DE102005002397A1 - Method for spacer regulation involves considering optically effective structure of object dependent shift of illustration optics during spacer regulation and takes into account development of anisotropy - Google Patents
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Abstract
Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Bestimmung des Abstands zwischen einem Messpunkt eines Objektes und einem optischen Sensor, insbesondere CCD-Flächensensor, nach dem Autofokusverfahren durch Kontrastbestimmung des über eine Abbildungsoptik auf den Sensor abgebildeten Messpunkts.The The invention relates to a method for determining the distance between a measuring point of an object and an optical sensor, in particular CCD area sensor, after the autofocus method by contrast determination of a Imaging optics on the sensor imaged measurement point.
Bei optischen Koordinatenmessgeräten kann die Ausprägung eines Messobjekts in Richtung der optischen Achse einer zum Einsatz gelangenden Optik üblicherweise durch das auch als Autofokussieren bezeichnete Autofokusverfahren bestimmt werden. Dabei werden beim Autofokussieren mehrere Bilder des Objekts unter Veränderung des Abstandes zwischen Objekt und Abbildungsoptik bzw. Objekt und Sensor aufgenommen. In jedem dieser aufgenommenen Bilder wird der in diesen enthaltende Kontrast bestimmt, wobei zur Bestimmung des Kontrastes die Summe der Differenzen der Intensitäten an benachbarten Bildpunkten berechnet werden kann. Werden diese Differenzsummen der aufgenommenen Bilder, die ein Maß für den Bildkontrast darstellen, über den Abstand zwischen Detektor bzw. Sensor und Messobjekt aufgetragen, so ergibt sich eine Kurve, die ein Maximum an dem Ort der höchsten Bildschärfe erreicht. Dieser Ort dient als Messwert für die Ausprägung des Messobjekts in Richtung der optischen Achse, die auch als Teilehöhe bezeichnet wird.at optical coordinate measuring machines can the expression a measuring object in the direction of the optical axis of a used getting optics usually by autofocusing, also referred to as autofocusing be determined. There are several pictures when autofocusing of the object under change the distance between object and imaging optics or object and Sensor recorded. In each of these pictures taken is the determined in this containing contrast, wherein the determination of the Contrast the sum of the differences of the intensities at neighboring ones Pixels can be calculated. Will these difference sums the captured images, which are a measure of the image contrast, on the Distance between detector or sensor and measurement object is plotted, this results in a curve that reaches a maximum at the location of the highest image sharpness. This location serves as a reading for the expression of the measuring object in the direction of the optical axis, which is also referred to as part height becomes.
Dieses grundsätzliche Prinzip wird z. B. in der DE-C-198 16 271 realisiert. Um zusätzlich hohe Abtastgeschwindigkeiten zu erzielen, ist dabei vorgesehen, dass im Abbildungsstrahlengang der Optik an den Enden zweier unterschiedlich langer optischer Wege jeweils der fotometrische Kontrast gemessen wird, wobei die Abstandseinstellung der Optik so erfolgt, dass die gemessenen Kontrastwerte gleich oder nahezu gleich sind.This fundamental Principle is z. B. realized in DE-C-198 16 271. In addition, high scanning speeds to achieve, it is provided that in the imaging beam path the optics at the ends of two different lengths optical paths each of the photometric contrast is measured, the distance setting The optics are made so that the measured contrast values are equal or are almost equal.
Präzise Messung bei hoher Messgeschwindigkeit ergeben sich zur Abstandsbestimmung aus der WO-A-01 33166, wobei im Abbildungsstrahlengang einer Optik an Enden von zumindest drei unterschiedlich langen optischen Wegen Kontrastverteilungen der Strahlungen in Abhängigkeit von dem Abstand zu dem zu messenden Punkt des Objekts mittels zumindest eines Sensors bestimmt und die ermittelten Kontrastverteilungen zueinander in Beziehung gesetzt werden.Precise measurement at high measuring speed result in distance determination from WO-A-01 33166, wherein in the imaging beam path of an optics at ends of at least three different lengths optical paths Contrast distributions of the radiation as a function of the distance to the point of the object to be measured by means of at least one sensor determined and the determined contrast distributions to each other in Relationship be set.
