DE10061234C2 - Unipolarer Halbleiterlaser ohne Injektionsschichten - Google Patents
Unipolarer Halbleiterlaser ohne InjektionsschichtenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft einen Halbleiterlaser mit den Merkmalen
gemäß dem Oberbegriff von Anspruch 1.
Die Erzeugung von Laserstahlen mit Halbleiterlasern basiert auf
der Erzeugung einer Besetzungsinversion zwischen Zuständen in
der Bandstruktur des jeweils als aktives Lasermedium verwende
ten Halbleitermaterials. Von A. F. Kazarinov et al. (siehe
"Fiz. Tekh. Poluprovodn.", Band 5, 1971, Seite 797, Band 6,
1972, Seite 148) wurde auf die Möglichkeit hingewiesen, unipo
lare Halbleiterlaser aus Übergittern herzustellen. Es wurden
Übergitter betrachtet, bei denen sich zwei Subbänder ausbilden.
Das von A. F. Kazarinov et al. vorgeschlagene theoretische Kon
zept eines elektrisch gepumpten unipolaren Lasers ließ sich je
doch nicht realisieren.
Ein unipolarer Laser, in dem kaskadenförmig undotierte aktive
Bereiche von dotierten Injektoren getrennt angeordnet sind,
wurde erstmalig 1994 realisiert (siehe J. Faist et al. in
"Science" Band 264, 1994, Seite 553, "Applied Physics Letters",
Band 66, 1995, Seite 538; Band 67, 1995, Seite 3057 und Band
68, 1996, Seite 3680, C. Sirtori et al. in "Applied Physics
Letters", Band 68, 1996, Seite 1745;
und Band 69, 1996, Seite 2810, US-A-5 457 709, US-A-5 509 025,
US-A-5 570 386, EP 757 418 A1 und EP 964 488 A2. Diese Laser werden
auch als Quanten-Kaskaden-Laser oder QCL bezeichnet. Die mit
QCL's erzielbaren Laserwellenlängen liegen im mittleren Infra
rotbereich. Der aktive Bereich (aktives Lasermedium) besteht
aus einem oder mehreren Quantengräben in der
Kaskadenanordnung. Die Besetzungsinversion wird durch Ladungs
trägerinjektion aus den dotierten Injektoren erzeugt. Der
Nachteil der QCL's besteht im komplizierten Schichtaufbau, bei
dem eine Vielzahl verschieden dotierter und undotierter
Schichten abwechselnd angeordnet sind. Diese Strukturen stel
len hohe Anforderungen an das Herstellungsverfahren. Außerdem
ist die Anwendbarkeit der QCL's eingeschränkt durch die hohe
Schwellstromstärke, die den Einsatz des Lasers bei Zimmertem
peratur erschwert.
In US-A-5 978 397 wird ein abstimmbarer Intersubband-Laser
vorgeschlagen, der auf nicht-resonantem Tunneln zwischen Sub
bändern basiert und für dessen Funktion die Ausbildung einer
lokalen Besetzungsinversion ausgenutzt wird. Dieser Laser
zeichnet sich jedoch durch eine schwache Laserleistung aus, so
dass sein Anwendbarkeit in der Praxis eingeschränkt ist.
Es werden auch Laser mit einer dem gegenüber verbesserten
Leistungscharakteristik beschrieben (siehe A. Tredicucci et
al. in "Applied Physics Letters", Band 72, 1998, Seite 2388;
Band 73, 1998, Seite 2101, und Band 74, 1999, Seite 638; G.
