DD281664A5 - DIELECTRIC COATING SYSTEM FOR OPTIMIZING THE TRANSMISSION AND LOCKING AREA OPTICAL MULTIPLEXER / DEMULTIPLEXER - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung betrifft ein Dielektrisches Schichtsystem zur Optimierung des Durchlasz- und Sperrbereiches optischer Multiplexer/Demultiplexer. Die erfindungsgemaesze Loesung bezieht sich auf die Herstellung von optischen Multiplexern/Demultiplexern auf der Basis dielektrischer Filter. Das Aufdampfen der Filter auf standardisierte Probenkoerper ist bekannt, hat aber die Nachteile, dasz kein optimales Verhaeltnis zwischen Signal und Daempfung eingestellt werden kann, da sowohl Schichtsystem als auch optische Quellen Toleranzen besitzen. Es wurde eine Beschichtungsform entwickelt, die es ermoeglicht, die Fertigungstoleranzen auszugleichen und somit optimale UEbertragungsverhaeltnisse garantiert. Durch das neu gestaltete Schichtsystem ist es moeglich, das spektrale Verhalten ueber die beschichtete Flaeche ortsabhaengig zu machen. Dies gilt sowohl fuer optische Hoch-, Tief- und Bandpaesse.{Multiplexer/Demultiplexer; Interferenzfilter; Reduktionsfilter; Wellenlaenge; optisch durchlaessiges Traegermaterial}The invention relates to a dielectric layer system for optimizing the passband and stopband of optical multiplexers / demultiplexers. The inventive solution relates to the production of optical multiplexers / demultiplexers based on dielectric filters. The vapor deposition of the filters onto standardized specimens is known, but has the disadvantages that an optimal ratio between signal and attenuation can not be set, since both layer system and optical sources have tolerances. A coating form has been developed, which makes it possible to compensate for manufacturing tolerances and thus guarantees optimal transmission ratios. The newly designed layer system makes it possible to make the spectral behavior over the coated surface location-dependent. This applies to optical high, low and band pairs. {Multiplexer / Demultiplexer; Interference filter; Reduction filter; Wavelength; Optically transparent carrier material}
Description
Hierzu 2 Seiten ZeichnungenFor this 2 pages drawings
Die Erfindung dient der Herstellung von dielektrischen Filtern für optische Nachrichtenübertragungssysteme.The invention is for the production of dielectric filters for optical communication systems.
Charakteristik des bekannten Standes der TechnikCharacteristic of the known state of the art
Multiplexer/Demultiplexer mit Interferenzfilter, die an den Begrenzungsflächen eines zweiflächigen, optisch durchlässigen Körpers angeordnet sind, sind an sich bekannt (siehe EPÜ 68198, DE-OS 3346365). Die Nachteile dieser bekannten Lösung sind die ungenügende Treffsicherheit der Parameter der Filter bei Kombination von Filtern mit unterschiedlichen Parametern aufgrund der unterschiedlichen Filterwerte und die Sonderanfertigung für jedes Trägermaterial. Die Vorteile der bekannten Lösung, wie die hohe Flexibilität hinsichtlich der Ankopplung an Lichtwellenleiter, Sender und Empfänger und eine einfachere Herstellbarkeit, sind gewährleistet.Multiplexer / demultiplexer with interference filters, which are arranged on the boundary surfaces of a biconcave, optically transmissive body, are known per se (see EPC 68198, DE-OS 3346365). The disadvantages of this known solution are the insufficient accuracy of the parameters of the filter when combining filters with different parameters due to the different filter values and the custom-made for each substrate. The advantages of the known solution, such as the high flexibility with respect to the coupling to optical fibers, transmitter and receiver and easier manufacturability, are ensured.
Weiterhin sind optische Multiplexer/Demultiplexer mit aufgeklebten, gesondert hergestellten Interferenzfilter!! bekannt. Der Nachteil dieser Lösung besteht darin, daß die Fertigungsschwankungen bei der Herstellung von Dünnschichtpaketen nicht ausgeglichen werden können.Furthermore, optical multiplexer / demultiplexer with glued, separately produced interference filter !! known. The disadvantage of this solution is that the manufacturing variations in the manufacture of thin film packages can not be compensated.
