DE10060436A1 - Test device for high frequency testing of fast integrated circuits has low and high frequency communications connections, arrangement for producing and receiving high frequency test signals - Google Patents

Test device for high frequency testing of fast integrated circuits has low and high frequency communications connections, arrangement for producing and receiving high frequency test signals

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DE10060436A1
DE10060436A1 DE2000160436 DE10060436A DE10060436A1 DE 10060436 A1 DE10060436 A1 DE 10060436A1 DE 2000160436 DE2000160436 DE 2000160436 DE 10060436 A DE10060436 A DE 10060436A DE 10060436 A1 DE10060436 A1 DE 10060436A1
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Juergen Weidenhoefer
Peter Poechmueller
Justus Kuhn
Jochen Mueller
Michael Huebner
Gunnar Krause
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Abstract

The device has connections for low frequency or LF signal communications with test equipment, especially for acquiring LF test signals such as data, control, address and clock signals, an arrangement for producing high frequency or HF test signals based on incoming LF test signals and second connections for HF signal communications with a circuit under test, especially for outputting HF test signals and receiving response signals from the circuit. The device has first connections (32a,32b) for low frequency signal communications with a test equipment (40), especially for acquiring low frequency test signals such as data, control, address and clock signals, an arrangement (38) for producing high frequency test signals based on incoming low frequency test signals and second connections (34a-34d) for high frequency signal communications with a circuit under test (52), especially for outputting high frequency test signals and receiving response signals from the circuit.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Testeinrichtung zum Hochfrequenztest schneller integrierter Schaltkreise.The present invention relates to a test device for High frequency test of fast integrated circuits.

Heutige DRAM (Dynamic Random Access Memory)-Chips werden mit kostspieligen Speichertestsystemen getestet. Auf diesen Te­ stern werden dabei Testprogramme zur Überprüfung der Funkti­ onstauglichkeit der Speicherchips eingesetzt. Dabei werden Signale mit genau definierten Spannungspegeln zu exakt defi­ nierten Zeitpunkten an den zu testenden Halbleiterschaltkreis angelegt. Während der Überprüfung des Lesefunktion von dem DUT ist es darüber hinaus möglich, von dem DUT kommende Si­ gnale zu genau definierten Zeitpunkten in das Testgerät ein­ zulesen und mit erwarteten Signalwerten zu vergleichen.Today's DRAM (Dynamic Random Access Memory) chips are used costly memory test systems. On this Te Test programs for checking the functions become a star Suitable for the memory chips. In doing so Defi signals with precisely defined voltage levels nated times at the semiconductor circuit to be tested created. While checking the reading function of the It is also possible for DUT to send Si coming from the DUT signals into the test device at precisely defined times read and compare with expected signal values.

Aufgrund der hohen Frequenzen bei denen heutige Speicherbau­ steine arbeiten, z. B. 200 bis 300 MHz bei DDR (Double Data Rate)-DRAMs und 400 bis 800 MHz bei Rambus-DRAMs erfordert die Spezifikation dieser Chips hohe Genauigkeit der Signale. So sind beispielsweise bei DDR-Speichern Signalspezifikatio­ nen in der Größenordnung von 500 ps bereits heute üblich. Die verwendeten Produktions- bzw. Speichertestsysteme müssen da­ her höchsten technischen Anforderungen genügen, was zu ent­ sprechend hohen Produktions- und Testkosten führt. Gegenwär­ tig kosten DRAM-Testgeräte, die die genannten Bedingungen erfüllen je Stück mehrere Millionen Dollar. All dies führt dazu, daß bei Höchstfrequenzspeicherbausteinen die Testkosten bereits bis zu 30% der Herstellungskosten ausmachen. Because of the high frequencies at which today's storage construction working stones, e.g. B. 200 to 300 MHz with DDR (Double Data Rate) DRAMs and 400 to 800 MHz are required for Rambus DRAMs the specification of these chips high accuracy of the signals. For example, for DDR memories there are signal specifications 500 ps are already common today. The The production or storage test systems used must be there The highest technical requirements meet what ent leading to high production and test costs. Gegenwär tig cost DRAM test devices that meet the above conditions fulfill several million dollars each. All of this leads to the fact that the test costs for high frequency memory modules already account for up to 30% of the manufacturing costs.  

Funktionstest der Speicherbausteine finden dabei sowohl auf Waferebene, als auch nach der Vereinzelung auf Bausteinebene statt. Dabei wird heute auf Waferebene üblicherweise in rela­ tiv niedrigen Frequenzbereichen von etwa 10 bis 100 MHz die prinzipielle Funktion der Speicherchips überprüft. Die höher­ frequenten Tests finden dann nach der Montage in gehäustem Zustand auf speziellen Bausteintestern statt.Function test of the memory modules can be found on both Wafer level, as well as after the separation at the block level instead of. Today, rela is usually used at the wafer level tiv low frequency ranges from about 10 to 100 MHz basic function of the memory chips checked. The higher Frequent tests are then carried out in housed after assembly Condition on special module testers instead.

Grundsätzlich wäre es wünschenswert, bereits auf Waferebene Hochgeschwindigkeitstest an den Speicherbausteinen durchzu­ führen, da dann der Funktionstest zu einem aus Wertschöp­ fungssicht günstigen Zeitpunkt stattfindet, so daß ein großes Potential für Kosteneinsparungen besteht.In principle, it would be desirable to be at the wafer level High-speed test on the memory chips lead, because then the function test leads to an added value From a technical point of view, there is a great time There is potential for cost savings.

Jedoch sind Hochfrequenztests auf Waferebene heute nur be­ grenzt möglich, was hauptsächlich an den großen geometrischen Abmessungen der Testanordnung liegt. Von der Pinelektronik des Testers über den Testkopf, die Nadelkartenanordnung bis zum zu testenden Baustein sind Dimensionen in der Größenord­ nung 10 cm bis 1 m zu überbrücken. Dies ist bei Frequenzen von 200 MHz bis 1 GHz mit ausreichender Genauigkeit und hoher Parallelität praktisch nicht möglich.However, high frequency tests at the wafer level are now only borders possible, mainly on the large geometric Dimensions of the test arrangement lies. From pin electronics the tester over the test head, the needle card arrangement to dimensions for the building block to be tested are of the order of magnitude bridge 10 cm to 1 m. This is at frequencies from 200 MHz to 1 GHz with sufficient accuracy and high Parallelism practically impossible.

Hier setzt die Erfindung an. Der Erfindung, wie sie in den Ansprüchen gekennzeichnet ist, liegt die Aufgabe zugrunde, eine Testeinrichtung zum Test schneller integrierter Schalt­ kreise bereitzustellen, die Hochfrequenztests auch auf Wa­ ferebene in einfacher und kostengünstiger Weise ermöglicht. Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die Testeinrichtun­ gen gemäß Anspruch 1 oder 6 und die Verwendung nach Anspruch 7 oder 8 gelöst. This is where the invention comes in. The invention, as in the Is characterized, the task is based a test facility for testing fast integrated switching circles to provide the radio frequency tests also on Wa ferebene in a simple and inexpensive manner. This object is achieved by the test facility gene according to claim 1 or 6 and the use according to claim 7 or 8 solved.  

Erfindungsgemäß weist eine Testeinrichtung zum Hochfrequenz­ test schneller integrierter Schaltkreise, insbesondere Halb­ leiterspeicherbausteine, einen auf einem tragenden Element angeordneten Halbleiterschaltkreis auf, welcher umfaßt
According to the invention, a test device for high-frequency testing of fast integrated circuits, in particular semiconductor memory modules, has a semiconductor circuit which is arranged on a supporting element and which comprises

  • - erste Anschlüsse ausgelegt zur niederfrequenten Signalkom­ munikation mit einem Testgerät, insbesondere zur Aufnahme von niederfrequenten Testsignalen wie Daten-, Steuer-, Adreß- und Taktsignalen,- First connections designed for low-frequency signal communication communication with a test device, especially for recording low-frequency test signals such as data, control, address and Clock signals
  • - Mittel zum Erzeugen hochfrequenter Testsignale auf Basis eingehender niederfrequenten Testsignale des Testgeräts, und- Means for generating high-frequency test signals based incoming low-frequency test signals from the test device, and
  • - zweite Anschlüsse ausgelegt zur hochfrequenten Signalkommu­ nikation mit einem zu testenden Schaltkreis, insbesondere zur Abgabe der hochfrequenten Testsignale und zur Aufnahme der vom zu testenden Schaltkreis erzeugten Antwortsignale.- Second connections designed for high-frequency signal communication nication with a circuit to be tested, in particular for Delivery of the high-frequency test signals and for recording the response signals generated by the circuit under test.

Der Erfindung liegt somit der Gedanke zugrunde, zwischen das Testsystem und den zu testenden Schaltkreis einen weiteren Halbleiterschaltkreis einzufügen, der aus den relativ langsa­ men, niederfrequenten Testsignale des Testgeräts aktiv hoch­ frequente Testsignale für Hochgeschwindigkeitstests des zu testenden Bausteines erzeugt. Dieser weitere Halbleiter­ schaltkreis wird als BOST (Built Outside Self Test)-Baustein bezeichnet und kann vorteilhaft als ASIC-Schaltkreis ausge­ führt sein.The invention is therefore based on the idea between the Test system and the circuit to be tested another Insert semiconductor circuit that from the relatively long active, low-frequency test signals from the test device Frequent test signals for high-speed tests of the test block generated. This other semiconductor Circuit is called a BOST (Built Outside Self Test) block referred to and can advantageously out as an ASIC circuit leads.

Während einer Vielzahl zu testender Schaltkreise auf einem Wafer jeweils ein BOST-Baustein zugeordnet sein kann, können gleichzeitig mehrere BOST-Bausteine von demselben Standard- Tester-Kanal angesteuert werden, wodurch die Parallelität beim Testen massiv erhöht werden kann. Weiter führt die Redu­ zierung der Testschritte durch Zusammenlegung der bisherigen Funktionalitätsprüfung auf Waferebene mit den Hochgeschwin­ digkeitstests auf Bausteinebene bei der Produktion zu erheb­ lichen Kosteneinsparungen.During a variety of circuits to be tested on one Wafers can each be assigned a BOST module several BOST blocks from the same standard Tester channel can be controlled, reducing the parallelism can be massively increased during testing. The Redu continues adornment of the test steps by merging the previous steps  Functionality check at wafer level with the high speeds to test the building blocks at the production level cost savings.

Bei diesem Konzept wird der BOST-Baustein erfindungsgemäß mit zwei verschiedenartigen Schnittstellen ausgestattet, nämlich einerseits mit Anschlüssen, die für die niederfrequente Si­ gnalkommunikation mit dem Testsystem ausgelegt sind, insbe­ sondere zur Aufnahme von niederfrequenten Testsignalen wie beispielsweise Daten-, Steuer-, Adreß- und Taktsignalen. Dar­ über hinaus weist der BOST-Baustein zweite Anschlüsse auf, die auf die hochfrequente Signalkommunikation mit dem zu te­ stenden Schaltkreis ausgelegt sind, insbesondere zur Abgabe der hochfrequenten Testsignale und zur Aufnahme der vom zu testenden Schaltkreis erzeugten Antwortsignale.With this concept, the BOST module is used according to the invention equipped two different interfaces, namely on the one hand with connections that are suitable for the low-frequency Si communication with the test system are designed, esp especially for recording low-frequency test signals such as for example data, control, address and clock signals. Dar in addition, the BOST module has second connections, on high-frequency signal communication with the te constant circuit are designed, in particular for delivery the high-frequency test signals and to record the from test circuit generated response signals.

Dadurch ergibt sich als weiterer Vorteil, daß die Flexibili­ tät herkömmlicher, niederfrequenter Testsysteme genutzt und gleichzeitig hochfrequent auf den zu testenden Schaltkreis zugegriffen werden kann.This has the further advantage that the flexibility used conventional, low-frequency test systems and at the same time high frequency on the circuit under test can be accessed.

In einer bevorzugten Auführungsform ist das den BOST-Baustein tragende Element direkt durch eine Leiterplatte gebildet. Al­ ternativ ist das tragende Element durch eine Trägerplatte, vorzugsweise eine keramische Trägerplatte gebildet, die mit einer Leiterplatte verbunden ist. Dies ermöglicht, insbeson­ dere bei der Verwendung einer Vielzahl von BOST-Bausteinen et­ wa in einer Nadelkarte, die Orientierung der BOST-Bausteine relativ zu einer Waferoberfläche genau einzustellen.In a preferred embodiment, this is the BOST building block load-bearing element directly formed by a printed circuit board. al ternative is the load-bearing element through a carrier plate, preferably a ceramic support plate formed with a circuit board is connected. This enables, in particular when using a variety of BOST modules et wa in a needle card, the orientation of the BOST building blocks precisely set relative to a wafer surface.

Zweckmäßig ist bei letzterer Ausführungsform der BOST- Baustein auf einer dem zu testenden Schaltkreis abgewandten Fläche der Trägerplatte angeordnet. Die Trägerplatte weist dabei Anschlüsse auf, die zur hochfrequenten Signalkommunika­ tion mit dem zu testenden Schaltkreis ausgelegt sind, und die mit den zweiten Anschlüssen des BOST-Bausteins verbunden sind. Durch diese Anordnung ist die Testeinrichtung robust und nicht nur für Tests auf Waferebene sondern auch gut für Hochgeschwindigkeitstests auf Bausteinebene geeignet.In the latter embodiment, the BOST Component on a circuit facing away from the circuit to be tested  Surface of the support plate arranged. The carrier plate has connections to the high-frequency signal communication tion are designed with the circuit to be tested, and the connected to the second connections of the BOST module are. This arrangement makes the test device robust and not only for wafer level testing but also good for Suitable for high-speed tests at the block level.

Die zweiten Anschlüsse der Testeinrichtung können Kontaktier­ nadeln zur hochfrequenten Signalübertragung aufweisen. Diese übertragen die zeitlich kritischen Signale zwischen dem BOST- Baustein und dem zu testenden Schaltkreis auf kürzestem Wege und sind trotzdem mechanisch stabil und wiederkontaktierbar.The second connections of the test device can be contacted Have needles for high-frequency signal transmission. This transmit the time critical signals between the BOST Module and the circuit to be tested in the shortest possible way and are still mechanically stable and re-contactable.

Erfindungsgemäß weist eine Testeinrichtung zum parallelen Hochfrequenztest einer Mehrzahl schneller integrierter Schaltkreise, insbesondere Halbleiterspeicherbausteine, eine Mehrzahl der beschreibenen Testeinrichtungen auf. Durch pa­ rallele Messung läßt sich, insbesondere bei Tests auf Wa­ ferebene der Zeitaufwand für die Hochfrequenztests deutlich senken und für Produktionsumgebungen akzeptabel machen.According to the invention, a test device has a parallel High frequency test of a plurality of faster integrated Circuits, especially semiconductor memory devices, a Most of the test facilities described. By pa Parallel measurement can be carried out, especially when testing Wa level of time for the high-frequency tests clearly lower and make it acceptable for production environments.

Vorteilhaft ist die Verwendung einer beschriebenen Testein­ richtung in einem Testsystem zum Hochfrequenztest schneller integrierter Schaltkreise, insbesondere Halbleiterspeicher­ bausteine, auf Waferebene. Wie erwähnt, führt die Reduzierung der Testschritte durch Zusammenlegung der bisherigen Funktio­ nalitätsprüfung auf Waferebene mit den Hochgeschwindigkeits­ tests auf Bausteinebene bei der Produktion zu erheblichen Ko­ steneinsparungen. It is advantageous to use a test stone as described Direction in a test system for high-frequency testing faster integrated circuits, in particular semiconductor memories building blocks, at the wafer level. As mentioned, the reduction leads the test steps by merging the previous functions Quality check at wafer level at high speed Tests at block level in production at considerable cost steneinsparungen.  

Ebenfalls mit Vorteil kann eine beschriebene Testeinrichtung in einem Testsystem zum Hochfrequenztest schneller integrier­ ter Schaltkreise, insbesondere Halbleiterspeicherbausteine, auf Bausteinebene verwendet werden. Zwar sind solche Tests bereits heute mit hochfrequenztauglichen Testgeräten möglich, jedoch gestattet die Erfindung durch die Frequenztransforma­ tion des BOST-Bausteins langsamere und damit preisgünstigere Testgeräte auch für Test auf Bausteinebene zu verwenden.A test device described can also be advantageous Integrate faster in a test system for high-frequency testing ter circuits, in particular semiconductor memory modules, can be used at the block level. Such tests are already possible today with high-frequency test equipment, however, the invention allows through the frequency transform tion of the BOST module is slower and therefore cheaper Test devices can also be used for testing at block level.

Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen, Merkmale und Details der Erfindung ergeben sich aus den abhängigen Ansprüchen, der Beschreibung der Ausführungsbeispiele und der Zeichnungen.Further advantageous configurations, features and details the invention emerge from the dependent claims, the Description of the embodiments and the drawings.

Die Erfindung soll nachfolgend anhand eines Ausführungsbei­ spiels im Zusammenhang mit den Zeichnungen näher erläutert werden. Es sind jeweils nur die für das Verständnis der Er­ findung wesentlichen Elemente dargestellt. Dabei zeigtThe invention is described below with reference to an embodiment game explained in connection with the drawings become. It is only for understanding the Er essential elements shown. It shows

Fig. 1 eine schematische Darstellung einer Ausführungsform der Erfindung; Fig. 1 is a schematic representation of an embodiment of the invention;

Fig. 2 eine schematische Darstellung einer anderen Ausfüh­ rungsform der Erfindung; Fig. 2 is a schematic representation of another embodiment of the invention;

Fig. 3 eine schematische Darstellung einer weiteren Aus­ führungsform der Erfindung; Fig. 3 is a schematic representation of a further embodiment of the invention;