Strasser et al. in "Applied Physics Letters", Band 75, 1999,
Seite 1345; H. Page et al. in "Semicond. Sci. Technol.", Band
15, 2000, Seite 44, US-A-5 745 516, EP 841 731 A1, JP 11340586 A1,
und EP 989 644 A1. Die verbesserte Leistungscharakteristik die
ser Laser ergibt sich aus einem Ladungstransfer zwischen zwei
Subbändern (Subbandtransport) des Leitungsbandes in der akti
ven Schicht aus einem Übergitter mit definiert variierender
Energielücke. In dieser Übergitterstruktur werden die Energie
zustände benachbarter Töpfe durch ein elektrisches Feld auf
gleiche Höhe gebracht, so dass die sog. Flachbandbedingung er
reicht wird. In beschränkten Bereichen des k-Raumes wird eine
lokale Besetzungsinversion ausgebildet, die zur Erzeugung der
Laserstrahlung ausgenutzt wird. Der Nachteil dieser Laser be
steht darin, dass die Herstellung einer Übergitterstruktur
mit gradueller Variation der Schichtdicke aufwendig ist. Au
ßerdem ist auch bei diesen Lasern, die aus aktiven Schichten
und Injektoren zusammengesetzt sind, die Leistung der emit
tierten Laserstrahlung verhältnismäßig gering und die Schwell
stromstärke hoch, was mit einer hohen Wärmeentwicklung verbun
den ist.
Allgemein stellt das Folgende, allen bisher realisierten Halb
leiterlasern mit Übergitterstrukturen gemeinsame Merkmal einen
Nachteil der herkömmlichen Laser dar. Die Elektronen zur Er
zeugung der Besetzungsinversion durchlaufen eine Kaskade von
einander abwechselnden Injektorbereichen und aktiven Berei
chen, um jeweils lokale Besetzungsinversionen in den aktiven
Bereichen zu erzeugen. Die Notwendigkeit der Bereitstellung
von Injektorbereichen stellt einen erheblichen technologischen
Nachteil dar. Durch die Injektorbereiche wird der Aufbau der
herkömmlichen Laser erheblich kompliziert.
Aus der Publikation von N. Susa ("IEEE Journal of Quantum
Electronics", Bd. 32, 1996, Seiten 20-27) ist die Gestaltung
von Doppel- und Dreifach-Quantenwells für InGaAs-AlAsSb-
Intersubband-Halbleiterlasern bekannt.
Die Aufgabe der Erfindung ist es, einen verbesserten unipolaren
Halbleiterlaser bereitzustellen, mit dem insbesondere die
Nachteile der herkömmlichen Halbleiterlaser überwunden werden
und der einen technologisch vereinfacht umsetzbaren Aufbau be
sitzt und die Emission von Laserstrahlung mit einer hohen Leis
tung ermöglicht. Die Aufgabe der Erfindung ist es auch, ein
Verfahren zur Erzeugung von Laserstrahlen mit einem unipolaren
Laser bereitzustellen.
Diese Aufgaben werden durch einen Halbleiterlaser mit den Merk
malen gemäß Patentanspruch 1 gelöst. Vorteilhafte Ausführungs
formen der Erfindung ergeben sich aus den abhängigen Ansprü
chen.
Die Grundidee der Erfindung besteht in der Bereitstellung eines
Halbleiterlasers mit einer Übergitterstruktur mit mindestens
drei Subbändern, bei der das oberste Subband möglichst
breit gewählt wird. Die nicht materialspezifische Realisierung
einer derartigen Struktur erfolgt durch standardmäßige Berech
nung der Schichtparameter und standardmäßiges Wachstum von
Übergittern (ein Ausführungsbeispiel ist unten angegeben). Ei
ne zweite Voraussetzung für die Erzielung einer intrinsischen
Besetzungsinversion besteht darin, dass die Rekombination
(Entleerung) des oberen Subbandes schneller erfolgt als die
des mittleren Subbandes (oder, als alternatives Konzept: die
Rekombination des mittleren Bandes erfolgt schneller als die
des untersten Bandes). Eine schnellere Relaxation eines Sub
bandes ist dadurch erreichbar, dass die Energielücke, die die
ses Subband vom darunter liegenden trennt, gleich der Energie
der optischen Gitterschwingungen (Phononen) ist. Die Erfinder
haben erstmalig festgestellt, dass bei einer derartigen
Übergitterstruktur mit drei Subbändern, eine intrinsische,
globale Besetzungsinversion ausgebildet werden kann, wenn bei
Auftreten der Tunnelresonanz Ladungsträger in ein breites
Subband tunneln. Die Erzeugung der globalen, intrinsischen
Besetzungsinversion vereinfacht im Gegensatz zu den
herkömmlichen QCL's, in denen die Besetzungsinversion jeweils
nur in den optisch aktiven Bereichen auftritt, den Aufbau des
erfindungsgemäßen Halbleiterlasers erheblich dadurch, dass in
der Übergitterstruktur keine Injektoren zwischen den aktiven
Bereichen benötigt werden.
