DE10058096A1 - Adaptronisches Mikrosystem und Verfahren zur Herstellung - Google Patents
Adaptronisches Mikrosystem und Verfahren zur HerstellungInfo
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- 239000011159 matrix material Substances 0.000 title claims abstract description 62
- 238000009413 insulation Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 239000012774 insulation material Substances 0.000 title 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000009422 external insulation Methods 0.000 claims abstract description 3
- 230000001953 sensory effect Effects 0.000 claims description 20
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 15
- 238000005266 casting Methods 0.000 claims description 11
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- 238000004382 potting Methods 0.000 claims description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 4
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 3
- 239000004744 fabric Substances 0.000 claims description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 2
- 239000002071 nanotube Substances 0.000 claims description 2
- 229910001285 shape-memory alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 13
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 9
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 7
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 7
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000011149 active material Substances 0.000 description 3
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 3
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 2
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000004918 carbon fiber reinforced polymer Substances 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 238000011417 postcuring Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/80—Constructional details
- H10N30/88—Mounts; Supports; Enclosures; Casings
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/01—Manufacture or treatment
- H10N30/02—Forming enclosures or casings
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/702—Piezoelectric or electrostrictive devices based on piezoelectric or electrostrictive fibres
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
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Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft ein adaptronisches Mikrosystem sowie ein Verfahren zu dessen Herstellung. Das adaptonische Mikrosystem weist aktorische und/oder sensorische Mikroelemente, die in einem Matrixmaterial eingebettet sind, Ansteuerelemente zur Ansteuerung der Mikroelemente und eine äußere Isolation auf. Das Mikrosystem zeichnet sich dadurch aus, dass an Berührungsstellen zwischen der Isolation und dem Matrixmaterial keine Grenzfläche vorhanden ist. DOLLAR A Das vorliegende Mikrosystem zeigt eine erhöhte Spannungsfestigkeit, einen besseren elektromechanischen Wirkungsgrad als vergleichbare bekannte Systeme sowie eine erhöhte Langzeitstabilität auf.
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein
adaptronisches Mikrosystem mit aktorischen und/oder
sensorischen Mikroelementen, die in einem Matrix
material eingebettet sind, Ansteuerelementen zur
Ansteuerung der Mikroelemente und einer äußeren
Isolation, sowie ein Verfahren zur Herstellung eines
derartigen Mikrosystems.
Adaptronische Mikrosysteme der genannten Art,
insbesondere mit aktorischen und/oder sensorischen
Mikroelementen aus piezoelektrischem Material, finden
in vielen Bereichen der Technik Anwendung, in denen
Sensoren oder Aktoren reduzierten Volumens benötigt
werden. Im Einsatzbereich von Verbundwerkstoffen
besteht ein zunehmender Bedarf an Mikrosystemen, die in
den Werkstoff integriert werden können. Gerade für die
Implementierung in Faserverbundstrukturen ist eine
reduzierte Steifigkeit der Sensoren und/oder Aktorten
erforderlich, wie sie adaptronische Mikrosysteme
aufweisen.
Die derzeit bekannten adaptronischen Mikrosysteme
sowie die Verfahren zu deren Herstellung zeichnen sich
durch eine charakteristische Sandwich-Bauweise aus, bei
der die Matrix mit den darin eingebetteten sensorischen
und/oder aktorischen Mikroelementen beidseitig von
einer Lage einer Elektrodenstruktur zur Ansteuerung und
einer auf der Elektrodenstruktur aufgebrachten
Isolationsschicht bedeckt ist.
Ein derartiges adaptronisches Mikrosystem ist
beispielsweise aus der US 5,869,189 bekannt. Bei diesem
Mikrosystem werden mehrere lang gestreckte piezo
elektrische Fasern als aktorische Mikroelemente
parallel und in definiertem Abstand zueinander in eine
Form eingelegt. Anschließend wird ein flüssiges
Polymermaterial in die Form eingebracht und mit den
Fasern ausgehärtet. Auf die hierbei entstehende Matrix
werden beidseitig Elektrodenstrukturen aufgebracht, die
der Ansteuerung der Fasern dienen. Für die äußere
Isolation dieser Struktur ist schließlich noch eine
Isolationsschicht auf beiden Hauptoberflächen des
Mikrosystems erforderlich.
