermaterial dispergiert sein. Mit anderen Worten ist es möglich, dass einsatzfähige Filtermaterial nachträglich mit dem Halbleitermaterial zu behandeln, so dass sich die Halbleitermoleküle an der Oberfläche von Fasern des Filtermaterials ablagern. Dabei können speziell die Strömungspfade bzw. Poren für das Fluid behandelt werden, wodurch eine sparsame Verwendung von Halbleitermaterial möglich ist. Des Weiteren tritt so eine geringstmögliche Beeinflussung der Durchlässigkeit und der Leitfähigkeit des Filtermaterials in Bezug auf eingestrahltes UV-Licht ein. Alternativ kann das Halbleitermaterial bereits während der Herstellung des Filtermaterials in diesem dispergiert werden. Dementsprechend findet sich das Halbleitermaterial sowohl in als auch auf den Partikeln, die das Filtermaterial bilden. Bei diesen Partikeln handelt es sich insbesondere um Polymerfasern. Demzufolge kann das Halbleitermaterial bereits vor einem Spritzgussvorgang zugegeben werden, so dass von Anfang an Halbleitermaterial enthaltende Polymerfasern hergestellt werden. Im Allgemeinen ist es ausreichend, wenn das Halbleitermaterial in einer dünnen Schicht vorhanden ist, deren Stärke wenige Moleküle betragen kann. Auch kann es ausreichend sein, das Halbleitermaterial nur in bestimmten Bereichen des Filtermaterials anzubringen, solange sichergestellt ist, dass sämtliche Anteile des zu reinigenden Fluids beim Durchtritt durch das Filterelement mit dem Halbleitermaterial in Berührung kommen.The Semiconductor material may be on the surface of the filter material be distributed and / or dispersed in filter material. With others Words, it is possible that operational filter material subsequently to treat with the semiconductor material, so that the semiconductor molecules on the surface deposit of fibers of the filter material. It can be special the flow paths or pores for the fluid treated which results in a sparing use of semiconductor material is possible. Furthermore, such a minimum occurs Influence on the permeability and the conductivity of the filter material with respect to incident UV light. alternative The semiconductor material can already during production of the filter material are dispersed therein. Accordingly the semiconductor material is found both in and on the particles, which form the filter material. These particles are in particular polymer fibers. As a result, the semiconductor material already be added before an injection molding process, so that of Initially made of polymer material containing semiconductor material become. In general, it is sufficient if the semiconductor material present in a thin layer whose thickness can be a few molecules. It may also be enough the semiconductor material only in certain areas of the filter material as long as it is ensured that all Portions of the fluid to be cleaned when passing through the filter element come into contact with the semiconductor material.

In einer bevorzugten Ausführungsform weist das Halbleitermaterial Titandioxid auf. Titandioxid ist thermisch stabil und chemisch äußerst inert. Es ist außerdem lichtbeständig, preiswert und völlig ungiftig und ist daher besonders zum Einsatz in Filtern für Atemluft geeignet. Die Wirkung von Titandioxid als Fotohalbleitermaterial kann durch ein Oxidationsmittel wie bspw. Wasserstoffperoxid noch erheblich verstärkt werden.In a preferred embodiment, the semiconductor material Titanium dioxide on. Titanium Dioxide is thermally stable and chemically extreme inert. It is also lightfast, inexpensive and completely non-toxic and is therefore particularly used in filters for breathing air. The effect of titanium dioxide As a photo semiconductor material can by an oxidizing agent such as. Hydrogen peroxide can be significantly increased.

In Bezug auf die vorgenannte Ausführungsform wird eine Weiterbildung bevorzugt, bei der der Anteil der Modifikation Anatas an dem Titandioxid ca. 75 Gew.-% bis ca. 95 Gew.-%, insbesondere ca. 85 Gew.-%, beträgt. Titandioxid tritt in der Natur in drei Modifikationen auf. Die am häufigsten vorkommenden Modifikationen sind dabei Anatas und Rutil. Es ist festgestellt worden, dass Titandioxid mit dem oben genannten Anteil an Anatas überraschend gute Ergebnisse bei der wie vorgenannt beschriebenen antimikrobiellen Behandlung mit Hilfe von UV-Strahlung bereitstellt. Dementsprechend enthält das Halbleitermaterial einer besonders bevorzugten Ausführungsform ca. 85 Gew.-% Anatas und ca. 15 Gew.-% Rutil. Dabei kann die genaue Zusammensetzung jedoch variieren, so dass eine besonders wirksame Formulierung auch einen geringen Anteil der dritten Modifikation Brookit enthalten kann.In Reference to the aforementioned embodiment is a development preferred in which the proportion of the modification of anatase on the titanium dioxide about 75 wt .-% to about 95 wt .-%, in particular about 85 wt .-%, is. Titanium dioxide occurs in nature in three modifications. The am most common modifications are anatase and rutile. It has been found that titanium dioxide with the above-mentioned proportion of anatase surprisingly good results in the antimicrobial treatment as described above with the help of UV radiation. Accordingly contains the semiconductor material of a particularly preferred embodiment about 85% by weight of anatase and about 15% by weight of rutile. The exact Composition, however, vary, making a particularly effective formulation also contain a small proportion of the third modification brookite can.

In Bezug auf eine Filtereinrichtung ist die oben aufgezeigte Aufgabe mit den Merkmalen des Patentanspruchs 14 gelöst. Danach weist eine erfindungsgemäße Filtereinrichtung ein erfindungsgemäßes Filterelement und eine UV-Strahlungsquelle auf, wobei die UV-Strahlungsquelle so angeordnet ist, dass das Filterelement mit UV-Strahlung beaufschlagbar ist. Mit der erfindungsgemäßen Filtereinrichtung wird eine gebrauchsfertige Einrichtung angegeben, in der ein erfindungsgemäßes Filterelement mit der vorgesehenen UV-Strahlungsquelle antimikrobiell behandelbar ist. Des Weiteren können durchströmende Fluide antimikrobiell behandelt werden. Dabei kann es sich sowohl um Gase als auch um Flüssigkeiten handeln.In Reference to a filter device is the above-indicated object solved with the features of claim 14. After that has a filter device according to the invention a filter element according to the invention and a UV radiation source on, wherein the UV radiation source is arranged so that the filter element can be acted upon with UV radiation. With the invention Filter device is a ready to use device specified in which a filter element according to the invention the intended UV radiation source antimicrobially treatable is. Furthermore, through-flowing fluids be treated antimicrobially. These can be both gases as well as act on liquids.