Das erfindungsgemäße Konzept, das auf der Grundlage einer in
trinsischen Besetzungsinversion arbeitet, die beim resonanten
Intersubband-Tunneln erzeugt wird, überwindet Nachteile her
kömmlicher QCL's und erlaubt insbesondere einen technologisch
vereinfachten Aufbau, da auf kaskadenförmig angeordnete Injek
torbereiche völlig verzichtet werden kann.
Ein weiterer Vorteil des erfindungsgemäßen Halbleiterlasers
besteht darin, dass eine gegenüber den herkömmlichen Lasern
erheblich erhöhte Leistung erzielt werden kann. Die Besetzungsinversion
wird durch eine von außen angelegte und einfach
variierbare Spannung eingestellt. Mit der äußeren Spannung er
folgt das elektrische Pumpen des Lasers bei Vorliegen der Tun
nelresonanz.
Die Erfindung besitzt ferner den Vorteil, dass das Prinzip des
durch ein elektrisches Feld gepumpten Lasers mit Tunnelreso
nanzen in Halbleiterübergittern allgemein mit beliebigen Halb
leitermaterialien umsetzbar ist, die den Aufbau von Übergit
tern mit mindestens drei Subbändern ermöglichen. Es können La
ser mit Emissionswellenlängen im infraroten hin bis zum sicht
baren Spektralbereich realisiert werden.
Gegenstand der Erfindung ist auch ein Verfahren zur Erzeugung
von Laserstrahlung mit dem erfindungsgemäßen Halbleiterlaser.
Dieses Verfahren zeichnet sich insbesondere dadurch aus, dass
durch Anlegen einer äußeren Spannung an die Kontaktbereiche
des Halbleiterlasers im aktiven Bereich gleichzeitig eine Ver
biegung der Subbänder zur Erzeugung der Tunnelresonanz und das
elektrische Pumpen zu Erzeugung der Besetzungsinversion reali
siert wird.
Weitere Vorteile und Einzelheiten der Erfindung werden aus der
Beschreibung der beigefügten Zeichnungen ersichtlich. Es zei
gen:
Fig. 1 und 2 schematische Banddarstellungen zur Illustra
tion des Prinzips der Erfindung,
Fig. 3 eine schematische Illustration der Bandstruk
tur im Übergitter eines erfindungsgemäßen
Halbleitergitters,
Fig. 4 eine Kurvendarstellung zur Illustration der
Tunnelresonanz-Bedingung in einem erfindungs
gemäßen Halbleiterlaser, und
Fig. 5 eine schematische Darstellung einer Ausfüh
rungsform eines erfindungsgemäßen
Halbleiterlasers.
Im Folgenden werden die Grundprinzipien der Erfindung anhand
einer Erläuterung des Ladungsträgertransportes in Zweiband-
und Dreibandstrukturen erläutert, die in den Fig. 1 und 2
gezeigt sind. Fig. 1 zeigt schematisch ein Zweibandmodell.
Durch thermische Generation und Rekombination kommt es zu ei
nem Ladungsträgeraustausch zwischen dem oberen und unteren
Subband. Dieser Ladungsträgeraustausch wird durch ein elektri
sches Feld beeinflusst. Durch Anlegen einer geeigneten Span
nung an das Übergitter werden die Subbänder der Struktur so
verkippt, dass ein Tunnelübergang vom unteren Subband ins obe
re Subband auftritt (linkes Teilbild a) unmittelbar nach Anle
gen der Spannung). Infolge des resonanten Tunnelns kommt es zu
einer feldinduzierten Umverteilung der Ladungsträger. Im Zwei
bandmodell ergibt sich als Folge der Tunnelübergänge im güns
tigsten Fall lediglich dieselbe Besetzung im oberen und unte
ren Subband. Eine Besetzungsinversion kann im Zweibandmodell
nicht auftreten.