Beim Einsatz eines derartigen Mikrosystems wird
jedoch insbesondere bei hoher Feuchte oder der
Belastung durch andere Medien eine reduzierte
elektrische Spannungsfestigkeit beobachtet, die sich in
elektrischen Durchschlägen äußert, die bis zum Versagen
des Bauteils führen können. Weiterhin liegt der
elektromechanische Wirkungsgrad derartiger adap
tronischer Mikrosyteme in einem Bereich, der einen
Einsatz bei Anwendungen verhindert, bei denen nicht die
erforderlichen Betriebsspannungen aufgebracht werden
können. Ein Beispiel hierfür ist der Betrieb in einem
Kfz-Bordnetz bei einer Spannung von 12 V, die nicht
ausreicht, um einen zuverlässigen Betrieb der bekannten
adaptronischen Mikrosysteme zu gewährleisten.
Ausgehend von diesem Stand der Technik liegt der
Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein adaptronisches
Mikrosystem sowie ein Verfahren zu dessen Herstellung
anzugeben, das bei erhöhter Spannungsfestigkeit auch
einen höheren elektromechanischen Wirkungsgrad
aufweist.
Die Aufgabe wird mit dem adaptronischen
Mikrosystem gemäß Patentanspruch 1 bzw. dem Verfahren
gemäß Patentanspruch 30 gelöst. Vorteilhafte
Ausgestaltungen des Mikrosystems sind Gegenstand der
Unteransprüche.
Das erfindungsgemäße adaptronische Mikrosystem
weist, ebenso wie die Mikrosysteme des eingangs
genannten Standes der Technik, aktorische und/oder
sensorische Mikroelemente, die in einem Matrixmaterial
- beispielsweise einer Vergussmasse - eingebettet sind,
Ansteuerelemente zur Ansteuerung der Mikroelemente und
eine äußere Isolation auf. Das vorliegende Mikrosystem
zeichnet sich jedoch im Gegensatz zu dem bekannten
Stand der Technik dadurch aus, dass an Berührungs
stellen zwischen der Isolation und dem Matrixmaterial
mit den Mikroelementen keine Grenzfläche vorhanden ist.
Die Erfinder des vorliegenden Mikrosystems haben
hierbei erkannt, dass die bei bekannten Mikrosystemen
auftretenden Nachteile durch innere Grenzflächen
zustande kommen, die innerhalb des Matrixmaterials bzw.
zwischen dem Matrixmaterial und der Isolation
auftreten. Diese Grenzflächen resultieren aus der
Sandwich-Bauweise des bekannten Standes der Technik. So
können über diese Grenzflächen von außen feuchte oder
andere Medien eindringen, die zu einem Kurzschluss oder
Überschlag zwischen benachbarten spannungsführenden
Kontaktierungen auf der Matrix führen können.
Durch die Realisierung eines adaptronischen
Mikrosystems, das keine derartigen inneren Grenzflächen
zwischen dem Matrixmaterial mit den aktorischen
und/oder sensorischen Mikroelementen und der Isolation
aufweist, kann die Empfindlichkeit derartiger Systeme
gegen Feuchte deutlich vermindert werden.
So liegt der Diffusionskoeffizient für die
Diffusion von Wasser an Grenzflächen zwischen dem
Matrixmaterial und der Isolation ca. 10 × höher als der
Diffusionskoeffizient durch das Matrixmaterial
hindurch.
Weiterhin wird durch die Struktur des vorliegenden
Mikrosystems der elektromechanische Wirkungsgrad
deutlich erhöht, so dass geringere elektrische
Betriebsspannungen erforderlich sind, um die gleiche
Leistung zu erzielen wie bei den Systemen des Standes
der Technik. Weiterhin wird durch die Vermeidung einer
Grenzfläche an Übergängen vom Matrixbereich mit den
eingebetteten sensorischen und/oder aktorischen
Mikroelementen zur Isolation die mechanische Haltbar
keit des Systems deutlich verbessert. Insbesondere bei
starken Temperaturschwankungen kann es bei den
bekannten Mikrosystemen in Sandwich-Bauweise zu einem
zumindest teilweisen Ablösen an der Grenzfläche und
damit zu einem Versagen des Mikrosystems kommen. Die
Gefahr eines derartigen mechanischen Defektes ist bei
dem erfindungsgemäßen Mikrosystem deutlich verringert.
Die Vermeidung einer Grenzfläche zwischen dem
Matrixbereich mit den eingebetteten Mikroelementen und
der Isolation wird vorzugsweise dadurch realisiert,
dass die Isolation selbst durch einen äußeren Bereich
der Matrix gebildet wird. Isolation und Matrix für die
sensorischen und/oder aktorischen Mikroelemente werden
somit aus einem Guss gebildet, wodurch das Entstehen
von Grenzflächen vermieden wird.