In einer ersten Ausführungsform emittiert die UV-Strahlungsquelle UV-Strahlung mit einer Wellenlänge von ca. 253 nm bis ca. 450 nm, und emittiert insbesondere UV-Strahlung mit einer Wellenlänge von ca. 380 nm bis ca. 420 nm. Dabei ist der erstgenannte, größere Bereich dahingehend vorteilhaft, dass die Inaktivierungswirkung verstärkt ist. Es ist festgestellt worden, dass der Wellenlängenbereich um 254 nm eine eigene biozide Wirkung entfaltet und so zusätzlich zu den längeren Wellen Keime inaktivieren kann. Zur Realisierung dieses Wellenlängenspektrums können auch mehrere UV-Strahlungsquellen verwendet werden. Der genannte engere Wellenlängenbereich ist im Hinblick auf eine besonders definierte Inaktivierungswirkung sowie im Hinblick auf einen definierten Durchtritt des Lichts und eine definierte Lichtleitung innerhalb des Filtermaterials bevorzugt. Dieser Bereich entspricht dabei in etwa demjenigen, der von erhältlichen UV-Leuchtdioden (LED) emittiert wird.In A first embodiment emits the UV radiation source UV radiation with a wavelength of approx. 253 nm to approx. 450 nm, and in particular emits UV radiation having a wavelength of about 380 nm to about 420 nm. Here is the former, larger Range advantageous in that the inactivation effect is reinforced. It has been found that the wavelength range is around 254 nm unfolds its own biocidal effect and so in addition to inactivate the longer waves germs. For realization This wavelength spectrum can also be several UV radiation sources are used. The narrower wavelength range mentioned is with regard to a particularly defined inactivation effect as well as with regard to a defined passage of light and a defined light pipe within the filter material is preferred. This range corresponds approximately to that of available UV LEDs (LED) is emitted.

Demgemäß kann die UV-Strahlungsquelle einen oder mehrere Quecksilber(Hg)-Niederdruckstrahler und/oder eine oder mehrere UV-Leuchtdioden (LED) aufweisen. Mit einem Hg-Niederdruckstrahler sind dabei kürzere Wellenlängen und ein breiteres Wellenlängenspektrum realisierbar. UV-LED sind im Hinblick auf eine kleinere Baugröße und einen geringeren Stromverbrauch bevorzugt.Accordingly, can the UV radiation source one or more low-pressure mercury (Hg) lamps and / or one or more UV light-emitting diodes (LED). With a Hg low-pressure radiator are shorter wavelengths and a broader wavelength spectrum feasible. UV LED are in terms of a smaller size and a lower power consumption preferred.

Nach einer besonders favorisierten Weiterbildung der Filtereinrichtung ist die UV-Strahlungsquelle außerhalb des Filterelements angeordnet. Hierbei wird zur Ver meidung von Wiederholungen auf die Ausführungen in Bezug auf das Filterelement verwiesen.To a particularly favored development of the filter device is the UV radiation source outside the filter element arranged. This is to avoid avoiding repetitions on the References to the filter element.

Die UV-Strahlungsquelle kann benachbart zum Filterelement angeordnet sein. Dabei kann von dem direkt mit UV-Strahlung beaufschlagten Bereich des Filtermaterials Licht in erfindungsgemäßer Weise ist abgeschattete Bereiche abgeleitet werden. Da gleichzeitig eine Durchlässigkeit für UV-Strahlung gegeben ist, kann die UV-Strahlung gleichzeitig direkt in das Filtermaterial eindringen. Im Ergebnis ist eine Durchsetzung des gesamten Filterelements mit UV-Licht erreichbar. Die UV-Strahlungsquelle kann auch so angeordnet sein, dass sie die Oberfläche des Filterelements zumindest bereichsweise berührt, wodurch eine besonders effektive Einkopplung von UV-Strahlung in das Filtermaterial ermöglicht ist.The UV radiation source can be arranged adjacent to the filter element be. It can be acted upon by the directly with UV radiation Area of the filter material light in accordance with the invention Way, shaded areas are derived. At the same time given a permeability to UV radiation At the same time, the UV radiation can enter directly into the filter material penetration. The result is an enforcement of the entire filter element accessible with UV light. The UV radiation source can also be arranged in this way be that they cover the surface of the filter element at least partially affected, creating a particularly effective Coupling of UV radiation in the filter material allows is.

In einer alternativen Ausführungsform ist die UV-Strahlungsquelle vom Filterelement beabstandet angeordnet, wobei ein zwischen der UV-Strahlungsquelle und dem Filterelement verlaufender Lichtleiter vorgesehen ist. Auf diese Weise kann bspw. für mikrobiell besonders stark belastete Bereiche eine Entkopplung der UV-Strahlungsquelle und des eigentlichen Filterelements stattfinden. Das Filterelement kann abgekapselt werden, so dass keine mikrobielle Verunreinigung der Umgebung zu befürchten ist. Gleichzeitig bleibt die UV-Strahlungsquelle für das Bedienpersonal zugänglich. Des Weiteren ist erreicht, dass von der UV-Strahlungsquelle abgestrahlte Wärme nicht auf das Filterelement einwirkt.In an alternative embodiment is the UV radiation source spaced from the filter element, one between the UV radiation source and the filter element extending light guide provided is. In this way, for example, especially for microbial heavily loaded areas a decoupling of the UV radiation source and the actual filter element take place. The filter element can be encapsulated so that no microbial contamination of the Environment is to be feared. At the same time the UV radiation source remains accessible to the operating personnel. Furthermore is achieved that radiated from the UV radiation source heat does not act on the filter element.

Die oben angeführte Aufgabe ist bezüglich einer Atemschutzmaske mit den Merkmalen des Patentanspruchs 20 gelöst. Danach ist eine Atemschutzmaske mit einem Gehäuse und einer Halteeinrichtung angegeben, die durch eine erfindungsgemäße Filtereinrichtung gekennzeichnet ist. Als Gehäuse ist dabei jener Teil einer Atemschutzmaske zu verstehen, der einerseits die Filtereinrichtung hält und andererseits zumindest den Mund- und Nasenbereich des Benutzers umschließt. Des Weiteren ist üblicherweise eine Halteeinrichtung vorgesehen, die den Hinterkopf des Benutzers umschließt und so mit dem Gehäuse verbunden ist, dass das Gehäuse auf den Mund- bzw. Gesichtsbereich gedrückt wird.The The above stated object is with respect to a respirator solved with the features of claim 20. After that is a respirator with a housing and a holding device indicated by a filter device according to the invention is marked. As housing is that part of a Breathing mask to understand on the one hand the filter device holds and on the other hand at least the mouth and nose area of the User wraps around. Furthermore, it is usually a holding device is provided, which is the back of the head of the user encloses and is thus connected to the housing, that the housing pressed on the mouth or face area becomes.