Ziel der ErfindungObject of the invention
Ziel der Erfindung ist es, ökonomisch herstellbare, abstimmbaro und justierbare optische Multiplexer/Demultiplexer mit Interferenzfilter zu entwickeln, bei denen die ungenügende Treffsicherheit der Filter bei Kombination von Filtern mit unterschiedlichen Parametern der Filter in bezug auf die Durchlaßwellenlänge und die optimalen Filterwerte ausgeglichen werden,The aim of the invention is to develop economical, tunable and adjustable optical multiplexer / demultiplexer with interference filter, in which the insufficient accuracy of the filters are balanced when combining filters with different parameters of the filter with respect to the transmission wavelength and the optimal filter values,
Darlegung des Wesens der ErfindungExplanation of the essence of the invention
Aufgabe der Erfindung ist es, einen Multiplexer/Demultiplexer zu entwickeln, bei dem optische Interferenzfilter so auf ein Trägermaterial aufgedampft werden, daß man 'Jas optimale Verhältnis Signal/Dämpfung einstellen kann und daß die Fertigungstoleranzen, die bei der Herstellung vdii Dunnsr.hichtpaketen entstehen, dadurch ausgeglichen werden, daß der Ort der Einkopplung veränderlich ist.The object of the invention is to develop a multiplexer / demultiplexer in which optical interference filters are vapor-deposited on a carrier material in such a way that the optimum signal / damping ratio can be set and that the manufacturing tolerances which result during the production of thin-film packages, be compensated by the fact that the location of the coupling is variable.
Erfindungsgernäß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß durch Rotation der Schichtträger auf der Palette während des Bedampfungsprozesses ein keilförmiges Schichtsystcm erzeugt wird (Bild 2). Die Herstellung großer Stückzahlen ist ökonomisch, da man den in der Bedampfungsanlage vorhanc' nen natürlichen Schichtdickenkeil ausnutzt und wegen (n - D-Schichten, z.B. bei einem 4-Kanalmultiplexer (n = 4), gleichzeitig alle 3 Interferenzpakete herstellt (Bild 3).Erfindungsgernäß the object is achieved in that by rotation of the substrate on the pallet during the sputtering process, a wedge-shaped Schichtsystcm is generated (Figure 2). The production of large numbers of pieces is economical, since the natural layer thickness wedge used in the evaporation plant is exploited and because of (n-D layers, for example in a 4-channel multiplexer (n = 4), all three interference packets are produced at the same time (Figure 3).
Auf dem Außenkranz entstehen die dünnsten (kurzwelligen) Systeme, auf dem Mittelkranz die mittleren und auf dem Innenkranz die dicksten (langwelligen) Systeme. Dabei entsteht der Keil ganz von selbst-von innen nach außen. Bei der Verwendung von rechteckigen Trägern sind die Kanten gleichzeitig zum Keil justiert.On the outer rim arise the thinnest (short-wave) systems, on the middle ring the middle and on the inner ring the thickest (long-wave) systems. This creates the wedge entirely by itself-from inside to outside. When using rectangular beams, the edges are adjusted to the wedge at the same time.
Da die Schichtsysteme durch den optischen Kitt (Epoxidharz) geschützt sind, ist eine gute Langzeitstabilität der Kantenlage gewährleiste1: (Klima- und mechanische Einflüsse entfallen).Since the layer systems are protected by the optical putty (epoxy resin), good long-term stability of the edge layer is guaranteed 1 : (climatic and mechanical influences omitted).
Durch die op'.ische Symmetrie der Außenmedien des Systems (Brechzahl von Kitt und S :hichtträger sind gleich) können sehr steile Kanten mit nicht allzu großen Schichtzahlen erzeugt werden.Due to the optical symmetry of the outer media of the system (refractive index of putty and S: light beams are the same) very steep edges with not too large number of layers can be generated.
Ausführungsbeispielembodiment
Figur 2 stellt ein keilförmiges Schichtsystem für 4 Kanäle dar.FIG. 2 shows a wedge-shaped layer system for 4 channels.
In einer geeigneten Bedampfungsanlage (Figur 3) wird das zu bedampfende Trägermaterial, welches sich auf starr befestigten Schichtträgern befindet, die wiederum auf einer rotierenden rcctte befestigt sind, beschichtet. Οίο Rotationsgeschwindigkeit ist dabei abhängig von der verwendeten Bedampfungsanlage ur.d du Art des herzustellenden Schichtsystems.In a suitable vapor deposition system (FIG. 3), the carrier material to be vapor-deposited, which is located on rigidly attached layer carriers, which in turn are fastened on a rotating surface, is coated. Rotationsο Rotation speed depends on the used steaming unit ur.d you type of layer system to be produced.
- jrch Rotation der Schichtträger (Figur 3) wird ein keilförmiges Schichtsystem erzeugt. Es erweist sich aber als notwendig, vor Beginn einen Probelauf durchzuführen, diese Proben auszumessen und danach das benötigte Schichtsystem herzustellen. - Jrch rotation of the substrate (Figure 3), a wedge-shaped layer system is generated. However, it proves necessary to carry out a test run before starting, to measure these samples and then produce the required layer system.
Es können abstimmbare Multiplexer/Demultiplexer beliebiger Kanalzahl hergestellt werden, die den Vorteil haben, daß die Toleranzen de/ optischen Quellen abgeglichen werden können und damit günstigere Übertragungsverhältnisse, d. h. Selektion eingestellt werden kann. Die optischen Quellen können so nach rechts und links eingestellt werden, bis der für die Selektion günstigste Punkt erreicht ist.Tunable multiplexers / demultiplexers of any number of channels can be made, which have the advantage that the tolerances can be adjusted de / optical sources and thus favorable transmission conditions, d. H. Selection can be set. The optical sources can be adjusted to the right and left until the most favorable point for the selection is reached.
Claims (2)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD32153788A DD281664A5 (en) | 1988-11-07 | 1988-11-07 | DIELECTRIC COATING SYSTEM FOR OPTIMIZING THE TRANSMISSION AND LOCKING AREA OPTICAL MULTIPLEXER / DEMULTIPLEXER |
Applications Claiming Priority (1)
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DD32153788A DD281664A5 (en) | 1988-11-07 | 1988-11-07 | DIELECTRIC COATING SYSTEM FOR OPTIMIZING THE TRANSMISSION AND LOCKING AREA OPTICAL MULTIPLEXER / DEMULTIPLEXER |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DD281664A5 true DD281664A5 (en) | 1990-08-15 |
Family
ID=5603752
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DD32153788A DD281664A5 (en) | 1988-11-07 | 1988-11-07 | DIELECTRIC COATING SYSTEM FOR OPTIMIZING THE TRANSMISSION AND LOCKING AREA OPTICAL MULTIPLEXER / DEMULTIPLEXER |
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DD (1) | DD281664A5 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0690295A1 (en) * | 1994-06-30 | 1996-01-03 | AEROSPATIALE Société Nationale Industrielle | Optoelectronic camera of the spectral imager or spectral photometer type, light sensible elements and protection window for such a camera and method for carrying out such an arrangement |
-
1988
- 1988-11-07 DD DD32153788A patent/DD281664A5/en not_active IP Right Cessation
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0690295A1 (en) * | 1994-06-30 | 1996-01-03 | AEROSPATIALE Société Nationale Industrielle | Optoelectronic camera of the spectral imager or spectral photometer type, light sensible elements and protection window for such a camera and method for carrying out such an arrangement |
FR2722050A1 (en) * | 1994-06-30 | 1996-01-05 | Aerospatiale | OPTOELECTRONIC CAMERA OF THE SPECTRO-IMAGER OR SPECTROPHOTOMETER TYPE, SET OF PHOTOSENSITIVE ELEMENTS AND PROTECTIVE WINDOW FOR SUCH A CAMERA AND METHOD FOR MAKING SAME |
WO1996000886A1 (en) * | 1994-06-30 | 1996-01-11 | Aerospatiale Societe Nationale Industrielle | Optoelectronic camera |
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