DE1017813B

DE1017813B - Glass body with a skeletonized silicon dioxide layer

Info

Publication number: DE1017813B
Application number: DER9766A
Authority: DE
Inventors: Frederick Hermes Nicoll
Original assignee: RCA Corp
Current assignee: RCA Corp
Priority date: 1951-08-28
Filing date: 1952-08-28
Publication date: 1957-10-17

Description

Glaskörper mit einer skelettierten Siliziumdioxydschicht Die: Erfindung bezieht sich auf einen, Glaskörper mit einem geringen Oberflächenreflexionsvermögen und auf Verfahren zu seiner Herstellung.Glass body with a skeletonized silicon dioxide layer The: Invention refers to a glass body with a low surface reflectivity and the method of its manufacture.

Es ist bereits bekannt, d.aß Lösungen zur Behandlung der Oberfläche von Glaskörpern. hergestellt werden können, welche die. Metalloxyde aus der Glasoberfläche herauslösen, so daß ein Gerippe oder eine skelettierte Schicht von Siliziumdioxyd üb-rigbleibt, deren Dicke bei dem erwähnten Lösungsvorgang so gewählt werden kann, daß sie einen Bruchteil der Lichtwellenlänge beträgt. Man erhält auf diese Weise einen Glaskörper von geringem Reflexionsvermögen.It is already known that solutions for treating the surface of vitreous bodies. can be produced which the. Metal oxides from the glass surface dissolve out, leaving a skeleton or a skeletonized layer of silicon dioxide remains, the thickness of which can be chosen in the aforementioned solution process, that it is a fraction of the wavelength of light. One gets in this way a glass body of low reflectivity.

Man hat ein. geringes Reflexionsvermögen, auch schon durch Niederschlag eines lichtdurchlässigen dünnen Films aus massivem Siliziumdioxyd erzeugt. Zur Herstellung solcher Filme- ist es bekannt, einen Glaskörper oder einen anderen. keramischen Körper in eine Lösung von Fluorsiliziumsäure einzubringen, die mit Siliziumdioxyd bis zu etwa 4 bis 16 Millimol je Liter der Lösung übersättigt ist.One has one. low reflectivity, also due to precipitation a translucent thin film made of solid silicon dioxide. For the production such films- it is known to be a glass body or another. ceramic Immerse body in a solution of fluorosilicon acid containing silicon dioxide is supersaturated up to about 4 to 16 millimoles per liter of the solution.

Eine skelettierte Schicht von. Siliziumdioxyd kann nicht nur einen sehr geringen Brechungsexponenten erhalten, der weit unter demjenigen eines massiven Siliziumdioxydfilmes liegt, sondern ist auch mechanisch sehr viel fester als andere bekannte skelettierte Schichten. Auch ist ihre Oberfläche gegen fest anliaftende Verunreinigungen nicht so anfällig, die den Brechungsexponenten der skelettierten Schicht erhöhen würden, wie die bisher bekannten skelettierten Schichten.A skeletonized layer of. Silica can't just do one very low refractive exponent, which is far below that of a massive one Silicon dioxide film, but is also mechanically much stronger than others well-known skeletonized layers. Their surface is also against firmly adhering Impurities are not as susceptible to being the refractive exponents of the skeleton Layer would increase, like the previously known skeletonized layers.

Jedoch ist eine skelettierte Siliziumdioxydschicht mechanisch merklich empfindlicher als eine massive Siliziumdioxydschicht und nimmt leicht locker haftende Verunreinigungen an, so daß also entweder eine häufige Säuberung oder eine hermetisch abgeschlossene Montage notwendig ist.However, a skeletonized silica layer is mechanically noticeable more sensitive than a massive silicon dioxide layer and easily takes on loosely adhering So that either a frequent cleaning or a hermetic one completed assembly is necessary.