Daher wäre eine Laseremission in Zweibandstrukturen nur mög
lich, wenn Injektoren überschüssige Ladungsträger zur Verfü
gung stellen, die das obere Subband jeweils so stark besetzen,
dass es zumindest zu lokalen Besetzungsinversionen kommt. Dies
ist bei den herkömmlichen QCL'S mit den oben genannten
Nachteilen realisiert. In der erfindungsgemäßen Dreibandstruktur
hingegen, kann es zu einer intrinsischen, globalen Beset
zungsinversion kommen, wie es in Fig. 2 illustriert ist.
Fig. 2 zeigt die Subbandstruktur zweier benachbarter Töpfe ei
nes Übergitters, das den aktiven Bereich eines erfindungsgemä
ßen Halbleiterlasers bildet. Durch Anlegen einer äußeren Span
nung entsteht im Übergitter ein elektrisches Feld, unter des
sen Wirkung die Subbänder so verkippen, dass ein resonantes
Tunneln von Ladungsträgern vom untersten Subband 1 eines Top
fes zum obersten Subband 3 des benachbarten Topfes ermöglicht
wird (siehe auch Fig. 3). Unter den folgenden Bedingungen
kommt es zur Besetzungsinversion zwischen den Subbändern 2 und
1.
Erstens ist es erforderlich, dass die Rekombination A zwischen
den Subbändern 3 und 2 wesentlich schneller erfolgt, als die
Rekombination B zwischen den Subbändern 2 und 1. Damit wird
erreicht, dass sich das mittlere Subband 2 durch Entleerung
des obersten Subbandes 3 schneller füllt, als es zur Auffül
lung des untersten Subbandes 1 kommt. Ein ausreichender Unter
schied zwischen den Rekombinationsraten A und B kann dadurch
realisiert werden, dass der energetische Abstand der Subbänder
2 und 3 gleich der Energie der optischen Gitterschwingungen
(Phononen) gewählt wird. Das gibt Anlass zur starken nicht
strahlenden Rekombination A der Ladungsträger vom Subband 3
ins Subband 2. Die Übergänge vom Subband 2 ins Subband 1 (Re
kombination B) erfolgen langsamer und vorzugsweise strahlend,
da die Energielücke, die die Wellenlänge der Laserstrahlung
bestimmt, größer oder kleiner als die Energie der optischen
Gitterschwingungen gewählt wird. Zweitens ist es erforderlich,
dass das oberste Subband 3 durch die Tunnelresonanz genügend
schnell nachgefüllt wird. Die Erfinder haben festgestellt,
dass es zur Vermeidung der bei den herkömmlichen Lasern vorge
sehenen Injektoren erforderlich ist, den Tunnelübergang zwi
schen den Subbändern 1 und 3 besonders effektiv zu gestalten,
indem das oberste Subband 3 eine große Subbandbreite aufweist,
die vorzugsweise oberhalb von 20 meV liegen sollte. Die Her
stellung derartiger Übergitter ist nach Auswahl geeigneter Ma
terialkomponenten mit an sich bekannten Verfahren realisier
bar. Eine wesentliche Voraussetzung besteht im Vorhandensein
eines breiten obersten Bandes. Das ist im rechten Teilbild von
Fig. 2 mit einem Doppelpfeil veranschaulicht.
Die Gestaltung eines Übergitters, das diese beiden Vorausset
zungen erfüllt ist in Abhängigkeit von den verwendeten Materi
alien und gewünschten Betriebsparametern des Halbleiterlasers
durch an sich bekannte Betrachtungen der Bandstruktur in Über
gittern und Abschätzungen von Relaxationszeiten möglich.
Der Ladungstransfer in einem Übergitter mit einem inneren
elektrischen Feld ist in Fig. 3 schematisch dargestellt. In
nerhalb des Leitungsbandes bilden sich mindestens drei Subbän
der aus. Zwischen den Subbändern sind elektronische oder pho
tonische Übergänge möglich. Durch Rekombination gelangen die
Ladungsträger jeweils in die tieferliegenden Bänder. Ist die
Rekombination von den Subbändern 3 zu den Subbändern 2 wesent
lich schneller als von den Subbändern 2 zu den Subbändern 1,
so kann es zu der Besetzungsinversion zwischen den Bändern 1
und 2 kommen, wenn das oberste Subband genügend breit ist.