Die vorgeschlagene Atemschutzmaske umfasst sowohl ein erfindungsgemäßes Filterelement als auch eine UV-Strahlungsquelle, so dass ein mobiler Einsatz der Filtereinrichtung ermöglicht ist. So kann das in der Atemschutzmaske enthaltende Filterelement periodisch oder fortlaufend mit UV-Strahlung beaufschlagt werden, und zwar in einer der vorgenannten Arten. Aufgrund der besonders vorteilhaften Durchlasscharakteristik des erfindungsgemäßen Filterelements ist das Atmen dabei gegenüber einer herkömmlichen Atemschutzmaske deutlich erleichtert. Gleichzeitig wird durch die Möglichkeit einer UV-Bestrahlung des Filterelements ein sicherer Schutz des Benutzers vor einer Kontamination mit Mikroorganismen sichergestellt.The proposed respirator comprises both a filter element according to the invention and a UV radiation source, so that a mo biler use of the filter device is enabled. Thus, the filter element contained in the respirator mask can be applied periodically or continuously with UV radiation, in one of the aforementioned types. Due to the particularly advantageous passage characteristic of the filter element according to the invention, breathing is significantly easier than with a conventional respirator mask. At the same time, the possibility of UV irradiation of the filter element ensures reliable protection of the user from contamination by microorganisms.

Die UV-Strahlungsquelle kann eine oder mehrere UV-LED aufweisen. UV-LED sind dabei besonders klein und lassen sich einfach in einem Gehäuse platzieren. Außerdem ist der Stromverbrauch dieser Leuchtdioden verhältnismäßig gering, wodurch ein mobiler Einsatz ermöglicht ist. Die eine oder mehreren UV-LED können bspw. im Übergang zwischen dem Gehäuse und dem Filterelement angeordnet sein und das Filterelement auf eine der bereits genannten Arten mit UV-Strahlung beaufschlagen. Falls mehrere UV-LED vorgesehen sind, können diese das Filterelement in gewissem Abstand voneinander vollständig umgeben, so dass eine besonders wirksame Bestrahlung realisierbar ist.The UV radiation source can have one or more UV LEDs. UV LED are particularly small and can be easily in a housing place. In addition, the power consumption of these LEDs relatively low, creating a more mobile Use is possible. The one or more UV LEDs can For example, in the transition between the housing and the Be arranged filter element and the filter element on one of the already mentioned types with UV radiation. If several UV LED are provided, these can be the filter element completely surrounded at some distance from each other, so that a particularly effective irradiation is feasible.

Nach einer besonders bevorzugten Weiterbildung wird die UV-Strahlungsquelle der Atemschutzmaske durch einen Akkumulator oder durch eine Batterie gespeist. Dadurch ist eine größtmögliche Mobilität beim Tragen der erfindungsgemäßen Atemschutzmaske erreicht. Der Akkumulator oder die Batterie kann im Gehäuse der Atemschutzmaske, bspw. unterhalb des Filterelements, angeordnet sein. Des Weiteren kann die Atemschutzmaske über eine Ladeanzeige für den Akkumulator bzw. eine Spannungsanzeige für die Batterie verfügen. Dadurch ist sicher verhinderbar, dass die Vorrichtung vom Benutzer unbemerkt aufgrund einer zu geringen Stromspannung ausfällt. Des Weiteren kann ein akustisches Signal vorgesehen werden, das den Benutzer bei Unterschreiten eines vorher festgelegten Mindestwertes der Versorgungsspannung warnt.To A particularly preferred development is the UV radiation source the respirator by an accumulator or by a battery fed. This is the largest possible Mobility when wearing the respirator of the invention reached. The accumulator or the battery can be in the housing the respirator, for example. Below the filter element, arranged be. Furthermore, the respirator via a charge indicator for the accumulator or a voltage indicator for have the battery. This is certainly preventable, that the device unnoticed by the user due to a too low Voltage fails. Furthermore, an acoustic Signal be provided, which the user falls below a previously specified minimum value of the supply voltage.

Alternativ oder zusätzlich zu den vorgeschlagenen UV-LED kann die UV-Strahlungsquelle der Atemschutzmaske einen oder mehrere Quecksilber(Hg)-Niederdruckstrahler aufweisen. Diese Strahler benötigen zwar mehr Bauraum als die LED und weisen einen höheren Stromverbrauch auf, verfügen jedoch auch über eine höhere Strahlungsleistung und emittieren ein breiteres Wellenlängenspektrum der UV-Strahlung. Die Verwendung von Hg-Niederdruckstrahlern in der erfindungsgemäßen Atemschutzmaske ist besonders vorteilhaft, falls die umgebende Luft mit besonders gefährlichen Keimen kontaminiert ist und unbedingt eine vollständige Inaktivierung dieser Keime sichergestellt werden muss. Daher bietet sich insbesondere die Verwendung in Sicherheitslaboren an, wo die Atemschutzmaske ggf. mit einem Stromkabel zur Versorgung der Hg-Niederdruckstrahler ausgestattet sein kann und vom Benutzer ohne größere Einschränkungen seiner Mobilität getragen werden kann.alternative or in addition to the proposed UV LED, the UV radiation source of the respirator one or more mercury (Hg) low-pressure lamps exhibit. Although these radiators require more space than the LED and have a higher power consumption, but have also have a higher radiant power and emit a broader wavelength spectrum of UV radiation. The Use of Hg low-pressure lamps in the inventive Respirator is particularly beneficial if the surrounding air is contaminated with particularly dangerous germs and necessarily a complete inactivation of these germs must be ensured. Therefore, in particular, the use offers in safety laboratories, where the respirator with a Power cable to supply the Hg low-pressure lamps equipped can be and by the user without major restrictions its mobility.

Demgemäß wird eine Ausgestaltung bevorzugt, bei der in der Atemschutzmaske, insbesondere im Gehäuse, ein Anschluss für die Stromversorgung der UV-Strahlungsquelle ausgebildet ist. Dabei kann es sich einerseits um den Anschluss für ein Stromkabel handeln. Andererseits kann ein Anschluss für ein Ladegerät vorgesehen werden, mit dem sich ein in der Atemschutzmaske angeordneter Akkumulator nach dem Gebrauch wieder aufladen lässt, und zwar ohne den Akkumulator aus der Atemschutzmaske entfernen zu müssen.Accordingly, becomes an embodiment preferred in which in the respirator, in particular in Housing, a connection for the power supply of UV radiation source is formed. It can be on the one hand to trade the connection for a power cable. on the other hand can provide a connection for a charger become, with which arranged in the respirator accumulator after Recharging the use, without the accumulator to remove from the respirator.