Die Elektrodenstruktur bzw. die Struktur der
Ansteuerelemente ist vorzugsweise auf einen Träger
aufgebracht, der für die bei der Herstellung flüssige
Vergussmasse des Matrixmaterials durchlässig ist. Diese
Durchlässigkeit kann beispielsweise durch eine Vielzahl
von Öffnungen im Träger realisiert werden. Vorzugsweise
besteht der Träger hierbei aus einem porösen Material,
durch das die flüssige Vergussmasse aufgesogen wird. Im
fertigen Bauteil ist dann der Träger vom Matrixmaterial
vollständig durchdrungen und beidseitig von diesem
umgeben. Der äußere Bereich des Matrixmaterials bildet
hierbei die Isolation der Ansteuerstruktur und des
Trägers nach außen, der innere Bereich bildet die
Matrix mit den eingebetteten aktorischen und/oder
sensorischen Mikroelementen. Bei einem derartigen
System treten daher nur noch Grenzflächen zwischen dem
Träger bzw. der Ansteuerstruktur und dem Matrixmaterial
auf. Die Isolation ist mit dem Bereich der Matrix mit
den eingebetteten Mikroelementen aus einem Guss
gebildet und ohne innere Grenzflächen verbunden.
In einer möglichen Ausführungsform der vor
liegenden Erfindung sind die Ansteuerelemente
Elektroden, über die die Mikroelemente mit einem
elektrischen, magnetischen oder elektromagnetischen
Feld beaufschlagbar sind. Diese Elektroden können in
bekannter Weise als großflächige Plattenelektroden, als
Linienelektroden oder in Interdigitalstruktur ange
ordnet bzw. eingebettet sein. Bei einer flächigen
Elektrodenstruktur ist eine Porosität des Elektroden
materials erforderlich, so dass dieses vom Matrix
material durchdrungen werden kann. Linienförmige
Elektrodenstrukturen werden in bekannter Weise entweder
auf Vorder- und Rückseite des die Mikroelemente bein
haltenden Bereiches der Matrix deckungsgleich oder mit
einer lateralen Verschiebung zueinander angeordnet.
Selbstverständlich können die Elektrodenstrukturen auch
dreidimensional komplex verlaufen und gegebenenfalls
das Mikrosystem bzw. den die Mikroelemente bein
haltenden Bereich der Matrix durchdringen. Eine
derartige Durchdringung kann durch ineinander ver
wobene, sich gegenseitig nur vernachlässigbar beein
trächtigende Netze aus Elektrodenmaterial in der Matrix
realisiert werden.
Als Materialien für die Elektrodenstruktur kommen
ein elektrisch leitfähiger Film oder eine elektrisch
leitfähige Folie, beispielsweise aus Metall, Kohlen
stoff oder einem Elektrolyt, ein elektrisch leitfähiges
Netz oder Gitter, die aus den gleichen Materialien
bestehen können, sowie intrinsisch oder extrinsisch
leitfähige Verbundsysteme wie Paste oder Klebstoff in
Frage.
Neben Elektroden lassen sich selbstverständlich
auch andere Ansteuerstrukturen, wie beispielsweise
Lichtleiter, zur Beaufschlagung der aktorischen
und/oder sensorischen Elemente mit einem elektro
magnetischen Feld einsetzen. Derartige Lichtleiter
können in ähnlichen Strukturen wie herkömmliche
elektrisch leitfähige Elektroden im Mikrosystem
angeordnet sein.
Die Ansteuerelemente können in direktem Kontakt
mit den aktorischen und/oder sensorischen Mikro
elementen oder beabstandet davon sein. Bei der
Herstellung lässt sich auf Wunsch zwischen den
Ansteuerelementen und den Mikroelementen eine
Matrixmaterialschicht einstellbarer Dicke (von 0 bis
vielen µm) integrieren und ein inniger und/oder
großflächiger Kontakt herstellen. Dies verbessert
nochmals die Produkteigenschaften wie Betriebsspannung,
Wirkungsgrad und Langzeitbeständigkeit, da eine
Zwischenschicht aus Matrixmaterial lokale Spitzen des
elektrischen Feldes abbaut, die ansonsten beispiels
weise piezokeramische Fasern auf Dauer schädigen
könnten.
Die Ansteuerung des aktiven Materials, d. h. der
aktorischen und/oder sensorischen Mikroelemente,
erfolgt beim vorliegenden Mikrosystem somit in
Abhängigkeit von der Ausgestaltung der Mikroelemente
und der Ansteuerelemente mittels eines elektrischen,
magnetischen oder elektromagnetischen Feldes,
beispielsweise auch durch Licht. Eine weitere
Ansteuerungsmöglichkeit besteht in der Beaufschlagung
mit Wärme oder der Zuführung von elektrischer Ladung.
