DD291677B5

DD291677B5 - METHOD AND DEVICE FOR SEED TREATMENT

Info

Publication number: DD291677B5
Application number: DD33741790A
Authority: DD
Inventors: Siegfried Dipl-Phys Dr Panzer; Klaus Dipl-Ing Gaber; Petra Dr Rer Nat Mueller; Marga Dr Rer Nat Jahn; Joachim Dipl-Landw Pflaumbaum; Friederun Dipl-Agr Scholze; Manfred Dipl-Ing Lange
Original assignee: Ardenne Anlagentech Gmbh; Quedlinburger Formtech Gmbh; Fraunhofer Ges Der Angewandten
Priority date: 1990-01-31
Filing date: 1990-01-31
Publication date: 1993-11-11
Also published as: DD291677A5

Description

Anwendungsgebiet der ErfindungField of application of the invention

Das Verfahren und die Einrichtung zur Saatgutbehandlung kommt an landwirtschaftlichem, gärtnerischem und forstlichem Saatgut, vorzugsweise an Getreide, zur Anwendung.The method and device for seed treatment is used on agricultural, horticultural and forestry seeds, preferably on cereals.

Charakteristik der bekannten technischen LösungenCharacteristic of the known technical solutions

Es ist bei bestimmten Kulturarten gesetzlich vorgeschrieben, das Saatgut gegen samenbürtige Schaderreger zu beizen. Dazu ist es bekannt, hochtoxische breitbandig wirkende Chemikalien auf der Basis von Quecksilberverbindungen zu verwenden. Ihr Wirkbereich ist die Oberfläche und die Samenschale des Samenkorns. Es sind ferner quecksilberfreie Beizmittel mit schmal- oder breitbandiger Wirkung bekannt. Sie gestatten es auch, tiefer im Samenkorn siedelnde Schaderreger zu bekämpfen. Von der beschriebenen Beizung mit Chemikalien wird außerdem erwartet, daß sie, anhaftend am Samenkorn, dieses auch vor bodenbürtigen Schaderregern schützen. Die quecksilberhaltigen Beizen sind mit dem Nachteil der Toxizität, insbesondere für Menschen und Warmblütler behaftet. Die bekannten quecksilberfreien Beizen sind wesentlich teuerer und haben außerdem den Nachteil, daß sie bei wiederholter Anwendung zu Resistenzerscheinungen führen können. Diese bekannten Verfahren und Einrichtungen zur Beizung von Saatgut haben den Nachteil, daß die fungizide Potenz der Beizmittel häufig nicht voll ausgeschöpft wird und die potentielle Gefahr phytotoxischer Schädigung des Saatgutes durch Überdosierung besteht. Letzteres ergibt sich häufig durch ungleichmäßige Anlagerung des Beizmittels an den Samenkörnern.It is a legal requirement of certain crops to stigmatize seeds against seed-borne pests. For this purpose, it is known to use highly toxic broadband acting chemicals based on mercury compounds. Its effective area is the surface and the seed coat of the seed. There are also mercury-free pickling with narrow or broadband effect known. They also allow it to combat pests that live deeper in the seed. The described treatment with chemicals is also expected to adhere to the seed, protecting it from soilborne pests. The mercury-containing stains are associated with the disadvantage of toxicity, especially for humans and warm-blooded animals. The known mercury-free pickling are much more expensive and also have the disadvantage that they can lead to resistance symptoms with repeated use. These known methods and devices for dressing seeds have the disadvantage that the fungicidal potency of the mordant is often not fully utilized and the potential danger of phytotoxic damage to the seed by overdose exists. The latter often results from uneven addition of the mordant to the seeds.

Es ist auch bekannt, das Beizmittel auf das Saatgut im Vakuum aufzubringen (DD-PS 18675,23421). Das Vakuum diente dabei gleichzeitig zur Verbesserung der Flugbrandbekämpfung bei Getreide durch zusätzliche Einwirkung feuchter Wärme. Einrichtungen dieser Art erlangten jedoch nur zeitweise eine gewisse Bedeutung, da der Prozeß sehr zeitaufwendig ist und schon dadurch den Erfordernissen einer leistungsfähigen Technologie in zentralisierten Saatgutaufbereitungsbetrieben nicht entspricht.It is also known to apply the mordant to the seed in a vacuum (DD-PS 18675,23421). The vacuum served at the same time to improve the fight against flue in grain by additional exposure to moist heat. However, facilities of this type have only occasionally gained some importance, since the process is very time consuming and does not therefore meet the requirements of high performance technology in centralized seed processing plants.