In Fig. 3 ist die Erzeugung der Besetzungsinversion zwischen
den Subbändern 2 und 1 gezeigt. Alternativ ist es mit der er
findungsgemäßen Dreibandstruktur auch möglich, dass die Beset
zungsinversion zwischen den Subbändern 3 und 2 gebildet wird,
wenn die Ladungsträger im Subband 2 viel schneller rekombinie
ren, als im obersten Subband 3.
In Fig. 4 ist eine numerische Simulation der Besetzung von
Subbändern 1, 2 und 3 des erfindungsgemäß verwendeten Übergit
ters illustriert. Die Kurvendarstellungen zeigen die Beset
zungswahrscheinlichkeit der Subbänder 1, 2 und 3 in Abhängigkeit
von der inneren Feldstärke. Bei einer Feldstärke von ca.
58 kV/cm zeigt sich die entscheidende Abhängigkeit der La
dungsträgerverteilung vom elektrischen Feld. Das mittlere Sub
band ist wesentlich stärker besetzt als das unterste Subband.
Infolge der Tunnelresonanz kommt es zu einer intrinsischen,
globalen Besetzungsinversion, die für den Laserbetrieb ausge
nutzt wird.
In Fig. 5 ist der Aufbau eines erfindungsgemäßen Halbleiter
lasers am Beispiel eines Kantenemitters 100 illustriert. Der
Kantenemitter 100 besitzt die Form eines Stapels verschiedener
Schichten, die insbesondere den aktiven Bereich 10 mit der er
findungsgemäßen Übergitterstruktur und zwei Kontaktbereiche 20
umfasst. Die Kontaktbereiche 20 enthalten auf den gegenüber
liegenden Seiten des aktiven Bereiches 10 jeweils eine erste
Metallschicht 21 und eine erste halbleitende Kontaktschicht 22
bzw. eine zweite Metallschicht 23 und eine zweite halbleiten
den Kontaktschicht 24. An den ersten und zweiten Metallschich
ten 21, 23 sind jeweils elektrische Anschlussleitungen 25, 26
vorgesehen, die mit einer Spannungsquelle verbunden sind. Zwi
schen den Kontaktbereichen 20 und dem aktiven Bereich 10 sind
jeweils eine erste und eine zweite optische Confinementschicht
31, 32 vorgesehen, deren Brechungsindizes für die gegebene Ar
beitswellenlänge des Bauelements stufenförmig oder kontinuier
lich in Richtung der Kontaktschichten abnehmen.
In dem Übergitter des aktiven Bereichs 10 bilden sich in den
Potentialtöpfen die in Fig. 3 illustrierten Dreibandstruktu
ren aus. Bei Anlegen der Betriebsspannung an die äußeren Kon
taktbereiche 20 erfolgt die Verbiegung der Potentiale und Einstellung
der Tunnelresonanz zwischen dem untersten und obers
ten Subband.
Der aktive Bereich 10 enthält das Übergitter, das aus einer
Vielzahl schichtförmiger Perioden abwechselnd verschiedener
Verbindungshalbleiter gebildet wird. Es sind mindestens 20 Pe
rioden, vorzugsweise 50 bis 100 Perioden, vorgesehen. Die
Schichtfolgen werden bspw. durch AlGaAs/GaAs-Verbindungs
halbleiter gebildet. Die Schichtfolge umfasst bspw. abwech
selnd Barriereschichten und Potentialtopfschichten. Die Bar
riereschichten sind beim dargestellten Ausführungsbeispiel
selbst aus Teilschichten zusammengesetzt, die eine mittlere
und zwei äußere Barriere-Teilschichten umfassen. Die mittlere
Barriere-Teilschicht ist bspw. 2 nm dick und bildet eine Ener
giebarriere von 250 meV. Die äußeren Barriere-Teilschichten
besitzen eine Dicke von 5 nm und bilden eine Energiebarriere
von 50 meV. Das entsprechende Energierelief ist im rechten
Teil von Fig. 5 illustriert. Der von den Barriereschichten
eingeschlossene Potentialtopf besitzt eine Dicke von 8 nm.
Die ersten und zweiten Metallschichten 21, 23 bestehen bspw.
aus Gold, ggf. mit geringem Zusatz von z. B. Germanium, können
aber auch durch Metall-Mehrschichtkombinationen gebildet wer
den. Als halbleitende Kontaktschichten 22, 24 werden vorzugs
weise hochleitende n+-GaAs-Schichten verwendet, die zur Reali
sierung eines Ohm'schen Breitstreifenkontaktes eingerichtet
sind, an den über die Metallschichten 21, 23 die Betriebsspan
nung angelegt wird. Zur Verbesserung des Ohm'schen Verhaltens
werden die Kontaktschichten thermisch behandelt (legiert). Die
an sich bekannten optischen Confinementschichten 31, 32 dienen
der Wellenleitung des im aktiven Bereich 10 erzeugten Laser
lichts. Die optischen Confinementschichten 31, 32 bestehen
bspw. aus AlGaAs mit einem geeigneten Kompositionsprofil bspw.
zur Erzeugung einer GRIN-Schicht (Graded-Index-Schicht). Die
Gestaltung der Kontaktbereiche 20 und der Reflektorschichten
31, 32 sind insbesondere in Bezug auf die Materialauswahl und
Schichtdicken von herkömmlichen Halbleiterlasern an sich be
kannt, so dass auf weitere Einzelheiten hier nicht eingegangen
wird.
Ein erfindungsgemäßer Halbleiterlaser kann auch als Oberflä
chenemitter ausgeführt werden, wenn das in der aktiven Übergit
terregion erzeugte Laserlicht mit Hilfe eines aufgebrachten op
tischen Gitters ausgekoppelt wird. Der Mechanismus der Auskopp
lung des Laserlichts durch Wechselwirkung mit einem optischen
Gitter ist an sich bekannt.
Die Gestaltung des erfindungsgemäßen Halbleiterlasers kann ab
weichend von den illustrierten Beispielen modifiziert werden.
Die Umsetzung der Erfindung ist nicht auf die Verwendung von
III-V-Halbleitern beschränkt, sondern auch mit anderen Materia
lien möglich, wie z. B. II-VI Halbleiter, die den Aufbau der in
Fig. 3 illustrierten Dreibandstruktur aufweisen. Dabei kann
man auf binäre, ternäre und quaternäre Systeme zurückgreifen.
Besonders gut geeignet sind Materialkombinationen, die eine
starke Diskontinuität der Leitungsbandkante aufweisen, wie
bspw. InGaAsN Verbindungen. Es sind generell alle baulichen Ei
genschaften umsetzbar, die von herkömmlichen Halbleiterlasern
an sich bekannt sind.
Claims (10)
1. Elektrisch gepumpter, unipolarer Halbleiterlaser mit einer
aktiven Schicht, die eine Übergitterstruktur aufweist,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Übergitterstruktur im Inneren aus identischen Einheits schichten gebildet ist, die jeweils aus einer Quantenschicht und einer Barriereschicht bestehen, so dass benachbarte Quan tenschichten durch eine Barriereschicht räumlich voneinander getrennt sind,
die Quantenschichten quantenmechanisch gekoppelt sind, so dass sich Subbänder ausbilden,
im Betrieb des Halbleiterlasers in der Übergitterstruktur drei Subbänder besetzt sind, von denen das energetisch oberste Subband eine größere Breite als die energetisch tiefer liegen den Subbänder besitzt, und zwischen dem untersten Subband in einer Quantenschicht und dem obersten Subband in einer benach barten Quantenschicht Tunnelresonanz besteht,
in den Quantenschichten der Übergitterstruktur eine schnel lere Relaxation des obersten Subbandes im Vergleich zur nicht strahlenden Relaxation des mittleren Subbandes auftritt, so dass sich in den Quantenschichten eine Besetzungsinversion zwischen dem unteren und dem mittleren Subband ausbildet, und
das Übergitter zwischen optischen Begrenzungsschichten und elektrischen Kontaktschichten angeordnet ist.