Die Ansteuerung der Elektroden bzw. Ansteuer
elemente kann einzeln oder in beliebig großen/vielen
Gruppen erfolgen. Hierbei können die Ansteuerelemente
oder Gruppen von Ansteuerelementen selbstverständlich
auch phasenverschoben angesteuert werden. Dem Fachmann
sind geeignete Ansteuertechniken je nach gewünschtem
adaptronischem Effekt und Aufbau des Mikrosystems
geläufig. So lässt sich das vorliegende Mikrosystem
beispielsweise aus piezoelektrischen Elementen zur
Ausnutzung des d31- oder des d33-Effektes aufbauen.
Als aktives Material können beim vorliegenden
Mikrosystem beispielsweise Piezoelektrika, Magneto
striktiva, Formgedächtsnislegierungen oder Nanotubes,
z. B. aus Kohlenstoff, eingesetzt werden. Die Geometrie
der aktiven und/oder sensorischen Mikroelemente ist
hierbei je nach gewünschtem Anwendungszweck frei
wählbar. Die Mikroelemente können beispielsweise
rundlich, oval, lang oder kurz, flach oder auch
dreidimensional komplex, wie beispielsweise lang und
gewellt, ausgeführt sein. Die Mikroelemente können
isotrop ungeordnet, d. h. statistisch verteilt, unter
einer Vorzugsorientierung oder auch hochgeordnet
(anisotrop) im Matrixmaterial eingebettet sein. Auch
eine dreidimensional komplexe Anordnung, beispielsweise
als netzartiges Gewebe oder eine Anordnung in mehreren
Lagen, kann beim vorliegenden Mikrosystem realisiert
sein.
Das Material der Matrix bzw. der Vergussmasse kann
sowohl anorganisch oder auch organisch, beispielsweise
als Polymer, oder durch eine Mischung organischer und
anorganischer Materialien gebildet sein. Hierbei kommen
sowohl Materialien in Frage, die sich über einen
einzelnen Härtungsmechanismus härten lassen, wie auch
Materialien, bei denen eine so genannte Kombihärtung
möglich ist. Eine Kombihärtung wird beispielsweise
durch kombinierte UV-Bestrahlung und thermische Härtung
eines Polymers durchgeführt und kann zur Herstellung
und/oder Anwendung des Mikrosystems als Prepreg dienen.
Der Matrix- bzw. der Vergussmasse können hierbei
reaktive oder inerte Füllstoffe, Additive oder
Zuschlagstoffe beigemischt sein, um elektrische,
mechanische, chemische, physikalische oder andere
Eigenschaften bei der Mikrosystemherstellung und/oder -
anwendung zu verändern bzw. vorzugeben. Durch derartige
Beimischung können beispielsweise die Dielektrizitäts
konstante und Durchschlagsfestigkeit, das Schubmodul
und Eigenspannungen, Härtungsmechanismen und Beständig
keit, Dichte, Feuchtediffusion sowie das Absorptions-
und Transmissionsverhalten verändert bzw. gezielt
vorgegeben werden. Eine derartige Beeinflussung bzw.
Einstellung des Absorptionsverhaltens kann beispiels
weise über das Einbringen von Partikeln beliebiger Form
und Größe aus dem aktiven oder einem verwandten
Material in die Matrix zusätzlich zu den Mikroelementen
erfolgen. Hierdurch lassen sich Mikroelemente, die
nicht direkt von den Ansteuerelementen kontaktiert
werden, über die Ansteuersignale besser erreichen.
Selbstverständlich können derartige Effekte auch durch
Einbringen von Polymeren oder anderen organischen
Substanzen in das Matrixmaterial herbeigeführt werden.
Die Oberfläche des vorliegenden Mikrosystems, d. h.
die Außenfläche der Isolation kann je nach Bedarf
unterschiedliche Topographien aufweisen. Sie kann
beispielsweise glatt, zerklüftet, kompakt oder schwamm
artig porös ausgebildet sein. Weiterhin kann die
chemische Natur dieser Oberfläche, beispielsweise zur
Erzielung einer besseren Haftung für angrenzende
Schichten, modifiziert sein. Selbstverständlich lässt
sich die Oberfläche auch beschichten, um beispielsweise
die Kerbempfindlichkeit des aktiven Materials in der
Matrix zu verringern.
