Ein
in der refraktiven Optik häufig
anzutreffendes Problem ist die allmähliche Verminderung der Transmission
von Linsen oder anderen, von Licht durchstrahlten optischen Bauteilen.
Dieses Problem tritt besonders gravierend bei UV/VIS-Optiken auf.One
in refractive optics frequently
The problem encountered is the gradual reduction in transmission
of lenses or other light-transmitted optical components.
This problem is particularly serious in UV / VIS optics.
Herkömmlich begegnet
man dieser Tendenz mit regelmäßiger Reinigung
der Linsenoberflächen.
Dabei sind besondere Abfolgen der zur Reinigung verwendeten Lösungsmittel
zu beachten; zudem sind einige dieser Lösungsmittel toxisch. Dieses
Verfahren ist daher zeitaufwendig, kompliziert, nur von eigens ausgebildetem
Personal und nur manuell durchführbar
und außerdem
in aller Regel mit einer Nachjustage der optischen Anordnung verbunden,
die ihrerseits die gleichen Nachteile aufweist. Bei hochgenau gefertigten
HL-Objektiven für
die UV-Lithographie, wie den in den internationalen Patentanmeldungen WO 2005/054956 und WO 2006/069795 beschriebenen,
ist überhaupt
eine solche Reinigung nicht zweckmäßig. Statt dessen kapselt man
solche Objektive aufwendig ein, wie aus der europäischen Patentanmeldung EP 1 143 491 A1 bekannt ist
(siehe 1). Es hat sich aber herausgestellt, daß dadurch
die Transmissionsverschlechterung nicht zu beheben ist.Conventionally, this tendency has been met with regular cleaning of the lens surfaces. Special sequences of the solvents used for cleaning must be observed; In addition, some of these solvents are toxic. This method is therefore time consuming, complicated, only by specially trained personnel and only manually feasible and also usually associated with a readjustment of the optical arrangement, which in turn has the same disadvantages. For high-precision HL lenses for UV lithography, such as those in international patent applications WO 2005/054956 and WO 2006/069795 described, such cleaning is not appropriate at all. Instead, encapsulating such lenses consuming, as from the European patent application EP 1 143 491 A1 is known (see 1 ). However, it has been found that the transmission deterioration can not be remedied thereby.
Die
Erfindung setzt sich daher zum Ziel, die Transmission von optischen
Bauteilen auf einfachere Weise zu stabilisieren.The
Invention therefore sets itself the goal of the transmission of optical
Stabilize components in an easier way.
Zur
Lösung
dieses Problems schlägt
die Erfindung vor, die Oberflächen
wenigstens einer der Linsen eines Objektivs für eine UV-Projektionsanlage
mit einer geringfügig
leitfähigen
oder photoleitfähigen
Schicht oder Struktur zu versehen, und diese Schicht oder Struktur
mit dem Objektiv-Gehäuse
in elektrisch leitenden Kontakt zu bringen.to
solution
this problem strikes
the invention before, the surfaces
at least one of the lenses of a lens for a UV projection system
with a slight
conductive
or photoconductive
Layer or structure, and this layer or structure
with the lens housing
to bring into electrically conductive contact.
Unter
einem weiteren Aspekt schlägt
die Erfindung vor, in der näheren
oder nächsten
Umgebung der Linsenoberfläche
eine Quelle kurzreichweitiger ionisierender Strahlung anzuordnen.Under
another aspect strikes
the invention before, in the closer
or next
Surrounding the lens surface
to arrange a source of short-range ionizing radiation.
Unter
einem weiteren Aspekt schlägt
die Erfindung optische Anordnungen mit leitfähig beschichteten Linsenoberflächen, durch
Dotierung leitfähig
gemachten Linsenoberflächen
bzw. mit in einem Linsengehäuse angeordneter α-Strahlungsquelle
vor.Under
another aspect strikes
the invention optical arrangements with conductive coated lens surfaces, by
Doping conductive
made lens surfaces
or with arranged in a lens housing α-radiation source
in front.
Alle
Aspekte können
vorteilhaft miteinander kombiniert werden.All
Aspects can
be advantageously combined with each other.
Die
Erfindung geht aus von der Vorstellung, daß die Ursache für die im
Zeitverlauf verminderte Transmission eine Folge sich an der Linsenoberfläche akkumulierender
elektrischer Ladung ist. Es ist bekannt, daß sich die Transmission von
CaF2 deutlich vermindert, wenn man das Material
einem elektrischen Feld aussetzt ( A. De und K. V. Rao, Phys.
Stat. Sol. (a) 105, 297 (1988) ). Der Aufladungs-Effekt
tritt besonders stark in Erscheinung, wenn das Material bei geringer
Luftfeuchtigkeit gehandhabt wird; es kann unter solchen Bedingungen
sogar zu Überschlägen kommen,
durch welche hochgenau gefertigte Oberflächen zerstört werden können. Als Folge der statischen
Aufladung kommt es außerdem
vermutlich zu einer zunehmenden Attraktion von Verunreinigungen
aus dem umgebenden Gasraum. Als Ursache der Aufladung kommt ein
triboelektrischer Effekt durch vorbeiströmendes Gas, und/oder die Einstrahlung
von kurzwelligem Licht in Betracht.The invention is based on the idea that the cause of the reduced transmission over time is a consequence of accumulating electrical charge on the lens surface. It is known that the transmission of CaF 2 is significantly reduced when the material is exposed to an electric field ( A. De and KV Rao, Phys. Stat. Sol. (a) 105, 297 (1988) ). The charging effect is particularly pronounced when the material is handled at low humidity; it can even come under such conditions to flashovers, which can be destroyed by highly accurate surfaces manufactured. As a result of the static charge, there is also likely to be an increasing attraction of contaminants from the surrounding gas space. The cause of the charge is a triboelectric effect by passing gas, and / or the irradiation of short-wave light into consideration.
Die
Erfindung löst
das Problem, indem sie durch eine leitfähige Linsenoberfläche, oder
durch eine Bereitstellung elektrischer Leitfähigkeit des umgebenden Gasraums,
dafür sorgt,
daß sich
keine elektrischen Ladungen mehr akkumulieren können. Hierzu wird die Linsenoberfläche mit
einem leitfähigen
Material beschichtet; die Linsenoberfläche selbst wird leitfähig gemacht;
und/oder das umgebende Gas wird ionisiert.The
Invention solves
the problem by passing through a conductive lens surface, or
by providing electrical conductivity of the surrounding gas space,
ensures
that yourself
no more electric charges can accumulate. For this purpose, the lens surface with
a conductive
Coated material; the lens surface itself is made conductive;
and / or the surrounding gas is ionized.
Die
erforderliche Leitfähigkeit
ist gering, da die abfließenden
Ströme
nur von der Größenordnung
der Ladungsakkumulationsrate sein müssen. Entsprechend reichen
geringe Beschichtungsdicken, Dotierungen bzw. Strahlungsaktivitäten aus,
um den transmissionsstabilisierenden Effekt zu erreichen.The
required conductivity
is low as the outflowing
streams
only of the order of magnitude
must be the charge accumulation rate. So rich
low coating thicknesses, doping or radiation activities,
to achieve the transmission stabilizing effect.
Insbesondere
schlägt
die Erfindung eine netzartige Struktur aus Metall zur Ableitung
von Oberflächenladungen
von einer CaF2-Linse vor.In particular, the invention proposes a net-like structure of metal for deriving surface charges from a CaF 2 lens.
Besonders
vorteilhaft ist es, wenn nur der periphere, nicht durchstrahlte
Teil eine leitfähige
Beschichtung aufweist. Hierdurch kann die Transmissionsverringerung
durch die Beschichtung gering gehalten werden. Es ist auch bevorzugt,
eine Strahlungsquelle so anzuordnen, daß im achsnahen Gasraum eine
Ionisierung des Füllgases
auftritt. In Kombination mit der Leitfähigkeit des peripheren Linsenteils
reicht diese zur Abführung der
Oberflächenladungen
aus.It is particularly advantageous if only the peripheral, non-irradiated part has a conductive coating. As a result, the reduction in transmission through the coating can be kept low. It is also preferred to arrange a radiation source so that an ionization of the filling gas occurs in the gas space close to the axis. In combination with the conductivity of the peripheral lens part, this is sufficient for removal of surface charges.
Es
ist auch vorteilhaft, den achsnahen Teil der Linse leitfähig zu beschichten,
da in diesem Linsenteil die Oberflächen eine geringe Neigung zu
den Kristallflächen
aufweisen und die Beschichtung daher relativ homogen ist. In Kombination
mit einer Ionisierung des Füllgases
im peripheren Gasraum, die wegen der geringeren Distanz zu der Strahlungsquelle
weniger von der Rekombination der erzeugten Ionen beeinflußt ist, reicht
auch die achsnahe Beschichtung zur Abführung der Oberflächenladungen
aus.It
is also advantageous to conductively coat the near-axis portion of the lens,
because in this lens part the surfaces have a low tendency to
the crystal surfaces
have and therefore the coating is relatively homogeneous. In combination
with an ionization of the filling gas
in the peripheral gas space, because of the smaller distance to the radiation source
less affected by the recombination of the ions produced is sufficient
also the near-axis coating for removing the surface charges
out.
Die
Technologie der Linsenoberflächenbeschichtung
ist an sich bekannt, da sie beispielsweise bei der Antireflexbeschichtung
zum Einsatz kommt. Hierbei werden jedoch herkömmlicherweise, im Gegensatz
zur vorliegenden Erfindung, dielektrische Schichten in einem Bereich
abseits des von der Halterung berührten Teils aufgebracht.The
Lens surface coating technology
is known per se, as for example in the antireflection coating
is used. Here, however, conventionally, in contrast
to the present invention, dielectric layers in one area
applied off the part touched by the holder.
Gemäß der Erfindung
besteht, über
die Linsenoberfläche
und/oder durch das teilweise ionisierte Füllgas, eine wenigstens geringfügig elektrisch
leitfähige
Verbindung von achsnahen Bereichen der Linse zu der Halterung oder
dem Gehäuse
der Linse. Die Halterung bzw. das Gehäuse ist zumindest an der Kontaktfläche leitfähig, bevorzugt
jedoch wenigstens teilweise aus Metall. Es ist ferner bevorzugt,
einen Masseschluß an
der Halterung bzw. dem Gehäuse
vorzusehen; je nach dessen Kapazität ist dies aber nicht zwingend
erforderlich. Dadurch kann eine auf die Linse aufgebrachte Oberflächenladung
abgeleitet werden, bevor sie akkumuliert. Die Transmission verringert
sich in der Folge deutlich langsamer, eine Oberflächenreinigung
ist daher seltener erforderlich oder überhaupt unnötig. Dadurch
kommt es auch nicht oder zumindest nur in größeren Zeitabständen zur
unbeabsichtigten Dejustage bei der Reinigung oder Wartung.According to the invention
exists, over
the lens surface
and / or by the partially ionized fill gas, one at least slightly electrically
conductive
Connection of near-axis areas of the lens to the holder or
the housing
the lens. The holder or the housing is conductive at least on the contact surface, preferably
but at least partially made of metal. It is further preferred
a ground fault
the holder or the housing
provide; but depending on its capacity this is not mandatory
required. This may cause a surface charge applied to the lens
be derived before it accumulates. The transmission decreases
significantly slower in the sequence, a surface cleaning
is therefore less required or unnecessary at all. Thereby
it does not happen or at least only at longer intervals
unintentional misalignment during cleaning or maintenance.
Die
Erfindung ist besonders vorteilhaft bei UV-Optiken anwendbar, weil,
erstens, UV-transmissive Materialien häufig hygroskopisch sind und
deshalb unter besonders trockenen Bedingungen gehandhabt werden, so
daß sich
auf ihnen kein Oberflächenladungen
ableitender Feuchtigkeitsfilm bildet. Zweitens haben Verunreinigungen
häufig
im ultravioletten Spektralbereich eine höhere Absorption als in anderen,
beispielsweise IR- oder VIS-Spektralbereichen. Drittens ist bei
UV-Optiken die Transmission ein tendenziell kritischer Parameter, besonders
bei hochkorrigierten, viellinsigen Systemen für die UV-Lithografie, weil
die Absorption des Linsenmaterials ebenfalls im UV-Bereich gewöhnlich höher ist
als im VIS-Bereich. Viertens ist die durch Verunreinigungen absorbierte
und letztlich in Wärme
umgewandelte Energie im kurzwelligen Bereich pro Photon besonders
hoch, so daß es
bei UV-Durchstrahlung besonders leicht zu irreversiblen Einbrennungen
kommen kann, und damit besonders auf die Vermeidung von Verunreinigungen
geachtet werden muß.