Aus DE.Z.: P. Profos, T. Pfeifer (HRSG.): Handbuch der industriellen Messtechnik, Oldenbourg Verlag, München-Wien, 1992, S. 455, 456, ist ein Verfahren zur Abstandsbestimmung nach dem Autofokusprinzip bekannt, wobei Laserabstandssensoren für die Erfassung von Oberflächentopografien verwendet werden. Bei dem bekannten Verfahren wird Licht einer Laserdiode über einen Kollimator und ein bewegliches Objektiv auf die Materialoberfläche geworfen. Das von der Oberfläche reflektierte Licht gelangt über die Objektivlinse, den Kollimator und einem Strahlenteiler zu einem elektroelektronischen Fokusdetektor in Form einer Modemzeile. Die Objektivlinse wird oberflächentopografieabhängig nachgeführt. Aus ihrer Bewegung wird das Oberflächenprofil ermittelt. Ein Nachteil dieses Verfahrens besteht in der starken Empfindlichkeit gegenüber Eigenschaftsänderungen der Materialoberfläche.Out DE.Z .: P. Profos, T. Pfeifer (HRSG.): Handbook of industrial Messtechnik, Oldenbourg Verlag, Munich-Vienna, 1992, p. 455, 456, is a method for distance determination according to the autofocus principle known, wherein laser distance sensors for the detection of surface topographies be used. In the known method, light of a laser diode via a Collimator and a moving lens thrown onto the material surface. That from the surface reflected light passes over the objective lens, the collimator and a beam splitter to one electro-electronic focus detector in the form of a modem line. The Objective lens is tracked depending on the surface topography. Out their motion determines the surface profile. A disadvantage of this method is the high sensitivity across from property changes the material surface.
In der WO-A-99 53271 wird ein Verfahren zur punktweise scannenden Profilbestimmung einer Materialoberfläche mit einem Koordinatenmessgerät nach dem Autofokusprinzip beschrieben, wobei eine in einem relativ zur Materialoberfläche beweglichen Tastkopf angeordnete Optik automatisch in ihrem Abstand zur Materialoberfläche eingestellt und aus der Position der Optik gegenüber der Materialoberfläche das Profil der Materialoberfläche dadurch bestimmt wird, dass im Abbildungsstrahlengang der Optik an den Enden zweier unterschiedlich langer optischer Wege jeweils der fotometrische Kontrast gemessen wird und die Abstandseinstellung der Optik so erfolgt, dass die gemessenen Kontrastwerte gleich oder nahezu gleich sind.In WO-A-99 53271 discloses a method for point-wise scanning profile determination a material surface with a coordinate measuring machine after described the autofocus principle, one in a relative to material surface movable probe arranged optics automatically in their distance to the material surface set and from the position of the optics opposite the material surface the Profile of the material surface is determined by the fact that in the imaging beam path of the optics to the Ends of two different lengths optical paths in each case the photometric Contrast is measured and the distance setting of the optics so takes place that the measured contrast values are the same or almost the same are.
Unabhängig von dem Messverfahren ist aufgrund des Astigmatismus durch Abweichungen der zum Einsatz gelangenden Abbildungsoptiken von idealisierten optischen Systemen die Bildebene und damit Ort der maximalen Schärfe im Bild abhängig von der in der Objektebene vorhandenen optisch wirksamen Struktur. Der diesbezügliche Effekt ist insbesondere dann von Bedeutung, wenn die optisch wirksame Struktur anisotrop ist. Dabei beeinflussen die Stärke der Anisotropie der Struktur sowie der Winkel der Struktur die Abweichung der tatsächlichen, also realen Bild- oder Fokus- oder Schärfenebene von der theoretisch zu erwartenden Bildebene einer idealisierten Abbildungsoptik. Dieser Effekt führt dazu, dass bei dem Autofokusverfahren je nach Drehlage bzw. Richtung und Ausbildung der Anisotropie die optisch wirksame Struktur in der Objektebene unterschiedliche Bild- oder Fokusebenen bestimmt werden und somit Messfehler bei der Bestimmung der Teilehöhe auftreten.Independent of The measurement method is due to the astigmatism by deviations the used imaging optics of idealized optical systems the image plane and thus place the maximum sharpness in the picture depending on the existing in the object plane optically effective structure. Of the in this regard Effect is particularly important if the optically effective Structure is anisotropic. This affects the strength of the Anisotropy of the structure as well as the angle of the structure the deviation the actual, So the real picture or focus or focus level of the theoretical expected image plane of an idealized imaging optics. This Effect leads to that in the autofocus method depending on the rotational position or direction and formation of anisotropy the optically active structure in the object level determines different image or focal planes and thus measurement errors occur when determining the part height.