Da' Ziel der Erfindung besteht daher darin, eine Oberfläche mit geringem Reflexionsvermögen. für Glaskörper zu schaffen, die zwar etwas stärker reflektiert als eine skelettierte Siliziumdioxydschicht, aber viel weniger reflektiert als die massiven Siliziumdioxydschichten. Außerdem soll die mechanische Widerstandsfähigkeit und die Unempfindlichkeit gegenüber bleibenden Oberflächenverunreinigungen im Vergleich zu den bekannten skelettierten Schichten verbessert werden.The aim of the invention is therefore to provide a surface with little Reflectivity. for vitreous bodies that reflect a little more strongly than a skeletonized silica layer, but much less reflective than that massive silicon dioxide layers. In addition, the mechanical resistance should and the insensitivity to permanent surface contamination in comparison to be improved to the known skeletonized layers.

Die Erfindung besteht in einem Glaskörper mit einer skelettierten Siliziumdioxydschicht von einer optischen Dicke von i/4 und einer darüber befindlichen Schicht einer optischen Dicke von 2./2 und ist dadurch gekennzeichnet, daß die a/2-Schicht aus einer im wesentlichen massiven und auf der Oberfläche der 2./4-Schicht haftenden und in ihre Poren nur wenig eindringenden Siliziumdioxydschicht besteht. Fig. 1 stellt einen Querschnitt durch einen Glaskörper in einem Zwischenstadium des erfindungsgemäßen Herstellungsverfahrens dar, wobei der besseren Anschaulichkeit halber die Überzugsschichten übertrieben dick dargestellt sind; Fig. 2 ist ebenfalls ein Querschnitt durch den Glaskörper, jedoch im fertigen Zustand desselben; Fig. 3 zeigt die Reflexion gegenüber unbehandeltem Glas in Abhängigkeit von der Behandlungsdauer für einen gemäß der Erfindung behandelten Glaskörper.The invention consists in a glass body with a skeleton Silicon dioxide layer with an optical thickness of 1/4 and one above it Layer with an optical thickness of 2./2 and is characterized in that the a / 2 layer made of a substantially solid and adhering to the surface of the 2nd / 4th layer and there is only a small amount of silicon dioxide penetrating into their pores. Fig. 1 represents a cross section through a glass body in an intermediate stage of the invention Manufacturing process, with the coating layers for the sake of clarity are shown exaggeratedly thick; Fig. 2 is also a cross section through the Vitreous, but in the finished state of the same; Fig. 3 shows the reflection opposite untreated glass depending on the duration of treatment for one according to the Invention treated vitreous.

Im folgenden wird nun ein Herstellungsverfahren für einen Glaskörper gemäß der Erfindung beschrieben.A manufacturing method for a glass body will now be described below described according to the invention.

Ein für die Zwecke der Erfindung geeignetes Glas besteht aus Soda, Calziuml#:arbonat und Siliziumdioxyd. wie gewöhnliches Fensterglas. Man kann z. B. ein Krongl_as mit einem Brechungsindex von etwa 1,52 benutzen. Dabei kann der Brechungsindex von 1,5 bis beispielsweise etwa 1,6 variieren, ohne wesentliche Änderungen des Behandlungsverfahrens notwendig zu machen.A glass suitable for the purposes of the invention consists of soda, Calciuml #: carbonate and silicon dioxide. like ordinary window glass. You can z. B. use a Krongl_as with a refractive index of about 1.52. The Refractive index can vary from 1.5 to, for example, about 1.6, without significant changes to make the treatment process necessary.