die Übergitterstruktur im Inneren aus identischen Einheits schichten gebildet ist, die jeweils aus einer Quantenschicht und einer Barriereschicht bestehen, so dass benachbarte Quan tenschichten durch eine Barriereschicht räumlich voneinander getrennt sind,
die Quantenschichten quantenmechanisch gekoppelt sind, so dass sich Subbänder ausbilden,
im Betrieb des Halbleiterlasers in der Übergitterstruktur drei Subbänder besetzt sind, von denen das energetisch oberste Subband eine größere Breite als die energetisch tiefer liegen den Subbänder besitzt, und zwischen dem untersten Subband in einer Quantenschicht und dem obersten Subband in einer benach barten Quantenschicht Tunnelresonanz besteht,
in den Quantenschichten der Übergitterstruktur eine schnel lere Relaxation des obersten Subbandes im Vergleich zur nicht strahlenden Relaxation des mittleren Subbandes auftritt, so dass sich in den Quantenschichten eine Besetzungsinversion zwischen dem unteren und dem mittleren Subband ausbildet, und
das Übergitter zwischen optischen Begrenzungsschichten und elektrischen Kontaktschichten angeordnet ist.
2. Halbleiterlaser gemäß Anspruch 1, bei dem das Übergitter
aus III-V-Halbleiterverbindungen besteht.
3. Halbleiterlaser gemäß Anspruch 2, bei dem das Übergitter
aus (Al,Ga)As-Halbleiterverbindungen besteht.
4. Halbleiterlaser gemäß Anspruch 2, bei dem das Übergitter
aus (In,Ga)(As,N)-Halbleiterverbindungen besteht.
5. Halbleiterlaser gemäß Anspruch 1, bei dem das Übergitter
aus II-VI-Halbleiterverbindungen besteht.
6. Halbleiterlaser gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche,
bei dem das Übergitter aus mindestens 20 Einheitsschichten,
vorzugsweise aus mindestens 50 Einheitsschichten besteht.
7. Halbleiterlaser gemäß Anspruch 6, bei dem der Schichten
stapel als erste elektrische Kontaktschicht eine erste Metall
schicht und eine erste halbleitende Kontaktschicht, eine erste
optische Begrenzungsschicht, die aktive Schicht, eine zweite
optische Begrenzungsschicht und als zweite elektrische Kon
taktschicht eine zweite halbleitende Kontaktschicht und eine
zweite Metallschicht aufweist.
8. Halbleiterlaser gemäß Anspruch 7, bei dem die erste und
die zweite halbleitende Kontaktschicht aus hochleitendem n+-
GaAs besteht.
9. Halbleiterlaser gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, bei dem
ein optisches Gitter zur Emission von Laserstrahlung senkrecht
zur Ebene der aktiven Schicht vorhanden ist.
10. Halbleiterlaser gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche,
bei dem die aktive Schicht zur Emission von Laserstrahlung mit
einer Emissionswellenlänge im Bereich von 1 µm bis 25 µm ein
gerichtet ist, wobei die Emissionswellenlänge durch das Über
gitterdesign eingestellt ist.
Priority Applications (1)
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DE2000161234 DE10061234C2 (de) | 2000-12-08 | 2000-12-08 | Unipolarer Halbleiterlaser ohne Injektionsschichten |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2000161234 DE10061234C2 (de) | 2000-12-08 | 2000-12-08 | Unipolarer Halbleiterlaser ohne Injektionsschichten |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE10061234A1 DE10061234A1 (de) | 2002-06-27 |
DE10061234C2 true DE10061234C2 (de) | 2003-01-16 |
Family
ID=7666391
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2000161234 Expired - Fee Related DE10061234C2 (de) | 2000-12-08 | 2000-12-08 | Unipolarer Halbleiterlaser ohne Injektionsschichten |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE10061234C2 (de) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2000
- 2000-12-08 DE DE2000161234 patent/DE10061234C2/de not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE10061234A1 (de) | 2002-06-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
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8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |