DE102005004145A1 - Device has radiation-emitting semiconducting component(s) with associated heating element(s) for heating the component(s); peak wavelength varies in fluctuation range over defined ambient temperature range in which component operated - Google Patents
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Abstract
Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung mit einem strahlungsemittierenden Halbleiterbauelement und ein Verfahren zur Temperaturstabilisierung eines strahlungsemittierenden Halbleiterbauelements.The The invention relates to a device with a radiation-emitting Semiconductor device and a method for temperature stabilization a radiation-emitting semiconductor component.
Die Peakwellenlänge der von einer Laserdiode einer derartigen Vorrichtung emittierten Strahlung wird bekanntlich von der Betriebstemperatur des Halbleiterbauelements beeinflusst, die von der Umgebungstemperatur des Halbleiterbauelements abhängt. Änderungen in der Umgebungstemperatur können somit zu Schwankungen der Peakwellenlänge des Halbleiterbauelements führen. Derartige Schwankungen der Peakwellenlänge sind jedoch oftmals unerwünscht. Die Peakwellenlänge eines Laserdiodenbauelements wird deshalb des öfteren durch zusätzliche Maßnahmen stabilisiert. Bei kantenemittierenden Laserdioden beispielsweise kann ein spektraler Filter, etwa ein Bragg-Gitter, wie bei DFB- (Distributed Feedback) oder DBR-Lasern (Distributed Bragg Reflector), zur Wellenlängenstabilisierung in das Bauelement integriert werden. Derartige Laser sind jedoch meist nur für vergleichsweise geringe optische Ausgangsleistungen geeignet. Bei Halbleiterlaser-Bauelementen mit externem Resonator, etwa mit vertikaler Emissionsrichtung (z.B. VECSEL: Vertical External Cavity Surface Emitting Laser) kann zur Wellenlängenstabilisierung ein Beugungsgitter oder eine Bragg-Faser als Filterelement im Resonator angeordnet werden. Hierdurch können resonatorinterne Verluste gezielt so erhöht werden, dass die Peakwellenlänge des Bauelements vergleichsweise stabil ist. Weiterhin kann eine Laserdiode zur Wellenlängenstabilisierung entsprechend gekühlt werden, z. B. über ein Peltier-Element oder Kühlwasser.The Peak wavelength which emitted from a laser diode of such a device Radiation is known to depend on the operating temperature of the semiconductor device influenced by the ambient temperature of the semiconductor device depends. amendments in the ambient temperature can thus to fluctuations in the peak wavelength of the semiconductor device to lead. However, such fluctuations in the peak wavelength are often undesirable. The Peak wavelength Of a laser diode device is therefore often by additional activities stabilized. For example, in edge emitting laser diodes can be a spectral filter, such as a Bragg grating, as in DFB (Distributed Feedback) or DBR lasers (Distributed Bragg Reflector), for wavelength stabilization be integrated into the component. However, such lasers are mostly only for comparatively low optical output powers suitable. at Semiconductor laser devices with external resonator, such as vertical Emission direction (e.g., VECSEL: Vertical External Cavity Surface Emitting laser) can be used for wavelength stabilization a diffraction grating or a Bragg fiber as a filter element in the resonator to be ordered. This allows resonator internal losses are deliberately increased so that the peak wavelength of the Component is relatively stable. Furthermore, a laser diode for Wavelength stabilization cooled accordingly be, for. B. over a Peltier element or cooling water.
Die vorstehenden Maßnahmen zur Wellenlängenstabilisierung sind jedoch vergleichsweise aufwändig und/oder kostenintensiv. Ein spektraler Filter etwa muss bei der Herstellung in eine Laserdiodenstruktur integriert werden, ein Beugungsgitter oder eine Bragg-Faser im Resonator angeordnet und justiert werden. Pettier-Elemente sind weiterhin vergleichsweise kostenintensiv, und Kühlwasserkreisläufe, die gewöhnlich einen hohen Platzbedarf aufweisen, sind neben den hohen Kosten auch vergleichsweise aufwändig zu realisieren.The above measures for wavelength stabilization However, they are comparatively expensive and / or expensive. A spectral filter, for example, must be in the production integrated into a laser diode structure, a diffraction grating or a Bragg fiber can be arranged in the resonator and adjusted. Pettier elements are still relatively expensive, and cooling water circuits, the usually have a high space requirement, in addition to the high cost, too comparatively expensive to realize.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Vorrichtung mit einem strahlungsemittierenden Halbleiterbauelement anzugeben, dessen Peakwellenlänge vereinfacht stabilisierbar ist. Zudem soll die Vorrichtung kostengünstig verwirklichbar und über einen weiten Umgebungstemperaturbereich zuverlässig mit stabilisierter Peakwellenlänge einsetzbar sein. Weiterhin ist es eine Aufgabe der Erfindung, ein vereinfachtes Verfahren zur Wellenlängenstabilisierung eines strahlungsemittierenden Halbleiterbauelements anzugeben.task It is the object of the present invention to provide a device with a radiation-emitting Specify semiconductor device whose peak wavelength simplified is stabilizable. In addition, the device should cost feasible and over a wide ambient temperature range can be reliably used with stabilized peak wavelength be. Furthermore, it is an object of the invention to provide a simplified Method for wavelength stabilization to specify a radiation-emitting semiconductor device.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch eine Vorrichtung mit den Merkmalen des Patentanspruchs 1 und ein Verfahren nach Patentanspruch 26 gelöst. Vorteilhafte Weiterbildungen sind Gegenstand der abhängigen Patentansprüche.These Task is achieved by a device having the features of claim 1 and a Method according to claim 26 solved. Advantageous developments are the subject of the dependent Claims.
Eine erfindungsgemäße Vorrichtung umfasst mindestens ein strahlungsemittierendes Halbleiterbauelement, wobei dem Halbleiterbauelement mindestens ein elektrisches Heizelement zugeordnet ist, das zum Heizen des Halbleiterbauelements ausgebildet ist.A inventive device comprises at least one radiation-emitting semiconductor component, wherein the semiconductor device at least one electric heating element is assigned, which is designed for heating the semiconductor device is.
Durch Heizen des Halbleiterbauelements mittels des Heizelements kann die Änderung der Betriebstemperatur des Halbleiterbauelements gegenüber der Änderung der Umgebungstemperatur über einen vorgegebenen Umgebungstemperaturbereich, in dem das Halbleiterbauelement zum Betrieb vorgesehen ist, verringert werden. Die Betriebstemperatur des Halbleiterbauelements kann so auf einen Betriebstemperaturbereich stabilisiert werden, der vom vorgegebenen Umgebungstemperaturbereich derart vollständig überdeckt wird, dass der Umgebungstemperaturbereich Temperaturen aufweist, die außerhalb des Betriebstemperaturbereichs des temperaturstabilisierten Halbleiterbauelements liegen. Schwankungen in der Betriebstemperatur des Halbleiterbauelements können so verringert werden, wodurch aufgrund der Temperaturabhängigkeit der Peakwellenlänge einer vom Halbleiterbauelement erzeugten Strahlung die Schwankung der Peakwellenlänge im Betrieb des Halbleiterbauelements über den vorgegebenen Umgebungstemperaturbereich verringert wird.By Heating the semiconductor device by means of the heating element, the change the operating temperature of the semiconductor device with respect to the change the ambient temperature over a predetermined ambient temperature range in which the semiconductor device is intended to operate, can be reduced. The operating temperature of the semiconductor device can thus be stabilized to an operating temperature range be completely covered by the predetermined ambient temperature range is that the ambient temperature range has temperatures, the outside the operating temperature range of the temperature-stabilized semiconductor device lie. Fluctuations in the operating temperature of the semiconductor device can be reduced so, due to the temperature dependence the peak wavelength a radiation generated by the semiconductor device, the fluctuation the peak wavelength in Operation of the semiconductor device over the predetermined ambient temperature range is reduced.
Auf aufwändige herzustellende und/oder kostenintensive, im Halbleiterbauelement integrierte spektrale Filter oder justageaufwändige externe Filterelemente kann so ebenso wie auf kostenintensive Kühlung vorteilhaft verzichtet werden. Insbesondere kann das elektrische Heizelement als externes, außerhalb des Halbleiterbauelements angeordnetes, Heizelement ausgeführt sein. Ein elektrisches Heizelement erleichtert weiterhin mit Vorteil die Heizungssteuerung, etwa aufgrund einer vereinfachten Montage des Heizelements in der Vorrichtung.Expensive to produce and / or cost-intensive, integrated in the semiconductor device spectral filter or adjustment-consuming external filter elements can be advantageously dispensed with as well as costly cooling. In particular, the electrical heating element can be designed as an external heating element arranged outside the semiconductor component. An electric heating element facilitates white terhin with advantage the heating control, for example due to a simplified installation of the heating element in the device.
Halbleiterbauelemente für eine derartige Vorrichtung können somit mit Vorteil in einem kostengünstigen Standardprozess gefertigt werden und die Peakwellenlänge kann für gleichartig gefertigte Halbleiterbauelemente individuell über das jeweils zugeordnete Heizelement stabilisiert werden.Semiconductor devices for one such device can thus manufactured with advantage in a cost-effective standard process and the peak wavelength can for individually manufactured semiconductor components individually via the each associated heating element to be stabilized.
Es sei angemerkt, dass im Rahmen der vorliegenden Anmeldung der Begriff Umgebungstemperatur bzw.It It should be noted that in the context of the present application, the term Ambient temperature or
Umgebungstemperaturbereich teilweise stellvertretend für den Begriff Betriebstemperatur bzw. Betriebstemperaturbereich eines nicht temperaturstabilisierten, insbesondere ungeheizten, Halbleiterbauelements verwendet wird. Die Betriebstemperatur eines nicht temperaturstabilisierten Halbleiterbauelements unterscheidet sich aufgrund der im Betrieb anfallenden Wärme zwar in der Regel von der Umgebungstemperatur, kann jedoch maßgeblich von dieser beeinflusst werden. Die Umgebungstemperatur stellt jedenfalls eine untere Grenze für die Betriebstemperatur eines nicht temperaturstabilisierten Halbleiterbauelements dar, falls die Verlustwärme im Betrieb des Halbleiterbauelements, etwa aufgrund eines Betriebs mit geringer Leistung, vernachlässigbar ist und auf zusätzliche Kühlmaßnahmen verzichtet wird. Bei der Erfindung dagegen kann die Betriebstemperatur des Halbleiterbauelements durch elektrische Heizung des Bauelements über der Umgebungstemperatur gehalten werden, so dass die Umgebungstemperatur keine untere Grenze für die Betriebstemperatur darstellt.Ambient temperature range partially representative of the term operating temperature or operating temperature range of a not temperature-stabilized, in particular unheated, semiconductor device is used. The operating temperature of a non-temperature-stabilized Semiconductor device differs due to the in operation accumulating heat Although usually from the ambient temperature, but can be significant be influenced by this. The ambient temperature is in any case a lower limit for the operating temperature of a non-temperature-stabilized semiconductor device if the heat loss during operation of the semiconductor device, such as due to operation with low power, negligible is and on additional cooling measures is waived. In the invention, however, the operating temperature of the semiconductor device by electrical heating of the device over the Ambient temperature can be maintained so that the ambient temperature no lower limit for represents the operating temperature.
In einem erfindungsgemäßen Verfahren zur Temperaturstabilisierung der Betriebstemperatur eines strahlungsemittierenden Halbleiterbauelements, insbesondere eines Bauelements der Vorrichtung, ist dem Halbleiterbauelement ein elektrisches Heizelement zugeordnet, mittels dem das Halbleiterbauelement beim Unterschreiten eines vorgegebenen Sollwerts der Betriebstemperatur des Halbleiterbauelements geheizt wird. Hierdurch kann, wie bereits oben erwähnt, die Betriebstemperatur des Halbleiterbauelements in einem Betriebstemperaturbereich gehalten werden, der gegenüber dem vorgegebenen Umgebungstemperaturbereich als Betriebstemperaturbereich geschmälert ist.In a method according to the invention for temperature stabilization of the operating temperature of a radiation-emitting Semiconductor device, in particular a device of the device, the semiconductor device is associated with an electrical heating element, by means of which the semiconductor device falls below a predetermined Setpoint of the operating temperature of the semiconductor device heated becomes. As a result, as already mentioned above, the operating temperature of the semiconductor device held in an operating temperature range be opposite the predetermined ambient temperature range as the operating temperature range diminished is.
In einer bevorzugten Ausgestaltung wird beim Überschreiten des vorgegebenen Sollwerts der Betriebstemperatur des Halbleiterbauelements die Heizleistung des Heizelements reduziert oder das Heizelement wird ausgeschaltet. Übermäßiges Heizen des Halbleiterbauelements und die Gefahr einer Schädigung des überheizten Halbleiterbauelements wird so verringert.In A preferred embodiment is when exceeding the predetermined Setpoint of the operating temperature of the semiconductor device, the heating power of the heating element is reduced or the heating element is switched off. Excessive heating of the semiconductor device and the risk of damage to the overheated Semiconductor device is thus reduced.
In einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung ist das Halbleiterbauelement zur Erzeugung von Strahlung einer Peakwellenlänge ausgebildet, die über den vorgegebenen Umgebungstemperaturbereich, in dem das Halbleiterbauelement zum Betrieb vorgesehen ist, in einem Schwankungsbereich variiert. Der Schwankungsbereich muss nicht notwendigerweise zusammenhängend sein, vielmehr kann auch eine sprunghafte Änderung der Peakwellenlänge auftreten.In Another preferred embodiment is the semiconductor device for generating radiation of a peak wavelength formed over the predetermined ambient temperature range in which the semiconductor device is intended for operation, varies in a range of fluctuation. The range of variation does not necessarily have to be contiguous, rather, a sudden change in the peak wavelength can also occur.
Gegenüber dem Schwankungsbereich des ungeheizten Halbleiterbauelements mit einer maßgeblich von der Umgebungstemperatur beeinflussten Betriebstemperatur kann der Schwankungsbereich der Peakwellenlänge des beheizten Halbleiterbauelements geschmälert sein.Compared to the Fluctuation of the unheated semiconductor device with a decisively by the ambient temperature influenced operating temperature can Range of variation of the peak wavelength of the heated semiconductor device diminished be.
Insbesondere kann eine Breite des Schwankungsbereichs der Peakwellenlänge über Heizen des Halbleiterbauelements mittels des Heizelements von einer ersten Breite des ungeheizten Halbleiterbauelements auf eine zweite Breite des geheizten Halbleiterbauelements reduziert werden, wobei die zweite Breite kleiner als die erste Breite ist. Der Schwankungsbereich der ersten Breite überdeckt denjenigen der zweiten Breite vorzugsweise vollständig. Der Schwankungsbereich kann derart geschmälert werden, dass die zweite Breite 60 %, vorzugsweise 55 %, oder weniger der ersten Breite beträgt.Especially may be a width of the fluctuation range of the peak wavelength over heating of the semiconductor device by means of the heating element of a first Width of the unheated semiconductor device to a second width of the heated semiconductor device can be reduced, wherein the second width is smaller than the first width. The fluctuation range the first width covered that of the second width preferably completely. Of the The fluctuation range can be narrowed such that the second width 60%, preferably 55%, or less of the first width.
Als Breite wird hierbei der Betrag der Differenz der kleinsten und der größten Peakwellenlänge über den Betriebstemperaturbereich des Halbleiterbauelements angesehen. Die Breite des Schwankungsintervalls des ungeheizten Halbleiterbauelements ist zumindest ungefähr durch die Differenz der maximalen und der minimalen Peakwellenlänge bestimmt, die vom Halbleiterbauelement emittierte Strahlung für eine Betriebstemperatur des Halbleiterbauelements über den gesamten Umgebungstemperaturbereich annimmt. Entsprechendes gilt für die Breite des Schwankungsintervalls des temperaturstabilisierten, geheizten Halbleiterbauelements.When Width is hereby the amount of the difference of the smallest and the largest peak wavelength over the Operating temperature range of the semiconductor device viewed. The Width of the fluctuation interval of the unheated semiconductor device is at least about determined by the difference between the maximum and the minimum peak wavelength, the radiation emitted by the semiconductor device for an operating temperature of the semiconductor device via assumes the entire ambient temperature range. The same applies to the width of the fluctuation interval of the temperature-stabilized, heated semiconductor device.
Die Schwankung der Peakwellenlänge des Halbleiterbauelements kann somit insgesamt mittels gezielter Temperaturstabilisierung über das elektrische Heizelement vorteilhaft verringert werden. In der Folge wird die Peakwellenlänge des Halbleiterbauelements stabilisiert.The Fluctuation of the peak wavelength of the semiconductor device can thus total by means of more targeted Temperature stabilization over the electrical heating element can be advantageously reduced. In the The result is the peak wavelength of the semiconductor device stabilized.
Bevorzugt ist das Halbleiterbauelement zum Betrieb in einem Umgebungstemperaturbereich, der Temperaturen kleiner und größer 0°C, insbesondere von –40°C bis 85°C, umfasst, vorgesehen. Mittels der elektrischen Heizung kann erreicht werden, dass die Betriebstemperatur des Halbleiterbauelements bei Temperaturen, insbesondere durchweg, im Bereich größer 0°C, insbesondere im Bereich von 20°C bis 85°C, liegt. Ein Betriebstemperaturfenster des Halbleiterbauelements kann von einem ersten Fenster des ungeheizten, etwa einer Breite von 125 K, auf ein zweites Fenster des geheizten Halbleiterbauelements, etwa einer Breite von 65 K, geschmälert sein. Derartige Temperaturen können bei Außenanwendungen des Halbleiterbauelements, etwa in einer Vorrichtung im Fahrzeugbereich, auftreten.Prefers is the semiconductor device for operation in an ambient temperature range, the temperatures lower and greater than 0 ° C, in particular from -40 ° C to 85 ° C, intended. By means of electric heating can be achieved that the operating temperature of the semiconductor device at temperatures, in particular consistently, in the range greater than 0 ° C, in particular in the range of 20 ° C to 85 ° C, lies. One Operating temperature window of the semiconductor device can by a first window of the unheated, about a width of 125 K, on a second window of the heated semiconductor device, such as a Width of 65 K, narrowed be. Such temperatures can in outdoor applications the semiconductor device, such as in a device in the vehicle area, occur.
In einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung ist dem Halbleiterbauelement ein, vorzugsweise elektrischer, Temperatursensor zur Überwachung der Betriebstemperatur des Halbleiterbauelements zugeordnet. Bevorzugt kann der Betrieb des elektrischen Heizelements mittels des Temperatursensors, etwa mittels eines im Temperatursensor erzeugten oder eines am Temperatursensor ermittelten Signals, gesteuert werden.In Another preferred embodiment is the semiconductor device a, preferably electrical, temperature sensor for monitoring associated with the operating temperature of the semiconductor device. Prefers the operation of the electric heating element by means of the temperature sensor, for example by means of a temperature sensor generated in the temperature sensor or one detected signal to be controlled.