Schließlich ist die oben angeführte Aufgabe in Bezug auf ein Atemschutzset mit den Merkmalen des Patentanspruchs 25 gelöst. Danach umfasst ein Atemschutzset eine Atemschutzmaske mit einem erfindungsgemäßen Filterelement und eine UV-Basisstation, welche zumindest eine UV-Strahlungsquelle aufweist, wobei die Atemschutzmaske so an bzw. in die UV-Basisstation positionierbar ist, dass das Filterelement mit UV-Strahlung beaufschlagbar ist.After all is the above-mentioned task with regard to a respiratory protection set solved with the features of claim 25. After that For example, a respirator kit includes a respirator with a device according to the invention Filter element and a UV base station, which has at least one UV radiation source, the respirator being positionable on or in the UV base station is that the filter element is exposed to UV radiation.

Mit dem erfindungsgemäßen Atemschutzset ist es möglich, eine Atemschutzmaske periodisch mit UV-Strahlung zu behandeln, um im Filterelement enthaltende Mikroorganismen zu inaktivieren. Die Atemschutzmaske kann in herkömmlicher Weise verwendet werden, bspw. zum Schutz vor mikrobieller Kontamination in einem Labor. Nachdem eine gewisse Nutzungsdauer verstrichen ist, kann die Atemschutzmaske nun an bzw. in die UV-Basisstation angeordnet und mit UV-Strahlung behandelt werden. Dadurch wird verhindert, dass sich im Filter mechanisch zurückgehaltene Mikroorganismen vermehren. Die Maske ist für die erneute Verwendung stets keimfrei. Eine Ansammlung oder sogar ein Durchbruch von Mikroorganismen aufgrund einer langen Standzeit im kontaminierten Zustand ist dabei ausgeschlossen.With the respiratory protective set according to the invention it is possible To periodically treat a respirator with UV radiation inactivate microorganisms contained in the filter element. The Respirator can be used in a conventional manner For example, to protect against microbial contamination in a laboratory. After a certain useful life has elapsed, the respirator can now arranged on or in the UV base station and with UV radiation be treated. This prevents that mechanically retained in the filter Multiply microorganisms. The mask is for the renewed Always germ-free. A collection or even a breakthrough of microorganisms due to a long life in the contaminated Condition is excluded.

Die UV-Strahlungsquelle des erfindungsgemäßen Atemschutzsets kann einen oder mehrere Hg-Niederdruckstrahler und/oder eine oder mehrere UV-LED aufweisen. In Bezug auf die Merkmale und Vorteile der jeweiligen Strahlungsquellen wird auf die vorstehenden Ausführungen verwiesen.The UV radiation source of the respiratory protection set according to the invention may be one or more Hg low pressure radiators and / or one or more have multiple UV LEDs. In terms of features and benefits the respective radiation sources is based on the above statements directed.

In einer bevorzugten Ausführungsform weist die UV-Basisstation des Atemschutzsets ein die UV-Strahlungsquelle abschirmendes Gehäuse auf. Dadurch wird die Umgebung vor UV-Strahlen geschützt. Des Weiteren steht ein größtmöglicher Anteil der emittierten Strahlung für die Behandlung des Filterelements zur Verfügung.In a preferred embodiment, the UV base station of the respirator a shielding the UV radiation source housing on. This protects the environment from UV rays. Furthermore, stands the greatest possible Proportion of emitted radiation for the treatment of Filter element available.

Dabei ist eine Ausgestaltung bevorzugt, bei der die Atemschutzmaske in dem Gehäuse aufnehmbar ist. Alternativ ist eine Ausgestaltung des Gehäuses möglich, bei der das Filterelement der Atemschutzmaske durch An- bzw. Auflegen der Maske an bzw. auf das Gehäuse behandelbar ist. Dazu kann das Gehäuse bspw. eine transparente Scheibe aufweisen, auf die die Atemschutzmaske auflegbar ist.there an embodiment is preferred in which the respirator in the housing is receivable. Alternatively, an embodiment of the housing possible, in which the filter element the respirator by applying or placing the mask on or the housing is treatable. This can be the case For example, have a transparent disc on which the respirator can be placed.

Das Gehäuse verfügt zweckmäßigerweise über einen Stromanschluss oder über eine interne Stromversorgung der UV-Strahlungsquelle über einen Akkumulator oder eine Batterie.The Housing expediently has over a power connection or an internal power supply the UV radiation source via an accumulator or a Battery.

Nach einer bevorzugten Weiterbildung weist die UV-Basisstation des Atemschutzsets Mittel zur automatischen Durchführung eines vorher festgelegten Behandlungszyklus für das Filterelement auf. Hierzu kann das Gehäuse über ein elektronisches Bauteil verfügen, in dem ein derartiger Behandlungszyklus abgespeichert ist und nach Wahl des Benutzers gestartet wird und danach automatisch abläuft. Festlegbare Parameter für einen solchen Behandlungszyklus sind bspw. die Behandlungsdauer und die Bestrahlungsintensität. Dabei kann es vorteilhaft erscheinen, die Bestrahlungsintensität während des Behandlungszyklus zu variieren.To In a preferred development, the UV base station of the respiratory protection set Means for automatically performing a predetermined Treatment cycle for the filter element. For this purpose can the housing have an electronic component, in which such a treatment cycle is stored and after Selection of the user is started and then runs automatically. fixable Parameters for such a treatment cycle are, for example. the duration of treatment and the intensity of irradiation. there It may seem advantageous, the irradiation intensity to vary during the treatment cycle.