Fünftens
ist der materielle Schaden bei UV-Optiken besonders hoch, falls
es durch Einbrennungen dennoch zum permanenten Transmissionsverlust
kommt, weil UV-transmissive
Linsen in der Neu-Beschaffung und Bearbeitung relativ kostspielig
sind.The
Invention is particularly advantageous for UV optics, because,
First, UV-transmissive materials are often hygroscopic and
Therefore, be handled under particularly dry conditions, so
that yourself
no surface charges on them
dissipative moisture film forms. Second, have impurities
often
in the ultraviolet spectral range a higher absorption than in others,
for example, IR or VIS spectral ranges. Third is at
UV optics the transmission tends to be a critical parameter, especially
in highly corrected, multiple-lens systems for UV lithography because
the absorption of the lens material is also usually higher in the UV range
than in the VIS area. Fourth, it is absorbed by impurities
and ultimately in heat
converted shortwave energy per photon especially
high, so that it
with UV radiation particularly easy to irreversible burn-in
can come, and thus especially on the prevention of impurities
must be respected.
Fifth
the material damage in UV optics is particularly high, if
it still burns through to permanent loss of transmission
comes because UV transmissive
Lenses in the new procurement and processing relatively expensive
are.
Die
Erfindung wird daher bevorzugt auf UV-Objektive für die Lithographie
angewendet, wobei solche Objektive ein geschlossenes, mit trockenen
(< 10 ppm H2O) Gasen gespültes Gehäuse aufweisen. Insbesondere
ist die Erfindung anwendbar auf Objektive für UV-Licht der Wellenlängen 193
nm und 157 nm.The invention is therefore preferably applied to UV lenses for lithography, wherein such lenses have a closed, purged with dry (<10 ppm H 2 O) gases housing. In particular, the invention is applicable to lenses for UV light of wavelengths 193 nm and 157 nm.
In
solchen Objektiven ist es bevorzugt, die Oberflächen mit Antireflexbeschichtungen
zu versehen, beispielsweise bestehend aus alternierenden MgF2- und LaF3-Schichten
oder alternierenden SiO2- und Al2O3-Schichten von
jeweils etwa 5 bis 50 nm Dicke. Die Art, Dicke und Anzahl dieser
Schichten ist dabei an die verwendete Wellenlänge angepaßt.In such objectives, it is preferred to provide the surfaces with anti-reflection coatings, for example consisting of alternating MgF 2 and LaF 3 layers or alternating SiO 2 and Al 2 O 3 layers, each about 5 to 50 nm thick. The type, thickness and number of these layers is adapted to the wavelength used.
Gemäß einer
bevorzugten Ausführungsform
weist die erfindungsgemäße optische
Anordnung eine mit Gold oder Zirkonium beschichtete Linse auf. Zirkonium
ist geringfügig
leitfähig,
und weist im UV eine nur geringe Reflektivität und geringe Absorption auf.According to one
preferred embodiment
has the optical inventive
Arrangement on a coated with gold or zirconium lens. zirconium
is minor
conductive,
and has only low reflectivity and low absorption in the UV.
Gemäß einer
weiteren bevorzugten Ausführungsform
weist die erfindungsgemäße optische
Anordnung eine beispielsweise mit Aluminium-Fremdionen dotierte
CaF2-Linse auf. Die dotierte Oberfläche ist
geringfügig
leitfähig,
und weist eine nur geringe Reflektivität und geringe Absorption auf.According to a further preferred embodiment, the optical arrangement according to the invention has a CaF 2 lens doped, for example, with aluminum foreign ions. The doped surface is slightly conductive and has only low reflectivity and low absorption.
Gemäß einer
weiteren bevorzugten Ausführungsform
weist die erfindungsgemäße optische
Anordnung eine mit Thoriumfluorid beschichtete CaF2-Linse
auf. Diese Beschichtung ist selbst dielektrisch, und verleiht der
Linse eine nur geringe Reflektivität und geringe Absorption, während sie
in Folge ihrer Strahlungsaktivität
das umgebende Gas geringfügig
ionisiert. Die dafür
erforderliche Aktivität
kann durch Anreicherung mit 230ThF4 erzielt werden.According to a further preferred embodiment, the optical arrangement according to the invention has a thorium fluoride-coated CaF 2 lens. This coating is itself dielectric, and confers low reflectivity and low absorption to the lens, while slightly ionizing the surrounding gas due to its radiation activity. The required activity can be achieved by enrichment with 230 ThF 4 .
Gemäß einer
weiteren bevorzugten Ausführungsform
weist die erfindungsgemäße optische
Anordnung ein Americium enthaltendes Gehäuse auf. Das Americium ist
radioaktiv, und ionisiert das umgebende Gas geringfügig. Die
erforderliche Aktivität
kann durch μg-Mengen
von 241Am erzielt werden. Bevorzugt ist
das Americiumpräparat
nahe an einem Spülgaszutritt
angeordnet.According to a further preferred embodiment, the optical arrangement according to the invention comprises an americium-containing housing. The americium is radioactive, and slightly ionizes the surrounding gas. The required activity can be achieved by μg levels of 241 Am. Preferably, the americium preparation is arranged close to a Spülgaszutritt.
Gemäß einer
besonders vorteilhaften Variante der Erfindung wird ein Beschichtungsmetall
nicht flächendeckend,
sondern solcherart auf die Linsenoberfläche aufgebracht, daß sich die
Metallatome, beispielsweise entlang der Lagengrenzen des Linsenmaterials,
eindimensional anordnen. Durch die Krümmung der Linsenoberfläche bildet
sich dabei auf ihr ein Netz aus Metallfäden, dessen Leitfähigkeit
einerseits ausreichend ist, die Ladungsakkumulationsrate zu reduzieren,
und dessen Transmission andererseits auch im UV-Bereich ausreichend
hoch ist.According to one
Particularly advantageous variant of the invention is a coating metal
not nationwide,
but applied to the lens surface in such a way that the
Metal atoms, for example along the ply boundaries of the lens material,
arrange one-dimensionally. Formed by the curvature of the lens surface
thereby on it a net of metal threads, its conductivity
on the one hand, it is sufficient to reduce the charge accumulation rate,
and its transmission on the other hand also in the UV range sufficient
is high.
Die
Erfindung wird im Folgenden an Hand der Zeichnungen genauer beschrieben.
Hierbei zeigen schematischThe
The invention will be described in more detail below with reference to the drawings.
This show schematically
1 eine
bekannte Projektionsvorrichtung mit einer UV-Optik, 1 a known projection device with a UV optic,
2 eine
bekannte UV-Optik mit Quarz- Linsen und CaF2-Linsen, 2 a known UV optics with quartz lenses and CaF 2 lenses,
3 einen
weitere bekannte UV-Optik mit Quarz-Linsen, 3 another known UV optic with quartz lenses,
4a und 4b eine
bekannte Linsenhalterung und ihre Anordnung in einem Projektionssystem, 4a and 4b a known lens holder and its arrangement in a projection system,
5 eine
flächige
Linsenbeschichtung gemäß einer
Ausführungsform
der Erfindung (im Querschnitt), 5 a flat lens coating according to an embodiment of the invention (in cross-section),
6 eine
netzartige Linsenbeschichtung gemäß einer weiteren Ausführungsform
der Erfindung (in Aufsicht), 6 a reticulated lens coating according to another embodiment of the invention (in plan view),
7 eine
dotierte Linsenoberfläche
gemäß einer
weiteren Ausführungsform
der Erfindung (im Querschnitt), 7 a doped lens surface according to another embodiment of the invention (in cross-section),
8 eine
Ionisationsanordnung gemäß einer
weiteren Ausführungsform
der Erfindung, 8th an ionization arrangement according to a further embodiment of the invention,
9 eine
ionisierende Linsenbeschichtung gemäß einer weiteren Ausführungsform
der Erfindung (im Querschnitt), und 9 an ionizing lens coating according to another embodiment of the invention (in cross-section), and
10 eine
erfindungsgemäße Spülgaszu-
und -abführung. 10 an inventive Spülgaszu- and removal.
1 ist
ein schematisches Diagramm, welches den Aufbau der Projektionsvorrichtung
und der Laservorrichtung veranschaulicht. Zunächst wird die Laservorrichtung 12 beschrieben. 1 Fig. 10 is a schematic diagram illustrating the structure of the projection apparatus and the laser apparatus. First, the laser device 12 described.
Die
Laservorrichtung 12 hat eine Kammer 15 und eine
in Kammer 15 aufgenommene luftdichte Lichtquelle 16.
Ein Laseranregungsbereich 17 ist in die Lichtquellenkammer 16 aufgenommen
und dient als Lichtquelle, welche ArF-Excimer-Laserlicht erzeugt. An einem Ende der
Lichtquelle 16 ist eine Öffnung 18 ausgebildet.
Ebenso ist an einer Seite der Kammer 15 eine Öffnung 19 ausgebildet,
deren Form der Öffnung 18 entspricht.
In die Öffnungen 18 und 19 ist
eine transparente Trennplatte 20 eingefügt. Der Laseranregungsbereich 17 weist
ein Lasergasrohr 23 auf sowie einen Frontspiegel 21 und
einen Rückseitenspiegel 22,
die zu beiden Seiten des Lasergasrohrs 23 angeordnet sind.
Zwischen dem Rückseitenspiegel 22 und
dem Lasergasrohr 23 ist ein Bandbreitenbegrenzer 24 angeordnet,
welcher Prismen und/oder Beugungsgitter umfassen kann. Durch eine
elektrische Entladung zwischen dem Elektrodenpaar 25 in
dem Lasergasrohr 23 wird eine Lichtwelle erzeugt, die zwischen
dem Spiegelpaar 21 und 22 hin- und herreflektiert
wird. Bei diesem Prozeß wird
die Bandbreite des Lichts aufgrund des Durchgangs durch den Bandbreitenbegrenzer 24 verschmälert.The laser device 12 has a chamber 15 and one in chamber 15 recorded airtight light source 16 , A laser excitation area 17 is in the light source chamber 16 recorded and serves as a light source, which generates ArF excimer laser light. At one end of the light source 16 is an opening 18 educated. Likewise, on one side of the chamber 15 an opening 19 formed, whose shape of the opening 18 equivalent. In the openings 18 and 19 is a transparent partition plate 20 inserted. The laser excitation area 17 has a laser gas pipe 23 on and a front mirror 21 and a rear-view mirror 22 leading to both sides of the laser gas pipe 23 are arranged. Between the rear mirror 22 and the laser gas pipe 23 is a bandwidth limiter 24 arranged, which may include prisms and / or diffraction gratings. By an electrical discharge between the pair of electrodes 25 in the laser gas pipe 23 a light wave is generated between the pair of mirrors 21 and 22 is reflected back and forth. In this process, the bandwidth of the light due to the passage through the bandwidth limiter 24 narrowed.
Die
Lichtquellenkammer 16 ist an ein Spülgasversorgungssystem 28 angeschlossen,
welches der Kammer Spülgas
zuführt.
In einem Spülgaszuführungsrohr 29,
welches die Lichtquellenkammer 16 und das Spülgaszufuhrsystem 28 verbindet,
sind ein Filter 30 und ein temperaturgesteuerter Trockner 31 angeordnet. Der
Filter entfernt Verunreinigungen aus dem durch das Spülgasversorgungssystem 28 zugeführten Spülgas, und
der temperaturgesteuerte Trockner 31 hält die Temperatur des Spülgases auf
einem vorbestimmten Wert und begrenzt den Feuchtigkeitsgehalt des
Spülgases
auf beispielsweise 5 oder weniger.The light source chamber 16 is due to a purge gas supply system 28 connected, which supplies purge gas to the chamber. In a purge gas supply pipe 29 which is the light source chamber 16 and the purge gas supply system 28 connects are a filter 30 and a temperature controlled dryer 31 arranged. The filter removes contaminants from the purge gas supply system 28 supplied purge gas, and the temperature-controlled dryer 31 maintains the temperature of the purge gas at a predetermined value and limits the moisture content of the purge gas to, for example, 5 or less.
Das
Spülgasversorgungssystem 28 umfaßt ein Inertgasversorgungssystem 33 und
ein Trockenluft-Versorgungssystem 35.
Das Inertgasversorgungssystem 33 stellt ein Inertgas aus
einem ersten Tank 32 bereit. Entsprechend weist das Trockenluft-Versorgungssystem 35 einen
Trockenlufttank 34 auf. Das Inertgas kann Stickstoff, ein
Edelgas, Wasserstoff oder eine Mischung dieser Gase sein.The purge gas supply system 28 comprises an inert gas supply system 33 and a dry air supply system 35 , The inert gas supply system 33 puts an inert gas from a first tank 32 ready. Accordingly, the dry air supply system 35 a dry air tank 34 on. The inert gas may be nitrogen, a noble gas, hydrogen or a mixture of these gases.
Das
Inertgasversorgungssystem 33 weist ein normalerweise geschlossenes
erstes Kontrollventil 36 auf, während das Trockenluft-Versorgungssystem 35 ein
normalerweise geöffnetes
zweites Kontrollventil 37 aufweist. Das erste und zweite
Kontrollventil 36 und 37 werden von einer Lichtquellensteuerung 38 aktiviert bzw.
deaktiviert. Das Inertgasversorgungssystem 33 und das Trockenluft-Versorgungssystem 35 sind
stromabwärts
des ersten und zweiten Kontrollventils 36 und 37 vereinigt
und mit dem Spülgaszufuhrrohr 29 verbunden.The inert gas supply system 33 has a normally closed first control valve 36 on while the dry air supply system 35 a normally open second control valve 37 having. The first and second control valves 36 and 37 be from a light source controller 38 activated or deactivated. The inert gas supply system 33 and the dry air supply system 35 are downstream of the first and second control valves 36 and 37 combined and with the purge gas supply pipe 29 connected.