Eine Lösung, die eine skelettierte Siliziumdioxydschicht, d. h. eine Schicht mit einem geringen Brechungsindex an der Oberfläche erzeugt, kann gemäß der USA.-Patentschrift 2 490 662 hergestellt werden. Die dort beschriebene Lösung besteht aus Fluorsiliziumsäure, die mit Siliziumdioxyd bis etwa 0 bis 3 Millimol Siliziumdioxyd je Liter der Lösung übersättigt ist. Eine übersättigte Lösung dieser Art kann durch Verdünnung einer gewöhnlichen handelsüblichen 30%igen Fluorsiliziumsäure auf eine 1,4-molare Lösung und durch Zusatz einer Oberschußmenge von niedergeschlagener Siliziumsäure oder hydriertem Siliziumdioxyd gewonnen werden. Das zugefügte Siliziumdioxvd bleibt in der Säure bei Zimmertemperatur (25° C) für etwa 24 Stunden, worauf man die Lösung filtert, bis sie klar wird. Das Filtrat, welches eine 1,4molare Säure, die mit Siliziumdioxyd gesättigt ist, darstellt, wird sodann bis auf eine 1,25molare Lösung verdünnt. Wie in der erwähnten Patentschrift beschrieben, kann eine 1,4-molare Lösung von H2SiFs, die mit Siliziumdioxyd gesättigt ist, 1,2 mehr Millimol von Siliziumdioxyd je Mol H2 Se F6 lösen als eine 1,25molare Lösung der Säure. Durch Verdünnung der gesättigten 1,4molaren Lösung auf eine 1,25molare Lösung erhält man somit eine Lösung, die, mit Siliziumdioxyd mit etwa 1,2 Millimol je Mol H2 Si F, oder mit 1,5 Millimol je Liter der Lösung übersättigt ist.A solution that includes a skeletonized silicon dioxide layer, i. H. one Layer with a low refractive index generated on the surface can according to U.S. Patent 2,490,662. The solution described there consists of fluorosilicon acid, which with silicon dioxide up to about 0 to 3 millimoles Silicon dioxide is supersaturated per liter of the solution. An oversaturated solution of this Kind can be made by diluting an ordinary commercial 30% Fluorosilicon acid to a 1.4 molar solution and by adding an excess amount obtained from precipitated silicon acid or hydrogenated silicon dioxide. The added silica remains in the acid at room temperature (25 ° C) for about 24 hours after which the solution is filtered until it becomes clear. The filtrate, which is a 1.4 molar acid saturated with silicon dioxide is then diluted to a 1.25 molar solution. As in the patent mentioned described can be a 1.4 molar solution of H2SiFs that is saturated with silicon dioxide is to dissolve 1.2 more millimoles of silicon dioxide per mole of H2 Se F6 than a 1.25 molar Solution of acid. By diluting the saturated 1.4 molar solution to a 1.25 molar Solution you get a solution that, with silicon dioxide with about 1.2 millimoles per mole of H2 Si F, or is supersaturated with 1.5 millimoles per liter of the solution.

Mit einer derartigen Lösung kann gewöhnliches Kronglas bei 25° C mit einer schwach reflektierenden Oberfläche aus Siliziumdioxyd durch Herauslösen von Metalloxyden versehen werden. In Fig. 1 ist mit 2 das zu behandelnde Glas bezeichnet, welches einfach in die Lösung eingetaucht wird und in ihr verbleibt, bis durch Herauslösen von Metalloxyden eine skelettierte Siliziumdioxy dschicht 4 an der Oberfläche 6 des Glases gebildet wird. Die andere Fläche 8 des Glases kann mit einer gegenüber der Lösung widerstandsfähigen Schicht 10, z. B. mit Paraffin, überzogen werden, sofern man nicht beide Glasflächen gleichzeitig zu behandeln wünscht. Die Behandlung wird so lange fortgesetzt, bis. der an der Oberfläche entstehende Film deutlich purpurfarbig reflektiert. Dann besitzt die Oberfläche minimales Reflexionsvermögen für grünes Licht von etwa 5000 Angströmeinheiten, und der durch Herauslösen von :Metalloxyden gebildete skelettierte Film besitzt eine optische Dicke von etwa Ä/4.Ordinary crown glass at 25 ° C can be used with such a solution a weakly reflective surface made of silicon dioxide by dissolving out Metal oxides are provided. In Fig. 1, 2 denotes the glass to be treated, which is simply immersed in the solution and remains in it until dissolved out of metal oxides, a skeletonized silicon dioxide layer 4 on the surface 6 of the glass is formed. The other surface 8 of the glass can with an opposite the solution resistant layer 10, e.g. B. with paraffin, are coated, unless you want to treat both glass surfaces at the same time. The treatment continues until. the film that forms on the surface is clear reflected in purple. Then the surface has minimal reflectivity for green light of about 5000 angstrom units, and that by leaching out : Skeletal film formed from metal oxides has an optical thickness of about λ / 4.