Es gibt nun verschiedene Möglichkeiten, die Lehre der vorliegenden Erfindung in vorteilhafter Weise auszugestalten und weiterzubilden. Dazu ist einerseits auf die nachgeordneten Patentansprüche und andererseits auf die nachfolgende Erläuterung jeweils eines bevorzugten Ausführungsbeispiels der erfindungsgemäßen Filtereinrichtung sowie der erfindungsgemäßen Atemschutzmaske zu verweisen. In Verbindung mit der Erläuterung der bevorzugten Ausführungsbeispiele anhand der Zeichnung werden auch im Allgemeinen bevorzugte Ausgestaltungen und Weiterbildungen der Lehre erläutert. In der Zeichnung zeigenIt Now there are different ways of teaching the present Invention in an advantageous manner and further develop. On the one hand to the subordinate claims and on the other hand, the following explanation of each one preferred embodiment of the invention Filter device and the invention Respiratory mask. In conjunction with the explanation the preferred embodiments with reference to the drawing are also generally preferred embodiments and developments explained the teaching. In the drawing show

1 eine schematische Schnittdarstellung einer Ausführungsform der erfindungsgemäßen Filtereinrichtung, 1 a schematic sectional view of an embodiment of the filter device according to the invention,

2 eine seitliche schematische Schnittdarstellung einer Ausführungsform der erfindungsgemäßen Atemschutzmaske, und 2 a side schematic sectional view of an embodiment of the respirator according to the invention, and

3 eine frontale schematische Schnittdarstellung der Atemschutzmaske aus 2. 3 a frontal schematic sectional view of the respirator 2 ,

1 zeigt eine schematische Schnittdarstellung einer bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Filtereinrichtung. Ein erfindungsgemäßes Filterelement 1, das ein Filtermaterial 2 aufweist, ist in einem Gehäuse 3 angeordnet. Zwischen dem oberen und dem unteren Teil des Gehäuses 3 sind im Filtermaterial 2 Strömungspfade bzw. Poren für das zu reinigende Fluid ausgebildet. 1 shows a schematic sectional view of a preferred embodiment of the filter device according to the invention. A filter element according to the invention 1 that is a filter material 2 has, is in a housing 3 arranged. Between the upper and the lower part of the housing 3 are in the filter material 2 Flow paths or pores formed for the fluid to be cleaned.

In diesem Fall durchströmt das zu reinigende Fluid das Filtermaterial 2 von links nach rechts, was durch die dicken schwarzen Pfeile angedeutet wird. Dementsprechend dient der linke Rand des Filterelements 1 als Einlass 4 und der rechte Rand des Filterelements 1 als Auslass 5 für das Fluid. Zwischen dem oberen und dem unteren Teil des Gehäuses 3 weist das Filterelement 1 eine Durchströmungszone für das Fluid auf. In diesem speziellen Fall ist das zu reinigende Fluid Luft, die insbesondere von Mikroorganismen befreit werden soll.In this case, the fluid to be cleaned flows through the filter material 2 from left to right, which is indicated by the thick black arrows. Accordingly, the left edge of the filter element is used 1 as an inlet 4 and the right edge of the filter element 1 as an outlet 5 for the fluid. Between the upper and the lower part of the housing 3 has the filter element 1 a flow-through zone for the fluid. In this particular case, the fluid to be cleaned is air which is to be freed from microorganisms in particular.

In erfindungsgemäßer Weise ist außerhalb des Filterelements 1, nämlich im Gehäuse 3, eine UV-Strahlungsquelle 6 angeordnet. Mit der UV-Strahlungsquelle 6 ist das Filtermaterial 2 mit UV-Licht beaufschlagbar.In accordance with the invention is outside the filter element 1 namely in the housing 3 , a source of UV radiation 6 arranged. With the UV radiation source 6 is the filter material 2 can be acted upon by UV light.

Das Filterelement 1 weist eine vorbestimmte Durchlasscharakteristik auf. Mit anderen Worten weisen die Poren bzw. die Strömungspfade für das Fluid eine genau definierte Maximalgröße auf, so dass Partikel, die diese Maximalgröße überschrei ten, im Filtermaterial 2 zurückgehalten werden. Andere Partikel, deren Größe den Porendurchmesser unterschreitet, können zwar durch den Filter hindurchtreten, sind jedoch währenddessen der UV-Strahlung ausgesetzt und können so inaktiviert werden. In entsprechender Weise werden größere Partikel inaktiviert, die mechanisch im Filter zurückgehalten werden. Dadurch wird eine Vermehrung bzw. Kulturbildung von Mikroorganismen im Filter und letztlich ein „Durchbruch" der Mikroben durch das Filtermaterial 2 verhindert.The filter element 1 has a predetermined transmission characteristic. In other words, the pores or the flow paths for the fluid have a precisely defined maximum size, so that particles which exceed this maximum size exceed the filter material 2 be withheld. Other particles whose size is less than the pore diameter can pass through the filter, but are exposed to the UV radiation during this time and can thus be inactivated. Similarly, larger particles are inactivated, which are mechanically retained in the filter. This results in an increase or culture of microorganisms in the filter and ultimately a "breakthrough" of microbes through the filter material 2 prevented.

Die UV-Strahlungsquelle 6 wird über einen elektrischen Anschluss, durch einen Akkumulator oder durch eine Batterie (nicht dargestellt) mit elektrischer Energie versorgt.The UV radiation source 6 is supplied via an electrical connection, by an accumulator or by a battery (not shown) with electrical energy.

Das Filtermaterial 2 ist für UV-Strahlung mit einer Wellenlänge von ca. 450 nm oder weniger durchlässig und/oder leitfähig. Dazu besteht das Filtermaterial 2 aus Polymerfasern, die an der Oberfläche zusätzlich mit dem Fotohalbleiter Titandioxid versehen sind. Die Fasern des Filtermaterials 2 liegen dicht an dicht und bilden ein Nonwoven-Material, nämlich ein Vlies.The filter material 2 is transparent and / or conductive to UV radiation having a wavelength of about 450 nm or less. This is the filter material 2 from polymer fibers which are additionally provided on the surface with the photo-semiconductor titania. The fibers of the filter material 2 lie close together and form a nonwoven material, namely a fleece.

Das von der UV-Strahlungsquelle 6 abgestrahlte Licht kann randnahe Bereiche des Filtermaterials 2 durchdringen und so unmittelbar oder mittels der Fotoaktivierung des Titandioxids Mikroorganismen abtöten. Da die Fasern des Filtermaterials 2 darüber hinaus lichtleitende Eigenschaften aufweisen, wird die UV-Strahlung gleichzeitig an der Oberfläche des Filtermaterials 2 in das Filterelement 1 „eingekoppelt" und dadurch in alle Bereiche des Filterelements 1 transportiert.That of the UV radiation source 6 radiated light can be near-edge areas of the filter material 2 penetrate and thus kill microorganisms directly or by photoactivation of titanium dioxide. Because the fibers of the filter material 2 In addition, have light-conducting properties, the UV radiation is simultaneously on the surface of the filter material 2 in the filter element 1 "Coupled" and thereby in all areas of the Filterele ments 1 transported.