Es ist auch bekannt, Saatgut zur Abtötung mikrobieller samenbürtiger Schaderreger, die in der Oberfläche und in oberflächennahen Schichten des Samenkorns angesiedelt sind, mit Elektronenstrahlen bestimmter Energie im Vakuum zu behandeln, ohne daß wesentliche phytotoxische Effekte in Kauf genommen werden müssen (DD-PS 242337, US-PS 4.633.611). Von Vorteil ist bei diesem Verfahren, daß ähnlich ^- .. ^uecksilberbeizen eine breitbandige Wirkung besteht und darüber hinaus vom Beizprozeß und vom gebeizten Saatgut kein j Gefährdungen auf Mensch und Tier ausgehen und die Umwelt nicht toxisch belastet wird. Ein Nachteil besteht darin, daß in größerem Abstand von der Samenoberfläche siedelnde Schaderreger nicht erfaßt werden und das Saatgut bodenbürtigen Schaderregern ungeschützt ausgesetzt ist.It is also known to treat seed to kill microbial seed-borne pests located in the surface and in near-surface layers of the seed, with electron beams of certain energy in vacuum, without substantial phytotoxic effects must be taken into account (DD-PS 242337, U.S. Patent 4,633,611). An advantage of this method that similar ^ - .. ^ uecksilberbeizen a broadband effect and, moreover, from the pickling process and the pickled seed j no jeopardizing human and animal emanations and the environment is not toxic. A disadvantage is that at a greater distance from the seed surface settling pests are not detected and the seed is exposed to soil-borne pests without protection.

Es ist auch die Behandlung von Schüttgut in Gammabestrahlungsanlagen bekannt. In diesen Anlagen wird das zu bestrahlende Gut während des freien Falls bestrahlt. Damit erfolgt eine Vereinzelung, um eine allseitige Beaufschlagung mit Strahlen zu erreichen (DD-PS 205818).It is also known the treatment of bulk material in gamma irradiation systems. In these plants, the material to be irradiated is irradiated during free fall. This is a separation to achieve an all-sided exposure to radiation (DD-PS 205818).

In zunehmendem Maße werden gegenwärtig biologische Bekämpfungsverfahren mittels mikrobieller Antagonisten beschrieben, die gegen samenbürtige Schaderreger eingesetzt werden (AT-PS 360274, DE-OS 3311071, EP-PS 255774, US-PS 4.798.723 u.a.).Increasingly, biological control methods are described by means of microbial antagonists used against seed-borne pathogens (AT-PS 360274, DE-OS 3311071, EP-PS 255774, US-PS 4,798,723 et al.).

Dabei kommen bakterielle Antagonisten, wie z. B. Bacillus spp., Streptomyces spp., Pseudomonas spp. und pilzliche Antagonisten, wie Chaetomium spp., Gliocladium spp., Penicillium spp., Trichoderma spp. u. a. zum Einsatz. Die unter Laborbedingungen bei optimalen Temperaturen über 2O⁰C aufgefundenen guten fungiziden Wirkungen bestätigen sich bfiim Üburgang zum Freiland häufig nicht. Es traten erhebliche Wirkungsunsicherheiten auf. Zur Verbesserung der Wirksamkeit wurden deshalb Gemische von mikrowellen Antagonisten und Fungiziden zur Anwendung beschrieben (DE-OS 2352 403, DE-OS 2740052, DD-PS 267420).Here are bacterial antagonists, such. Bacillus spp., Streptomyces spp., Pseudomonas spp. and fungal antagonists such as Chaetomium spp., Gliocladium spp., Penicillium spp., Trichoderma spp. among other things for use. The found under laboratory conditions at optimum temperatures above 2O ⁰ C good fungicidal effects often not confirmed bfiim Üburgang to range. There were significant uncertainties on the condition. To improve the efficacy therefore mixtures of microwave antagonists and fungicides have been described for use (DE-OS 2352 403, DE-OS 2740052, DD-PS 267420).