Um ein Maximum an Reflexionsverminderung zu erreichen, soll die optische Dicke der Oberflächenschicht ),/4 betragen. Jedoch hängt diese optische Dicke von dem Brechungsindex ab, und daher maß der Brechungsindex zuerst auf den. unter den gegebenen Bedingungen optimalen. Wert eingestellt werden.In order to achieve a maximum reduction in reflection, the optical Thickness of the surface layer), / 4. However, this optical thickness depends on the index of refraction, and therefore the index of refraction measured the. under the given conditions optimal. Value can be set.

Da es bekannt ist, daß der Brechungsindex des bei dem besprochenen. Beispiel verwendeten Glases 1,52 beträgt und da der Brechungsindex der 2/2-Schicht aus Siliziumdioxyd, die auf der .1/4-Schicht noch angebracht werden maß, etwa 1,46 beträgt, kann man zeigen, daß zur Erreichung minimaler Reflexion der Brechungsindex der 2/4-Schicht etwa. 1,23 betragen maß, wie in der Zeitschrift »Journal Society Motion Picture Engineers«, Januar 1942, S. 36 ff, con G. L. D i m m i c k näher erläutert wurde.Since it is known that the refractive index of the discussed. Example glass used is 1.52 and there is the refractive index of the 2/2 layer of silicon dioxide, which is still attached to the .1 / 4-layer, measured about 1.46 it can be shown that to achieve minimum reflection the refractive index the 2/4-layer approximately. 1.23 measure, as reported in the Journal Society Motion Picture Engineers ”, January 1942, p. 36 ff, from G. L. D i m m i c k closer was explained.

Der Brechungsindex der ;?/4-Schicht läßt sich durch entsprechende Wahl der Wirksamkeit der zur Herstellung dieser Schicht verwendeten Lösung beeinflussen. Die Wirksamkeit der Lösung ist gleichbedeutend mit ihrer Fähigkeit, Siliziumdioxyd auf der Glasoberfläche zu lösen. Eine wirksamere Lösung entfernt einen größeren Anteil von Siliziumdioxyd aus der Oberflächenschicht des Glases, und der Brechungsindex vermindert sich wegen des relativ höheren Anteils von Löchern in der Oberflächenschicht. Wie in dem obengenannten USA.-Patent 2 490 662 beschrieben, wird die Wirksamkeit der Behandlungslösung dadurch gesteigert, daß man Flußsäure zusetzt, und dadurch vermindert, daß man. Borsäure zusetzt. Für jedes behandelte Glas existiert ein Optimum an Wirksamkeit, welches sich dadurch bestimmen läßt, daß man Proben des Glases versuchsweise behandelt.The refractive index of the λ / 4 layer can be determined by corresponding Choice of the effectiveness of the solution used to produce this layer. The effectiveness of the solution is synonymous with its ability to remove silicon dioxide to solve on the glass surface. A more effective solution removes a larger one Proportion of silicon dioxide from the surface layer of the glass, and the refractive index decreases because of the relatively higher proportion of holes in the surface layer. As described in U.S. Patent 2,490,662, cited above, the effectiveness is the treatment solution increased by adding hydrofluoric acid, and thereby diminished that one. Boric acid adds. There is an optimum for every treated glass in effectiveness, which can be determined by testing samples of the glass treated.

Bei dem beschriebenen Ausführungsbeispiel wird nun die Behandlungslösung in ihrer Wirksamkeit so eingestellt, daß eine durch Herauslösen von Metalloxyden entstehende Oberflächenschicht gebildet wird, deren Brechungsindex etwa 1,23 beträgt, um einen Film mit einer optischen Dicke von etwa .7 /4 zu erzeugen.In the described embodiment, the treatment solution is now adjusted in their effectiveness so that one by dissolving out metal oxides the resulting surface layer is formed, the refractive index of which is about 1.23, to produce a film with an optical thickness of about .7 / 4.

