DD298693A5 - Breithandiger entspiegelungsbelag - Google Patents
Breithandiger entspiegelungsbelag Download PDFInfo
- Publication number
- DD298693A5 DD298693A5 DD33516889A DD33516889A DD298693A5 DD 298693 A5 DD298693 A5 DD 298693A5 DD 33516889 A DD33516889 A DD 33516889A DD 33516889 A DD33516889 A DD 33516889A DD 298693 A5 DD298693 A5 DD 298693A5
- Authority
- DD
- German Democratic Republic
- Prior art keywords
- layer
- thickness
- refractive
- breithandiger
- layers
- Prior art date
Links
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
Die Erfindung betrifft einen breitbandigen Entspiegelungsbelag fuer Glassubstrate mit Brechzahlen zwischen 1,42 und 1,67 und fuer einen Wellenzahlbereich zwischen 0,7 no und 1,3 no, bestehend aus einem 6-Schichtsystem mit alternierenden hoch- und niedrigbrechenden Schichten.
Description
Hierzu 2 Seiten Zeichnungen
Die Erfindung findet Anwendung im optischen Gerätebau, insbesondere für Mikroskop-, Feldstecher· und Fotojektivlinsen.
Breitbandige Entspiegelungsbeläge sind prinzipiell bekannt. So wird im DD-WP 189 514 die Möglichkeit einer sehr breitbandigen Entspiegelung im normierten Wellenzahlbereich 0,7 ν s J0 < 1,25v bei einer Restreflexion kleiner 0,3% aufgezeigt. Dabei ist J die Welleiiiahl des Lichtes und do die Schwerpunktwellenzahl des Entspiegelungsbelages. Die Schichtsysteme des Entspiegeiungsbela^wS basieren auf einer hoch- und einer niedrigbrechenden Schichtsubstanz. Nachteilig ist, daß zur Erzielung der optischen Entspisgelungswirkung hohe Schichtenzahlen (bis zu 8 Schichten) notwendig sind und daß zumindest zwei Teilschichten der Mehrschichtbeläge η * d < 0,2 - X0M besitzen. Dabei ist η die Brechzahl, d die geometrische Dicke und X0 die Schwerpunktwellenlänge des Belages (X0 = V*>).
Es ist bekannt, daß die Breitbandigkeit einer Entspiegelung auf ein niedriges Niveau der Restreflexion eine Funktion der Schichtzahl des Belages ist, ausgenommen Entspiegelungsbeläge auf der Basis von Mischschichten. Zunehmende Schichtenzahlen stellen aber auch exponentiell anwachsende Anforderungen an die Reproduzierbarkeit des Herstellungsverfahrens, wenn man nur mit hoher Gutausbeute fertigen will. Hinzu kommt, daß bei der Konstruktion solcher Mehrschichtentspiegelungsbeläge auf der Basis von nur einer hochbrechehden und einer niedrigbrechenden Schichtsubstanz Schichtdicken für ein oder mehrere Einzelschichten des Mehrschichtbelages auftreten, die sehr dünn sind und deren reproduzierbare Herstellung zusätzliche Schwierigkeiten bereitet. Entspiegelungssysteme mit sieben oder mehr Teilschichten sind fertigungstechnisch nur schwer reproduzierbar zu beherrschen.
Ziel der Erfindung
Ziel der Erfindung ist es, einen einfach zu fertigenden, technologisch wenig aufwendigen Breitbandentspiegelungsbelag zu entwickeln.
Wesen der Erfindung
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Reflexion von Gläsern im Brechzahlbereich 1,42 < η s 1,67 und im Wellenzahlbereich 0,7 ν s V0 <, 1,3 ν auf einen Wert ς < 93% zu sanken, wobei Anzahl der Schichten unter des Standes der > ? Technikmit eineroptischen Dicken · d = c * X0M < 0,2 * X0/4 liegen soll. Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe durch folgendes Schichtsystem gelöst:
Glassubstrat
hochbrechende Schicht mit der Dicke (0,2... 0,4) * λο/4
niedrigbrechende Schicht mit dor Dicke (0,2...0,4) * V4
hochbrechende Schicht mit der Dicke(1,0...1,25) * X0M
niedrigbrechende Schicht mit der Dicke (0,1 ...0,15) ♦
hochbrechende Schicht mit der Dicke (0,65...0,8) ♦
niedrigbrechende Schicht mit der Dicke (1,0...1,2) * A0M
Luft
Als Schichtsubstanzen finden MgF2, ZrO2 und TiO2 Verwendung. Analytische Arbeiten an Entspiegelungsbelägen ergaben die theoretische Möglichkeit eines 4-Schicht-Syr tems mit extremer Breitbandigkeit der Entspiegelungswirkung. Nachteilig war hierbei jedoch die Notwendigkeit von 4 Brechzahlen und eine Schichtdicke von Xo/4. Ein solches Schichtsystem ist schwer realisierbar. Überraschenderweise konnte das erfindungsgemäße 6-Schicht-System mit nur zwei Brechzahlen und technisch besser realisierbaren Schichtdicken gefunden werden, das sogar einen etwas größeren spektralen Entspiegelungsbereich aufweist, als das theoretisch ermittelte.
Ausführungsbeispiele Anhand der Diagramme soll die Erfindung näher erläutert werden.
Fig. 1: zeigt die spektrale Roflexionscharakteristik eines 8-Schichten-Entspie^elungsbelags nach dem Stand der Technik,
in diesem Beispiel gemäß DD-WP 189514. Fig. 2 und 3: zeigen das spektrale Verhalten zweier erfindungsgemäßer Entspiegelungsbeläge.
In der folgenden Tabelle ist ein erfindungsgemäßes Entspiegclungssystem für die Substratbrechzahl n5 = 1,4? aufgeführt:
Brechzahlen | = 1,42 | relative Dicke |
n5 | = 2,05 | _ |
ΠΗ3 | = 1,38 | 0,25 |
Πΐ.3 | = 2,05 | 0,40 |
f>H2 | » 1,38 | 1,05 |
<lL2 | = 2,05 | 0,106 |
ΠΗ1 | = 1,38 | 0,79 |
nu | = 1,0 | 1,063 |
n0 | - |
mit den Brechzahlen nH für das hochbrer.hende und nL für das niedrigbrechende Schichtmaterial. Fig. 2 zeigt das zu diesem Schichtsystem gehörige Spektralverhaiten.
Die nächste Tabelle enthält ein erfindungsgemäßes Schichtsystem für die Substratbrechzahl n6 = 1,67:
Brechzahlen | = 1.67 | relative Dicke |
n6 | = 2,05 | - |
r>H3 | = 1,38 | 0,334 |
nL3 | = 2,05 | 0,21 |
ΠΗ2 | = 1,38 | 0,24 |
nu | = 2,05 | 0,12 |
ΠΗ1 | = 1,38 | 0,65 |
η Li | = 1,0 | 1,07 |
no | — |
Fig. 3 zeigt das zugehörige spektrale Verhalten des Entspiegelungsbelags.
Claims (1)
- Breitbandiger Entspiegelungsbelag für Gläser mit einer Brechzahl η zwischen 1,42 und 1,67 und im Wellenzahlbereich \?zwischen 0,7 v*0 und 1,3 \?0, dadurch gekennzeichnet, dafs ein Schichtsystem mit folgenden Parametern verwendet wird:Glassubstrathochbrechende Schicht mit der Dicke (0,2... 0,4) * X0M niedrigbrechende Schicht mit der Dicke (0,2...0,4) * A0M hochbrechende Schicht mit der Dicke (1,0... 1,25) ♦ A0M niedrigbrechende Schicht mit der Dicke (0,1 ...0,15) ♦ X0M hochbrechende Schicht mit der Dicke (0,65...0,8) ♦ X0M niedrigbrechende Schicht mit der Dicke (1,0... 1,2) «λο/4 Luft.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD33516889A DD298693A5 (de) | 1989-12-04 | 1989-12-04 | Breithandiger entspiegelungsbelag |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD33516889A DD298693A5 (de) | 1989-12-04 | 1989-12-04 | Breithandiger entspiegelungsbelag |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DD298693A5 true DD298693A5 (de) | 1992-03-05 |
Family
ID=5614318
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DD33516889A DD298693A5 (de) | 1989-12-04 | 1989-12-04 | Breithandiger entspiegelungsbelag |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DD (1) | DD298693A5 (de) |
-
1989
- 1989-12-04 DD DD33516889A patent/DD298693A5/de not_active IP Right Cessation
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE102015114877B4 (de) | Kratzfeste Antireflexbeschichtung und mobiles elektronisches Gerät | |
DE102008041869A1 (de) | Brillenlinse mit farbneutraler Antireflexbeschichtung und Verfahren zu deren Herstellung | |
DE102010048088A1 (de) | Optische Linse mit kratzfester Entspiegelungsschicht | |
DE102012103076B4 (de) | Linsensystem für ein Kameramodul mit Infrarotfilter und Kameramodul mit einem Linsensystem sowie Verfahren zur Herstellung eines Linsensystems | |
DE3879593T2 (de) | Optische bildumkehrsysteme. | |
EP3657222A1 (de) | Schichtsystem und optisches element mit einem schichtsystem | |
EP2381280B1 (de) | IR-Neutralfilter mit einem für Infrarotstrahlung transparenten Substrat | |
DE3818341C2 (de) | Teildurchlässiger Spiegel aus Kunststoff | |
DE112016001087T5 (de) | Antireflexionsfilm und Verfahren zu seiner Herstellung | |
EP3850406B1 (de) | Optisches element mit einem stapel von schichtpaketen und verfahren zur herstellung des optischen elements | |
EP1307767B1 (de) | Reflexionsmindernde beschichtung | |
DE102012205869A1 (de) | Verfahren zur Herstellung eines reflexionsmindernden Interferenzschichtsystems sowie reflexionsminderndes Interferenzschichtsystem | |
DE2240302C3 (de) | Optischer mehrschichtiger Antireflexbelag | |
DE1913901B2 (de) | Kaltlichtspiegel mit teilweise aus Silizium bestehenden Schichten, der einen Reflexionskoeffizienten von über 90 % aufweist | |
DE102018104186B4 (de) | Reflexionsmindernde Beschichtung und Verfahren zur Herstellung einer reflexionsmindernden Beschichtung | |
DE4100831A1 (de) | Breitband-entspiegelungsschichtbelag | |
DE102019213045A1 (de) | Linsensystem für ein Kameraobjektiv, Kameraobjektiv und Verfahren zur Herstellung eines Linsensystems | |
DE112016000959T5 (de) | Antireflexfilm und Verfahren zu dessen Herstellung und optisches Bauelement | |
DE4100820C2 (de) | Vielschicht-Entspieglungsbelag | |
DD298693A5 (de) | Breithandiger entspiegelungsbelag | |
CH680214A5 (de) | ||
DE112020006040T5 (de) | Optischer filter und verfahren zur herstellung desselben | |
DE10042913A1 (de) | Antireflexfilm und damit beschichtetes optisches Element | |
AT300401B (de) | Entspiegelungsbelag | |
DE102012018483B4 (de) | Nichtpolarisierender Strahlteiler |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
ENJ | Ceased due to non-payment of renewal fee |