Der vorliegenden Erfindung liegt daher das Problem zu Grunde, ein Verfahren der eingangs genannten Art so weiterzubilden, dass durch Astigmatismus bedingte Messverfälschungen ausgeschlossen werden.Of the The present invention is therefore based on the problem of a method of the aforementioned type so that by astigmatism Conditional measurement distortions be excluded.
Zur Lösung des Problems sieht die Erfindung im Wesentlichen vor, dass eine von optisch wirksamer Struktur des Objekts abhängige Verschiebung der Bildebene der Abbildungsoptik bei der Abstandsbestimmung berücksichtigt wird. Dabei wird insbesondere die richtungsabhängige optisch wirksame Struktur (Anisotropie) berücksichtigt, wobei Ausprägung der Anisotropie und/oder winkelabhängige Anisotropie einbezogen werden können.to solution of the problem, the invention essentially provides that a of the optically effective structure of the object dependent displacement of the image plane considered the imaging optics in the distance determination becomes. In this case, in particular the direction-dependent optically active structure Considered (anisotropy), being expression included the anisotropy and / or angle-dependent anisotropy can be.
Die Berechnung der strukturabhängigen Verschiebung der Bildebene kann in einem oder mehreren Ausschnitten des von dem optischen Sensor erfassten Bildes durchgeführt werden.The Calculation of structure-dependent Shifting the image plane can be done in one or more clippings of the image captured by the optical sensor.
Bevorzugterweise sieht die Erfindung vor, dass aus Messungen von Normobjekten mit bekannter optisch wirksamer Struktur strukturell abhängige Verschiebungen der Bildebene ermittelt und als Korrekturwerte bei der Messung realer Objekte berücksichtigt werden.preferably, the invention provides that from measurements of standard objects with known optically active structure structurally dependent shifts the image plane and as correction values in the measurement of real Objects considered become.
Die Korrekturwerte können abgespeichert werden, wobei die Korrekturwerte insbesondere in Tabellen abgelegt werden, in denen Versatz der strukturabhängigen Verschiebung der Bildebene als Funktion der Ausprägung der Anisotropie und/oder Winkel- bzw. Richtungsabhängigkeit der Anisotropie erfasst werden.The Correction values can are stored, with the correction values in particular in tables are stored in which offset the structure-dependent shift the image plane as a function of the expression of anisotropy and / or angular or directional dependence the anisotropy are detected.
Alternativ besteht auch die Möglichkeit, dass gemessener Abstand zwischen Messpunkt und dem Sensor oder einem für die Abstandsmessung benötigten Bezugspunkt mit Werten korrigiert werden, die anhand eines mathematischen Modells der Abbildungsoptik ermittelt werden. Auch auf diese Weise wird der durch die Optik bedingte Astigmatismus korrigiert.alternative there is also the possibility that measured distance between measuring point and the sensor or a for the Distance measurement needed Reference point can be corrected with values based on a mathematical Model of imaging optics are determined. Also in this way will corrected by the optic astigmatism.
Erfindungsgemäß wird ein Verfahren zur Bestimmung und/oder Korrektur der strukturabhängigen Verschiebung der Bildebene durch Bestimmung der Richtung der Struktur im Bild und der Stärke der Anisotropie der Struktur anhand der Intensitätsverteilung im Bild und somit des Kontrastes vorgeschlagen. Somit wird das Autofokusverfahren dahingehend verbessert, dass durch Astigmatismus bedingte Messfehler behoben bzw. weitgehend behoben werden.According to the invention is a Method for determining and / or correcting the structure-dependent shift the image plane by determining the direction of the structure in the image and the strength the anisotropy of the structure on the basis of the intensity distribution in the image and thus the contrast suggested. Thus, the autofocus method becomes improved to that due to astigmatism-related measurement errors fixed or largely eliminated.