Bei der Herstellung dieser Schicht soll das Behandlungsverfahren auch nicht bei genau A/4 unterbrochen werden, sondern vielmehr eine etwas dickere Schicht aus den unten angegebenen Gründen erzeugt werden.In making this layer, the treatment process should also be used not interrupted at exactly A / 4, but rather a slightly thicker layer for the reasons given below.

Der nächste Verfahrensschritt besteht gemäß Fig. 2 in der Aufbringung einer Schicht 12 aus im wesentlichen massivem Siliziumdioxyd 12 auf der R/4-Schicht 4. Diese Schicht hat gewöhnlich einen Brechungsindex von etwa 1,46.According to FIG. 2, the next step is the application a layer 12 of substantially solid silicon dioxide 12 on top of the R / 4 layer 4. This layer usually has an index of refraction of about 1.46.

Die massive Siliziumdioxydschicht kann, durch Eintauchen des Glaskörpers in eine Lösung vori Fluorsiliziumsäure, die mit Siliziumdioxyd bis zu 4 bis 16 Millimol je Liter der Lösung übersättigt ist, hergestellt werden. Eine Lösung dieser Art läßt sich gemäß der USA.-Patentschrift 2 505 629 herstellen. Das Verfahren zur Herstellung der Schicht 12 ist ebenfalls das in der USA.-Patentschrift 2 490 662 beschriebene.The massive silicon dioxide layer can, by immersing the glass body in a solution vori fluorosilicon acid, which with silicon dioxide up to 4 to 16 millimoles per liter of the solution is supersaturated. A solution of this kind can be made according to U.S. Patent 2,505,629. The method of manufacture layer 12 is also that described in U.S. Patent 2,490,662.

Während des ersten Teils des Bades füllt das niedergeschlagene Siliziumdioxyd die Löcher an der Oberfläche der .l/4-Schicht aus, und die Reflexion steigt somit. Der Grund dafür, daß die 2/4-Schicht in ihrer optischen Dicke etwas stärker als 7./4 bemessen wurde, ist, daß nach der Ausfüllung der erwähnten Löcher eine angefüllte Schicht von a/4 übrigbleibt. Ein Maximum an Reflexion wird erzeugt, wenn genügend Siliziumdioxyd niedergeschlagen wird, um eine zweite i/4-Schicht von niedergeschlagenem Siliziumdioxyd auf der ersten 7./4-Schicht zu erzeugen.During the first part of the bath, the precipitated silica fills the holes on the surface of the 1/4 layer, and the reflection thus increases. The reason for this is that the 2/4-layer is somewhat thicker in its optical thickness than 7./4 was measured, is that after filling the holes mentioned, a filled Layer of a / 4 remains. A maximum of reflection is produced if enough Silica is deposited to make a second i / 4 layer of deposited To generate silicon dioxide on the first 7th / 4th layer.

Die Ablagerung des Siliziumdioxyds wird über diesen Punkt maximaler Reflexion hinweg fortgesetzt, bis das nächste Minimum auftritt. Dann ist eine Schicht von der optischen Dicke A/2 aus Siliziumdioxyd auf der ersten Ä/4-Schicht niedergeschlagen.The deposition of silicon dioxide becomes maximum above this point Reflection continued until the next minimum occurs. Then there is a shift of the optical thickness λ / 2 of silicon dioxide is deposited on the first λ / 4 layer.