Als Mangel beim gegenwärtigen Stand der Schaderregerbekämpfung mittels Antagonisten wird angesehen, daß deren Vitalität und damit Wirksamkeit durch vorhandene samenbürtige Erreger, zugemischte breitbandig wirkende Fungizide bzw. ungünstige Siedlungsbedingungen auf dem Samenkorn eingeschränkt wird.As a deficiency in the current state of pest control by antagonists is considered that their vitality and thus effectiveness is limited by existing seed-borne pathogens, mixed broad-band acting fungicides or unfavorable settlement conditions on the seed.

Es sind ferner neuere Verfahren der Saatgutbehandlung mit symbiontischen Mikroorganismen und Mykorrhizapilzen bekannt. Ziel dieser Maßnahme ist es, mit dem Samenkorn Mikroorganismen in den Boden zu übertragen, die in Symbiose mit der Nuzpflanze oder in deren unmittelbarer Bodenumgebung lebend, mit ihren Stoffwechselprodukten der Nutzpflanze wichtige Makronährstoffe zur Verfügung stellen. Auch in diesem Fall können sich vor allem samenbürtige Schaderreger bzw. breitbandig wirkende Fungizide nachteilig auf die Entwicklung und damit Wirksamkeit dieser Mikroorganismen auswirken.Further, recent methods of seed treatment with symbiotic microorganisms and mycorrhizal fungi are known. The aim of this measure is to transfer with the seed microorganisms in the soil, which in symbiosis with the Nuzpflanze living or in their immediate soil environment, make available with their metabolic products of the crop important macronutrients. Even in this case, especially seed-borne pests or broad-spectrum fungicides may have a detrimental effect on the development and thus effectiveness of these microorganisms.

Ziel der ErfindungObject of the invention

Das Ziel der Erfindung besteht darin, die Mängel der bekannten Verfahren zu vermeiden und vorwiegend nichttoxische Mittel mit hoher Wirksamkeit einzusetzen, wobei eine großtechnische Anwendung gegeben sein muß,The object of the invention is to avoid the deficiencies of the known processes and to use primarily non-toxic agents with high efficiency, whereby a large-scale application must be given,

Darlegung des Wesens der ErfindungExplanation of the essence of the invention

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und die zugehörige Einrichtung zu schaffen, die eine erhöhte Effizienz bei der Bekämpfung von samenbürtigen und bodenbürtigen Schaderregern beim gleichzeitigen Einsatz von das Pflanzenwachstum fördernden Mikroorganismen gewährleistet. Es muß ein hoher Massendurchsatz möglich sein. Erfindungsgemäß wird die Aufgabe durch Einwirkung von Elektronenstrahlen auf das durch eine evakuierte Bestrahlungskammer geförderte Saatgut, auch Elektronenbeizung genannt, und durch Applikation chemischer Substanzen und mikrobieller Systeme dadurch gelöst, daß auf das Saatgut in der Bestrahlungskammür allseitig quasimonoenergetische Elektronenstrahlen, Elektronen mit gegenüber diesen wesentlich geringerer Energie und Plasmateilchen einwirken. Das Saatgut wird über Schleusen in die Bestrahlungskammer eingebracht. Zum Erreichen der allseitigen Einwirkung der Elektronen wird das Saatgut beim Eintritt in die Bestrahlungskammer so vereinzelt, daß es über den gesamten Querschnitt des Bestrahlungsbereiches gleichmäßig verteilt ist und diesen im freien Fall passiert. Die Erzeugung der Plasmateilchen und der entsprechenden Einwirkbedingungen erfolgt durch geeigneten Einschuß von Elektronenstrahlen in die auf einen konstant gehaltenen Arbeitsdruck von 100Pa bis zu einigen 100Pa evakuierte Bestrahlungskammer. Mit dem quasimonoenergetischen Elektronenstrahl wird die Oberfläche und eine außerhalb der Keimanlage liegende Randschicht des Samenkorns behandelt. Mit den Elektronen geringerer Energie und den Plasmateilchen wird gleichzeitig auch die Samenoberfläche aktiviert. In unmittelbarer zeitlicher Folge an diesen ersten Verfahrensschritt wird auf das Saatgut eine Applikation aufgebracht, die Fungizide, Antagonisten, deren Stoffwechselprodukte und Sporen, das Pflanzenwachstum fördernde Mikroorganismen und Nährstoffe, zumindest jedoch eins dieser Komponenten enthält. Das Fungizid ist vorzugsweise ein biotisches oder abiotisches Fungizid mit spezifischer Wirkung gegen den oder die unterhalb der mit dem Elektronenstrahl behandelten Randschicht des Samenkorns siedelnden samenbürtigen Krankheitserreger. Die Antagonisten und die das Pflanzenwachstum fördernden Mikroorganismen sind auf Verträglichkeit mit dem eingesetzten Fungizid abgestimmt, die Antagonisten außerdem bezüglich ihrer Wirksamkeit gegenüber bodenbürtigen Schaderregern ausgewählt.The invention has for its object to provide a method and the associated device, which ensures increased efficiency in the control of seed-borne and soil-borne pests with the simultaneous use of plant growth-promoting microorganisms. There must be a high mass throughput possible. According to the invention, the object is achieved by the action of electron beams on the seed conveyed by an evacuated irradiation chamber, and also by the application of chemical substances and microbial systems, that on the seed in the irradiation chamber on all sides quasimonoenergetic electron beams, electrons with respect to these much lower energy and plasma particles. The seed is introduced into the irradiation chamber via sluices. To achieve the all-round action of the electrons, the seeds are separated on entering the irradiation chamber so that it is evenly distributed over the entire cross section of the irradiation area and this happens in free fall. The generation of the plasma particles and the corresponding exposure conditions is carried out by suitable injection of electron beams in the maintained at a constant working pressure of 100Pa to several 100Pa irradiation chamber. The quasimonoenergetic electron beam is used to treat the surface and an outer layer of the seed grain outside the germinal system. With the electrons of lower energy and the plasma particles, the seed surface is activated at the same time. Immediately following this first process step, an application is applied to the seed which contains fungicides, antagonists, their metabolites and spores, plant growth-promoting microorganisms and nutrients, but at least one of these components. The fungicide is preferably a biotic or abiotic fungicide having specific activity against the seed borne pathogen (s) underlying the electron beam-treated surface layer of the seed. The antagonists and the plant growth-promoting microorganisms are tailored to compatibility with the fungicide used, the antagonists also selected for their effectiveness against soilborne pathogens.