Darüber hinaus streuen die Fasern einen Teil der UV-Strahlung, so dass ein gewisser Anteil des Lichts auch an der Faseroberfläche austritt. Dort kann das gestreute UV-Licht auf den Fotohalbleiter Titandioxid auftreffen und ihn aktivieren.About that In addition, the fibers scatter a portion of the UV radiation, leaving a certain amount of light also on the fiber surface exit. There, the scattered UV light on the photo semiconductor titanium dioxide hit and activate it.

Die oxidierende Wirkung des fotoaktivierten Halbleiters ist dabei nicht auf Mikroorganismen beschränkt. Es lassen sich damit auch andere Verunreinigungen wie Nikotin, Formaldehyd, aromatische Lösungsmittel (insbesondere PCB) und dgl. so oxidieren, dass sie am Auslass 5 nicht mehr oder in einer nicht mehr schädlichen Konzentration vorhanden sind.The oxidizing effect of the photoactivated semiconductor is not limited to microorganisms. It can thus also other impurities such as nicotine, formaldehyde, aromatic solvents (especially PCB) and the like. Oxidize so that they at the outlet 5 are no longer present or in a no longer harmful concentration.

Mit der vorgeschlagenen Filtereinrichtung lassen sich hervorragende Ergebnisse in der Entkeimung von Gasen erzielen. Dabei kann die UV-Strahlungsquelle 6 auch in einer (nicht dargestellten) Seitenwand des Gehäuses 3 angeordnet sein. Alternativ kann die UV-Strahlungsquelle 6 auch außerhalb des Gehäuses 3 angeordnet sein, und es kann zwischen der UV-Strahlungsquelle 6 und dem Filterelement 1 ein Lichtleiter vorgesehen werden, mit der das Filtermaterial 2 dennoch mit der UV-Strahlung beaufschlagbar ist.With the proposed filter device can be achieved excellent results in the sterilization of gases. In this case, the UV radiation source 6 also in a (not shown) side wall of the housing 3 be arranged. Alternatively, the UV radiation source 6 also outside the case 3 be arranged, and it can be between the UV radiation source 6 and the filter element 1 a light guide can be provided, with which the filter material 2 Nevertheless, can be acted upon by the UV radiation.

2 zeigt eine seitliche schematische Schnittdarstellung einer bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Atemschutzmaske. Die Atemschutzmaske weist ein Filterelement 1 auf, das in einem Gehäuse 3' festgelegt ist. Das Gehäuse 3' dient dabei einerseits zum Halten des Filterelements 1 und andererseits zum Abschirmen zumindest der Mund- und Nasenpartie des Benutzers vor ungereinigter Umgebungsluft. Durch das Filtermaterial 2 des Filterelements 1 wird die Umgebungsluft von Verschmutzungen, insbesondere von Mikroorganismen, befreit. Das Filtermaterial 2 ist dabei derart ausgestaltet, wie anhand der erfindungsgemäßen Filtereinrichtung in 1 beschrieben worden ist. Alternativ kann das Filtermaterial 2 nach jeder der vorstehend für das erfindungsgemäße Filterelement 1 beschriebenen Ausführungsformen ausgestaltet sein. Der Strom von zu- bzw. abgeführter Atemluft in das Gehäuse 3' bzw. aus dem Gehäuse 3' heraus wird durch die breiten Pfeile verdeutlicht. Dabei ist der linke Rand des Filterelements 1 als Einlass 4 und der rechte Rand als Auslass 5 für die zuzuführende Atemluft ausgebildet. 2 shows a lateral schematic sectional view of a preferred embodiment of the respirator according to the invention. The respirator has a filter element 1 on, in a case 3 ' is fixed. The housing 3 ' serves on the one hand to hold the filter element 1 and on the other hand to shield at least the mouth and nose of the user from uncleaned ambient air. Through the filter material 2 of the filter element 1 the ambient air is freed of dirt, especially of microorganisms. The filter material 2 is designed in such a way as based on the filter device according to the invention in 1 has been described. Alternatively, the filter material 2 after each of the above for the filter element according to the invention 1 be configured described embodiments. The flow of supplied or exhausted breathing air into the housing 3 ' or from the housing 3 ' out is illustrated by the broad arrows. Here is the left edge of the filter element 1 as an inlet 4 and the right edge as an outlet 5 trained for the supplied breath.

In erfindungsgemäßer Weise ist im Gehäuse 3', nämlich unterhalb des Filterelements 1, eine UV-Strahlungsquelle 6 angeordnet. Diese UV-Strahlungsquelle 6 weist eine UV-LED 7 auf. Die UV-LED 7 wird von der weiter unterhalb, aber ebenfalls im Gehäuse 3' angeordneten Batterie 8 mit Strom versorgt. Alternativ kann statt der Batterie 8 ein Akkumulator vorgesehen werden. Des Weiteren kann die Atemschutzmaske mit einem Stromkabel direkt an eine Spannungsversorgung angeschlossen sein.In accordance with the invention is in the housing 3 ' namely below the filter element 1 , a source of UV radiation 6 arranged. This UV radiation source 6 has a UV LED 7 on. The UV LED 7 is from the further below, but also in the case 3 ' arranged battery 8th powered. Alternatively, instead of the battery 8th an accumulator can be provided. Furthermore, the respirator can be connected directly to a power supply with a power cable.

Durch die UV-LED 7 können sowohl im Filtermaterial 2 zurückgehaltene als auch das Filterelement 1 passierende Mikroorganismen mit UV-Strahlung beaufschlagt und vernichtet werden, nämlich wie obenstehend beschrieben. Dabei wird das gesamte Filtermaterial 2 von der emittierten UV-Strahlung erreicht, nämlich einerseits aufgrund der Durchlässigkeit und andererseits aufgrund der Leitfähigkeit des Filtermaterials 2 für das eingestrahlte UV-Licht.Through the UV-LED 7 can both in the filter material 2 retained as well as the filter element 1 passing microorganisms are exposed to UV radiation and destroyed, namely as described above. This is the entire filter material 2 achieved by the emitted UV radiation, namely on the one hand due to the permeability and on the other hand, due to the conductivity of the filter material 2 for the irradiated UV light.