Die
Lichtquellenkammer 16 ist durch ein Abgasrohr 39 an
einem Abgasauslaß 40 angeschlossen.
Außerdem
ist auch ein Auslaß 15a der
Kammer 15 an den Abgasauslaß 40 angeschlossen.
Durch diesen entweichen der Lichtquellenkammer 16 zugeführtes Inertgas
und Trockenluft. Ein Abgasvolumenmonitor 41 ist nahe des
Auslasses 15a der Kammer 15 angeordnet, um das
Abgasvolumen des Abgasauslasses 40 zu erfassen. Das Erfassungssignal
des Abgasvolumenmonitors 41 wird der Lichtquellensteuerung 38 bereitgestellt.The light source chamber 16 is through an exhaust pipe 39 at an exhaust outlet 40 connected. There is also an outlet 15a the chamber 15 to the exhaust outlet 40 connected. By this escape the light source chamber 16 supplied inert gas and dry air. An exhaust gas volume monitor 41 is near the outlet 15a the chamber 15 arranged to the exhaust gas volume of the exhaust outlet 40 capture. The detection signal of the exhaust volume monitor 41 becomes the light source control 38 provided.
Ferner
ist ein Sauerstoffsensor 42 in der Kammer 15 angeordnet,
um die Sauerstoffkonzentration in der Kammer 15 zu erfassen.
Das Erfassungssignal des Sauerstoffsensors 42 wird ebenfalls
der Lichtquellensteuerung 38 bereitgestellt.Further, an oxygen sensor 42 in the chamber 15 arranged to increase the oxygen concentration in the chamber 15 capture. The detection signal of the oxygen sensor 42 is also the light source control 38 provided.
Als
nächstes
wird die Projektionsvorrichtung 11 beschrieben.Next, the projection device 11 described.
In
einer Kammer 45 der Projektionsvorrichtung 11 sind
ein erstes luftdichtes Gehäuse 46,
eine Maskenbühne 47,
ein zweites luftdichtes Gehäuse 48 und
eine Waferbühne 49 angeordnet.
Die Maskenbühne 47 trägt eine
Maske R, auf welcher ein zu projizierendes Muster abgebildet ist,
so, daß die
Maske R senkrecht zu der optischen Achse des Laserlichts angeordnet
ist. Ferner trägt
die Waferbühne 49 einen
Wafer W, der als Substrat fungiert und mit einem Photoresist beschichtet
ist, welcher lichtempfindlich auf das Laserlicht ist, wobei der
Wafer W in einer Ebene senkrecht zu der optischen Achse des Laserlichts
verlagerbar und entlang dieser optischen Achse justierbar ist.In a chamber 45 the projection device 11 are a first airtight housing 46 , a mask stage 47 , a second airtight housing 48 and a wafer stage 49 arranged. The mask stage 47 carries a mask R on which a pattern to be projected is imaged such that the mask R is disposed perpendicular to the optical axis of the laser light. Furthermore, the wafer stage carries 49 a wafer W functioning as a substrate and coated with a photoresist which is photosensitive to the laser light, the wafer W being displaceable in a plane perpendicular to the optical axis of the laser light and adjustable along said optical axis.
In
dem ersten Gehäuse 46 ist
ein Beleuchtungssystem 50 zur Beleuchtung der Maske R angeordnet. Das
Beleuchtungssystem 50 umfaßt mehrere Spiegel 51,
einen optischen Integrator 52, ein Relay-System 53 und
einen Kondensor 54. Eine Feldblende 55 zur Formung
des Laserlichtstrahls ist in Strahlrichtung hinter dem Relay-System 53 angeordnet.
Ein Öffnungsbereich 56a ist
am Strahleintrittsende des Gehäuses 46 angeordnet,
ein Öffnungsbereich 56b an
dessen Strahlaustrittsende, und eine vordere Trennplatte 57 und
eine hintere Trennplatte 58 sind in die Öffnungsbereiche 56a und 56b eingepaßt. Ein
luftdichtes Gehäuse 59 ist
zwischen die vordere Trennplatte 57 und die Trennplatte 20 der
Lichtquellenkammer 16 der Laservorrichtung 12 eingepaßt. Laserlicht,
welches von der Laservorrichtung 12 durch das Verbindungsgehäuse 59 in
das erste Gehäuse 46 eintritt,
wird durch die Spiegel 51 abgelenkt und durch die Multilinse 52 in
eine Anzahl sekundärer
Lichtquellen aufgespalten, um die Maske R mit einer gleichförmigen Beleuchtungsverteilung
zu beleuchten.In the first case 46 is a lighting system 50 arranged to illuminate the mask R. The lighting system 50 includes several mirrors 51 , an optical integrator 52 , a relay system 53 and a condenser 54 , A field stop 55 for shaping the laser light beam is in the beam direction behind the relay system 53 arranged. An opening area 56a is at the beam entry end of the housing 46 arranged, an opening area 56b at its jet outlet end, and a front partition plate 57 and a rear partition plate 58 are in the opening areas 56a and 56b fitted. An airtight housing 59 is between the front partition plate 57 and the separator plate 20 the light source chamber 16 the laser device 12 fitted. Laser light coming from the laser device 12 through the connection housing 59 in the first case 46 enters, through the mirror 51 distracted and through the multi-lens 52 split into a number of secondary light sources to illuminate the mask R with a uniform illumination distribution.
Eine
Strahlanpassungseinheit 67 ist in dem Verbindungsgehäuse 59 angeordnet,
um das von der Laservorrichtung 12 emittierte Laserlicht
zu dem Beleuchtungssystem 50 zu führen.A beam adaptation unit 67 is in the connector housing 59 arranged to that of the laser device 12 emitted laser light to the illumination system 50 respectively.
In
dem zweiten Gehäuse 48 ist
ein Projektionssystem 60 zur Projektion eines Bildes der
durch das Beleuchtungssystem 50 beleuchteten Maske R auf
dem Wafer W angeordnet. Das Projektionssystem 60 weist eine
Mehrzahl von Linsen 61 auf. In den Öffnungsbereichen 62 an
beiden Enden des zweiten Gehäuses 48 sind
Trennplatten 63 angeordnet.In the second housing 48 is a projection system 60 for projecting an image through the illumination system 50 illuminated mask R arranged on the wafer W. The projection system 60 has a plurality of lenses 61 on. In the opening areas 62 at both ends of the second housing 48 are separator plates 63 arranged.
Bei
der Waferbühne 49 ist
ein Waferlader 64 zum Austauschen der auf der Waferbühne 49 angeordneten
Wafer W angeordnet. Bei dem Waferlader 64 ist in der Wandung
der Kammer 45 eine Waferaustauschklappe 65 angeordnet.
Der auf der Waferbühne 49 angeordnete
Wafer W wird durch die geöffnete
Waferaustauschklappe 65 ausgetauscht.At the wafer stage 49 is a wafer loader 64 to replace the on the wafer stage 49 arranged wafer W arranged. At the wafer loader 64 is in the wall of the chamber 45 a wafer exchange flap 65 arranged. The one on the wafer stage 49 arranged wafer W is through the opened wafer exchange flap 65 replaced.
Ferner
ist eine Maskenaustauschklappe 66 nahe der Maskenbühne 47 an
der Wandung der Kammer 45 angeordnet. Durch die Maskenaustauschklappe 66 kann
die auf der Maskenbühne 47 angeordnete
Maske R ausgetauscht werden.Further, a mask exchange door 66 near the mask stage 47 on the wall of the chamber 45 arranged. Through the mask exchange flap 66 can the on the mask stage 47 arranged mask R are exchanged.
Ein
mit dem Spülgassystem 28 vergleichbares
Spülgassystem 69 ist
an das Verbindungsgehäuse 59, das
erste Gehäuse 46 und
das zweite Gehäuse 48 angeschlossen.
In diesem Fall werden die Kontrollventile 36, 37 durch
das Belichtungssteuersystem 73 aktiviert bzw. deaktiviert.One with the flushing gas system 28 comparable flushing gas system 69 is to the connection housing 59 , the first case 46 and the second housing 48 connected. In this case, the control valves 36 . 37 through the exposure control system 73 activated or deactivated.
Stromabwärts des
Filters 30 und des temperaturgesteuerten Trockners 31 ist
das Spülgasversorgungssystems 69 sind
durch die Leitungen 70, 71 und 72 an
das Verbindungsgehäuse 59,
das erste Gehäuse 46 und
das zweite Gehäuse 48 angeschlossen.
Diese sind ihrerseits durch die Abgasleitungen 74, 75 bzw. 76 an
den Abgasauslaß 40 angeschlossen.
Durch diesen entweichen zugeführtes
Inertgas und Trockenluft. In die Kammer 45 ausgetretenes
Inertgas oder Trockenluft entweichen ebenfalls durch den Abgasauslaß 40.
Ein Abgasvolumenmonitor 77, der nahe dem Auslaß 45a der
Kammer 45 angeordnet ist, erfaßt das Abgasvolumen des Abgasauslasses 40.
Das Erfassungssignal des Abgasvolumenmonitors 77 wird der
Belichtungssteuerung 73 bereitgestellt.Downstream of the filter 30 and the temperature controlled dryer 31 is the purge gas supply system 69 are through the wires 70 . 71 and 72 to the connection housing 59 , the first case 46 and the second housing 48 connected. These are in turn through the exhaust pipes 74 . 75 respectively. 76 to the exhaust outlet 40 connected. By this escape supplied inert gas and dry air. In the chamber 45 leaked inert gas or dry air also escape through the exhaust outlet 40 , An exhaust gas volume monitor 77 , which is near the outlet 45a the chamber 45 is arranged, detects the exhaust gas volume of the exhaust outlet 40 , The detection signal of the exhaust volume monitor 77 becomes the exposure control 73 provided.
Außerdem erfassen
mehrere Sauerstoffsensoren 73 die Sauerstoffkonzentration
an verschiedenen Stellen der Apparatur. Erfassungssignale der Sauerstoffsensoren 78 werden
ebenfalls der Belichtungssteuerung 73 bereitgestellt. Außerdem empfängt die
Belichtungssteuerung 73 Daten von einem externen Sauerstoffsensor 79.In addition, capture several oxygen sensors 73 the oxygen concentration at various points of the apparatus. Detection signals of the oxygen sensors 78 are also the exposure control 73 provided. In addition, the exposure control receives 73 Data from an external oxygen sensor 79 ,
Wenn
die Laservorrichtung 12 und die Belichtungsvorrichtung 11 ausgeschaltet
sind, sind die Lichtquellensteuerung 38 und die Belichtungssteuerung 73 nicht
mit Strom versorgt, und die Kontrollventile 36 und 37 werden
nicht angesteuert. Dementsprechend sind die ersten Kontrollventile 36 geschlossen,
die zweiten Kontrollventile 37 sind geöffnet. In diesem Zustand sind
die Lichtquellenkammer 16, das Verbindungsgehäuse 59,
das erste Gehäuse 46 und
das zweite Gehäuse 48 an
das Trockenluft-Versorgungssystem 35 angeschlossen. Das
heißt,
diesen Kammern und Gehäusen
wird trockene Luft zugeführt.
Wenn die Laservorrichtung 12 und die Belichtungsvorrichtung 11 angeschaltet
werden, werden die Lichtquellensteuerung 38 und die Belichtungssteuerung 73 mit
Strom versorgt. Diese aktivieren die ersten Kontrollventile 36.
Andererseits werden die zweiten Kontrollventile 37 geschlossen.
Das bedeutet, daß die
Lichtquellenkammer 16, das Verbindungsgehäuse 59,
das erste Gehäuse 46 und
das zweite Gehäuse 48 an
das Inertgasversorgungssystem 33 angeschlossen werden.
In diesem Zustand beleuchtet in der Laservorrichtung 12 erzeugtes
Laserlicht die Maske R, und ein Bild des Musters auf der Maske R
wird auf ein ausgewähltes
Beleuchtungsareal auf den Wafer W projiziert. Danach wird der Wafer
W so verlagert, daß das
nächste
Beleuchtungsareal belichtet werden kann usw.When the laser device 12 and the exposure device 11 are off, are the light source control 38 and the exposure control 73 not powered, and the control valves 36 and 37 are not driven. Accordingly, the first control valves 36 closed, the second control valves 37 are opened. In this state, the light source chamber 16 , the connection housing 59 , the first case 46 and the second housing 48 to the dry air supply system 35 connected. That is, these chambers and housings dry air is supplied. When the laser device 12 and the exposure device 11 be turned on, become the light source control 38 and the exposure control 73 powered. These activate the first control valves 36 , On the other hand, the second control valves 37 closed. This means that the light source chamber 16 , the connection housing 59 , the first case 46 and the second housing 48 to the inert gas supply system 33 be connected. In this state, illuminated in the laser device 12 generated laser light, the mask R, and an image of the pattern on the mask R is projected onto a selected illumination area on the wafer W. Thereafter, the wafer W is displaced so that the next lighting area can be exposed, etc.