Das Aufbringen der Applikation erfolgt zweckmäßig bei einem Vakuumdruck, der etwa dem Sättigungsdampfdruck der Applikation entspricht. Die Übertragung der Applikation erfolgt zweckmäßig durch Sprühen oder Tauchen. Es ist nicht ausgeschlossen, daß das Aufbringen der Applikation auch unter Atmosphärendruck erfolgt.The application of the application is expediently carried out at a vacuum pressure which corresponds approximately to the saturation vapor pressure of the application. The transfer of the application is expedient by spraying or dipping. It is not excluded that the application of the application also takes place under atmospheric pressure.

Die Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens, bestehend aus einer Bestrahlungskammer (Rezipient) mit daran angeordneten Elektronenkanonen mit Einrichtungen zum Ablenken des Elektronenstrahles und druckentkoppelnden Schleusen zum Ein- und Ausbringen des Saatgutes, ist erfindungsgemäß derart ausgeführt, daß mindestens zwei Elektronenkanonen mit Einrichtungen zum zweidimensionalen Auffächern des Elektronenstrahles in gleicher Höhe angeordnet sind. In der Bestrahlungskammer sind ander Eintrittsstelle des Saatgutes V^nr*"'li ingselemente angebracht. Daran schließt ein Fallschacht zur definierten Führung der den Bestrahlungsbereich im freien Fall passierenden, über den gesamten Querschnitt gleichmäßig verteilten vereinzelten Samenkörner an. An die Bestrahlungskammer ist über eine Zwischenschleuse als Verbindung ein auf einem anderen Druckniveau befindlicher, vom Saatgutstrom durchlaufener Vakuumbehälter angeordnet. Dieser ist mit Applikationssinrichtungen ausgestattet, die ihrerseits über Zuführungs-, Dosier- und Fördereinrichtungen mit einem die Applikation enthaltenden Vorratsbehälter verbunden sind.The device for carrying out the method, consisting of an irradiation chamber (recipient) arranged thereon with electron guns with means for deflecting the electron beam and pressure-decoupling locks for loading and unloading the seed, according to the invention designed such that at least two electron guns with means for two-dimensional fanning the Electron beam are arranged at the same height. In the irradiation chamber on the other point of entry of the seeds V ^nr * "'li ingselemente mounted. This is followed by a chute for defined guidance of the irradiation region in free fall, passing, distributed uniformly over the entire cross section singulated seeds. At the irradiation chamber is via an intermediate lock as The latter is equipped with application devices, which in turn are connected via supply, metering and conveying devices to a reservoir containing the application.

Ausführungsbeispielembodiment

In den zugehörigen Zeichnungen zeigenIn the accompanying drawings show

Fig. 1: ein Samenkorn geschnitten mit Schaderregern und einwirkenden Ladungsträgerteilchen Fig. 2: ein Samenkorn nach erfolgter Behandlung,1: a seed cut with pests and acting charge carrier particles FIG. 2: a seed after treatment,

Fig. 3: eine Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens im Schnitt.3 shows a device for carrying out the method in section.

Wie in Fig. 1 schematisch dargestellt, ist das Samenkorn 1 an seiner Oberfläche und in der Samenschale 2 von verschiedenen Schaderregern 3 besiedelt. Weitere Schaderreger 4 sind außer in diesem Bereich auch im Inneren des Samenkorns 1 angesiedelt. Durch die allseitige Bestrahlung des Samenkorns 1 mit quasimonoenergetischen Elektronenstrahlen b werden pilzliche Schaderreger an der Oberdäche des Samenkorns 1 und in der angrenzenden Randschicht abgetötet. Die Dicke dieser behandelten Randschicht ist durch die Elektronenenergie bestimmt und wird abhängig von der Morphologie cies Samenkorns 1 so gewählt, daß die Keimanlage 6 nicht mit erfaßt wird. Durch die allseitige Einwirkung von Streuelektronen 7 geringerer Energie als der der Elektronenstrahlen 5 und von Plasmateilchen 8 wird, wie in Fig. 2 gezeigt, eine aktivierte Oberfläche 9 erzeugt, die sich unmittelbar über der Randschicht 10 befindet. Mit zunehmendem Arbeitsdruck wird der Wirkungsgrad gegen pilzliche Schaderreger reduziert und die aktivierende Wirkung erhöht. Aufgabenabhängig werden Arbeitsdrücke im Bereich von etwa 1COPa bis zu einigen 100Pa gewählt.As shown schematically in FIG. 1, the seed 1 is colonized on its surface and in the seed coat 2 by various pests 3. Other pests 4 are located outside of this area in the interior of the seed 1. By the all-round irradiation of the seed 1 with quasi-monoenergetic electron beams b fungal pathogens are killed on the upper surface of the seed 1 and in the adjacent boundary layer. The thickness of this treated surface layer is determined by the electron energy and is chosen depending on the morphology cies seed 1 so that the germinal unit 6 is not detected. As a result of the all-round action of scattered electrons 7 of lower energy than that of the electron beams 5 and of plasma particles 8, an activated surface 9 is produced, as shown in FIG. 2, which is located immediately above the boundary layer 10. With increasing working pressure, the efficiency is reduced against fungal pathogens and increases the activating effect. Depending on the task, working pressures ranging from about 1 COPa to a few 100 Pa are selected.

Im unmittelbaren zeitlichen Anschluß an die Randschichtbehandlung und Oberflächenaktivierung wird auf die aktivierte Oberfläche 9 eine Applikationsschicht 11 aufgebracht. Die Applikation enthält ein spezifisch gegen den Schaderreger 4 wirkendes Fungizid, das auch im Innenbereich des Samenkornes 1 wirksam wird und enthält auch gegen bodenbürtige Schaderreger wirkende Antagonisten sowie das Pflanzenwachstum fördernde Mikroorganis ien und Nährstoffe. In der 1 abelle wird der Schutz dos keimenden Samenkornes und der Keimpflanze vor Schaderregerbefall nach Elektronenstrahlbehandlung kombiniert mit dem Einsatz mikrobieller Antagonisten zusammengefaßt dargestellt. Die Ermittlung der Wirkung gegen die angeführten Schaderreger erfolgte nach 4wöchiger Versuchsdauer bei 10°C Versuchstemperatur. Es konnte ein deutlicher Schutz der erfindungsgemäß behandelten Samenkörner und der Keimpflanzen erreicht werden. In der Fig. 3 ist eine Einrichtung zum Elektronenbeizen mit anschließendem Aufbringen einer Applikation im Vakuum dargestellt. Eine Bestrahlungskammer 12 (Rezipient) ist über den Anschluß 13 auf einen Arbeitsdruck von etwa 100Pa bis einige 100Pa evakuierbar. An seiner Oberseite ist die druckabstufende Saatgutzufuhreinrichtung 14, bestehend aus den Zellradschleusen 15 sowie einem Anschluß 16, der mit einer Evakuierungseinrichtung verbunden ist, angeschlossen. Die Zellradschleusen 15 bilden gleichzeitig die Dosiereinrichtung für das Saatgut 17, das über die Verteileinrichtung 18 dem Fallschacht 19 zugeführt wird. Im freien Fall gelangt das Saatgut 17 in und weiter durch den Bestrahlungsbereich 20. Der Bestrahlungsbereich 20 wird durch die beiden gegenüber angeordneten Elektronenkanonen 21 erzeugt, indem deren Elektronenstrahlen 22 mittels Scanner 23 über kanoneninterne Strahlablenkeinheiten bekannterweise aufgefächert werden. Durch programmierte Rasterung der Elektronenstrahlen 22 erfolgt im Bestrahlungsbereich 20 eine allseitige, annähernd gleichmäßige Bestrahlung des Saatgutes 17, welches als homogener Strom den Bestrahlungsbereich 20 passiert.Immediately after the surface treatment and surface activation, an application layer 11 is applied to the activated surface 9. The application contains a specifically acting against the pest 4 fungicide, which is also effective in the interior of the seed 1 and also contains against soil-borne pathogens acting antagonists and plant growth promoting microorganisms and nutrients. In Fig. 1 the protection of the germinating seed and the germ plant against pest infestation after electron beam treatment combined with the use of microbial antagonists is summarized. The determination of the action against the listed pests was carried out after 4 weeks of trial at 10 ° C experimental temperature. It was possible to achieve a clear protection of the seed grains treated according to the invention and of the seedlings. FIG. 3 shows a device for electron pickling with subsequent application of an application in a vacuum. An irradiation chamber 12 (recipient) is evacuated via the connection 13 to a working pressure of about 100 Pa to several 100 Pa. On its upper side, the pressure-grading Saatgutzufuhreinrichtung 14, consisting of the rotary valves 15 and a terminal 16 which is connected to an evacuation device, connected. The rotary valves 15 simultaneously form the metering device for the seed 17, which is supplied to the chute 19 via the distributor 18. In the free fall, the seed 17 enters and continues through the irradiation area 20. The irradiation area 20 is generated by the two opposing electron guns 21 by their electron beams 22 are fanned out by means of scanner 23 via cannon-internal beam deflecting units known. By programmed screening of the electron beams 22 takes place in the irradiation area 20, an all-round, approximately uniform irradiation of the seed 17, which passes through the irradiation area 20 as a homogeneous stream.

Wie aus den Fig. 1 und 2 ersichtlich, bewirken nun die aus den Elektronenstrahlen 72 mit größerem Energieverlust herausgestreuten Streuelektronen 7 und die vom Elektronenstrahl 22 gebildeten Plasmateilchen 8 die Aktivierung der Oberfläche des Saatgutes 17. Mit den im Elektronenstrahl 22 verbleibenden, nur geringfügig gestreuten, quasimonoenergetischen Elektronen 5 erfolgt die Abtötung der Schaderreger in der Randschicht 10 der Samenkörner 1. Das Ende der Bestrahlungskammer 12 ist über eine Zwischenschleuse 24 mit einem Vakuumbehälter 25 (Rezipienten) verbunden. Dieser ist mit einer Applikationseinrichtung 26 ausgestattet. Über Anschlüsse 27 und Dosier- und Fördereinrichtungen wird von einem Vorratsbehälter die Applikation zugeführt (nicht gezeichnet). Mit der Applikationseinrichtung 26 wird die Applikation zersprüht und über den Sprühnebel auf das Saatgut 17 aufgetragen. Am Ausgang des Vakuumbehälters 25 ist eine druckabstufende Saatgutabführeinrichtung 28, ausgeführt wie die Saatgutzuführeinrichtung 14, bestehend aus Zellradschleusen 15 sowie einem Anschluß 16, für eine Evakuierungseinrichtung angeschlossen (nicht gezeichnet). Der Saatguteintritt in die Saatgutzuführeinrichtung 14 und der Saatgutaustritt aus der Saatgutabführeinrichtung 28 erfolgen bei Atmosphärendruck.As can be seen from FIGS. 1 and 2, the scattered electrons 7 scattered out of the electron beams 72 with greater energy loss and the plasma particles 8 formed by the electron beam 22 now activate the surface of the seed 17. With the electron beam 22 remaining only slightly scattered, quasimonoenergetic electrons 5, the destruction of the pests in the boundary layer 10 of the seeds 1. The end of the irradiation chamber 12 is connected via an intermediate lock 24 with a vacuum vessel 25 (recipient). This is equipped with an application device 26. Via connections 27 and metering and conveying devices, the application is supplied from a storage container (not shown). With the application device 26, the application is sprayed and applied to the seed 17 via the spray mist. At the outlet of the vacuum tank 25 is a druckabstufende Saatgutabführeinrichtung 28, designed as the seed feeder 14, consisting of rotary valves 15 and a terminal 16, connected to an evacuation device (not shown). Seed entry into the seed feeder 14 and seed exit from the seed drawer 28 occur at atmospheric pressure.

Effekte der Besiedelung mit antagonistischen Mikroorganismen an Weizenkörnern nach Behandlung mit niederenergetischen ElektronenEffects of colonization with antagonistic microorganisms on wheat grains after treatment with low-energy electrons

Schaderregerpests

Weizenkörner nach Behandlung mit niederenergetischen Elektronen ohne Be- 12 3 4 5 6 7Wheat grains after treatment with low-energy electrons without loading 12 3 4 5 6 7

siedelungsiedelung

Fusarium avenaceum TFusarium avenaceum T

Fusarium culmorum TFusarium culmorum T

Fusarium graminearum TFusarium graminearum T

Microdochiumnivale TMicrodochium Nivale T

Septorianodorum üSeptorianodorum ü

Drechslerateres ü Gaeumannomycesgraminis üDrechslerateres ü Gaeumannomycesgraminis ü

nunu

-,u nu-, u nu

nu nunu nu

-,υ nu-, υ nu

Legende nu =Legend nu =

nicht untersuchtnot examined

starke Hemmung mitstrong inhibition with

deutlicher Hemm2oneclear inhibition

HemmungmitdeutlicherHemmzoneHemmungmitdeutlicherHemmzone

WachstumsstopdusSchaderregersWachstumsstopdusSchaderregers

ohne Hemmzonewithout inhibition zone

keine Effekteno effects

Samenkorn bzw. Keimpflanze abgestorbenSeed or germ plant dead

Samenkorn bzw. KeimpflanzeSeed or germ plant

überwachsen und geschädigtovergrown and damaged

1 ...5bakterielle Antagonisten (IMET11 425) (IMET11427) (IMET11 424) (IMET11426) (IMET11 428) 6... lOpilzliche Antagonisten (IMET 43921) (I M ET 43 923) (IMET43922) (IMET 43920) (IMET43924)1 ... 5 Bacterial Antagonists (IMET11 425) (IMET11427) (IMET11 424) (IMET11426) (IMET11 428) 6 ... fungal antagonists (IMET 43921) (IM 43323) (IMET 43920) (IMET 43920) (IMET43924)

Claims

1. A method for seed treatment by the seed in an evacuated irradiation chamber in the free fall of the influence of electron beams is applied and chemical substances and microbial systems are applied, characterized in that the seed on all sides quasimonoenergetischen electron beams, electrons is exposed to much lower energy and plasma particles the surface and in a running outside the germinal system edge layer are brought to bear and that in immediate succession to the seed application, fungicides, antagonists, their metabolites and spores, plant growth promoting microorganisms and nutrients containing applied.

2. The method according to claim 1, characterized in that the ratio of the activity against pests in the region of the surface layer and the activation of the seed surface of the seed is adjusted by the working pressure in the irradiation chamber,

3. The method according to claim 1, characterized in that the working pressure in the irradiation chamber is set to 100Pa to several 100Pa.

4. Device for carrying out the method according to claim 1 to 3, consisting of an irradiation chamber, disposed thereon electron guns and locks for pressure-decoupled loading and unloading of the seed, characterized in that at the point of entry of the seed (17) into the irradiation chamber (12) a distribution device J8) for the separation of the seed (17) and a chute (19) until reaching the irradiation area (20) is arranged such that at least two electron guns (21) in the irradiation area (20) are at the same height with deflecting means for fanning out the electron beam (22) are arranged so that a vacuum container (25) is arranged via an intermediate lock (24) on the irradiation chamber (12), in which application devices (26) for the seed (17) are arranged and in that the vacuum container (25 ) A storage vessel for the application is connected.