3 zeigt eine frontale schematische Schnittdarstellung der erfindungsgemäßen Atemschutzmaske. Am Gehäuse 3' ist eine Halteeinrichtung 9 angeordnet, mit der die Atemschutzmaske vor dem Mund- bzw. Nasenbereich des Benutzers positioniert und gehalten werden kann. In dieser Figur ist durch die schwarzen Pfeile besonders deutlich gezeigt, wie sich aufgrund der speziellen Ausgestaltung des verwendeten Filtermaterials 2 das eingestrahlte UV-Licht im gesamten Filterelement 1 verteilt. Die direkt angestrahlte Fläche des Filtermaterials 2 kann dabei klein sein, aufgrund der Durchdringung und Durchleitung des UV-Lichts im Filtermaterial 2 wird dennoch jeder Punkt des Filterelements 1 erreicht, wobei eine unmittelbare Inaktivierung oder eine mittelbare Inaktivierung von Mikroorganismen über die Wirkung des vorhandenen Fotohalbleitermaterials stattfindet. 3 shows a frontal schematic sectional view of the respirator according to the invention. At the housing 3 ' is a holding device 9 arranged with the respirator can be positioned and held in front of the mouth or nose area of the user. In this figure, the black arrows show particularly clearly how, due to the special design of the filter material used 2 the irradiated UV light in the entire filter element 1 distributed. The directly illuminated surface of the filter material 2 can be small, due to the penetration and transmission of UV light in the filter material 2 will still be any point of the filter element 1 achieved, with an immediate inactivation or an indirect inactivation of microorganisms via the action of the existing photo semiconductor material takes place.

Aus diesem Grund kann bei der erfindungsgemäßen Atemschutzmaske die Porenweite des Filtermaterials 2 vergrößert werden, wodurch das Atmen deutlich erleichtert wird. Es wird trotz der größeren Porenweite eine sichere Inaktivierung von Mikroorganismen erreicht.For this reason, in the respiratory mask according to the invention, the pore size of the filter material 2 be enlarged, making breathing much easier. It is achieved despite the larger pore size safe inactivation of microorganisms.

Abschließend sei hervorgehoben, dass die voranstehend beschriebenen Ausführungsbeispiele die beanspruchte Lehre erörtern, diese jedoch nicht auf die Ausführungsbeispiele einschränken.Finally It should be emphasized that the embodiments described above the However, they do not discuss the doctrine claimed Restricting embodiments.

11
Filterelementfilter element
22
Filtermaterialfilter material
33
Gehäuse (Filtereinrichtung)casing (Filter means)
3'3 '
Gehäuse (Atemschutzmaske)casing (Respirator)
44
Einlassinlet
55
Auslassoutlet
66
UV-StrahlungsquelleUV radiation source
77
UV-Leuchtdiode (UV-LED)UV light emitting diode (UV-LED)
88th
Batteriebattery
99
Halteeinrichtungholder

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Claims (29)