Die
Wahl eines geeigneten Linsenmaterials hängt hauptsächlich von der Wellenlänge des
zur Belichtung des Wafers und damit auch für die Beleuchtung der Maske
verwendeten Lichts ab. Wünschenswerterweise
neigt das Linsenmaterial nicht wesentlich zu Strahlungsschäden, wie
verringerter Transmission oder einer Änderung des Brechungsindex', durch Phänomene wie
Kompaktion oder Rarefraktion, und sollte idealerweise geringe Doppelbrechung
aufweisen.The
Choosing a suitable lens material depends mainly on the wavelength of the lens
for the exposure of the wafer and thus also for the illumination of the mask
used light. Desirably
The lens material does not tend to significantly damage radiation, such as
reduced transmission or a refractive index change, by phenomena such as
Kompaction or rarefaction, and should ideally be low birefringence
exhibit.
Quarzglas
ist das in UV-Projektionsvorrichtungen am häufigsten verwendete Material.
Die Empfindlichkeit von Quarzglas auf UV-Strahlung hängt von
den chemischen und physikalischen Eigenschaften des Materials ab,
welche ihrerseits eng verknüpft
sind mit Herstellungs- und Behandlungsverfahren für dieses
Material. Es hat sich herausgestellt, daß solche Bereiche von Quarzglaslinsen,
die einer hohen UV-Strahlungsintensität ausgesetzt sind, einer Dichteänderung
unterliegen. Man kann davon ausgehen, daß eine solche Dichteänderung
einen schädlichen
Einfluß auf
die optischen Eigenschaften der Linse hat. Insbesondere kann sie zu
einer Wellenfrontverzerrung führen.
Beispielsweise verkürzt
eine Dichtesteigerung den geometrischen Weg des Lichts durch das
Linsenmaterial. Andererseits erhöht
eine Dichteänderung
auch den Brechungsindex, und zwar normalerweise in einem größeren Ausmaß, so daß letztendlich
daraus eine Verlängerung
des optischen Weges resultiert. Für eine Dichteverringerung gilt
entsprechend das Gegenteil.quartz glass
is the material most commonly used in UV projection devices.
The sensitivity of quartz glass to UV radiation depends on
the chemical and physical properties of the material,
which in turn is closely linked
are involved with manufacturing and treatment procedures for this
Material. It has been found that such regions of quartz glass lenses,
which are exposed to a high UV radiation intensity, a density change
subject. It can be assumed that such a density change
a harmful one
Influence on
has the optical properties of the lens. In particular, she may too
lead to wavefront distortion.
For example, shortened
a density increase the geometric path of light through the
Lens material. On the other hand increased
a density change
also the refractive index, usually to a greater extent, so that ultimately
from it an extension
the optical path results. For a density reduction applies
according to the opposite.
Ein
Linsenmaterial, das für
UV-Strahlung transparent ist, und bei welchem man bis jetzt solche
strukturellen Veränderungen
nicht festgestellt hat, ist CaF2. Insofern
ist Calciumfluorid ein geeignetes Material für Wellenlängen im kurzwelligen Ultraviolett,
wie zum Beispiel die normalerweise verwendeten Wellenlängen 193 nm
und 157 nm. Auch andere Erdalkalifluoridmaterialien sind geeignete Linsenmaterialien,
deren Eigenschaften denen des Calciumfluorids ähneln. Da in Quarzglasmaterialien
strahlungsinduzierte Schäden
gefunden werden, ist Calciumfluorid hinsichtlich der Langlebigkeit
eines Projektionssystems und damit des entsprechenden Belichtungssystems
das Material der Wahl. Allerdings muß das Calciumfluorid für die Verwendung
in optischen Linsen einkristallin sein, weshalb es nicht nur teuer
in der Herstellung, sondern auch technisch schwierig zu bearbeiten
ist. Diese Umstände
begrenzen die praktische Verwendung von Calciumfluorid.A lens material which is transparent to ultraviolet radiation and in which no such structural changes have hitherto been found is CaF 2 . Thus, calcium fluoride is a suitable material for short wavelength ultraviolet wavelengths such as the 193 nm and 157 nm wavelengths normally used. Also, other alkaline earth fluoride materials are suitable lens materials whose properties are similar to those of calcium fluoride. Since radiation-induced damage is found in quartz glass materials, calcium fluoride is the material of choice in terms of the longevity of a projection system and thus of the corresponding exposure system. However, the calcium fluoride must be monocrystalline for use in optical lenses, which makes it not only expensive to manufacture, but also technically difficult to process. These circumstances limit the practical use of calcium fluoride.
In
einer Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung sind wenigstens einige, bevorzugt alle
Linsen aus Calciumfluorid gefertigt. In einer alternativen Ausführung sind
alle Linsen aus Quarzglas gefertigt.In
an embodiment
of the present invention are at least some, preferably all
Lenses made of calcium fluoride. In an alternative embodiment
all lenses made of quartz glass.
In
weiteren Ausführungsformen
werden ein oder mehrere Linsenmaterialien insbesondere kristalline Materialien,
für die
Linsen verwendet. Hierbei können
die Linsenmaterialien ein Fluorid enthalten, beispielsweise Magnesiumfluorid,
Bariumfluorid oder andere geeignete Fluoride.In
further embodiments
one or more lens materials, in particular crystalline materials,
for the
Used lenses. Here you can
the lens materials contain a fluoride, for example magnesium fluoride,
Barium fluoride or other suitable fluorides.
Wenn
Calciumfluorid oder ein anderes Fluoridmaterial verwendet werden,
ist es bevorzugt, Durchmesserdicke und Kristallorientierung der
verwendeten Fluoride so auszuwählen,
daß ein
Kontrastverlust durch intrinsische Doppelbrechung weniger als 0,5%
beträgt.If
Calcium fluoride or another fluoride material can be used,
it is preferred diameter diameter and crystal orientation of the
used fluorides to select
the existence
Contrast loss due to intrinsic birefringence less than 0.5%
is.
2 zeigt
ein Strahlführungsdiagramm
eines bekannten Projektionssystems. Dieses optische System hat eine
numerische Apertur von 0,7. Die Klammern deuten an, welche Linse
oder welche Linsen welcher Linsengruppe zugeordnet sind. Die erste
Linsengruppe LG1 umfaßt
die beiden Linsen 101 und 102 mit negativer Brechkraft
und hat insgesamt eine negative Brechkraft. Die zweite Linsengruppe
LG2 umfaßt
fünf Linsen 103, 104, 105, 106 und 107 und
hat insgesamt eine positive Brechkraft. Die dritte Linsengruppe
LG3 umfaßt drei
Linsen 108, 109 und 110 und hat insgesamt
eine negative Brechkraft, und die vierte Linsengruppe LG4 umfaßt 8 Linsen 111 bis 118,
und hat insgesamt eine positive Brechkraft. Die vierte Linsengruppe
LG4 kann in zwei Untergruppen unterteilt werden, nämlich die
erste Untergruppe SG41, welche diejenigen
Linsen der vierten Gruppe umfaßt,
welche links der Aperturblende AS angeordnet sind, also die Linsen 111, 112 und 113 und die
zweite Untergruppe SG42, welche diejenigen
Linsen der vierten Gruppe umfaßt,
die rechts von der Aperturblende AS angeordnet sind, also die Linsen 114 bis 118. 2 shows a beam guidance diagram of a known projection system. This optical system has a numerical aperture of 0.7. The brackets indicate which lens or lenses are associated with which lens group. The first lens group LG1 comprises the two lenses 101 and 102 with negative refractive power and has an overall negative refractive power. The second lens group LG2 comprises five lenses 103 . 104 . 105 . 106 and 107 and has a positive refractive power overall. The third lens group LG3 comprises three lenses 108 . 109 and 110 and has a total negative refractive power, and the fourth lens group LG4 comprises 8 lenses 111 to 118 , and overall has a positive refractive power. The fourth lens group LG4 can be subdivided into two subgroups, namely the first subgroup SG4 1 , which comprises those lenses of the fourth group which are arranged on the left of the aperture diaphragm AS, ie the lenses 111 . 112 and 113 and the second subgroup SG4 2 , which comprises those lenses of the fourth group, which are arranged to the right of the aperture diaphragm AS, ie the lenses 114 to 118 ,
Insbesondere
weist die erste Linsengruppe LG1 in der Richtung von links nach
rechts eine Meniskuslinse 101 mit negativer Brechkraft
und eine bikonkave Linse 102 auf; die zweite Linsengruppen
LG2 weist nahezu plankonvexe Linsen 103, 104 und 105 auf,
bei welchen jeweils die nahezu planare Fläche nach links weist, eine
bikonvexe Linse 106 welche von der Linse 105 durch
einen relativ großen
Abstand getrennt ist und eine nahezu plankonvexe Linse 107,
deren nahezu ebene Fläche
nach rechts weist; die dritte Linsengruppe LG3 umfaßt drei
bikonkave Linsen 108, 109 und 110; die
erste Untergruppe SG41 der vierten Linsengruppe LG4
weist zwei nahezu plankonvexe Linsen 111 und 112 auf,
deren nahezu ebene Flächen
nach links weisen, sowie eine bikonvexe Linse 113 vor der
Aperturblende AS; und die zweite Untergruppe SG42 der
vierten Linsengruppe LG4 weist zwei nahezu plankonvexe Linsen 114 und 115 auf,
deren nahezu ebene Fläche
nach rechts weist, eine ziemlich dicke Meniskuslinse 16,
eine Meniskuslinse 117 und eine Planparallelplatte 118.
Die vierte Linsengruppe LG4 enthält
also keine Linsen mit negativer Brechkraft. Die Linsen 113 und 114 in
der vierten Linsengruppe sind durch einen relativ großen Abstand
getrennt.In particular, the first lens group LG1 has a meniscus lens in the left-to-right direction 101 with negative refractive power and a biconcave lens 102 on; the second lens group LG2 has almost plano-convex lenses 103 . 104 and 105 on, in which each of the almost planar surface facing to the left, a biconvex lens 106 which of the lens 105 is separated by a relatively large distance and a nearly plano-convex lens 107 whose almost flat surface points to the right; the third lens group LG3 comprises three biconcave lenses 108 . 109 and 110 ; the first subgroup SG4 1 of the fourth lens group LG4 has two nearly plano-convex lenses 111 and 112 on whose nearly flat surfaces are pointing to the left, and a biconvex lens 113 in front of the aperture diaphragm AS; and the second subgroup SG4 2 of the fourth lens group LG4 has two nearly plano-convex lenses 114 and 115 on whose almost flat surface points to the right, a fairly thick meniscus lens 16 , a meniscus lens 117 and a plane parallel plate 118 , The fourth lens group LG4 thus contains no lenses with negative refractive power. The lenses 113 and 114 in the fourth lens group are separated by a relatively large distance.
In 2 sind
außerdem
der Feldstrahl FR und der Winkelstrahl AR angedeutet.In 2 In addition, the field beam FR and the angle beam AR are indicated.