Eine Kurve des Reflexionsvermögens von Kronglas, welches in der beschriebenen Weise behandelt wurde, ist in Fig. 3 dargestellt. In Fig. 3 ist die Abszisse die Behandlungsdauer in Minuten und die Ordinate die Reflexion in Prozent, wobei die Reflexion von unbehandeltem Glas gleich 100% gesetzt ist. Der erste Teil der Kurve zwischen den Punkten A und B zeigt, daß, wenn das Glas in eine Lösung eingetaucht wird, welche bestimmte Bestandteile aus dar Glasoberfläche herauslöst, sein Reflexionsvermögen bis zu einem Minimalwert B absinkt. An diesem Punkt, der unter den geschilderten Bedingungen nach ungefähr 40 Minuten erreicht wurde, ist eine Schicht der optischen Dicke 2./4 vorhanden. Das Glas wird sodann in eine Lösung zur Bildung eines Niederschlags van Siliziumdioxyd eingetaucht, wobei sein Reflexionsvermögen gemäß der Kurve B-C ansteigt. Im Punkt C, der nach ungefähr 80 Minuten erreicht wird, wird ein Reflexionsvermögen von über 150% desjenigen des ursprünglichen unbehandelten Glases erreicht. In diesem Punkt hat die massive Siliziumdioxydschioht eine Dicke von i/4 angenommen. Wenn man den Niederschlagvorgang weiterhin fortsetzt, nimmt das Reflexionsvermögen wieder ab, wie sich aus der Kurve C-D ergibt. Im Punkt D, der nach ungefähr 110 Minuten erreicht wird, ist das Reflexionsvermögen wieder ein Minimum, wenn auch nicht von so geringem Betrag, wie er bei Anwendung lediglich der ersten ;./4-Schicht erzeugt wird, beträgt jedoch etwa 401/o des Reflexionsvermögens einer unbehandelten sauberen Glasfläche. Im Punkt D kann man arinehineil, daß eine i/2-Schicht aus massivem Siliziumdioxyd niedergeschlagen ist.A graph of the reflectivity of crown glass treated in the manner described is shown in FIG. In FIG. 3, the abscissa is the treatment time in minutes and the ordinate is the reflection in percent, the reflection of untreated glass being set equal to 100%. The first part of the curve between points A and B shows that when the glass is immersed in a solution which dissolves certain constituents from the glass surface, its reflectivity drops to a minimum value B. At this point, which was reached after approximately 40 minutes under the conditions described, a layer of optical thickness 2/4 is present. The glass is then immersed in a solution to form a precipitate of silicon dioxide, its reflectivity increasing according to curve BC. At point C, which is reached after about 80 minutes, a reflectivity of over 150% of that of the original untreated glass is achieved. At this point the massive silicon dioxide layer has assumed a thickness of 1/4. If the precipitation process is continued, the reflectivity decreases again, as can be seen from the curve CD. At point D, which is reached after about 110 minutes, the reflectivity is again a minimum, albeit not of as small an amount as is produced when only the first; ./4 layer is used, but is about 401 / o des Reflectivity of an untreated, clean glass surface. At point D it can be stated that a 1/2 layer of solid silicon dioxide has been deposited.

Wenn die Aufbringung des Niederschlags über das zweite Reflexionsminimum hinaus fortgesetzt wird, nimmt die Reflexion weiterhin abwechselnd. zu und ab, während die Siliziumdioxydschicht ungerade und gerade Vielfache: der d/4-Schicht durchläuft. Jedoch ist jedes Maximum und jedes Minimum dabei weniger stark ausgeprägt als das jeweils vorhergehende.When the application of the precipitate is above the second reflection minimum is continued beyond, the reflection continues to take turns. to and from while the silicon dioxide layer odd and even multiples: the d / 4 layer passes through. However, every maximum and every minimum is less pronounced than that each previous.

Neben dem beschriebenen. Verfahren kann man, sich auch noch anderer Verfahren bedienen, um einen Glaskörper in der erfindungsgemäßen Weise zu behandeln. So ist beispielsweise in der USA.-Patentschrift 2 -186 431 ein Verfahren beschrieben, bei welchem das Glas an seiner Oberfläche so behandelt wird, daß diese Oberfläche zu einer skelettierten Siliziumdioxydschicht wird.In addition to the one described. One can proceed to another Operate method to treat a vitreous in the manner according to the invention. For example, US Pat. No. 2-186,431 describes a process in which the glass is treated on its surface so that this surface becomes a skeletonized silicon dioxide layer.