Filterelement (1) mit einer Durchströmungszone für ein Fluid, wobei das Filterelement (1) ein Filtermaterial (2) aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass das Filtermaterial (2) für UV-Strahlung mit einer Wellenlänge von ca. 450 nm oder weniger durchlässig und/oder leitfähig ist.Filter element ( 1 ) with a flow-through zone for a fluid, wherein the filter element ( 1 ) a filter material ( 2 ), characterized in that the filter material ( 2 ) is transparent and / or conductive to UV radiation having a wavelength of about 450 nm or less. Filterelement (1) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Filtermaterial (2) für UV-Strahlung mit einer Wellenlänge von ca. 380 nm bis ca. 420 nm, insbesondere für UV-Strahlung mit einer Wellenlänge von ca. 400 nm bis ca. 420 nm, durchlässig und/oder leitfähig ist.Filter element ( 1 ) according to claim 1, characterized in that the filter material ( 2 ) for UV radiation having a wavelength of about 380 nm to about 420 nm, in particular for UV radiation having a wavelength of about 400 nm to about 420 nm, is permeable and / or conductive. Filterelement (1) nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Porendurchmesser innerhalb der Durchströmungszone ca. 1 μm bis ca. 10 μm, insbesondere ca. 1 μm bis ca. 2 μm, beträgt.Filter element ( 1 ) according to claim 1 or 2, characterized in that the pore diameter within the flow-through zone about 1 .mu.m to about 10 .mu.m, in particular about 1 .mu.m to about 2 microns, is. Filterelement (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass das Filtermaterial (2) lichtleitende Eigenschaften aufweist.Filter element ( 1 ) according to one of claims 1 to 3, characterized in that the filter material ( 2 ) has photoconductive properties. Filterelement (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Filtermaterial (2) ein Polymer oder eine Polymermischung aufweist.Filter element ( 1 ) according to one of claims 1 to 4, characterized in that the filter material ( 2 ) comprises a polymer or a polymer mixture. Filterelement (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass das Filtermaterial (2) Fasern aufweist.Filter element ( 1 ) according to one of claims 1 to 5, characterized in that the filter material ( 2 ) Fibers. Filterelement (1) nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Fasern einen Durchmesser von ca. 0,5 μm bis ca. 500 μm aufweisen.Filter element ( 1 ) according to claim 6, characterized in that the fibers have a diameter of about 0.5 microns to about 500 microns. Filterelement (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass das Filtermaterial (2) ein Nonwoven-Material, insbesondere ein Vlies, aufweist.Filter element ( 1 ) according to one of claims 1 to 7, characterized in that the filter material ( 2 ) comprises a nonwoven material, in particular a nonwoven. Filterelement (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass das Filtermaterial (2) ein Halbleitermaterial, insbesondere ein Fotohalbleiter-material, aufweist.Filter element ( 1 ) according to one of claims 1 to 8, characterized in that the filter material ( 2 ) comprises a semiconductor material, in particular a photo semiconductor material. Filterelement (1) nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass der Anteil des Halbleitermaterials an dem Filtermaterial (2) ca. 0,5 Gew.-% bis ca. 2 Gew.-%, insbesondere ca. 1 Gew.-%, beträgt.Filter element ( 1 ) according to claim 9, characterized in that the proportion of the semiconductor material to the filter material ( 2 ) about 0.5 wt .-% to about 2 wt .-%, in particular about 1 wt .-%, is. Filterelement (1) nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, dass das Halbleitermaterial auf der Oberfläche des Filtermaterials (2) verteilt und/oder oder im Filtermaterial (2) dispergiert ist.Filter element ( 1 ) according to claim 9 or 10, characterized in that the semiconductor material on the surface of the filter material ( 2 ) and / or in the filter material ( 2 ) is dispersed. Filterelement (1) nach einem der Ansprüche 9 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass das Halbleitermaterial Titandioxid aufweist.Filter element ( 1 ) according to one of claims 9 to 11, characterized in that the semiconductor material comprises titanium dioxide. Filterelement (1) nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass der Anteil der Modifikation Anatas an dem Titandioxid ca. 75 Gew.-% bis ca. 95 Gew.-%, insbesondere ca. 85 Gew.-%, beträgt.Filter element ( 1 ) according to claim 12, characterized in that the proportion of the modification of anatase on the titanium dioxide about 75 wt .-% to about 95 wt .-%, in particular about 85 wt .-%, is. Filtereinrichtung mit einem Filterelement (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 13 und einer UV-Strahlungsquelle (6), wobei die UV-Strahlungsquelle (6) so angeordnet ist, dass das Filterelement (1) mit UV-Strahlung beaufschlagbar ist.Filter device with a filter element ( 1 ) according to one of claims 1 to 13 and a UV radiation source ( 6 ), the UV radiation source ( 6 ) is arranged so that the filter element ( 1 ) can be acted upon with UV radiation. Filtereinrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass die UV-Strahlungsquelle (6) UV-Strahlung mit einer Wellenlänge von ca. 253 nm bis ca. 450 nm, insbesondere von ca. 380 nm bis ca. 420 nm, emittiert.Filter device according to claim 14, characterized in that the UV radiation source ( 6 ) UV radiation having a wavelength of about 253 nm to about 450 nm, in particular from about 380 nm to about 420 nm emitted. Filtereinrichtung nach Anspruch 14 oder 15, dadurch gekennzeichnet, dass die UV-Strahlungsquelle (6) einen oder mehrere Hg-Niederdruckstrahler und/oder eine oder mehrere UV-LED (7) aufweist.Filter device according to claim 14 or 15, characterized in that the UV radiation source ( 6 ) one or more Hg low-pressure radiators and / or one or more UV LEDs ( 7 ) having. Filtereinrichtung nach einem der Ansprüche 14 bis 16, dadurch gekennzeichnet, dass die UV-Strahlungsquelle (6) außerhalb des Filterelements (1) angeordnet ist.Filter device according to one of claims 14 to 16, characterized in that the UV radiation source ( 6 ) outside the filter element ( 1 ) is arranged. Filtereinrichtung nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, dass die UV-Strahlungsquelle (6) benachbart zum Filterelement (1) angeordnet ist.Filter device according to claim 17, characterized in that the UV radiation source ( 6 ) adjacent to the filter element ( 1 ) is arranged. Filtereinrichtung nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, dass die UV-Strahlungsquelle (6) vom Filterelement (1) beabstandet angeordnet ist, und dass ein Lichtleiter zwischen der UV-Strahlungsquelle (6) und dem Filterelement (1) vorgesehen ist.Filter device according to claim 17, characterized in that the UV radiation source ( 6 ) from the filter element ( 1 ) and that a light guide between the UV radiation source ( 6 ) and the filter element ( 1 ) is provided. Atemschutzmaske mit einem Gehäuse (3') und einer Halteeinrichtung (9), gekennzeichnet durch eine Filtereinrichtung nach einem der Ansprüche 14 bis 19.Respirator with a housing ( 3 ' ) and a holding device ( 9 ), characterized by a filter device according to one of claims 14 to 19. Atemschutzmaske nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, dass die UV-Strahlungsquelle (6) eine oder mehrere UV-LED (7) aufweist.Respiratory mask according to claim 20, characterized in that the UV radiation source ( 6 ) one or more UV LEDs ( 7 ) having. Atemschutzmaske nach Anspruch 20 oder 21, dadurch gekennzeichnet, dass die UV-Strahlungsquelle (6) durch einen Akkumulator oder eine Batterie (8) gespeist wird.Respiratory mask according to claim 20 or 21, characterized in that the UV radiation source ( 6 ) by an accumulator or a battery ( 8th ) is fed. Atemschutzmaske nach einem der Ansprüche 20 bis 22, dadurch gekennzeichnet, dass die UV-Strahlungsquelle (6) einen oder mehrere Hg-Niederdruckstrahler aufweist.Respiratory mask according to one of claims 20 to 22, characterized in that the UV radiation source ( 6 ) has one or more Hg low-pressure radiators. Atemschutzmaske nach einem der Ansprüche 20 bis 23, dadurch gekennzeichnet, dass in der Atemschutzmaske, insbesondere im Gehäuse (3'), ein Anschluss für die Stromversorgung der UV-Strahlungsquelle (6) ausgebildet ist.Respiratory mask according to one of claims 20 to 23, characterized in that in the Respiratory mask, in particular in the housing ( 3 ' ), a connection for the power supply of the UV radiation source ( 6 ) is trained. Atemschutzset, umfassend eine Atemschutzmaske mit einem Filterelement (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 13 und eine UV-Basisstation, welche zumindest eine UV-Strahlungsquelle (6) aufweist, wobei die Atemschutzmaske so an bzw. in die UV-Basisstation positionierbar ist, dass das Filterelement (1) mit UV-Strahlung beaufschlagbar ist.Respiratory protective kit comprising a respiratory mask with a filter element ( 1 ) according to one of claims 1 to 13 and a UV base station which comprises at least one UV radiation source ( 6 ), wherein the respirator can be positioned on or in the UV base station, that the filter element ( 1 ) can be acted upon with UV radiation. Atemschutzset nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, dass die UV-Strahlungsquelle (6) einen oder mehrere Hg-Niederdruckstrahler und/oder eine oder mehrere UV-LED (7) aufweist.Respiratory protection set according to claim 25, characterized in that the UV radiation source ( 6 ) one or more Hg low-pressure radiators and / or one or more UV LEDs ( 7 ) having. Atemschutzset nach Anspruch 25 oder 26, dadurch gekennzeichnet, dass die UV-Basisstation ein die UV-Strahlungsquelle (6) abschirmendes Gehäuse aufweist.Respiratory protection set according to claim 25 or 26, characterized in that the UV base station is a UV radiation source ( 6 ) has shielding housing. Atemschutzset nach Anspruch 27, dadurch gekennzeichnet, dass die Atemschutzmaske in dem Gehäuse aufnehmbar ist.Respiratory protection set according to claim 27, characterized the respirator can be received in the housing. Atemschutzset nach einem der Ansprüche 25 bis 28, dadurch gekennzeichnet, dass die UV-Basisstation Mittel zur automatischen Durchführung eines vorher festgelegten Behandlungszyklus für das Filterelement (1) aufweist.Respiratory protection set according to one of claims 25 to 28, characterized in that the UV base station comprises means for automatically carrying out a predetermined treatment cycle for the filter element ( 1 ) having.
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