Detaillierte
Informationen bezüglich
der Linsenparameter wie Dicke, Material Oberflächenradius und halbem effektivem
Durchmesser sind in Tabelle 1 aufgelistet. Hierbei sind Radius,
Dicke und Durchmesser in mm angegeben, der Brechungsindex ist für eine Wellenlänge von
193 nm angegeben. Außerdem
sind die Positionen asphärischer
Oberflächen
in dem Projektionssystem und ihre Parameter in Tabelle 2 angegeben. Tabelle 1 Linse Fläche Radius Dicke Material Brechungs index ½ Durchmesser
0 0.000000000 32.000000000 1.00000000 54.400
1 0.000000000 0.000000000 1.00000000 60.078
1 2 –6024.289735750 8.980000000 SIO2HL 1.50839641 60.429
3 304.118583902 24.736147249 1.00000000 61.352
2 4 –131.737066881 8.980000000 SIO2HL 1.50839641 62.003
5 417.670275482 23.969861507 1.00000000 71.806
3 6 –3990.989281880 37.637419601 SIO2HL 1.50839641 83.812
7 –146.539975921 8.153868954 1.00000000 87.385
4 8 –3416112.996320000 24.538779242 SIO2HL 1.50839641 96.467
9 –315.770118833 48.655537324 1.00000000 97.902
5 10 1737582.347800000 21.341687512 SIO2HL 1.50839641 102.888
11 –438.312728675 133.848821145 1.00000000 103.350
6 12 372.235399256 25.824530368 SIO2HL 1.50839641 96.078
13 –1253.770358400 3.388364430 1.00000000 95.005
7 14 137.250353219 40.923861302 SIO2HL 1.50839641 85.977
15 –2019.355651910 30.814556576 1.00000000 82.298
8 16 –317.971034610 8.980000000 SIO2HL 1.50839641 62.837
17 83.280160987 28.917489545 1.00000000 51.912
9 18 –174.767947356 8.980000000 SIO2HL 1.50839641 51.559
Linse Fläche Radius Dicke Material Brechungs index ½ Durchmesser
19 199.374837069 35.383708199 1.00000000 52.209
10 20 –89.313803180 8.980000000 SIO2HL 1.50839641 54.110
21 287.142946942 14.615095575 1.00000000 66.604
11 22 –1197.273088600 36.948225159 SIO2HL 1.50839641 71.075
23 –141.217428495 3.127763800 1.00000000 78.665
12 24 1110.602242140 41.309109595 SIO2HL 1.50839641 91.740
25 –186.778606243 6.522919571 1.00000000 94.518
13 26 301.130921191 29.860505588 SIO2HL 1.50839641 97.806
27 –919.702780682 0.844618989 1.00000000 97.243
28 0.000000000 0.000000000 1.00000000 96.338
29 0.000000000 109.449770983 1.00000000 96.356
14 30 331.354934334 22.987387070 SIO2HL 1.50839641 97.785
31 –73153.815546800 1.202668744 1.00000000 97.069
15 32 215.009873195 31.665497873 SIO2HL 1.50839641 94.273
33 –4631.244060050 7.068412058 1.00000000 92.119
16 34 99.799368778 88.612555488 SIO2HL 1.50839641 75.558
35 157.037995467 4.585859982 1.00000000 39.957
17 36 105.913726954 14.729270754 CAF2HL 1.46788655 35.167
37 142.187579405 4.618008084 1.00000000 27.567
18 38 0.000000000 10.782377974 CAF2HL 1.46788655 25.627
39 0.000000000 5.996392452 1.00000000 19.660
40 0.000000000 0.000000000 1.00000000 13.600
Tabelle 2 Parameter
asphärischer
Flächen
Fläche 2
K:
0.0000
C1:
1.89567103e–007 C2: –6.14954159e–012
C3:
5.99696092e–016 C4: –1.70049965e–019
C5:
3.40804937e–023 C6: –2.46308378e–027
C7:
0.00000000e+000 C8:
0.00000000e+000
C9:
0.00000000e+000
Fläche 6
K:
0.0000
C1:
5.10156924e–009 C2:
1.69855235e–012
C3: –1.06288680e–016 C4:
4.97146455e–021
C5: –4.15785888e–025 C6:
1.75008366e–029
Fläche 6 (Fortsetzung)
C7:
0.00000000e+000 C8:
0.00000000e+000
C9:
0.00000000e+000
Fläche 13
K:
0.0000
C1: –8.90443356e–009 C2:
1.68794796e–013
C3: –5.52889921e–018 C4:
2.53152609e–022
C5: –1.32794410e–026 C6:
6.89511513e–031
C7:
0.00000000e+000 C8:
0.00000000e+000
C9:
0.00000000e+000
Fläche 26
K:
0.0000
C1: –7.14236794e–009 C2:
4.66880907e–014
C3
1.84149146e–019 C4:
1.30780764e–022
C5: –1.32931107e–027 C6:
1.29777704e–031
C7:
0.00000000e+000 C8:
0.00000000e+000
C9:
0.00000000e+000
Fläche 30
K:
0.0000
C1: –2.73011692e–009 C2: –5.36841078e–013
C3: –7.87215774e–018 C4: –3.92093559e–022
C5:
2.11192637e–026 C6: –1.94208025e–030
C7:
0.00000000e+000 C8:
0.00000000e+000
C9:
0.00000000e+000
Fläche 35
K:
0.0000
C1: –3.40706173e–008 C2: –1.34186182e–011
C3: –5.33579678e–015 C4:
1.06622971e–018
C5: –5.16132064e–023 C6:
0.00000000e+000
C7:
0.00000000e+000 C8:
0.00000000e+000
C9:
0.00000000e+000
Detailed information regarding lens parameters such as thickness, material surface radius and half effective diameter are listed in Table 1. Here, radius, thickness and diameter are given in mm, the refractive index is given for a wavelength of 193 nm. In addition, the positions of aspheric surfaces in the projection system and their parameters are given in Table 2. Table 1 lens area radius thickness material Refractive index ½ diameter
0 0.000000000 32.000000000 1.00000000 54,400
1 0.000000000 0.000000000 1.00000000 60078
1 2 -6024.289735750 8.980000000 SIO2HL 1.50839641 60429
3 304.118583902 24.736147249 1.00000000 61352
2 4 -131.737066881 8.980000000 SIO2HL 1.50839641 62003
5 417.670275482 23.969861507 1.00000000 71806
3 6 -3990.989281880 37.637419601 SIO2HL 1.50839641 83812
7 -146.539975921 8.153868954 1.00000000 87385
4 8th -3416112.996320000 24.538779242 SIO2HL 1.50839641 96467
9 -315.770118833 48.655537324 1.00000000 97902
5 10 1737582.347800000 21.341687512 SIO2HL 1.50839641 102888
11 -438.312728675 133.848821145 1.00000000 103350
6 12 372.235399256 25.824530368 SIO2HL 1.50839641 96078
13 -1253.770358400 3.388364430 1.00000000 95005
7 14 137.250353219 40.923861302 SIO2HL 1.50839641 85977
15 -2019.355651910 30.814556576 1.00000000 82298
8th 16 -317.971034610 8.980000000 SIO2HL 1.50839641 62837
17 83.280160987 28.917489545 1.00000000 51912
9 18 -174.767947356 8.980000000 SIO2HL 1.50839641 51559
lens area radius thickness material Refractive index ½ diameter
19 199.374837069 35.383708199 1.00000000 52209
10 20 -89.313803180 8.980000000 SIO2HL 1.50839641 54110
21 287.142946942 14.615095575 1.00000000 66604
11 22 -1197.273088600 36.948225159 SIO2HL 1.50839641 71075
23 -141.217428495 3.127763800 1.00000000 78665
12 24 1110.602242140 41.309109595 SIO2HL 1.50839641 91740
25 -186.778606243 6.522919571 1.00000000 94518
13 26 301.130921191 29.860505588 SIO2HL 1.50839641 97806
27 -919.702780682 0.844618989 1.00000000 97243
28 0.000000000 0.000000000 1.00000000 96338
29 0.000000000 109.449770983 1.00000000 96356
14 30 331.354934334 22.987387070 SIO2HL 1.50839641 97785
31 -73153.815546800 1.202668744 1.00000000 97069
15 32 215.009873195 31.665497873 SIO2HL 1.50839641 94273
33 -4631.244060050 7.068412058 1.00000000 92119
16 34 99.799368778 88.612555488 SIO2HL 1.50839641 75558
35 157.037995467 4.585859982 1.00000000 39957
17 36 105.913726954 14.729270754 CAF2HL 1.46788655 35167
37 142.187579405 4.618008084 1.00000000 27567
18 38 0.000000000 10.782377974 CAF2HL 1.46788655 25627
39 0.000000000 5.996392452 1.00000000 19660
40 0.000000000 0.000000000 1.00000000 13,600
Table 2 Parameters of aspherical surfaces
Area 2
K: 0.0000
C1: 1.89567103e-007 C2: -6.14954159e-012
C3: 5.99696092e-016 C4: -1.70049965e-019
C5: 3.40804937e-023 C6: -2.46308378e-027
C7: 0.00000000e + 000 C8: 0.00000000e + 000
C9: 0.00000000e + 000
Area 6
K: 0.0000
C1: 5.10156924e-009 C2: 1.69855235e-012
C3: -1.06288680e-016 C4: 4.97146455e-021
C5: -4.15785888e-025 C6: 1.75008366e-029
Surface 6 (continued)
C7: 0.00000000e + 000 C8: 0.00000000e + 000
C9: 0.00000000e + 000
Area 13
K: 0.0000
C1: -8.90443356e-009 C2: 1.68794796e-013
C3: -5.52889921e-018 C4: 2.53152609e-022
C5: -1.32794410e-026 C6: 6.89511513e-031
C7: 0.00000000e + 000 C8: 0.00000000e + 000
C9: 0.00000000e + 000
Area 26
K: 0.0000
C1: -7.14236794e-009 C2: 4.66880907e-014
C3 1.84149146e-019 C4: 1.30780764e-022
C5: -1.32931107e-027 C6: 1.29777704e-031
C7: 0.00000000e + 000 C8: 0.00000000e + 000
C9: 0.00000000e + 000
Area 30
K: 0.0000
C1: -2.73011692e-009 C2: -5.36841078e-013
C3: -7.87215774e-018 C4: -3.92093559e-022
C5: 2.11192637e-026 C6: -1.94208025e-030
C7: 0.00000000e + 000 C8: 0.00000000e + 000
C9: 0.00000000e + 000
Area 35
K: 0.0000
C1: -3.40706173e-008 C2: -1.34186182e-011
C3: -5.33579678e-015 C4: 1.06622971e-018
C5: -5.16132064e-023 C6: 0.00000000e + 000
C7: 0.00000000e + 000 C8: 0.00000000e + 000
C9: 0.00000000e + 000
Die
Linsen 117 und 118 der in 2 und Tabelle
1 beschriebenen Ausführungsform
sind aus Calciumfluorid gefertigt. Calciumfluorid hat eine intrinsische
Doppelbrechung, und es ist vorteilhaft, die relative Orientierung
der Kristallachsen der betreffenden Linsen so aufeinander abzustimmen,
daß der
kombinierte Doppelbrechungseffekt beider Linsen wenigstens teilweise
kompensiert ist. Hintergrundinformation zur relativen Orientierung
von kristallinen Linsen ist beispielsweise in US 2003/0137733 A1 zu
finden.The lenses 117 and 118 the in 2 and Table 1 described embodiment are made of calcium fluoride. Calcium fluoride has intrinsic birefringence, and it is advantageous to match the relative orientation of the crystal axes of the lenses in question so that the combined birefringence effect of both lenses is at least partially compensated. Background information on the relative orientation of crystalline lenses is, for example, in US 2003/0137733 A1 to find.
In 3 ist
ein Strahlführungsdiagramm
eines weiteren bekannten Projektionssystems dargestellt. Wie durch
die Klammern angedeutet, umfaßt
die erste Linsengruppe LG12 drei Linsen mit negativer Brechkraft,
die zweite Linsengruppe LG22 umfaßt fünf Linsen und hat positive
Brechkraft und die dritte Linsengruppe LG32 umfaßt drei Linsen mit negativer
Brechkraft und bildet eine Taille des Projektionssystems.In 3 is a beam guidance diagram of another known projection system shown. As indicated by the parentheses, the first lens group LG12 includes three lenses of negative refractive power, the second lens group LG22 comprises five lenses and has positive power, and the third lens group LG32 comprises three lenses of negative refractive power and forms a waist of the projection system.
Die
erste Untergruppe SG412 der vierten Linsengruppe
LG42 umfaßt
vier Linsen und die zweite Untergruppe SG422
der vierten Linsengruppe LG42 umfaßt acht Linsen, wobei die vierte
Linsengruppe LG42 insgesamt positive Brechkraft hat.The first subgroup SG 4 12 of the fourth lens group LG 42 comprises four lenses and the second subgroup SG 4 22 of the fourth lens group LG 42 comprises eight lenses, the fourth lens group LG 42 having an overall positive refractive power.
Die
vierte Linsengruppe LG42 umfaßt
ferner eine einstellbare Aperturblende. Die letzte Linse in der Richtung
von links nach rechts der dritten Linsengruppe LG32 und die erste
Linse der ersten Untergruppe SG412 bilden
ein erstes Duplett und die zweite und dritte Linse der ersten Untergruppe
SG412 bilden ein zweites Duplett. Die Linsenfläche 227 ist
eine nach rechts konkave Fläche
an welcher die Belichtungsstrahlen relativ großen Eintritts- und Ablenkwinkeln
ausgesetzt sind. Diese Linsenfläche
hat einen starken Korrektureffekt, insbesondere hinsichtlich Koma
und sphärischen
Aberrationen des Projektionssystems. Die letzte Linse der ersten
Untergruppe ist wegen ihrer großen
Eintritts- und Ablenkungswinkel ebenfalls wichtig.The fourth lens group LG42 further includes an adjustable aperture stop. The last lens in the left-to-right direction of the third lens group LG32 and the first lens of the first subgroup SG 4 12 form a first doublet and the second and third lenses of the first subgroup SG 4 12 form a two a double doublet. The lens surface 227 is a right concave surface to which the exposure beams are exposed to relatively large entrance and deflection angles. This lens surface has a strong correction effect, especially with respect to coma and spherical aberrations of the projection system. The last lens of the first subgroup is also important because of its large entrance and deflection angles.
Zwischen
der ersten und der zweiten Linse der zweiten Untergruppe SG422 ist eine Luftlinse ausgebildet. Die zweite
Linse der zweiten Untergruppe SG422 hat
eine hohe positive Brechkraft.Between the first and the second lens of the second subgroup SG 4 22, an air lens is formed. The second lens of the second subgroup SG 4 22 has a high positive refractive power.
Detaillierte
Informationen zu Linsenparametern, wie Dicke, Linsenmaterial ("N2VP950" bedeutet Reinstickstoff),
Radius der brechenden Fläche
und Durchmesser der Linse sind in Tabelle 3 aufgelistet. Außerdem sind
die Positionen und Parameter der asphärischen Flächen in dem Projektionssystem
in Tabelle 4 angegeben. Wie aus Tabelle 4 hervorgeht, enthält das Projektionssystem
zehn asphärische
Flächen,
die alle als insgesamt konkave Linsenflächen ausgebildet sind.detailed
Information on lens parameters, such as thickness, lens material ("N2VP950" means pure nitrogen),
Radius of the refractive surface
and diameter of the lens are listed in Table 3. Besides, they are
the positions and parameters of the aspherical surfaces in the projection system
in Table 4. As shown in Table 4, the projection system contains
ten aspherical
surfaces,
all of which are designed as a total of concave lens surfaces.
In
Tabelle 5 sind Parameter des Projektionssystems angegeben. Tabelle 3 Fläche Radius Dicke Linsenmaterial Durchmeser
0 0.000 32.000 'AIRV193' 112.16
1 0.000 0.000 'AIRV193' 127.77
2 57573.384 8.000 'SiO2V' 128.94
3 243.811 13.262 'N2VP950' 132.25
4 –1090.143 9.354 'SiO2V' 134.84
5 466.146 37.485 'N2VP950' 141.26
6 –105.489 75.000 'SiO2V' 144.45
7 –148.914 0.700 'N2VP950' 214.83
8 –934.567 36.244 'SiO2V' 247.24
9 –274.035 0.700 'N2VP950' 254.54
10 1877.003 35.146 'SiO2V' 267.24
11 –433.158 0.700 'N2VP950' 268.74
12 340.474 28.340 'SiO2V' 263.65
13 1177.958 0.700 'N2VP950' 260.39
14 180.585 34.561 'SiO2V' 242.61
15 206.758 0.700 'N2VP950' 224.36
16 155.939 75.000 'SiO2V' 216.75
17 281.771 15.027 'N2VP950' 171.22
18 15953.616 8.000 'SiO2V' 166.15
19 98.432 77.068 'N2VP950' 137.11
20 –111.308 8.019 'SiO2V' 128.52
21 –702.509 18.031 'N2VP950' 136.29
22 –138.076 8.362 'SiO2V' 137.45
23 416.972 18.694 'N2VP950' 158.20
24 –11234.170 41.874 'SiO2V' 170.34
25 –150.893 0.700 'N2VP950' 182.81
26 –1297.101 8.000 'SiO2V' 199.72
27 253.311 21.736 'N2VP950' 215.55
Fläche Radius Dicke Linsenmaterial Durchmeser
28 1068.917 45.071 'SiO2V' 223.06
29 –236.445 0.700 'N2VP950' 231.38
30 244.024 37.656 'SiO2V' 298.50
31 555.375 27.303 'N2VP950' 297.24
32 0.000 –18.174 'N2VP950' 298.02
33 360.544 15.000 'SiO2V' 302.13
34 221.881 36.472 'N2VP950' 295.96
35 488.301 77.125 'SiO2V' 299.83
36 –279.915 0.700 'N2VP950' 303.00
37 187.876 53.225 'SiO2V' 285.84
38 489.307 0.700 'N2VP950' 278.37
39 163.275 44.194 'SiO2V' 246.77
40 325.398 0.700 'N2VP950' 232.49
41 140.866 60.717 'SiO2V' 200.93
42 235.724 2.997 'N2VP950' 146.44
43 232.815 16.671 'SiO2V' 142.60
44 582.777 6.772 'N2VP950' 127.85
45 375.408 11.293 'SiO2V' 100.07
46 687.655 3.099 'N2VP950' 84.48
47 0.000 9.375 'SiO2V' 73.36
48 0.000 5.000 'AIRV193' 58.93
49 0.000 0.000 28.04
Tabelle 4 Parameter
asphärischer
Flächen
Fläche 2
K:
0.000000 KC:
100
A:
0.218716E–06 B: –.248776E–10 C:
0.185358E–14
D: –.161759E–18 E:
0.192307E–23 F:
0.547379E–28
G:
0.000000E+00 H:
0.000000E+00 J:
0.000000E+00
Fläche 4
K:
0.000000 KC:
100
A:
0.290942E–07 B:
0.126121E–10 C: –.105557E–14
D:
0.362305E–19 E:
0.842431E–23 F: –.416292E–27
G:
0.000000E+00 H:
0.000000E+00 J:
0.000000E+00
Fläche 8
K:
0.000000 KC:
100
A: –.150691E–08 B:
0.212074E–12 C:
0.518282E–17
D:
0.216329E–22 E: –.516324E–26 F:
0.333908E–31
G:
0.000000E+00 H:
0.000000E+00 J:
0.000000E+00
Fläche 17
K:
0.000000 KC:
100
A: –.377475E–07 B:
0.114027E–11 C:
0.292881E–16
D: –.547743E–20 E:
0.158504E–24 F:
0.734629E–29
G:
0.000000E+00 H:
0.000000E+00 J:
0.000000E+00
Fläche 21
K:
0.000000 KC:
100
A: –.113618E–08 B: –.309117E–11 C: –.571100E–15
D:
0.250974E–19 E:
0.271018E–23 F: –.232236E–27
G:
0.000000E+00 H:
0.000000E+00 J:
0.000000E+00
Fläche 24
K:
0.000000 KC:
100
A: –.626858E–07 B:
0.319357E–11 C: –.159658E–15
D:
0.992952E–20 E: –.419849E–24 F:
0.152526E–28
G:
0.000000E+00 H:
0.000000E+00 J:
0.000000E+00
Fläche 31
K:
0.000000 KC:
100
A:
0.459357E–08 B: –.505347E–13 C:
0.210154E–17
D: –.360092E–22 E:
0.512127E–27 F: –.669880E–32
G:
0.000000E+00 H:
0.000000E+00 J:
0.000000E+00
Fläche 38
K:
0.000000 KC:
100
A:
0.667497E–09 B:
0.231564E–12 C: –.696885E–17
D:
0.193993E–21 E:
0.451888E–27 F: –.167538E–31
G:
0.000000E+00 H:
0.000000E+00 J:
0.000000E+00
Fläche 40
K:
0.000000 KC:
100
A:
0.184307E–08 B:
0.428901E–12 C:
0.159451E–16
D: –.141858E–20 E:
0.396624E–25 F: –.208535E–30
G:
0.000000E+00 H:
0.000000E+00 J:
0.000000E+00
Fläche 42
K:
0.000000 KC:
100
A:
0.131959E–07 B:
0.540208E–11 C: –.186730E–15
D: –.295225E–21 E:
0.112720E–23 F: –.134832E–27
G:
0.000000E+00 H:
0.000000E+00 J:
0.000000E+00
Tabelle 5 NA 0.95
E
[mm] 26.638
φm [mm–1] 2.23e–3
φm·E 0.059
δm in ° 12.32
sin(δm)·E [mm] 5.68
GD [mm] 746.2
GD/E 28
dc/ds
max in m–2 502
Table 5 shows parameters of the projection system. Table 3 area radius thickness lens material -diameter
0 0000 32,000 'AIRV193' 112.16
1 0000 0000 'AIRV193' 127.77
2 57573.384 8000 'SiO 2 V' 128.94
3 243811 13262 'N2VP950' 132.25
4 -1090.143 9354 'SiO 2 V' 134.84
5 466146 37485 'N2VP950' 141.26
6 -105489 75,000 'SiO 2 V' 144.45
7 -148914 0700 'N2VP950' 214.83
8th -934567 36244 'SiO 2 V' 247.24
9 -274035 0700 'N2VP950' 254.54
10 1877.003 35146 'SiO 2 V' 267.24
11 -433158 0700 'N2VP950' 268.74
12 340474 28340 'SiO 2 V' 263.65
13 1177.958 0700 'N2VP950' 260.39
14 180585 34561 'SiO 2 V' 242.61
15 206758 0700 'N2VP950' 224.36
16 155939 75,000 'SiO 2 V' 216.75
17 281771 15027 'N2VP950' 171.22
18 15953.616 8000 'SiO 2 V' 166.15
19 98432 77068 'N2VP950' 137.11
20 -111308 8019 'SiO 2 V' 128.52
21 -702509 18031 'N2VP950' 136.29
22 -138076 8362 'SiO 2 V' 137.45
23 416972 18694 'N2VP950' 158.20
24 -11234,170 41874 'SiO 2 V' 170.34
25 -150893 0700 'N2VP950' 182.81
26 -1297.101 8000 'SiO 2 V' 199.72
27 253311 21736 'N2VP950' 215.55
area radius thickness lens material -diameter
28 1068.917 45071 'SiO 2 V' 223.06
29 -236445 0700 'N2VP950' 231.38
30 244024 37656 'SiO 2 V' 298.50
31 555375 27303 'N2VP950' 297.24
32 0000 -18,174 'N2VP950' 298.02
33 360544 15,000 'SiO 2 V' 302.13
34 221881 36472 'N2VP950' 295.96
35 488301 77125 'SiO 2 V' 299.83
36 -279915 0700 'N2VP950' 303.00
37 187876 53225 'SiO 2 V' 285.84
38 489307 0700 'N2VP950' 278.37
39 163275 44,194 'SiO 2 V' 246.77
40 325398 0700 'N2VP950' 232.49
41 140866 60717 'SiO 2 V' 200.93
42 235724 2997 'N2VP950' 146.44
43 232815 16671 'SiO 2 V' 142.60
44 582777 6772 'N2VP950' 127.85
45 375408 11293 'SiO 2 V' 100.07
46 687655 3099 'N2VP950' 84.48
47 0000 9375 'SiO 2 V' 73.36
48 0000 5000 'AIRV193' 58.93
49 0000 0000 28.04
Table 4 Parameters of aspherical surfaces
Area 2
K: 0.000000 KC: 100
A: 0.218716E-06 B: -.248776E-10 C: 0.185358E-14
D: -.161759E-18 E: 0.192307E-23 F: 0.547379E-28
G: 0.000000E + 00 H: 0.000000E + 00 J: 0.000000E + 00
Area 4
K: 0.000000 KC: 100
A: 0.290942E-07 B: 0.126121E-10 C: -.105557E-14
D: 0.362305E-19 E: 0.842431E-23 Q: -.416292E-27
G: 0.000000E + 00 H: 0.000000E + 00 J: 0.000000E + 00
Area 8
K: 0.000000 KC: 100
A: -.150691E-08 B: 0.212074E-12 C: 0.518282E-17
D: 0.216329E-22 E: -.516324E-26 F: 0.333908E-31
G: 0.000000E + 00 H: 0.000000E + 00 J: 0.000000E + 00
Area 17
K: 0.000000 KC: 100
A: -.377475E-07 B: 0.114027E-11 C: 0.292881E-16
D: -547743E-20 E: 0.158504E-24 F: 0.734629E-29
G: 0.000000E + 00 H: 0.000000E + 00 J: 0.000000E + 00
Area 21
K: 0.000000 KC: 100
A: -.113618E-08 B: -.309117E-11 C: -.571100E-15
D: 0.250974E-19 E: 0.271018E-23 Q: -.232236E-27
G: 0.000000E + 00 H: 0.000000E + 00 J: 0.000000E + 00
Area 24
K: 0.000000 KC: 100
A: -.626858E-07 B: 0.319357E-11 C: -.159658E-15
D: 0.992952E-20 E: -.419849E-24 F: 0.152526E-28
G: 0.000000E + 00 H: 0.000000E + 00 J: 0.000000E + 00
Area 31
K: 0.000000 KC: 100
A: 0.459357E-08 B: -.505347E-13 C: 0.210154E-17
D: -.360092E-22 E: 0.512127E-27 F: -.669880E-32
G: 0.000000E + 00 H: 0.000000E + 00 J: 0.000000E + 00
Surface 38
K: 0.000000 KC: 100
A: 0.667497E-09 B: 0.231564E-12 C: -.696885E-17
D: 0.193993E-21 E: 0.451888E-27 Q: -.167538E-31
G: 0.000000E + 00 H: 0.000000E + 00 J: 0.000000E + 00
Area 40
K: 0.000000 KC: 100
A: 0.184307E-08 B: 0.428901E-12 C: 0.159451E-16
D: -.141858E-20 E: 0.396624E-25 Q: -.208535E-30
G: 0.000000E + 00 H: 0.000000E + 00 J: 0.000000E + 00
Area 42
K: 0.000000 KC: 100
A: 0.131959E-07 B: 0.540208E-11 C: -.186730E-15
D: -.295225E-21 E: 0.112720E-23 Q: -.134832E-27
G: 0.000000E + 00 H: 0.000000E + 00 J: 0.000000E + 00
Table 5 N / A 0.95
E [mm] 26638
φm [mm -1 ] 2.23e-3
φm · E 0059
δm in ° 12:32
sin (δm) · E [mm] 5.68
G D [mm] 746.2
G D / E 28
dc / ds max in m -2 502
4a zeigt
einen Rahmen, der für
die Verwendung der vorliegenden Erfindung geeignet ist. Der Rahmen 335 weist
eine Mehrzahl von Distanzstücken 341 auf
sowie einen inneren Ring 340 und ein Gehäuse 342. Die
Distanzstücke 341 sind
in der Form von L-förmigen
Federverbindern und gleichabständig
an dem Umfang des inneren Rings 340 angeordnet. Eine Linse
(nicht dargestellt) kann an den Distanzstücken 341 mittels eines leitfähigen Adhäsives befestigt
werden und so mittels der Distanzstücke 341 an den inneren
Ring 340 und damit an das Gehäuse 342 gekoppelt
werden. Der innere Ring 340 und das Gehäuse 342 können einstückig ausgebildet
sein oder aus zwei getrennten miteinander verbundenen Stücken hergestellt
werden. Durch die Verwendung von Federverbindern als Distanzstücke ist
es möglich,
das Substrat mit geringer oder keiner Spannungsausübung auf
den Rahmen 335 zu befestigen. In einem äußeren Rand des Gehäuses 342 sind
eine Anzahl von Löchern 343 ausgebildet,
damit der Rahmen 335 an benachbarten Rahmen befestigt werden
kann. Ein Rahmen mit einer ähnlichen
Distanzstückanordnung
ist in US 6,229,657 der
selben Anmelderin angegeben. 4a shows a frame suitable for the use of the present invention. The frame 335 has a plurality of spacers 341 on as well as an inner ring 340 and a housing 342 , The spacers 341 are in the form of L-shaped spring connectors and equidistant on the circumference of the inner ring 340 arranged. A lens (not shown) may be attached to the spacers 341 be attached by means of a conductive adhesive and so by means of the spacers 341 to the inner ring 340 and thus to the housing 342 be coupled. The inner ring 340 and the case 342 may be formed in one piece or made of two separate interconnected pieces. By using spring connectors as spacers, it is possible to stress the substrate with little or no stress on the frame 335 to fix. In an outer edge of the housing 342 are a number of holes 343 designed to keep the frame 335 can be attached to adjacent frame. A frame with a similar spacer arrangement is shown in FIG US 6,229,657 the same applicant indicated.
In 4b ist
ein Projektionsbelichtungssystem schematisch dargestellt. Das Projektionsbelichtungssystem 300 umfaßt eine
Lichtquelle 301 und ein Beleuchtungssystem 302,
welche zusammen ein Strahlführungssystem
darstellen. Das Strahlführungssystem
kann zum Beispiel wie das in US
6,285,443 dargestellte Strahlführungssystem ausgebildet sein.
Das Strahlführungssystem
stellt einen Lichtstrahl zur Beleuchtung eines bestimmten Bereichs
der Maske R bereit.In 4b a projection exposure system is shown schematically. The projection exposure system 300 includes a light source 301 and a lighting system 302 , which together constitute a beam guidance system. For example, the beam delivery system can be like the one in US 6,285,443 be illustrated beam guiding system. The beam guiding system provides a light beam for illuminating a certain area of the mask R.
Das
Projektionsbelichtungssystem umfaßt ferner ein Projektionssystem 310 und
eine Waferbühne 350.
Ein Bild des beleuchteten Bereiches der Maske R wird durch die Projektionsvorrichtung 310 auf
einen Belichtungsbereich des Wafers W projiziert, um den Wafer W
zu belichten, wobei der Wafer durch die Waferbühne 350 getragen wird.
Das Projektionssystem 310 umfaßt eine Mehrzahl von optischen
Komponenten, von denen eine schematisch als optische Komponente 335 dargestellt
ist. Die optische Komponente 335 umfaßt eine Linse 343 als
Substrat und einen Rahmen 340, wobei der Rahmen 340 einen
ringförmigen
Abschnitt 342 zum Montieren des Rahmens 340 in
dem Projektionssystem 310 aufweist, sowie eine Mehrzahl
von Befestigungsgliedern, die jeweils aus drei Elementen 341, 341' und 341'' bestehen, um die Linse 343 an
dem ringförmigen
Abschnitt 342 zu befestigen. In dieser Ausführung wird
die Linse 343 an den Elementen 341'' mittels eines
leitfähigen
Adhäsives
befestigt.The projection exposure system further includes a projection system 310 and a wafer stage 350 , An image of the illuminated area of the mask R is taken through the projection device 310 projected onto an exposure area of the wafer W to expose the wafer W, the wafer passing through the wafer stage 350 will be carried. The projection system 310 comprises a plurality of optical components, one of which schematically as an optical component 335 is shown. The optical component 335 includes a lens 343 as a substrate and a frame 340 , where the frame 340 an annular section 342 for mounting the frame 340 in the projection system 310 and a plurality of fastening members, each of three elements 341 . 341 ' and 341 '' exist to the lens 343 at the annular portion 342 to fix. In this embodiment, the lens 343 on the elements 341 '' attached by means of a conductive adhesive.
5 zeigt
schematisch eine Linse 401 aus CaF2,
deren Oberfläche 403 mit
einer dünnen
Schicht aus Zirkonium überzogen
ist. Diese Schicht hat eine geringe Reflektivität bei 193 nm Wellenlänge, und
eine in geringer Dicke vertretbare Absorption. Die Überzugsschicht
erstreckt sich am Rand der Linse 401 bis zu der Kontaktstelle 405 mit
der Linsenhalterung 407, an der die Linse mittels eines
leitfähigen
Adhäsivs 409 befestigt
ist. 5 schematically shows a lens 401 from CaF 2 , whose surface 403 covered with a thin layer of zirconium. This layer has a low reflectivity at 193 nm wavelength, and a reasonable absorption in a small thickness. The coating layer extends at the edge of the lens 401 up to the contact point 405 with the lens holder 407 at which the lens by means of a conductive adhesive 409 is attached.
6 zeigt
in Aufsicht eine Linse 501 aus CaF2,
deren Oberfläche 503 mit
einem Netzwerk 505 aus Metallatomen versehen ist. Dieses
Netzwerk wird durch langsames Bedampfen bei niedrigen Temperaturen erzeugt.
Dabei sind die auf die Linsenoberfläche 503 aufgedampften
Metallatome gerade ausreichend beweglich, um zu Stellen relativ
geringen Potentials zu wandern, also zu den Lagenkanten 507 des
kristallinen Calciumfluorids. Durch die geringe Aufdampfrate und
Substrattemperatur wird vermieden, daß sich die Metallatome zu Inseln
vereinigen. Um die entstehenden konzentrischen Strukturen zu einem
leitenden Netz zu vervollständigen,
wird quer über
die Linsenoberfläche 503 noch
eine zusätzliche
Leiterbahn 509 aufgebracht, die auch den Kontakt zu der
Linsenhalterung 511 herstellt. Bei mehreren Halterungen
können
entsprechend mehrere, diese Halterungen kontaktierende zusätzliche
Leiterbahnen quer über
die Oberfläche
gelegt werden. Zum Ausgleich der optischen Weglänge können die zusätzlichen
Leiterbahnen in entsprechende Rillen in der Linsenoberfläche eingebracht
werden. 6 shows in supervision a lens 501 of CaF 2 whose surface 503 with a network 505 made of metal atoms. This network is created by slowly steaming at low temperatures. They are on the lens surface 503 vapor-deposited metal atoms just enough to move to places of relatively low potential, ie to the ply edges 507 of the crystalline calcium fluoride. Due to the low vapor deposition rate and substrate temperature it is avoided that the metal atoms combine to form islands. To complete the resulting concentric structures into a conductive mesh, it transverses across the lens surface 503 one more additional track 509 applied, which also makes contact with the lens holder 511 manufactures. In the case of several holders, a plurality of additional conductor tracks which contact these holders can be placed across the surface. To compensate for the optical path length, the additional tracks in corresponding grooves in the Lens surface are introduced.
In 7 ist
eine Linse 601 ähnlich
der in 5 gezeigten dargestellt, bei der aber keine leitfähige Schicht
aufgebracht wird, sondern vielmehr durch Dotieren mit Fremdionen 603 eine
Oberflächenleitfähigkeit des
Linsenmaterials selbst erzeugt wird. Wie schon bei den Ausführungsformen
der 5 und 6 ist ein erreichter Oberflächenwiderstand
von unter 0,1 TΩ/☇,
insbesondere weniger als 1 GΩ/☇ bevorzugt.In 7 is a lens 601 similar to the one in 5 shown, but in which no conductive layer is applied, but rather by doping with foreign ions 603 a surface conductivity of the lens material itself is generated. As with the embodiments of the 5 and 6 is an achieved surface resistance of less than 0.1 TΩ / ☇, in particular less than 1 GΩ / ☇ preferred.
Bei
der Anordnung gemäß der 8 ist
eine Spülgaszufuhr 701 mit
einer Americium-haltigen α-Strahlungsquelle
ausgestattet. Das durchströmende
Gas wird durch die α-Strahlung des 241Am jeweils beim Eintritt in den Linsenzwischenraum 703 teilweise
ionisiert. In den Überströmkanälen 705 werden
verbliebene, also nicht rekombinierte Ionen beim Austritt aus dem
Linsenzwischenraum entladen. Beim erneuten Eintritt in den nächsten Linsenzwischenraum
findet wiederum partielle Ionisation statt usf. Eine genauere Beschreibung
der Spülgasführung wird
im Zusammenhang mit 10 gegeben.In the arrangement according to the 8th is a purge gas supply 701 equipped with an americium-containing α-radiation source. The gas flowing through it is defined by the α radiation of the 241 Am each time it enters the lens space 703 partially ionized. In the overflow channels 705 remaining, that is not recombined, ions are discharged when exiting the lens space. Partial ionization takes place again when entering the next lens space. A more detailed description of the purge gas guidance is given in connection with 10 given.
Bei
der Linse 801 gemäß der 9 ist
die Oberfläche 803 der
Linse mit Antireflexschichten 805, 807 alternierend
belegt. Eine der äußeren Schichten 807 enthält radioaktives
Thoriumfluorid ThF4, und zwar angereichert
mit 230Th. Dieses sorgt für eine geringfügige Ionisierung
des Spülgases,
und damit den Abtransport von Oberflächenladungen.At the lens 801 according to the 9 is the surface 803 the lens with anti-reflection layers 805 . 807 alternately occupied. One of the outer layers 807 contains radioactive thorium fluoride ThF 4 , enriched with 230 Th. This ensures a slight ionization of the purge gas, and thus the removal of surface charges.
In
nicht dargestellten, weiteren Ausführungen sind mehrere der vorgestellten
Lösungen
miteinander kombiniert. Beispielsweise kann die Spülgasionisierung
mittels in Gaszufuhrkanälen
angeordneten Americiumquellen auch mit einer ThF4-Antireflexbeschichtung
kombiniert werden, und beide wiederum mit einer netzartigen Leitungsstruktur.
Eine Antireflexbeschichtung kann auch Americiumfluorid 241AmF3 umfassen, zumindest als untergeordneter
Bestandteil z.B. in einer LaF3-Schicht.In further embodiments, not shown, several of the solutions presented are combined. For example, the purge gas ionization may also be combined with a ThF 4 antireflective coating by means of ameriumium sources located in gas supply channels, and both in turn with a net-like conduit structure. An antireflective coating may also comprise americium fluoride 241 AmF 3 , at least as a minor constituent eg in a LaF 3 layer.
Ferner
kann eine oberflächennahe
Dotierung mit einer vollflächigen
Beschichtung der Linsenoberfläche
kombiniert werden. Insbesondere kann die Dotierung durch Diffusion
des Beschichtungsmaterials in die eigentliche Linsenoberfläche bereitgestellt
werden. Hierzu kann die Herstellung einen Erhitzungsprozeß umfassen,
währenddessen
einzelne Atome der Beschichtung in das Volumen der Linse eindringen.
Hierbei ist die leitfähige
Beschichtung direkt auf der Linse aufgebracht, während dielektrische Antireflexschichten
auf der leitfähigen
Beschichtung aufgebracht sind. Zusätzlich kann auf und/oder zwischen
den Antireflexschichten eine weitere leitfähige Beschichtung aufgebracht
sein, und zwar vollflächig
oder als Netzstruktur wie oben beschrieben.Further
can be a near-surface
Doping with a full-surface
Coating the lens surface
be combined. In particular, the doping by diffusion
of the coating material provided in the actual lens surface
become. For this purpose, the production may comprise a heating process,
Meanwhile
single atoms of the coating penetrate into the volume of the lens.
Here is the conductive
Coating applied directly to the lens while dielectric antireflection coatings
on the conductive
Coating are applied. Additionally, on and / or between
applied to the anti-reflective layers another conductive coating
be, and all over
or as a network structure as described above.