Wie in der zuletzt genannten Pa.teritschrift beschrieben, wird ein SodaCalciumkarbon:a.t-Siliziumdioxyd-Gla.s in eine Lösung von Fluorsiliziumsäure eingetaucht, bis sich Interferenzschichten an der der Säure ausgesetzten Oberfläche zu bilden beginnen. Das Auftreten der Interferenzschichten ist ein Anzeichen dafür, daß die Säurelösung die geeignete Menge an. Bestandteilen des Glases gelöst hat, um eine gute Behandlungslösung zu werden. Sodann wird ein frisches Stück Glas in die Lösung eingetaucht. Zunächst bildet sich, wie in der Patentschrift beschrieben, durch Herauslösen bestimmter Bestandteile des Glases eine wenig reflektierende Siliziumdioxydschicht. Dies ist das in der genannten Patentschrift angestrebte Ziel. Jedoch wurde jetzt festgestellt, daß, wenn man das Glas noch länger der genannten Lösung aussetzt, nach der minimalen Reflexion. das Refl1exionsvermögen. wieder bis zu einem Maximum wie dem Punkt C in Fig. 3 ansteigt und dann wieder bis zu einem Minimalwert wie bei D abfällt.As described in the last-mentioned patent, a SodaCalcium carbon: a.t-silicon dioxide-Gla.s in a solution of fluorosilicon acid immersed until interference layers form on the surface exposed to the acid begin to form. The appearance of the interference layers is an indication that that the acid solution has the appropriate amount of. Has dissolved components of the glass, to become a good treatment solution. Then put a fresh piece of glass in immersed the solution. First, as described in the patent specification, A little reflective silicon dioxide layer is created by leaching out certain components of the glass. This is the aim pursued in the cited patent specification. However, it was now found that if the glass is exposed to the above solution for a longer period of time, after the minimal reflection. the reflectivity. again up to a maximum increases like point C in Fig. 3 and then again to a minimum value like at D drops.

Es treten dabei im wesentlichen dieselben Vorgänge auf, die sich bei dem weiter oben zuerst beschriebenen Verfahren abspielen. Nachdem eine. Schicht von. der Dicke 2./4 durch Herauslösen. gebildet worden ist:, findet keine weitere Vertiefung der Löcher in dieser Schicht mehr statt, sondern es beginnt sich Siliziumdio2cvd abzusetzen, welches in die Poren dieser skelettierten Schicht nur -#venig eindringt und eine Schicht von im wesentlichen massivem Siliziumdioxvd bildet.Essentially the same processes occur that occur with the procedure described first above. After a. layer from. the thickness 2./4 by removing it. has been formed: does not find any further Deepening of the holes in this layer takes place more instead, instead it starts out silicondio2cvd to settle, which penetrates into the pores of this skeletonized layer only - # venig and forms a layer of substantially solid silicon dioxide.

Bei diesem Verfahren. muß darauf geachtet werden, daß das richtige Verhältnis zwischen dem Volumen der Behandlungslösung und der Oberflächengröße- des in die Lösung eingetauchten Glases gewahrt wird. Wenn beispielsweise ein verhältnismäßig großes Volumen der Lösung zur Behandlung eines Glaskörpers durch Herauslösen bestimmter Bestandteile aus seiner Oberfläche benutzt wird, so kann dieser Vorgang möglicherweise sich nicht ganz in der gewünschten Weise abspielen, wenn die Oberfläche des Glaskörpers sehr klein ist. Es kann vielmehr der Fall eintreten, daß die Herauslösung bestimmter Bestandteile aus der Glasoberfläche sich zu lange fortsetzt und da.ß sich kein Niederschlag bildet. Wenn andererseits ein zu großer Glaskörper in die Behandlungslösung eingetaucht wird, kann das Herauslösen ein Ende finden, bevor eine i/4-Schicht gebildet ist. Es soll deshalb vorzugsweiss das Verhältnis der Behandlungslösung in Kubikzentimetern zu der Oberfläche des zu behandelnden Glases in Quadratzentimetern gleich 1 :1 sein. Jedoch ist dies nur ein ungefährer Anhaltspunkt, der nicht genau eingehalten werden muß. Das genannte Verhältnis kann vielmehr beträchtlich abgewandelt werden, und zwar für verschiedene Arten von Gläsern in so weiten Grenzen, daß keine bestimmten Zahlenwerte angegeben werden können.In this procedure. Care must be taken that the correct one Relationship between the volume of the treatment solution and the surface area of the glass immersed in the solution is preserved. For example, if a proportionate large volume of the solution for treating a vitreous body by leaching out certain If components from its surface are used, this process can possibly do not play out quite in the desired way when the surface of the vitreous is very small. Rather, it can happen that the detachment is more definite Constituents from the glass surface continue for too long and there is no precipitate forms. On the other hand, when too large a glass body is immersed in the treatment solution leaching may come to an end before a 1/4 layer is formed. It should therefore preferably be the ratio of the treatment solution in cubic centimeters to the surface of the glass to be treated in square centimeters equal to 1: 1. However, this is only a rough guide that cannot be strictly adhered to got to. Rather, the above ratio can be modified considerably, and to be sure, for different types of glasses within such wide limits that none are specific Numerical values can be specified.

Man braucht auch die skelettierte Siliziumdioxydschich.t nicht durch Herauslösen bestimmter Gla,sbestandte-ile aus der Oberfläche des Glases herzustellen, sondern man kann die; gewünschte Schicht auch durch Erzeugung eines Niederschlages auf dem Glase erzeugen, wie es bisher geschehen ist.There is also no need for the skeletonized silicon dioxide layer Dissolving certain glass, producing existing parts from the surface of the glass, but you can; desired layer also by generating a precipitate on the glass as it has been done so far.

Der erfindungsgemäße Glaskörper besitzt niedriges Reflexionsvermögen, wobei allerdings die Reflexion von auffallendem weißem Licht im allgemeinen höher ist als für nur aus einer Schicht bestehende Überzüge. Der Hauptvorteil des erfindungsgemäßen Glaskörpers besteht darin, daß die Oberfläche hart und dauerhaft ist und weit weniger Verunreinigungen absorbiert als bei durch Herauslösen hergestellten Überzügen. Die Glassorten, die sich zur Behandlung eignen, sind Soda-Calciumka.rbonat-Siliziumdioxyd-Gläser. Kronglas ist vorzugsweise: geeignet, jedoch läßt sich auch Flintglas verwenden.The glass body according to the invention has a low reflectivity, however, the reflection of incident white light is generally higher is than for single-layer coatings. The main advantage of the invention Vitreous is that the surface is hard and durable and far less Impurities absorbed than with coatings produced by leaching. the Types of glass that are suitable for treatment are soda-calcium carbonate-silicon dioxide glasses. Crown glass is preferably: suitable, but flint glass can also be used.

Nach der Behandlung des Glases wird die Schutzschicht 10 normalerweise wieder entfernt. Die Anwendung einer solchen Schutzschicht entfällt vollständig, wenn, -%vie es häufig der Fall ist, beide Seiten des Glaskörpers verwandelt werden müssen.After the treatment of the glass, the protective layer 10 is normally removed again. The use of such a protective layer is completely unnecessary, when, as is often the case, both sides of the vitreous are transformed have to.

Claims

PATENT CLAIM: 1. Glass body with a skeletonized silicon dioxide layer of an optical thickness of 1/4 and an overlying layer of an optical Thickness of 2/2, characterized in that the .1 / 2 layer consists of an essentially massive and on the surface of the @ / 4-layer in. their pores only slightly penetrating There is silicon dioxide layer.

2. A method of manufacturing a glass body according to claim 1, wherein a silicon dioxide-containing first glass body is immersed in a fluorosilicon-containing acid until a layer of low reflectivity for a given wavelength forms on its surface, at which point the glass is removed from the solution and then a second piece of silicon dioxide glass is immersed in the solution, the latter remains in the solution until a coating of low reflectivity for the wavelength in question has formed on it too, characterized in that the treatment of the second piece of glass is continued for so long until the light reflection passes through a maximum value greater than the original reflectivity of the treated glass and has reached a second minimum value. References considered: U.S. Patent Nos. 2220861, 2486431 , 2,490,662, 2,505,629; Journ. Soc. Motion Picture Engrs., 1942, pp. 36 to 44.