Durch geeignete Ausgestaltung dieser Oberfläche
der Mikrosysteme können dem Anwender unterschiedliche
Funktionalitäten zur Verfügung gestellt werden. So kann
während der Herstellung eine Schutzfolie aufgebracht
werden, die beim späteren Einbau des Mikrosystems
abgezogen wird und eine saubere Oberfläche oder eine
Oberfläche mit definierter Klebrigkeit freilegt. Eine
Oberfläche mit definierter Klebrigkeit kann auch
dadurch erzeugt werden, dass bei der Herstellung der
Mikrosysteme in den äußeren Bereich ein Abreißgewebe
eingebettet wird. Die beim Abreißen dieses Gewebes
erzeugte klebrige Oberfläche kann dem Ankleben der
Mikrosysteme an andere Bauteile oder beispielsweise zum
Integrieren der Mikrosysteme in ein CFK-Prepreg dienen.
Eine saubere Oberfläche bzw. eine solche
definierter Klebrigkeit kann auch durch gezielte
Einstellung eines Eigenschaftsgradienten in die Tiefe
des Mikrosystems realisiert werden, der im inneren
Bereich des Matrixmaterials eine ausreichende
Aushärtung gewährleistet und an den Oberflächen im
äußeren Bereich die definierte Klebrigkeit. Der
Eigenschaftsgradient kann beispielsweise der
Vernetzungsgrad sein, der bei einem strahlungshärtenden
Matrixmaterial durch die tiefenabhängige Intensität der
UV-Strahlung automatisch erzeugt wird. Der Eigen
schaftsgradient kann auch eine tiefenabhängige
chemische Zusammensetzung und Molmassenverteilung in
der Matrix bzw. Vergussmasse sein, hervorgerufen durch
die Wechselwirkung der Matrix mit gegebenenfalls
chemisch und/oder physikalisch oberflächenvorbehan
delter Schutzfolie bzw. Abreißgewebe.
Zur Erzeugung einer klebrigen Oberfläche kann auch
eine multifunktionale Klebeschicht, die beispielsweise
druckempfindlich und thermisch nachhärtbar ist, auf das
Mikrosystem aufgebracht werden. Diese nachträglich
aufgebrachte Schicht erhält die vorteilhaften
Eigenschaften des vorliegenden Mikrosystems und führt
keine neuen Grenzflächen innerhalb des Matrixmaterials
bzw. des Mikrosystems ein.
Für die Ansteuerung des Mikrosystems über die
Ansteuerelemente sind entsprechende Zuführungsleitungen
erforderlich, die die Ansteuerelemente kontaktieren.
Die elektrischen Anschlüsse können hierbei teilweise
durch die Bereitstellung von Sammelelektroden,
beispielsweise bei linienförmigen Ansteuerelementen,
von Anschlusspads, beispielsweise als Lötpunkte zur
Kontaktierung durch den Anwender, und/oder
entsprechende herkömmliche Zuleitungen realisiert
werden. Im Falle eines elektrischen Energieeintrags,
wie er im Falle von elektrischen Elektroden als
Ansteuerelemente erforderlich ist, können die
elektrisch leitfähigen Zuleitungen als Draht, Litze,
mehradriges Kabel, Paste, Klebstoff, Flexfolie, Gewebe
oder als elektrisch leitfähige Flüssigkeit (z. B.
Elektrolyt) ausgebildet sein.
Eine mögliche variable Orientierung und wechsel
seitige Verkettung anisotrop arbeitender Mikrosysteme
kann es erfordern, mehrere Kontaktstellen für jedes der
Mikrosysteme vorzusehen. Derartige Kontaktstellen
können beispielsweise durch Steckverbindungen gebildet
werden. Die Langzeitzuverlässigkeit der Mikrosysteme
lässt sich durch die zusätzliche Einführung einer
Verklebung verbessern. Der dazu notwendige Klebstoff
kann beispielsweise aus dem Mikrosystem selbst stammen,
indem z. B. die UV-Härtung im Bereich der Anschlusspads
bei einer kombihärtenden Vergussmasse verhindert wird,
wobei die Möglichkeit der thermischen Nachhärtung nach
Herstellung der Steckverbindung besteht. Weiterhin kann
der notwendige Klebstoff von dem eigentlichen Bauteil,
z. B. einem Prepreg, selbst stammen oder separat
zugeführt werden. Die Verklebung erlaubt die -
zumindest punktuelle - metallische Berührung der
Partner der Steckverbindung und hält sie dauerhaft
aufrecht (elektrisch leitfähiges Kleben mit an sich
isolierenden Klebstoffen).