Fig. 4 eine schematische Darstellung einer noch weiteren Ausführungsform der Erfindung; Fig. 4 is a schematic representation of yet another embodiment of the invention;

Fig. 5 eine perspektivische schematische Darstellung einer weiteren Ausführungsform der Erfindung; Fig. 5 is a perspective schematic view of another embodiment of the invention;

Fig. 1 zeigt in schematischer Darstellung ein Testsystem 10 mit einem auf einer Leiterplatte 20 angebrachten, als ASIC ausgeführtem BOST (Build Outside Self Test)-Baustein 30. Fig. 1 shows a schematic representation of a test system 10 having mounted on a printed circuit board 20 has been executed as an ASIC BOST (Build Outside Self Test) module 30th

Testsignale eines mit 10 bis 100 MHz relativ langsamen Test­ systems 40 gelangen über Signalleitungen 42 an die Anschlüsse 22a, 22b der Leiterplatte 20. Von dort werden sie beispiels­ weise über konventionelle Bonddrähte zu Anschlüssen 32a, 32b des BOST-Bausteins geführt. Zum Schutz der Bonddrähte könne diese beipielsweise mit einem Epoxyd vergossen sein. In der Leitplatte 20 werden die Signalleitungen entflechtet und ge­ geneinander abgeschirmt.Test signals of a test system 40 which is relatively slow at 10 to 100 MHz reach signal connections 42 to connections 22 a, 22 b of printed circuit board 20 . From there, they are led, for example, via conventional bond wires to connections 32 a, 32 b of the BOST module. To protect the bond wires, these could be cast with an epoxy, for example. In the guide plate 20 , the signal lines are unbundled and shielded against one another.

Die Hochfrequenz-Anschlüsse 34a-34d des BOST-Bausteins sind mit mechanisch partiell flexiblen Kontaktiernadeln 36a-36d versehen, die eine hochfrequenztaugliche, mechanisch stabile und wiederkontaktierbare elektrische Verbindung mit dem zu testenden Schaltkreis 52 herstellen.The high-frequency terminals 34 a- 34 d of the BOST block are mechanically partially flexible contacting needles 36 a- 36 d provided which establish a radio-frequency, mechanically stable and wiederkontaktierbare electrical connection to the test circuit 52nd

Der zu testende Schaltkreis 52 ist bei der Ausführungsform der Fig. 1 einer von einer Vielzahl von auf einem Wafer 50 befindlicher zu testender Speicherbausteine. Der Wafer 50 selbst befindet sich dabei auf einem nicht gezeigten justier­ baren Chuck.In the embodiment of FIG. 1, the circuit 52 to be tested is one of a multiplicity of memory modules to be tested located on a wafer 50 . The wafer 50 itself is located on an adjustable chuck, not shown.

Im Testbetrieb wird der BOST-Baustein 30 mit den Kontaktier­ nadeln 36a-36d unmittelbar über dem zu testenden Speicherbau­ stein 52 angeordnet und ein lösbarer elektrischer Kontakt mit den entsprechenden Anschlußpads des Speicherbausteins 52 her­ gestellt. Die niederfrequenten Testsignale des Testsystems 40, insbesondere Daten-, Steuer-, Adreß- und Taktsignale, ge­ langen über die Anschlüsse 32a, 32b zu dem BOST-Baustein 30.In test mode, the BOST module 30 is arranged with the contacting needles 36 a- 36 d directly above the memory device 52 to be tested and a releasable electrical contact is made with the corresponding connection pads of the memory module 52 . The low-frequency test signals of the test system 40 , in particular data, control, address and clock signals, go over the connections 32 a, 32 b to the BOST module 30 .

Dieser weist unter anderem einen Signalgenerator 38 auf, der auf Grundlage der langsamen Testsignale des Testsystems 40 interne schnelle Signale erzeugt, welche dann über die Hoch­ frequenz-Anschlüsse 34a-34d an den zu testenden Speicherbau­ stein 52 abgegeben werden.This has, inter alia, a signal generator 38 which generates the test system based on the slow test signals 40 internal fast signals, which are then a- via the high-frequency terminals 34 are submitted 34 d to the stone to be tested Speicherbau 52nd

Nach dem Test des Speicherbausteins 52 wird die lösbare elek­ trische Verbindung getrennt und der BOST-Baustein 30 steht für den Test eines weiteren Speicherbausteins zur Verfügung.After the test of the memory module 52 , the detachable electrical connection is disconnected and the BOST module 30 is available for testing a further memory module.

Die Zahl der Anschlüsse wurde in der schematischen Darstel­ lung der Fig. 1 nur der Übersichtlichkeit halber auf zwei Niederfrequenzanschlüsse 32a, 32b und vier Hochfrequenzan­ schlüsse 34a-34d beschränkt. In der Praxis ist die Zahl der Anschlüsse deutlich größer und im allgemeinen durch die Zahl der Anschlüsse des zu testenden Schaltkreises bestimmt.The number of connections was limited in the schematic representation of FIG. 1 only for the sake of clarity to two low-frequency connections 32 a, 32 b and four high-frequency connections 34 a- 34 d. In practice, the number of connections is significantly larger and generally determined by the number of connections of the circuit to be tested.

Eine andere Ausführungsform ist in Fig. 2 dargestellt. Dabei ist der BOST-Baustein 30 nicht direkt auf einer Leiterplatte angebracht, sondern auf einer beispielsweise keramischen Trä­ gerplatte 60 montiert, die ihrerseits über Schraubverbindun­ gen 80 in einstellbarem Abstand mit einer Leiterplatte 70 verbunden ist. Dies verbessert einerseits die Ableitung der im BOST-Baustein 30 erzeugten Verlustwärme und erlaubt ande­ rerseits eine genaue Einstellung der Orientierung des BOST- Bausteins.Another embodiment is shown in FIG. 2. The BOST module 30 is not attached directly to a printed circuit board, but rather is mounted on a ceramic carrier plate 60 , for example ceramic, which in turn is connected via screw connections 80 at an adjustable distance to a printed circuit board 70 . On the one hand, this improves the dissipation of the heat loss generated in the BOST module 30 and, on the other hand, allows the orientation of the BOST module to be set precisely.

Der BOST-Baustein 30 kann dabei wie in Fig. 2 gezeigt, auf der dem zu testenden Baustein abgewandten Fläche 64 der Trä­ gerplatte 60 angebracht sein. Dies stellt eine robuste Aus­ führung dar, die sowohl für den Test von Schaltkreisen 52 auf Waferebene wie auch für den Test von Schaltkreisen 54 auf Bausteinebene gut geeignet ist. Die Trägerplatte weist in diesem Fall nach unten zum zu testenden Schaltkreis 52, 54 weisende Anschlüsse 62a-62d zur hochfrequenten Signalkommuni­ kation mit dem zu testenden Schaltkreis 52, 54 auf, die mit den Anschlüssen 34a-34d des BOST-Bausteins durch die Träger­ platte 60 hindurch verbunden sind. Auch die niederfrequenten Signalleitungen werden in Fig. 2 über die Trägerplatte (Be­ zugszeichen 68) zu auf der Leiterplatte 70 befindlichen An­ schlüssen 72 geführt.The BOST module 30 can, as shown in FIG. 2, be mounted on the surface 64 of the carrier plate 60 facing away from the module to be tested. This is a robust design that is well suited for both testing circuits 52 at the wafer level and testing circuits 54 at the device level. The carrier plate has in this case down to the circuit 52 , 54 to be tested, connections 62 a- 62 d for high-frequency signal communication with the circuit 52 , 54 to be tested, which with the connections 34 a- 34 d of the BOST module the carrier plate 60 are connected through. The low-frequency signal lines are in Fig. 2 on the carrier plate (Be reference 68 ) to the circuit board 70 to 72 connections .

Der BOST-Baustein 30 kann auch mit seiner Oberseite zur Trä­ gerplatte 60 hinweisen. Der elektrische Kontakt kann dann durch hochfrequenzfähige Kontaktbällchen 90 (Fine Grid Ball Array) erreicht werden (Fig. 3).The BOST module 30 can also indicate with its upper side to the carrier plate 60 . The electrical contact can then be achieved by high-frequency contact balls 90 (fine grid ball array) ( FIG. 3).

Alternativ ist der BOST-Baustein 30, wie in Fig. 4 gezeigt, auf der dem zu testen Baustein zugewandten Fläche 66 der Trä­ gerplatte 60 montiert.Alternatively, the BOST module 30 , as shown in FIG. 4, is mounted on the surface 66 of the carrier plate 60 facing the module to be tested.

Die in Fig. 5 schematisch dargestellte Testeinrichtung 100 weist ein 3 × 3 Array von BOST-Bausteinen 30 auf einer kera­ mischen Trägerplatte 60 in einer ansonsten Fig. 3 entspre­ chenden Anordnung auf. Nicht gezeigt ist die Anbindung der Trägerplatte 60 zur Leiterplatte, auf der die Abschirmung und Entflechtung der Signalleitungen erfolgt, sowie die einzelnen Anschlüsse der BOST-Bausteine. Mit der Testeinrichtung 100 ist es möglich, auf einem Wafer 150 gleichzeitig neun Spei­ cherbausteine 152, etwa die neun durch die Umrandung 154 festgelegten Speicherbausteine zu testen. Nach erfolgtem Test werden die Testeinrichtung und der Wafer wieder getrennt, und der Wafer in seiner Lage verschoben, bis die nächsten neun Speicherbausteine unter den entsprechenden BOST-Bausteinen 30 liegen. Es ist unmittelbar ersichtlich, daß durch die paral­ lele Testung ein Zeitgewinn in der Größenordnung eines Fak­ tors 9 erzielt wird. The test device 100 shown schematically in FIG. 5 has a 3 × 3 array of BOST components 30 on a ceramic carrier plate 60 in an arrangement corresponding to FIG. 3. The connection of the carrier plate 60 to the printed circuit board, on which the shielding and unbundling of the signal lines is carried out, and the individual connections of the BOST modules are not shown. With the test device 100 , it is possible to test nine memory modules 152 , for example the nine memory modules defined by the border 154 , on a wafer 150 at the same time. After the test has been carried out, the test device and the wafer are separated again, and the wafer is shifted in its position until the next nine memory modules are located under the corresponding BOST modules 30 . It is immediately apparent that a time saving on the order of a factor 9 is achieved by the parallel testing.

Selbstverständlich ist die erfindungsgemäße Anordnung nicht auf ein Array von 3 × 3 BOST-Bausteinen beschränkt, sondern es liegen auch jegliche anderen n × m-Array-Anordnungen mit n,m ≧ 1 im Rahmen der vorliegenden Erfindung. Mit zunehmender Anzahl n*m von BOST-Bausteinen steigt die Parallelisierung und damit die Zeitgewinn verglichen mit einer sequentiellen Testung der Bausteine.Of course, the arrangement according to the invention is not limited to an array of 3 × 3 BOST blocks, but any other n × m array arrangements are also included n, m ≧ 1 in the context of the present invention. With increasing The number of * * BOST blocks increases the parallelization and thus the time saved compared to a sequential Testing the building blocks.

Wird anstelle eines Schaltkreises 52 auf einem Wafer ein be­ reits vereinzelter Baustein 54 kontaktiert, tritt anstelle des zu testenden Wafers auf einem justierbaren Chuck der zu testende Baustein, der mechanisch durch ein Handlersystem po­ sitioniert und gehaltert werden kann. Ein BOST-Baustein kann dann in einem einzelnen Testsockel integriert sein. Auch hier ist jedoch die parallele Messung vieler Bausteine durch das Vorsehen einer entsprechenden Zahl von BOST-Bausteinen, etwa in einem sogenannten Hifix-Board kostengünstig möglich.If instead of a circuit 52 on a wafer an already isolated module 54 is contacted, the module to be tested occurs instead of the wafer to be tested on an adjustable chuck, which can be mechanically positioned and held by a handler system. A BOST module can then be integrated in a single test socket. Here too, however, the parallel measurement of many modules is inexpensively possible by providing a corresponding number of BOST modules, for example in a so-called Hifix board.

Claims (8)

1. Testeinrichtung zum Hochfrequenztest schneller integrier­ ter Schaltkreise, insbesondere Halbleiterspeicherbausteine, mit einem auf einem tragenden Element(20; 60) angeordneten Halbleiterschaltkreis (30), welcher umfaßt
erste Anschlüsse (32a, 32b)ausgelegt zur niederfrequenten Signalkommunikation mit einem Testgerät (40), insbesondere zur Aufnahme von niederfrequenten Testsignalen wie Daten-, Steuer-, Adreß- und Taktsignalen,
Mittel (38) zum Erzeugen hochfrequenter Testsignale auf Ba­ sis eingehender niederfrequenten Testsignale des Testgeräts, und
zweite Anschlüsse (34a-34d) ausgelegt zur hochfrequenten Signalkommunikation mit einem zu testenden Schaltkreis (52; 54), insbesondere zur Abgabe der hochfrequenten Testsignale und zur Aufnahme der vom zu testenden Schaltkreis (52; 54) erzeugten Antwortsignale.
1. Test device for high-frequency test of fast integrated circuits, in particular semiconductor memory modules, with a semiconductor circuit ( 30 ) arranged on a supporting element ( 20 ; 60 ), which comprises
first connections ( 32 a, 32 b) designed for low-frequency signal communication with a test device ( 40 ), in particular for receiving low-frequency test signals such as data, control, address and clock signals,
Means ( 38 ) for generating high-frequency test signals based on incoming low-frequency test signals from the test device, and
second connections ( 34 a- 34 d) designed for high-frequency signal communication with a circuit to be tested ( 52 ; 54 ), in particular for delivering the high-frequency test signals and for receiving the response signals generated by the circuit to be tested ( 52 ; 54 ).
2. Testeinrichtung nach Anspruch 1, bei der das tragende Element durch eine Leiterplatte (20) gebildet ist.2. Test device according to claim 1, wherein the supporting element is formed by a printed circuit board ( 20 ). 3. Testeinrichtung nach Anspruch 1, bei der das tragende Element durch eine Trägerplatte (60), vorzugs­ weise eine keramische Trägerplatte gebildet ist, die mit ei­ ner Leiterplatte (70) verbunden ist.3. Test device according to claim 1, wherein the supporting element is formed by a carrier plate ( 60 ), preferably as a ceramic carrier plate which is connected to a printed circuit board ( 70 ). 4. Testeinrichtung nach Anspruch 3, bei der der Halbleiterschaltkreis (30) auf einer dem zu testenden Schaltkreis abgewandten Fläche (62) der Trägerplatte (60) an­ geordnet ist, und die Trägerplatte (60) Anschlüsse (62a-62d) ausgelegt zur hochfrequenten Signalkommunikation mit dem zu testenden Schaltkreis (52; 54) aufweist, die mit den zweiten Anschlüssen (34a-34d) des Halbleiterschaltkreises (30) ver­ bunden sind.4. Test device according to claim 3, wherein the semiconductor circuit ( 30 ) is arranged on a surface facing away from the circuit to be tested ( 62 ) of the carrier plate ( 60 ), and the carrier plate ( 60 ) connections ( 62 a- 62 d) designed for High-frequency signal communication with the circuit to be tested ( 52 ; 54 ), which are connected to the second connections ( 34 a- 34 d) of the semiconductor circuit ( 30 ). 5. Testeinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, bei der die zweiten Anschlüsse (34a-34d) Kontaktiernadeln (36a-36d) zur hochfrequenten Signalübertragung aufweisen.5. Test device according to one of claims 1 to 4, wherein the second connections ( 34 a- 34 d) contacting needles ( 36 a- 36 d) for high-frequency signal transmission. 6. Testeinrichtung zum parallelen Hochfrequenztest einer Mehrzahl schneller integrierter Schaltkreise, insbesondere Halbleiterspeicherbausteine, mit einer Mehrzahl von Testein­ richtungen (10) nach einem der Ansprüche 1 bis 5.6. Test device for parallel high-frequency test of a plurality of fast integrated circuits, in particular semiconductor memory modules, with a plurality of test devices ( 10 ) according to one of claims 1 to 5. 7. Verwendung einer Testeinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6 in einem Testsystem zum Hochfrequenztest schneller integrierter Schaltkreise, insbesondere Halbleiterspeicher­ bausteine auf Waferebene.7. Use of a test device according to one of the claims 1 to 6 faster in a high-frequency test system integrated circuits, in particular semiconductor memories building blocks at the wafer level. 8. Verwendung einer Testeinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6 in einem Testsystem zum Hochfrequenztest schneller integrierter Schaltkreise, insbesondere Halbleiterspeicher­ bausteine auf Bausteinebene.8. Use of a test device according to one of the claims 1 to 6 faster in a high-frequency test system integrated circuits, in particular semiconductor memories building blocks at building block level.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7401281B2 (en) 2004-01-29 2008-07-15 International Business Machines Corporation Remote BIST high speed test and redundancy calculation
US7631236B2 (en) 2004-01-29 2009-12-08 International Business Machines Corporation Hybrid built-in self test (BIST) architecture for embedded memory arrays and an associated method

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3724144A1 (en) * 1987-07-21 1989-02-02 Siemens Ag Arrangement for testing circuits which are integrated on a chip

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3724144A1 (en) * 1987-07-21 1989-02-02 Siemens Ag Arrangement for testing circuits which are integrated on a chip

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JP05-264667AA *

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7401281B2 (en) 2004-01-29 2008-07-15 International Business Machines Corporation Remote BIST high speed test and redundancy calculation
US7472325B2 (en) 2004-01-29 2008-12-30 International Business Machines Corporation Method for segmenting BIST functionality in an embedded memory array into remote lower-speed executable instructions and local higher-speed executable instructions
US7631236B2 (en) 2004-01-29 2009-12-08 International Business Machines Corporation Hybrid built-in self test (BIST) architecture for embedded memory arrays and an associated method

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