Ein NTC-Element mit negativem Temperaturkoeffizienten (Negative Temperature Coefficient), etwa ein NTC-Thermistor (Thermistor: Ein temperaturabhängiger Widerstand), ist als Temperatursensor besonders geeignet.One NTC element with negative temperature coefficient (negative temperature Coefficient), such as an NTC thermistor (thermistor: a temperature-dependent resistor), is particularly suitable as a temperature sensor.
Über den Temperatursensor wird vorzugsweise die Betriebstemperatur des Halbleiterbauelements ermittelt. Beim Unterschreiten des vorgegebenen Sollwerts kann ein Heizen des Halbleiterbauelements mittels des Heizelements veranlasst werden. Wird der Sollwert überschritten wird zweckmäßigerweise die Heizleistung reduziert oder das Heizelement ausgeschaltet. Liegt die Betriebstemperatur bereits über dem Sollwert, so wird das Heizelement bevorzugt nicht betrieben. Diese Heizungssteuerung kann gegebenenfalls über ein externes Auswerteelement erfolgen, das die mittels des Temperatursensors bestimmte Betriebstemperatur des Halbleiterbauelements überwacht und mit dem Sollwert vergleicht.On the Temperature sensor is preferably the operating temperature of the semiconductor device determined. When falling below the predetermined setpoint, a Heating the semiconductor device caused by the heating element become. If the setpoint is exceeded is expediently reduces the heating power or the heating element off. Lies the operating temperature already over the setpoint, the heating element is preferably not operated. This heating control may optionally have an external evaluation element take place, which determined by means of the temperature sensor operating temperature of Semiconductor device monitored and compares with the setpoint.
In einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung ist dem Halbleiterbauelement ein Detektorelement zur Detektion der vom Halbleiterbauelement emittierten Strahlung zugeordnet, das zur Detektion von Strahlung mit Wellenlängen in einem vorgegebenen, vorzugsweise zusammenhängenden, Detektionsbereich ausgebildet ist. Derartige Detektorelemente sind häufig in einer Sensorvorrichtung mit einem Halbleiterbauelement als Sender und dem Detektor als Empfänger vorgesehen, wobei der Detektionsbereich zur Vermeidung unerwünschter Umgebungslichteinflüsse, welche oftmals ein Rauschen des Detektorsignals verursachen, vorzugsweise möglichst schmal ist.In Another preferred embodiment is the semiconductor device a detector element for detecting the emitted from the semiconductor device Radiation associated with the detection of radiation with wavelengths in a predetermined, preferably contiguous, detection area is trained. Such detector elements are often in a sensor device with a semiconductor device as a transmitter and the detector as a receiver provided, wherein the detection area to avoid unwanted Ambient light influences which often cause noise of the detector signal, preferably preferably narrow.
Der Detektionsbereich in einer herkömmlichen derartigen Vorrichtung ist oft so gewählt, dass er den Schwankungsbereich der Peakwellenlänge über den Umgebungstemperaturbereich umfasst, um eine Detektion der Strahlung des ungeheizten Halbleiterbauelements mit einer Betriebstemperatur über im wesentlichen den gesamten Umgebungstemperaturbereich zu sichern. Bei der Erfindung dagegen kann der Detektionsbereich derart ausgebildet sein, dass der Schwankungsbereich der Peakwellenlänge des ungeheizten Halbleiterbauelements Wellenlängen außerhalb des Detektionsbereichs aufweist und der Detektionsbereich den Schwankungsbereich der Peakwellenlänge des temperaturstabilisierten Halbleiterbauelements, vorzugsweise vollständig, überdeckt. Das Detektorelement kann somit in einer Vorrichtung mit einem temperaturstabilisierten Halbleiterbauelement gegenüber einer Vorrichtung mit einem nicht temperaturstabilisierten Halbleiterbauelement mit einem schmalbandigeren Detektionsbereich ausgeführt sein und Umgebungslichteinflüsse auf ein Detektorsignal können vorteilhaft verringert werden. Als Strahlungsdetektoren eignen sich beispielsweise besonders Fotodioden, etwa PIN- oder Lawinen-Fotodioden (APD: Avalanche Photodiode), vorzugsweise auf Si basierend, deren Detektionsbereich durch entsprechende Filter an das Halbleiterbauelement bzw. den Schwankungsbereich der Peakwellenlänge des geheizten Halbleiterbauelements angepasst ist.Of the Detection area in a conventional such device is often chosen to be the range of variation the peak wavelength over the Ambient temperature range includes detection of the radiation the unheated semiconductor device having an operating temperature substantially over entire ambient temperature range. In the invention In contrast, the detection area can be designed such that the fluctuation range of the peak wavelength of the unheated semiconductor device wavelength outside of the detection area and the detection area has the fluctuation range the peak wavelength the temperature-stabilized semiconductor device, preferably completely, covered. The detector element can thus be in a device with a temperature-stabilized semiconductor device across from a device with a non-temperature-stabilized semiconductor device be executed with a narrower detection range and ambient light influences on a detector signal can be reduced advantageous. As radiation detectors are suitable For example, especially photodiodes, such as PIN or avalanche photodiodes (APD: Avalanche Photodiode), preferably based on Si, whose detection range by appropriate filters to the semiconductor device or the fluctuation range the peak wavelength the heated semiconductor device is adapted.
In einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung ist das Halbleiterbauelement als Halbleiterlaser-Bauelement, insbesondere Hochleistungslaser-Bauelement, ausgeführt. Aufgrund der vergleichsweise schmalbandigen Emissionsspektren von Halbleiterlaser-Bauelementen macht sich die Temperaturabhängigkeit der Peakwellenlänge bei Halbleiterlaser-Bauelementen oft besonders stark bemerkbar. Das Halbleiterlaser-Bauelement kann beispielsweise als kantenemittierende Laserdiode oder als Laserdiodenbarren ausgebildet sein. Ein Laserdiodenbarren umfasst hierbei eine Mehrzahl von Laserdiodenstrukturen (Laserdiodenkanäle), die monolithisch integriert und auf einem gemeinsamen Substrat angeordnet sind. Weiterhin kann das Halbleiterbauelement als oberflächenemittierendes Halbleiterbauelement, insbesondere Halbleiterlaser-Bauelement, ausgeführt sein. Beispielsweise kann das oberflächenemittierende Halbleiterbauelement als vertikal emittierendes Halbleiterlaser-Bauelement mit internem Resonator (VCSEL: Vertical Surface Emitting Laser) oder mit externem Resonator (VECSEL) ausgebildet sein. Bevorzugt ist das Halbleiterlaser-Bauelement zum gepulsten Betrieb, insbesondere in einer Sensorvorrichtung mit einem dem Bauelement zugeordneten Detektorelement, vorgesehen.In a further preferred refinement, the semiconductor component is designed as a semiconductor laser component, in particular a high-power laser component. Due to the comparatively narrow-band emission spectra of semiconductor laser components, the temperature dependence of the peak wavelength often makes itself particularly noticeable in semiconductor laser components. The semiconductor laser component can be designed, for example, as an edge-emitting laser diode or as a laser diode bar. A laser diode bar in this case comprises a plurality of laser diode structures (laser diode channels) which are monolithically integrated and arranged on a common substrate. Furthermore, the semiconductor structure Element as a surface-emitting semiconductor device, in particular semiconductor laser device, be executed. By way of example, the surface-emitting semiconductor component can be embodied as a vertical-emitting semiconductor laser component with an internal resonator (VCSEL: Vertical Surface Emitting Laser) or with an external resonator (VECSEL). The semiconductor laser component is preferably provided for pulsed operation, in particular in a sensor device with a detector element associated with the component.
In einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung ist das Halbleiterbauelement auf einem Träger, etwa einer Leiterplatte, angeordnet. Vorzugsweise ist das Heizelement ebenfalls auf dem Träger angeordnet. Hierdurch wird, insbesondere über eine vergleichsweise nah benachbarte Anordnung des Heizelements und des Halbleiterbauelements, eine effiziente Beheizung des Halbleiterbauelements erleichtert. weiterhin ist das Heizelement und/oder gegebenenfalls der Temperatursensor, bevorzugt oberflächenmontierbar (SMD: Surface Mountable Device) ausgebildet, wodurch eine Montage des Heizelements auf dem Träger und eine kompakte Ausbildung der Vorrichtung erleichtert werden.In Another preferred embodiment is the semiconductor device on a carrier, about a circuit board, arranged. Preferably, the heating element also on the carrier arranged. This will, in particular over a comparatively close adjacent arrangement of the heating element and the semiconductor device, facilitates efficient heating of the semiconductor device. Furthermore, the heating element and / or optionally the temperature sensor, preferably surface mountable (SMD: Surface Mountable Device), whereby an assembly of the heating element on the carrier and a compact design of the device can be facilitated.
In einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung ist das Heizelement als Heizwiderstand ausgeführt. Durch Anlegen einer Spannung an den Heizwiderstand kann über Stromfluss durch den Heizwiderstand dementsprechend Wärme erzeugt und das Halbleiterbauelement beheizt werden.In In a further preferred embodiment, the heating element is as Heating resistor executed. By Applying a voltage to the heating resistor can be via current flow heat is generated accordingly by the heating resistor and the semiconductor device be heated.
In einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung ist das Heizelement im Träger des Halbleiterbauelements integriert. Der Träger kann somit schon mit integriertem Heizelement bereitgestellt werden, wodurch auf eine zusätzliche Anordnung eines separaten Heizelements auf dem Träger verzichtet werden kann. Bevorzugt weist der Träger hierzu eine Mehrschichtstruktur auf und das Heizelement ist als Heizwiderstandsschicht in der Mehrschichtstruktur integriert. Besonders geeignet ist hierzu eine Mehrschicht-Leiterplatte, die eine, vorzugsweise in eine oder mehrere, etwa meanderförmig verlaufende, Heizwiderstandsbahn(en) strukturierte und/oder Cu enthaltende, Heizwiderstandsschicht aufweist.In In a further preferred embodiment, the heating element is in carrier integrated of the semiconductor device. The carrier can thus already with integrated Heating element to be provided, thereby providing an additional Disposed arrangement of a separate heating element on the support can be. For this purpose, the support preferably has a multilayer structure on and the heating element is used as Heizwiderstandsschicht in the multi-layer structure integrated. Particularly suitable for this purpose is a multilayer printed circuit board, the one, preferably in one or more, approximately meandering, Heizwiderstandsbahn (s) structured and / or Cu-containing, Heizwiderstandsschicht having.
In einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung ist das Heizelement zwischen dem Träger und dem Halbleiterbauelement oder das Halbleiterbauelement ist auf dem Heizelement angeordnet. Durch eine derartige Nähe von Heizelement und Halbleiterbauelement wird eine effiziente, flächige Beheizung des Halbleiterbauelements erleichtert.In In another preferred embodiment, the heating element is between the carrier and the semiconductor device or the semiconductor device is on arranged the heating element. By such proximity of heating element and semiconductor device becomes an efficient, planar heating the semiconductor device facilitated.
In einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung ist zwischen dem Träger und dem Halbleiterbauelement ein Zwischenträger (Submount) angeordnet. Mittels eines derartigen Zwischenträgers kann die Gefahr einer Abschattung der vom Halbleiterbauelement emittierten Strahlung durch eine Kante des Trägers verringert werden.In Another preferred embodiment of the invention is between the carrier and an intermediate carrier (submount) disposed on the semiconductor device. By means of such a subcarrier, the risk of Shading of the radiation emitted by the semiconductor device radiation reduces an edge of the carrier become.
In einer vorteilhaften Weiterbildung ist der Zwischenträger als Heizelement ausgebildet oder der Zwischenträger enthält das Heizelement. Hierbei ist das Heizelement vorzugsweise ein Heizwiderstandsbereich, der im Zwischenträger ausgebildet sein kann. Ein derartiger Heizwiderstandsbereich kann mittels Implantation, etwa Protonen-Implantation, in einen Bereich des Zwischenträgers realisiert sein. Vorzugsweise enthält der Zwischenträger hierzu ein Halbleitermaterial, etwa Si. Bevorzugt ist der Heizwiderstandsbereich weiterhin im Zwischenträger oberflächennah an der dem Halbleiterbauelement zugewandten Oberfläche des Zwischenträgers ausgeführt und/oder an dieser Oberfläche elektrisch anschließbar.In An advantageous development of the subcarrier as Heating element formed or the intermediate carrier contains the heating element. in this connection the heating element is preferably a Heizwiderstandsbereich, the in the subcarrier can be trained. Such a heating resistor area can by implantation, such as proton implantation, in an area of the subcarrier be realized. Preferably, the intermediate carrier contains for this purpose a semiconductor material, such as Si. The heating resistor region is preferred still in the intermediate carrier close to the surface on the surface of the semiconductor component facing the subcarrier accomplished and / or on this surface electrically connectable.
In einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung ist das Heizelement elektrisch von dem Halbleiterbauelement isoliert. Somit ist eine getrennte elektrische Ansteuerung von Heizelement und Halbleiterbauelement möglich. Insbesondere können das Heizelement und das Halbleiterbauelement mit Vorteil unabhängig voneinander betrieben werden.In According to another preferred embodiment, the heating element is electrical isolated from the semiconductor device. Thus, a separate one electrical control of heating element and semiconductor device possible. In particular, that can Heating element and the semiconductor device with advantage independently operate.
In einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung ist das Heizelement gesondert thermisch leitend mit dem Halbleiterbauelement verbunden. Die Effizienz der Beheizung kann so erhöht werden. Hierzu kann beispielsweise ein thermischer Verbindungsleiter, etwa Cu enthaltend, vorgesehen sein, der das Halbleiterbauelement und das Heizelement thermisch leitend verbindet.In In a further preferred embodiment, the heating element is separate thermally conductively connected to the semiconductor device. The efficiency the heating can be increased become. For this purpose, for example, a thermal connection conductor, containing Cu, may be provided, the semiconductor device and connects the heating element thermally conductive.
In einer vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist der Temperatursensor gesondert thermisch leitend mit dem Halbleiterbauelement verbunden. Aufgrund einer thermisch leitenden Verbindung kann die Temperatur effizienter überwacht werden, da die Gefahr einer Abweichung der mittels des Temperatursensors bestimmten Betriebstemperatur von einer tatsächlichen Betriebstemperatur des Halbleiterbauelements verringert wird. Zur Verbesserung der thermischen Anbindung kann beispielsweise ein weiterer thermischer Verbindungsleiter, etwa Cu enthaltend, vorgesehen sein, der das Halbleiterbauelement und den Temperatursensor thermisch leitend verbindet.In an advantageous embodiment of the invention, the temperature sensor is separately thermally connected to the semiconductor device. Due to a thermally conductive connection, the temperature can be monitored more efficiently, since the risk of a deviation of the operating temperature determined by means of the temperature sensor from an actual operating temperature of the semiconductor component is reduced. To improve the thermal connection, for example, another thermal Verbin tion conductor, containing about Cu, be provided, which connects the semiconductor device and the temperature sensor thermally conductive.
In einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung erfolgt die Heizung des Halbleiterbauelements über das Material des Trägers. Insbesondere kann die Wärmezufuhr durch ein elektrisch isolierendes Grundmaterial des Trägers erfolgen. Auf das Ausbilden gesonderter thermischer Verbindungsleiter kann so verzichtet werden.In Another preferred embodiment of the invention is the Heating the semiconductor device via the material of the carrier. Especially can the heat done by an electrically insulating base material of the carrier. On the formation of separate thermal connection conductor can to be dispensed with.
Weitere Merkmale, Vorteile und Zweckmäßigkeiten der Erfindung ergeben sich aus der Beschreibung der folgenden Ausführungsbeispiele in Verbindung mit den Figuren.Further Features, benefits and benefits The invention will become apparent from the description of the following embodiments in conjunction with the figures.
Es zeigen:It demonstrate:
Gleiche, gleichartige oder gleichwirkende Elemente sind in den Figuren mit den gleichen Bezugszeichen versehen.Same, similar or equivalent elements are in the figures with provide the same reference numerals.
Einem
strahlungsemittierenden Halbleiterbauelement
Dem
Halbleiterbauelement
Bevorzugt
ist zwischen dem Heizelement und dem Halbleiterbauelement und/oder
dem Halbleiterbauelement und dem Temperatursensor eine gesonderte
thermisch leitende Verbindung ausgebildet. Beispielsweise ist hierzu
ein erster thermischer Verbindungsleiter
Weiterhin
ist der Träger
bevorzugt als Leiterplatte, etwa als PCB (PCB: Printed Circuit Board)
ausgeführt.
Auf die Darstellung von Leiterbahnen der Leiterplatte sowie elektrischer
Anschlüsse
des Heizelements
Alternativ kann jedoch auch auf die thermischen Verbindungsleiter verzichtet werden. Die Beheizung des Halbleiterbauelements erfolgt dann vorzugsweise über das Material des Trägers. Insbesondere kann die Wärmezufuhr zum Halbleiterbauelement in diesem Falle durch ein elektrisch isolierendes Grundmaterial, z.B. ein Kunststoffmaterial, des Trägers erfolgen.alternative However, it is also possible to dispense with the thermal connection conductors become. The heating of the semiconductor device is then preferably via the Material of the carrier. In particular, the heat supply to the semiconductor device in this case by an electrically insulating Base material, e.g. a plastic material, carried the carrier.
Das elektrische Heizelement, das Halbleiterbauelement und/oder der Temperatursensor ist bevorzugt oberflächenmontierbar ausgeführt und kann zum Beispiel auf den Träger gelötet sein. Beispielsweise ist der Temperatursensor als oberflächenmontierbarer NTC-Thermistor und/oder das elektrische Heizelement als oberflächenmontierbarer Heizwiderstand ausgeführt. Das Halbleiterbauelement ist bevorzugt ohne zusätzliches Gehäuse auf dem Träger montiert (Chip on Board).The electric heating element, the semiconductor device and / or the temperature sensor is preferably surface mountable accomplished and can, for example, on the carrier soldered be. For example, the temperature sensor is surface mountable NTC thermistor and / or the electric heating element as a surface mountable Heating resistor executed. The semiconductor component is preferably without an additional housing the carrier mounted (chip on board).
Eine
thermisch leitende Verbindung zwischen dem elektrischen Heizelement
Es
sei angemerkt, dass die Verbindungsleiter
Gegebenenfalls kann eine thermisch leitende Verbindung auch über den Träger, vorzugsweise durch ein elektrisch isolierende Grundmaterial, etwa einen Kunststoff, des Trägers, erfolgen.Possibly may also be a thermally conductive compound via the carrier, preferably by a electrically insulating base material, such as a plastic, the support respectively.
Das
Halbleiterbauelement
Das
Halbleiterbauelement kann beispielsweise als Halbleiterlaser-Bauelement,
insbesondere zum gepulsten Betrieb, ausgeführt sein. Bevorzugt ist das
Halbleiterlaser-Bauelement
als kantenemittierende Laserdiode ausgeführt. Hierbei begrenzen vorzugsweise
gegenüberliegende
Seitenflächen
Zur Strahlungserzeugung im infraroten Spektralbereich ist ein GaAs-basierender Halbleiterkörper, insbesondere auf einem GaAs Epitaxiesubstrat gewachsen, besonders geeignet.to Radiation generation in the infrared spectral range is a GaAs-based Semiconductor body, grown especially on a GaAs epitaxial substrate, especially suitable.
Ist
das Halbleiterbauelement als Laserdiodenbarren ausgeführt, so
ist mit Vorzug eine Mehrzahl von Halbleiterkörpern
Mittels
des Temperatursensors
Zur Überwachung der Betriebstemperatur kann diese, beispielsweise über die bekannte Temperaturabhängigkeit des Widerstandes des NTC-Thermistors, über den Temperatursensor ermittelt werden und mittels einer, gegebenenfalls auf dem Träger angeordneten, Regelungsschaltung, etwa einer Transistorschaltung, die bevorzugt die ermittelte Betriebstemperatur mit dem Sollwert vergleicht, geregelt werden.For monitoring the operating temperature can this, for example, over the known temperature dependence of the resistance of the NTC thermistor, determined by the temperature sensor and by means of a, optionally arranged on the support, Control circuit, such as a transistor circuit, the preferred the determined operating temperature compares with the setpoint, regulated become.
Gegenüber einer Betriebstemperatur des Halbleiterbauelements, die über einen vorgegebenen Umgebungstemperaturbereich variiert, kann so der Schwankungsbereich der betriebstemperaturabhängigen Peakwellenlänge des Halbleiterbauelements reduziert werden, indem das Halbleiterbauelement über das elektrische Heizelement gezielt geheizt und temperaturstabilisiert wird.Opposite one Operating temperature of the semiconductor device, via a varies given ambient temperature range, so the fluctuation range the operating temperature dependent peak wavelength of the Semiconductor device can be reduced by the semiconductor device via the electric heating element specifically heated and temperature stabilized becomes.
Der
Detektionsbereich des Detektorelements kann somit mit Vorteil schmalbandiger
ausgeführt
werden als ein Schwankungsintervall der Peakwellenlänge der
Strahlung
Dies
resultiert in einem optimierten Verhältnis vom von der Strahlung
Der Betriebstemperaturbereich des Halbleiterbauelements kann beispielsweise von einem vorgegebenen Umgebungstemperaturbereich mit Temperaturen von -40°C bis 85°C auf einen Betriebstemperaturbereich von 20°C bis 85°C stabilisiert werden. Aufgrund der Temperaturabhängigkeit der Peakwellenlänge wird in der Folge die Peakwellenlänge des Halbleiterbauelements stabilisiert.Of the Operating temperature range of the semiconductor device, for example from a given ambient temperature range with temperatures from -40 ° C up to 85 ° C be stabilized to an operating temperature range of 20 ° C to 85 ° C. by virtue of the temperature dependence the peak wavelength becomes the peak wavelength of the semiconductor device as a result stabilized.
Die Temperaturabhängigkeit der Peakwellenlänge kann, insbesondere bei einer kantenemittierenden Laserdiode zur Erzeugung infraroter Strahlung, etwa in einem Spektralbereich von 800 bis 1000 nm, 0,3 nm/K betragen. In einem Umgebungstemperaturfenster der Breite 125K, etwa von -40°C bis 85°C, als Betriebstemperaturbereich des ungeheizten Halbleiterbauelements bedeutet dies eine erhebliche Schwankung der Peakwellenlänge in einem Intervall einer Breite von ungefähr 38 nm, wobei mit steigender Betriebstemperatur die Peakwellenlänge wächst. Wird die Betriebstemperatur mittels elektrischer Heizung auf ein gegenüber obigem Bereich schmäleres Temperaturfenster, wie eines der Breite von 65 K, etwa von 20°C bis 85°C, stabilisiert, so kann die Breite des Schwankungsbereichs der Peakwellenlänge, etwa auf eine Breite von ungefähr 20 nm für ein Betriebstemperaturfenster von 65 K Breite, reduziert werden. Auch mit einem durch entsprechende Filter geschmälerten Detektionsbereich einer Breite von ungefähr 20 nm kann somit die vom Halbleiterbauelement erzeugte Strahlung über das Detektorelement im Betrieb des Halbleiterbauelements über den Umgebungstemperaturbereich zuverlässig detektiert werden. Umgebungslichteinflüsse auf das Detektorsignal werden durch den schmalen Detektionsbereich mit Vorteil verringert.The temperature dependence the peak wavelength can, in particular in an edge emitting laser diode for Generation of infrared radiation, for example in a spectral range of 800 to 1000 nm, 0.3 nm / K amount. In an ambient temperature window width 125K, about -40 ° C up to 85 ° C, as the operating temperature range of the unheated semiconductor device this means a significant fluctuation of the peak wavelength in one Interval of a width of about 38 nm, the peak wavelength increases with increasing operating temperature. Becomes the operating temperature by means of electric heating to a range above narrower Temperature windows, such as one of the width of 65 K, approximately from 20 ° C to 85 ° C, stabilized, Thus, the width of the fluctuation range of the peak wavelength, about to a width of about 20 nm for one Operating temperature window of 65 K width, to be reduced. Also with a narrowed by appropriate filter detection area of a Width of about 20 nm can thus be generated by the semiconductor device radiation over the Detector element in the operation of the semiconductor device via the Ambient temperature range can be reliably detected. Ambient light influences the detector signal is through the narrow detection area with Advantage reduced.
In
Das Array kann derart ausgebildet sein, dass die einzelnen Laserdiodenkanäle des Arrays getrennt voneinander ansteuerbar sind oder die einzelnen Kanäle nur gemeinsam betrieben werden können. Im letzteren Fall sind die Kanäle parallel geschalten und weisen hierzu einen allen Kanälen gemeinsamen Kontakt und einen allen Kanälen gemeinsamen Gegenkontakt auf. Für eine getrennte Ansteuerung der einzelnen Kanäle kann beispielsweise ein mit allen Kanälen leitend verbundener Gegenkontakt vorgesehen sein, wobei die einzelnen Kanäle jeweils einen separaten Einzelkontakt aufweisen, über den der Stromfluss durch den jeweiligen Kanal geregelt werden kann. Die einzelnen Kanäle sind dann über den jeweiligen Einzelkontakt unabhängig voneinander betreibbar.The Array may be formed such that the individual laser diode channels of the array can be controlled separately from each other or the individual channels only together can be operated. In the latter case, the channels connected in parallel and have a common to all channels Contact and one all channels common counter contact on. For a separate control of the individual channels, for example, a with all channels be provided conductively connected counter contact, wherein the individual channels each having a separate single contact over the the current flow through the respective channel can be controlled. The individual channels are over then the respective individual contact independently operable.
Auf
jedem der beispielsweise sechzehn Laserdiodenkanäle des Arrays sind hierbei
zwei Bonddrähte zur
elektrischen Kontaktierung zugeordnet. Der Gegenpol der Diodenkontaktierung
wird mittels Bonddrähten, z.B.
mit vier Bonddrähten,
hergestellt, die beispielsweise über
eine auf dem Zwischenträger
Im
Unterschied zum Ausführungsbeispiel
gemäß
Bevorzugt weist der Heizwiderstandsbereich eine laterale Ausdehnung auf, die größer ist als die laterale Ausdehnung des Halbleiterbauelements, wodurch eine flächige und effiziente elektrische Beheizung des Halbleiterbauelements in verglichen mit diskreten Heizelementen unmittelbarer Nähe zum Halbleiterbauelement erleichtert wird.Prefers the Heizwiderstandsbereich on a lateral extent, the is larger as the lateral extent of the semiconductor device, whereby a area and efficient electrical heating of the semiconductor device in compared with discrete heating elements in immediate proximity to the semiconductor device is relieved.
Im
Wesentlichen entspricht das fünfte
Ausführungsbeispiel
dem dritten Ausführungsbeispiel
aus
Die
Heizwiderstandsschicht enthält
beispielsweise Cu und/oder verläuft
etwa, wie in
Weiterhin
kann gegebenenfalls zusätzlich
oder alternativ ein thermischer Verbindungsleiter, der sich durch
die erste Schicht
Das
elektrische Heizelement kann in dieser Ausführung mit Vorteil bereits integriert
mit dem Träger
Die
anhand der folgenden Figuren erläuterten
Zusammenhänge
wurden an einem Halbleiterlaser-Bauelement, etwa gemäß dem in
In
Aufgetragen
ist in
Hierbei ist deutlich die Temperaturabhängigkeit der Peakwellenlänge – der Wellenlänge des Emissionsmaximums der jeweiligen Verteilung – zu erkennen, wobei größere Heizspannungen in der Regel höheren Temperaturen entsprechen und sich die Peakwellenlänge für steigende Spannungen zu höheren Wellenlängen verschiebt. Mit steigenden Spannungen verflacht die Emissionsverteilung.in this connection is clearly the temperature dependence the peak wavelength - the wavelength of the Emission maximums of the respective distribution - to detect, where larger heating voltages usually higher temperatures and the peak wavelength shifts to higher wavelengths for increasing voltages. With increasing voltages, the emission distribution is flattened.
In
Bei
einem oberflächenmontierbaren
Heizwiderstand, etwa der oben genannten Art (vergleiche die Ausführungen
zu
Aus
In
Die Abnahme der optischen Peak-Leistung mit steigender Temperatur beträgt demnach ungefähr –0.25 W/K.The Accordingly, decrease of optical peak power with increasing temperature is about -0.25 W / K.
In
In
Ein im Zwischenträger integrierter Heizwiderstandsbereich ist für eine Beheizung des Halbleiterbauelements demnach besonders geeignet, jedoch auch mit vergleichsweise hohem Aufwand und Kosten verbunden.One in the subcarrier integrated heating resistor region is for heating the semiconductor device therefore particularly suitable, but also with comparatively high Effort and costs associated.
Eine Beheizung über eine Heizwiderstandsschicht ist demgegenüber kostengünstiger, wobei diskrete Heizwiderstande besonders einfach handhabbar und kostengünstig sind.A Heating over a Heizwiderstandsschicht is in contrast cheaper, with discrete heating resistors are particularly easy to handle and inexpensive.
Insbesondere können SMD-Heizwiderstände mittels Oberflächenmontage besonders einfach in die Vorrichtung integriert werden.Especially can SMD heating resistors by surface mounting particularly easy to be integrated into the device.
Die thermische Zeitkonstante τ, nach der die Betriebstemperatur des Halbleiterlaser-Bauelements die Hälfte ihrer Maximaltemperatur beträgt, liegt für die drei Varianten zwischen, jeweils einschließlich, ungefähr 20 s und ungefähr 25 s.The thermal time constant τ, after the operating temperature of the semiconductor laser device the half its maximum temperature is, is for the three variants between, each including, about 20 s and about 25 s.
Die vorliegende Patentanmeldung beansprucht die Priorität der deutschen Patentanmeldung DE 10 2004 009 588.4 vom 25. Februar 2004, deren gesamter Offenbarungsgehalt hiermit explizit durch Rückbezug in die vorliegende Patentanmeldung aufgenommen wird.The This patent application claims the priority of the German Patent Application DE 10 2004 009 588.4 of 25 February 2004, the Full disclosure hereby explicitly by reference to the present patent application is incorporated.
Die Erfindung ist nicht durch die Beschreibung anhand der Ausführungsbeispiele beschränkt. Vielmehr umfasst die Erfindung jedes neue Merkmal sowie jede Kombination von Merkmalen, was insbesondere jede Kombination von Merkmalen in den Patentansprüchen beinhaltet, auch wenn dieses Merkmal oder diese Kombination selbst nicht explizit in den Patentansprüchen oder Ausführungsbeispielen angegeben ist.The The invention is not by the description based on the embodiments limited. Rather, the invention encompasses every new feature as well as every combination of features, in particular any combination of features in the claims includes, even if this feature or this combination itself not explicitly in the patent claims or embodiments is specified.
Claims (32)
Priority Applications (4)
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DE200510004145 DE102005004145A1 (en) | 2004-02-25 | 2005-01-28 | Device has radiation-emitting semiconducting component(s) with associated heating element(s) for heating the component(s); peak wavelength varies in fluctuation range over defined ambient temperature range in which component operated |
EP05002961.0A EP1605560B1 (en) | 2004-02-25 | 2005-02-11 | Lightemitting semiconductor device and method for temperature stabilisation |
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JP2005052031A JP2005244242A (en) | 2004-02-25 | 2005-02-25 | Apparatus provided with at least one beam radiation semiconductor device, and method of stabilizing operating temperature of the beam radiation semiconductor device |
Applications Claiming Priority (3)
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Country Status (1)
Country | Link |
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OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
R002 | Refusal decision in examination/registration proceedings | ||
R003 | Refusal decision now final |