10 ist
eine Zeichnung, die schematisch den Aufbau eines Spülgasversorgungssystems
zur Verwendung mit der vorliegenden Erfindung darstellt. Das optische
System bildet eine Projektionsbelichtungsvorrichtung 901 zum Abbilden
eines Musters, welches auf der Maske 903 ausgebildet ist,
auf den Photoresist, der auf einer Oberfläche des Halbleiterwafers 905 aufgebracht
ist. Die Belichtungsvorrichtung 901 umfaßt eine Mehrzahl
von optischen Komponenten, die direkt oder indirekt an einem Gerüst 907 befestigt
sind, um die relativen Positionen der optischen Komponenten zueinander
festzulegen. Das Gerüst 907 ist
auf einer Basis 909 befestigt, welche ihrerseits am Boden 911 befestigt
ist. Vibrationsdämpfer 913 sind
zwischen der Basis 909 und dem Gerüst 907 bereitgestellt,
um die Schwingungsübertragung
von dem Boden 911 auf die optischen Komponenten des Systems
zu unterdrücken.
Das Gerüst 907 ist
dergestalt auf der Basis 909 befestigt, daß relative
Bewegungen zwischen dem Gerüst 907 und
der Basis 909 in xyz-Richtung ermöglicht sind, wie durch die
Pfeile 915 angedeutet. 10 Fig. 12 is a drawing schematically illustrating the structure of a purge gas supply system for use with the present invention. The optical system forms a projection exposure apparatus 901 for imaging a pattern which is on the mask 903 is formed on the photoresist which is on a surface of the semiconductor wafer 905 is applied. The exposure device 901 comprises a plurality of optical components that are directly or indirectly attached to a scaffold 907 are fixed to determine the relative positions of the optical components to each other. The scaffolding 907 is on a base 909 attached, which in turn on the ground 911 is attached. vibration damper 913 are between the base 909 and the scaffolding 907 provided to the vibration transmission from the ground 911 to suppress the optical components of the system. The scaffolding 907 is based on that 909 attached that relative movements between the scaffolding 907 and the base 909 in the xyz direction, as indicated by the arrows 915 indicated.
Die
Projektionsbelichtungsvorrichtung 901 umfaßt ein Strahlführungssystem 917,
welches einen ArF-Excimer-Laser 919 zur Bereitstellung
eines Lichtstrahls 921 der Wellenlänge 193 nm beinhaltet. Das Strahlführungssystem
umfaßt
ferner ein Linsensystem, das durch die Linse 923 schematisch
dargestellt ist. Für
den Fachmann ist jedoch klar, daß das Strahlführungssystem
eine Vielzahl weiterer optischer Komponenten, wie Integratoren,
Zoomsysteme und andere Komponenten, umfassen kann.The projection exposure apparatus 901 comprises a beam guiding system 917 which is an ArF excimer laser 919 for providing a light beam 921 the wavelength 193 nm includes. The beam delivery system further includes a lens system passing through the lens 923 is shown schematically. However, it will be apparent to those skilled in the art that the beam delivery system may include a variety of other optical components, such as integrators, zoom systems, and other components.
Der
Beleuchtungsstrahl 921 wird durch den Spiegel 925 auf
die Maske 903 reflektiert. Die Maske 903 ist auf
der Maskenbühne 927 befestigt,
welche in Bezug auf das Gerüst 907 beweglich
ist, wobei ein entsprechendes Lager 929 und ein Aktuator 931 in 10 nur
schematisch angedeutet sind. Hierbei ist wichtig, daß die relative
Position zwischen der Maskenhalterung, auf welcher die Maske 903 direkt
befestigt ist, und dem gemeinsamen Gerüst 907 eine eindeutig
definierte Position ist, welche gemäß einem bestimmten Verfahren geändert werden
kann. Das heißt,
die Maske 903 ist in diesem Sinne an dem Gerüst 907 "befestigt", so daß eine beispielsweise
durch Vibrationen verursachte Relativbewegung des Gerüsts 907 zur
Basis 909 im wesentlichen einer gleichen Relativbewegung
der Maske 903 in Bezug zur Basis 909 entspricht.The lighting beam 921 is through the mirror 925 on the mask 903 reflected. The mask 903 is on the mask stage 927 attached, which in relation to the scaffolding 907 is movable, with a corresponding bearing 929 and an actuator 931 in 10 are indicated only schematically. It is important that the relative position between the mask holder, on which the mask 903 directly attached, and the common scaffolding 907 is a clearly defined position that can be changed according to a particular procedure. That is, the mask 903 is in this sense on the scaffolding 907 "attached", so that a caused for example by vibration relative movement of the scaffold 907 to the base 909 essentially a same relative movement of the mask 903 in relation to the base 909 equivalent.
In ähnlicher
Weise ist der Wafer 905 direkt auf der Waferbühne 933 befestigt,
welche durch das Gerüst 907 mittels
des Lagers 935 gehaltert ist, wobei eine Position des Wafers 905 in
Bezug auf das Gerüst 907 durch
Ansteuern des Aktuators 937 geändert werden kann. Wiederum
ist Wafer 905 in diesem Sinne an dem Gerüst 907 "befestigt".Similarly, the wafer is 905 directly on the wafer stage 933 fastened by the scaffolding 907 by means of the warehouse 935 is held, with a position of the wafer 905 in terms of the scaffolding 907 by driving the actuator 937 can be changed. Again, wafer is 905 in this sense on the scaffolding 907 "Attached".
Die
Projektionsbelichtungsvorrichtung 901 umfaßt ferner
ein Abbildungssystem 939 zur Abbildung eines Bereiches
der Maske 903 auf einen entsprechenden Bereich des Wafers 905.
Das Abbildungssystem 939 umfaßt eine Mehrzahl von Linsen 941,
die als Linsenstapel in einem Linsengehäuse 943 angeordnet
sind, wobei das Linsengehäuse
jede der Linse 941 haltert. Das Linsengehäuse 943 bildet
einen Bestandteil des Gerüsts 907.
In 10 sind zu Darstellungszwecken lediglich fünf Linsen 941 dargestellt.
Dem Fachmann ist aber klar, daß ein
solches Abbildungssystem in der Regel wesentlich mehr Linsen aufweist,
wie auch die in den 2 und 3 dargestellten
Abbildungssysteme mehr als fünf
Linsen aufweisen.The projection exposure apparatus 901 further includes an imaging system 939 to image an area of the mask 903 to a corresponding area of the wafer 905 , The imaging system 939 includes a plurality of lenses 941 as a lens stack in a lens housing 943 are arranged, wherein the lens housing of each of the lens 941 supports. The lens housing 943 forms part of the scaffold 907 , In 10 are for illustration purposes only five lenses 941 shown. However, it is clear to the person skilled in the art that such an imaging system generally has substantially more lenses, as well as those in the 2 and 3 imaging systems have more than five lenses.
Die
Projektionsbelichtungsvorrichtung 901 umfaßt ferner
ein Gasversorgungssystem 945 für die Zufuhr eines Spülgases zu
den Zwischenräumen
zwischen den optischen Komponenten der Projektionsbelichtungsvorrichtung 901.
Diese Zwischenräume
werden von dem Lichtstrahl 921 durchsetzt, und das Spülgas ist hinreichend
inert bezüglich
Wechselwirkungen mit dem Lichtstrahl 921. Die Zwischenräume sind
solche zwischen dem Laser 919 und den Linsen 923,
solche zwischen benachbarten Linsen 923, der Zwischenraum
zwischen den Linsen 923 und dem Spiegel 925, der
Zwischenraum zwischen dem Spiegel 925 und der Maske 903,
ein Zwischenraum zwischen der Maske 903 und der Linse 941,
welche der Maske 903 benachbart ist, Zwischenräume zwischen
benachbarten Linsen 941 sowie der Zwischenraum zwischen
dem Wafer 905 und derjenigen Linse 941, die dem
Wafer 905 benachbart ist.The projection exposure apparatus 901 further includes a gas supply system 945 for supplying a purge gas to the gaps between the optical components of the projection exposure apparatus 901 , These spaces are from the light beam 921 permeated, and the purge gas is sufficiently inert with respect to interactions with the light beam 921 , The spaces between them are those between the laser 919 and the lenses 923 , such between neighboring lenses 923 , the space between the lenses 923 and the mirror 925 , the space between the mirror 925 and the mask 903 , a space between the mask 903 and the lens 941 , which of the mask 903 is adjacent, spaces between adjacent lenses 941 as well as the gap between the wafer 905 and that lens 941 that the wafer 905 is adjacent.
Das
Spülgas
ist ein hochgereinigtes Gas, welches aus einer Gasquelle 947 bereitgestellt
wird, welche symbolisch als Druckflasche dargestellt ist. Jedoch
könnte
die Gasversorgung 947 auch ein kontinuierlich arbeitendes
Gasreinigungssystem sein.The purge gas is a highly purified gas that comes from a gas source 947 is provided, which is symbolically represented as a pressure bottle. However, the gas supply could 947 also be a continuous gas cleaning system.
Eine
Zufuhrleitung 949 ist in dem Gerüst 907 angeordnet,
um Spülgas
zu den Zwischenräumen
in dem Strahlführungssystem 917 zuzuführen. Eine
weitere Zufuhrleitung 951 ist für die Zufuhr von Spülgas zu
dem Zwischenraum zwischen der Maske 903 und dem Abbildungssystem 939 zuzuführen. Eine
weitere Zufuhrleitung 953 ist für die Zufuhr von Spülgas zu
dem Linsengehäuse 943 vorgesehen
und schließlich
ist eine Zufuhrleitung 955 vorgesehen, um Spülgas zu
dem Zwischenraum zwischen Wafer 905 und Abbildungssystem 939 zuzuführen. Die
Versorgungsleitung 953 führt das Spülgas direkt nur zu dem Zwischenraum
zwischen den untersten benachbarten Linsen des Linsengehäuses 943 zu.
Das Gas, welches diesen Zwischenraum durchströmt, wird durch eine Umgehungsleitung 957 in
den nächsten
Zwischenraum zwischen Linsen 941 geleitet, durch weitere
Umgehungsleitungen 959 und 961 in die verbleibenden
Zwischenräume
zwischen jeweils benachbarten Linsen 941. Für den Fachmann
ist jedoch klar, daß es
auch möglich
ist, das Spülgas
direkt in jeden einzelnen Zwischenraum zwischen benachbarten Linsen
zuzuführen.A supply line 949 is in the scaffolding 907 arranged to purge gas to the interstices in the beam delivery system 917 supply. Another supply line 951 is for the supply of purge gas to the space between the mask 903 and the imaging system 939 supply. Another supply line 953 is for the supply of purge gas to the lens housing 943 provided and finally is a supply line 955 provided to purge gas to the space between wafers 905 and imaging system 939 supply. The supply line 953 The purge gas leads directly only to the gap between the lowest adjacent lenses of the lens housing 943 to. The gas which flows through this gap is through a bypass line 957 in the next space between lenses 941 passed through further bypass lines 959 and 961 in the remaining spaces between each adjacent lens 941 , However, it will be apparent to those skilled in the art that it is also possible to supply the purge gas directly into each individual space between adjacent lenses.
Eine
Mehrzahl von Reduzierventilen 963 ist vorgesehen, um das
Spülgas
aus der Gasquelle 947 zu jeder der Versorgungsleitungen 949 bis 955 zuzuführen. Die
Ventile 963 sind an einem gemeinsamen Gerüst 965 befestigt,
welches seinerseits mit der Basis 909 verbunden ist. Vibrationen,
die beispielsweise durch den Gasfluß durch die Reduzierventile 963,
oder andere aus der Gasversorgung stammende Vibrationen werden von
dem Gerüst 907 dadurch
fern gehalten, daß die
Versorgungsleitungen 949 bis 955 durch einen Schwingungsentkoppler 967 geführt werden.A plurality of reducing valves 963 is provided to the purge gas from the gas source 947 to each of the supply lines 949 to 955 supply. The valves 963 are on a common scaffolding 965 attached, which in turn with the base 909 connected is. Vibrations, for example, by the gas flow through the reducing valves 963 , or other vibrations from the gas supply are from the framework 907 kept away by that the supply lines 949 to 955 through a vibration decoupler 967 be guided.
Das
Gasversorgungssystem 945 umfaßt ein Abgassystem 1003,
welches Spülgas
aus dem austretenden Gasvolumen zurückgewinnt. In 10 sind
zwei Gasauslässe 1005 und 1007 zum
Ableiten des Spülgases
aus den durchspülten
Zwischenräumen
dargestellt. Das Spülgas
wird dann durch die Leitung 1009 und den Schwingungsentkoppler 967 durch
das Ventil 1011 zu dem Gasrückgewinnungssystem 1013 zurückgeführt, um
das Spülgas
zur Wiederverwendung in dem Gasversorgungssystem 945 oder
für andere
Zwecke aufzuarbeiten.The gas supply system 945 includes an exhaust system 1003 which recovers purge gas from the exiting gas volume. In 10 are two gas outlets 1005 and 1007 shown for draining the purge gas from the purged spaces. The purge gas is then passed through the line 1009 and the vibration isolator 967 through the valve 1011 to the gas recovery system 1013 returned to the purge gas for reuse in the gas supply system 945 or work up for other purposes.