Das vorliegende Mikrosystem lässt sich auch mit
integrierter Elektronik und/oder Chips versehen, die
beispielsweise den Aktorbetrieb eines Arrays von
Mikrosystemen mit definierten Phasenverschiebungen oder
im Sensorbetrieb eine Vorverstärkung der Signale mit
daraus resultierenden Verbesserung des Signal-/Rausch-
Verhältnisses erlauben. Auch ein gleichzeitiger oder
intermittierender Betrieb als Sensor und Aktor ist
möglich.
Für bestimmte Anwendungen lassen sich auch mehrere
der vorliegenden Mikrosysteme übereinander stapeln
(Multilayer), um beispielsweise die Empfindlichkeit im
Sensorbetrieb oder die Blockierkraft im Aktorbetrieb zu
erhöhen. Weiterhin lassen sich durch die Stapelung
Sensorik und Aktorik gleichzeitig am selben Ort
realisieren. Die Orientierung der einzelnen Lagen der
vorliegenden Mikrosysteme kann hierbei isotrop oder
quasi isotrop, orientiert bzw. definiert gegenseitig
verdreht erfolgen.
Selbstverständlich lassen sich die vorangehend
beschriebenen Möglichkeiten und Ausführungsvarianten
beliebig miteinander kombinieren.
Das vorliegende Mikrosystem sowie das zugehörige
Herstellungsverfahren werden im Folgenden anhand eines
Ausführungsbeispiels in Verbindung mit der Figur ohne
Beschränkung des allgemeinen Erfindungsgedankens
nochmals kurz erläutert.
Die Figur zeigt ein Beispiel für ein erfindungs
gemäßes adaptronisches Mikrosystem in schematisierter
Darstellung im Querschnitt. Zu erkennen sind die im
vorliegenden Beispiel als Partikel- oder Faserelemente
ausgebildeten und nebeneinander liegenden aktorisch
und/oder sensorischen Mikroelemente 1, die in einer
Vergussmasse 2 eingebettet sind. In der Vergussmasse
sind weiterhin auf beiden Seiten als Elektroden
ausgebildete Ansteuerelemente 3 zu erkennen, die auf
einem Träger 4 aufgebracht sind. Der Träger 4 ist aus
einem porösen Material gebildet (durch Öffnungen im
Querschnitt angedeutet) und wird von der Vergussmasse 2
vollständig durchdrungen und umgeben. Auf diese Weise
wird die äußere Isolation 2a des Mikrosystems durch die
Vergussmasse 2 selbst gebildet, deren äußerer Bereich
über die Poren des Trägers 4 ohne innere Grenzflächen
mit dem inneren Bereich verbunden ist, in dem die
Fasern 1 eingebettet sind.
Grundsätzlich wird unter Isolation in der
vorliegenden Patenanmeldung nicht nur eine elektrische
Isolation gegen äußere Einflüsse sondern auch
beispielsweise eine Abschirmung der Außenwelt gegen
Einflüsse der Ansteuerelemente oder einer Isolation der
Ansteuerelemente untereinander verstanden. Weiterhin
umfasst dieser Begriff auch eine Isolation gegen andere
äußere Einflüsse wie beispielsweise Feuchte.
Die Herstellung eines derartigen Mikrosystems ist
bei Verwendung schnell härtbarer Matrixsysteme
kontinuierlich bzw. automatisiert möglich. Bei der
Herstellung werden die Elektroden 3, beispielsweise in
Interdigitalanordnung, auf den porösen flächigen Träger
4 aufgebracht. Die Fasern 1 werden mit Vergussmasse
versetzt. Anschließend werden die elektrodierten Träger
4 beidseitig derart aufgebracht, dass der poröse Träger
4 vollständig von Vergussmasse 2 durchdrungen und
umgeben ist. Schließlich erfolgt die Aushärtung der
Vergussmasse 2 unter definiertem Druck und Temperatur
bzw. UV-Licht oder ähnlichem. Anschließend können die
Zuleitungen beispielsweise mittels Leitklebstoff
aufgebracht werden. Als poröser Träger 4 kann
beispielsweise eine anorganische Membran dienen.
Die Gesamtdicke eines erfindungsgemäßen
Mikrosystems kann zur Erzielung größerer Kräfte eher
groß ausfallen, beispielsweise im Bereich von 1 mm.
Das Mikrosystem kann jedoch auch deutlich dünner, z. B.
30 µm, ausfallen, wenn eine Reduktion des störenden
Einflusses des Mikrosystems in dem Bauteil zur Aufnahme
des Mikrosystems, beispielsweise einer Flugzeug-
Tragfläche, erreicht werden soll.
Die geometrische Form des Mikrosystems ist nicht
beschränkt. Sie kann so gewählt werden, dass eine
möglichst gute Ausnutzung der Fläche des eigentlichen
Bauteils möglich ist. Hier kann etwa eine Krümmung des
Bauteils von der Rechteckform abweichende Mikrosysteme
bedingen(z. B. 6-eck). Gleichzeitig besteht auch die
Möglichkeit der variablen Orientierung anisotrop
arbeitender Mikrosysteme (beim 6-eck z. B. 0°, 60°, 120°
etc.).
1
aktorische und/oder sensorische Mikro
elemente, z. B. piezoelektrische Fasern
2
Vergussmasse bzw. Matrixmaterial
2
a Isolation
3
Ansteuerelemente, z. B. Elektroden
4
Träger
Claims (30)
1. Adaptronisches Mikrosystem mit aktorischen
und/oder sensorischen Mikroelementen (1), die in
einem Matrixmaterial (2) eingebettet sind,
Ansteuerelementen (3) zur Ansteuerung der Mikro
elemente (2) und einer äußeren Isolation (2a),
dadurch gekennzeichnet,
dass an Berührungsstellen zwischen der Isolation
(2a) und dem Matrixmaterial (2) keine Grenzfläche
vorhanden ist.
2. Mikrosystem nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Isolation (2a) durch einen äußeren
Bereich des Matrixmaterials (2) gebildet wird.
3. Mikrosystem nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Ansteuerelemente (3) auf einem Träger (4)
aufgebracht sind, der in dem Matrixmaterial (2)
eingebettet und von diesem durchdrungen ist.
4. Mikrosystem nach Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet,
dass der Träger (4) eine Vielzahl von Öffnungen
für ein Durchdringen des Matrixmaterials (2)
aufweist.
5. Mikrosystem nach Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet,
dass der Träger (4) aus einem porösen Material
gebildet ist.
6. Mikrosystem nach einem der Ansprüche 1 bis 5,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Ansteuerelemente (3) Elektroden sind.
7. Mikrosystem nach Anspruch 6,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Elektroden (3) die aktorischen und/oder
sensorischen Mikroelemente (1) direkt kontaktieren
bzw. berühren.
8. Mikrosystem nach Anspruch 6,
dadurch gekennzeichnet,
dass sich zwischen den Elektroden (3) und den
aktorischen und/oder sensorischen Mikroelementen
(1) eine dünne Schicht Matrixmaterial (2)
befindet.
9. Mikrosystem nach einem der Ansprüche 6 bis 8,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Elektroden (3) durch einen elektrisch
leitfähigen Film oder eine elektrische leitfähige
Folie gebildet sind.
10. Mikrosystem nach einem der Ansprüche 6 bis 8,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Elektroden (3) durch ein elektrisch
leitfähiges Netz oder ein elektrisch leitfähiges
Gitter gebildet sind.
11. Mikrosystem nach einem der Ansprüche 6 bis 8,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Elektroden (3) durch ein intrinsisch oder
extrinsisch elektrisch leitfähiges Verbundsystem
gebildet sind.
12. Mikrosystem nach einem der Ansprüche 1 bis 5,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Ansteuerelemente (3) Lichtleiter sind.
13. Mikrosystem einem der Ansprüche 1 bis 12,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Ansteuerelemente (3) in Form einer
Interdigitalanordnung angeordnet sind.
14. Mikrosystem einem der Ansprüche 1 bis 12,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Ansteuerelemente (3) flächig ausgebildet
und porös oder mit Durchgangsöffnungen versehen
sind.
15. Mikrosystem einem der Ansprüche 1 bis 14,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Ansteuerelemente (3) dreidimensional
komplex ausgebildet sind und gegebenenfalls das
Matrixmaterial (2) durchdringen.
16. Mikrosystem nach einem der Ansprüche 1 bis 15,
dadurch gekennzeichnet,
dass ein äußerer Bereich des Matrixmaterials (2)
nicht vollständig ausgehärtet ist.
17. Mikrosystem nach einem der Ansprüche 1 bis 16,
dadurch gekennzeichnet,
dass in einen äußeren Bereich des Matrixmaterials
(2) ein Abreißgewebe eingebettet ist.
18. Mikrosystem nach einem der Ansprüche 1 bis 17,
dadurch gekennzeichnet,
dass auf der Oberfläche eines äußeren Bereiches
des Matrixmaterials (2) eine Schutzfolie oder eine
Klebeschicht aufgebracht ist.
19. Mikrosystem nach einem der Ansprüche 1 bis 18,
dadurch gekennzeichnet,
dass das Matrixmaterial (2) mit Füllstoffen,
Additiven oder Zuschlagstoffen versehen ist.
20. Mikrosystem nach einem der Ansprüche 1 bis 19,
dadurch gekennzeichnet,
dass sich die Zusammensetzung des Matrixmaterials
(2) zum äußeren Bereich hin kontinuierlich ändert.
21. Mikrosystem nach einem der Ansprüche 1 bis 20,
dadurch gekennzeichnet,
dass das Matrixmaterial (2) Partikel aus aktivem
oder verwandtem Material, Polymere oder andere
organische Substanzen enthält, die das
Absorptions- und Transmissionsverhalten des
Matrixmaterials (2) bezüglich der über die
Ansteuerelemente (3) eingebrachten Energie
beeinflussen.
22. Mikrosystem nach einem der Ansprüche 1 bis 21,
dadurch gekennzeichnet,
dass in einen äußeren Bereich des Matrixmaterials
(2) von außen zugängliche elektrische oder
optische Kontaktstellen eingebettet sind.
23. Mikrosystem nach Anspruch 22,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Kontaktstellen in Form eines
Steckverbinders ausgestaltet sind.
24. Mikrosystem nach einem der Ansprüche 1 bis 23,
dadurch gekennzeichnet,
dass die aktorischen und/oder sensorischen
Mikroelemente (1) Piezoelektrika, Magneto
striktiva, Formgedächtnislegierungen oder
Nanotubes sind.
25. Mikrosystem nach einem der Ansprüche 1 bis 24,
dadurch gekennzeichnet,
dass die aktorischen und/oder sensorischen
Mikroelemente (1) lang gestreckte, kurze,
rundliche, ovale, flache oder dreidimensional
komplexe Formen oder eine beliebige Mischung
einiger oder aller dieser Formen aufweisen.
26. Mikrosystem nach einem der Ansprüche 1 bis 25,
dadurch gekennzeichnet,
dass die aktorischen und/oder sensorischen
Mikroelemente (1) isotrop ungeordnet,
hochgeordnet, um eine Vorzugsrichtung verteilt
angeordnet oder dreidimensional komplex verteilt
im Matrixmaterial (2) vorliegen.
27. Mikrosystem nach einem der Ansprüche 1 bis 26,
dadurch gekennzeichnet,
dass der äußere Bereich des Matrixmaterials (2)
eine glatte, zerklüftete oder schwammartig poröse
Oberfläche aufweist.
28. Mikrosystem nach Anspruch 27,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Oberfläche modifiziert oder beschichtet
ist.
29. Anordnung, bei der mehrere Mikrosysteme nach einem
der vorangehenden Ansprüche übereinander gestapelt
sind.
30. Verfahren zur Herstellung eines Mikrosystems nach
einem der vorangehenden Ansprüche, bei dem
aktorische und/oder sensorische Mikroelemente (1) mit einer Vergussmasse (2) versetzt werden,
Ansteuerelemente (3) für die aktorischen und/oder sensorischen Mikroelemente (1) auf einen Träger (4) aufgebracht werden, der eine Vielzahl von Öffnungen für ein Durchdringen der Vergussmasse (2) aufweist,
der Träger (4) mit den Ansteuerelementen (3) derart in die Vergussmasse (2) eingebracht wird, dass die Vergussmasse (2) den Träger (4) durch dringt und vollständig umgibt, und die Verguss masse (2) zumindest teilweise ausgehärtet wird.
aktorische und/oder sensorische Mikroelemente (1) mit einer Vergussmasse (2) versetzt werden,
Ansteuerelemente (3) für die aktorischen und/oder sensorischen Mikroelemente (1) auf einen Träger (4) aufgebracht werden, der eine Vielzahl von Öffnungen für ein Durchdringen der Vergussmasse (2) aufweist,
der Träger (4) mit den Ansteuerelementen (3) derart in die Vergussmasse (2) eingebracht wird, dass die Vergussmasse (2) den Träger (4) durch dringt und vollständig umgibt, und die Verguss masse (2) zumindest teilweise ausgehärtet wird.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10058096A DE10058096A1 (de) | 2000-11-23 | 2000-11-23 | Adaptronisches Mikrosystem und Verfahren zur Herstellung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10058096A DE10058096A1 (de) | 2000-11-23 | 2000-11-23 | Adaptronisches Mikrosystem und Verfahren zur Herstellung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE10058096A1 true DE10058096A1 (de) | 2002-06-06 |
Family
ID=7664342
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE10058096A Ceased DE10058096A1 (de) | 2000-11-23 | 2000-11-23 | Adaptronisches Mikrosystem und Verfahren zur Herstellung |
Country Status (1)
Country | Link |
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