Weitere Einzelheiten, Vorteile und Merkmale der Erfindung ergeben sich nicht nur aus den Ansprüchen, den diesen zu entnehmenden Merkmalen – für sich und/oder in Kombination –, sondern auch aus den nachfolgenden der Zeichnung zu entnehmenden bevorzugten Ausführungsbeispielen.Further Details, advantages and features of the invention do not arise only from the claims, the characteristics to be taken from these - alone and / or in combination - but also from the subsequent drawing to be taken preferred Embodiments.
Es zeigen:It demonstrate:
In
Entlang
dem Grundrahmen
Bei
der Abstandsbestimmung, also Teilehöhebestimmung nach dem Autofokusprinzip – auch Autofokussierung
genannt – werden
mehrere Bilder des Objekts
Bedingt
durch Abweichung der Abbildungsoptik
Dabei
ist eine Abhängigkeit
der Position der Bildebene umso stärker, je ausgeprägter eine
optisch wirksame Anisotropie in der abzubildenden Objektebene vorliegt.
Die Stärke
der Anisotropie bzw. der Winkel der die Anisotropie bewirkenden
Struktur bestimmt die Abweichung der gemessenen Bildebene von der
theoretisch zu erwartenden Bildebene einer idealisierten Abbildungsoptik.
Somit ergeben sich in Abhängigkeit
von Drehlage und Ausprägung
der Anisotropie der optisch wirksamen Struktur in der Objektebene
unterschiedliche Bildebenen, wodurch Messfehler bei der Bestimmung
der Teilehöhe
auftreten. Um diese auszuschließen,
werden an Objekten – sogenannten
Normobjekten –,
deren optisch wirksame Struktur und Anisotropie bekannt sind, Messungen
durchgeführt,
um Korrekturwerte zu erhalten, die bei der Messung der realen Objekte
Anhand
der
Entsprechend
der in
Rein beispielhaft ist zahlenmäßig anzugeben, dass bei Betrachtung einer geschliffenen Oberfläche mit stark ausgeprägter Vorzugsrichtung bei Verwendung einer 5-fach vergrößerten Optik zu korrigierende Fehler im Bereich zwischen 0,01 mm und 0,1 mm liegen. Bei Verwendung eines niedrigeren Abbildungsmaßstabes – z. B. 1-fach abbildende Optik – kann der Effekt wiederum bei Betrachtung geschliffener Strukturen mit ausgeprägter Vorzugsrichtung bis zu 1 mm betragen. Diese zu Messverfälschungen führenden Anisotropieeffekte können aufgrund der erfindungsgemäßen Lehre ausgeschlossen werden.Purely by way of example, it is necessary to indicate by number that when considering a ground surface with a pronounced preferential direction to be corrected when using a 5x magnified optic Error in the range between 0.01 mm and 0.1 mm. Using a lower magnification - z. B. 1-fold imaging optics - can the effect in turn when looking at polished structures with pronounced Preferred direction up to 1 mm. This to measurement distortions leading Anisotropy effects can due to the teaching of the invention be excluded.
In
Bei
isotropen Strukturen, wie im Bereich
Die
Aus den dargestellten Strukturen wird lokal oder global über das ganze Bildfeld sowohl in Richtung der anisotropen Strukturen als auch der Grad der Anisotropie errechnet und entsprechend der durch das erfindungsgemäße Verfahren ermittelten Kennwerte der Abbildungsoptik für den Astigmatismus der Korrekturwert Δz vom tatsächlich ermittelten Messwert subtrahiert bzw. addiert.From the structures shown becomes local or calculated globally over the entire image field both in the direction of the anisotropic structures and the degree of anisotropy, and subtracting or adding the correction value .DELTA.z from the actually determined measured value in accordance with the characteristic values of the imaging optics for the astigmatism determined by the method according to the invention.
Claims (8)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE102005002397A DE102005002397A1 (en) | 2004-10-18 | 2005-01-19 | Method for spacer regulation involves considering optically effective structure of object dependent shift of illustration optics during spacer regulation and takes into account development of anisotropy |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE102004050865.8 | 2004-10-18 | ||
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DE (1) | DE102005002397A1 (en) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE112006001589B4 (en) * | 2005-06-21 | 2012-10-25 | Intel Corporation | Process for the formation of semiconductor structures |
-
2005
- 2005-01-19 DE DE102005002397A patent/DE102005002397A1/en not_active Withdrawn
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8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |