DD222426A1 - OPTICAL SYSTEM - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung betrifft ein optisches System und kann in optisch abbildenden Hochleistungssystemen im Wellenlängenbereich 150 bis * 10 000 nm eingesetzt werden. Dem Ziel der Erfindung, die Nachteile des bekannten Standes der Technik abzustellen, dient die Aufgabe, ein optisches System zu schaffen, bei dem bei gleicher oder verringerter Linsenzahl im Vergleich zu optischem Glas das sekundäre Spektrum je nach Einsatzzweck über einen großen Spektralbereich korrigiert ist. Diese Aufgabe löst ein optisches System, indem als einkristallines optisches Medium BaF ind 2 zum Einsatz kommt und dadurch die Wahl der Partnergläser günstiger erfolgen kann. FigurThe invention relates to an optical system and can be used in optically imaging high-performance systems in the wavelength range 150 to 10 000 nm. The object of the invention to remedy the disadvantages of the prior art, the object is to provide an optical system in which the same or reduced lens number compared to optical glass, the secondary spectrum is corrected over a wide spectral range depending on the application. This task is solved by an optical system in which BaF ind 2 is used as a monocrystalline optical medium and thus the choice of partner glasses can be made more favorable. figure
Description
Die Erfindung kann in abbildenden Hochleistungssystemen im Wellenlängeribereich 150 bis <10000nm eingesetzt werden.The invention can be used in imaging high-performance systems in the wavelength range 150 to <10000 nm.
Bekannte technische Lösungen für optisch abbildende Hochleistungssysteme basieren auf dem Einsatz von optischem Glas und einzelnen, ausgewählten Einkristallen wie z. B. Flußspat, Alaun und KRS 5. Die Verwendung von optischem Glas hat ihre Begrenzung in der Beschränkung der Transmission auf den Wellenlängenbere'ich von ca. 380 bis 1 500 nm und den geringen Abweichungen der relativen Teildispersion von der Normalgeraden, wodurch die Korrektion des sekundären Spektrums begrenzt wird.Known technical solutions for optical imaging high performance systems based on the use of optical glass and individual, selected single crystals such. The use of optical glass has its limitation in limiting the transmission to the wavelength range of about 380 to 1500 nm and the small deviations of the relative partial dispersion of the normal straight line, whereby the correction of the secondary spectrum is limited.
Die üblicherweise verwendeten Einkristalle haben Transmissionen, die die Modellierung von optischen Systemen auch in extremeren Spektralbereichen (UV, IR) gestatten. Die Abweichung von der Normalgeraden der relativen Teiidispersion ist im allgemeinen höher als bei optischen Gläsern. Die Schwierigkeit besteht darin, Partnergläser zu finden, die die Korrektion des sekundären Spektrums und der anderen Bildfehler in genügendem Maße ermöglichen.The commonly used single crystals have transmissions that allow the modeling of optical systems even in more extreme spectral ranges (UV, IR). The deviation from the normal line of the relative Teiidispersion is generally higher than optical glasses. The difficulty is to find partner glasses that sufficiently allow the correction of the secondary spectrum and other aberrations.
Demzufolge wird eine große Anzahl von Linsen in optischen Systemen benötigt. Hinzu kommen Probleme in derAs a result, a large number of lenses are needed in optical systems. There are also problems in the
Bearbeitungstechnologie der Kristalle. ·' Processing technology of the crystals. · '
Ziel der Erfindung ist ein optisches System, das die Nachteile des bekannten Standes der Technik abstellt.The aim of the invention is an optical system which eliminates the disadvantages of the known prior art.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein optisches System zu schaffen, bei dem bei gleicher oder verringerter Linsenzahl im Vergleich zu optischem Glas das sekundäre Spektrum je nach Einsatzzweck über einen großen Spektralbereich korrigiertThe invention has for its object to provide an optical system in which corrected at the same or reduced number of lenses compared to optical glass, the secondary spectrum depending on the application over a large spectral range
Diese Aufgabe löst ein optisches System erfindungsgemäß dadurch, daß als einkristallines optisches Medium BariumfluoridThis object is achieved by an optical system according to the invention characterized in that barium fluoride as monocrystalline optical medium
BaF2 verwendet wird. .·.-'·BaF 2 is used. .-. · '·
In Verbindung mit anderen optischen Gläsern kann das sekundäre Spektrum durch den Einsatz von BaF2 bis in das tiefe UV bei im Vergleich zu optischem Glas gleicher oder verringerter Linsenzahl zusätzlich korrigiert werden. In diesem Fall ist es einfacher, in bezug auf die optischen Eigenschaften günstige Partnergläser zu finden sowie eine dem Flußspat vergleichbare Verarbeitungstechnologie anzuwenden. Die Korrektion des sekundären Spektrums erstreckt sich erfindungsgemäß je nach Einsatzzweck über einen Wellenlängenbereich von 150 bis 2000nm. Die charakteristischen Werte einer erfindungsgemäßenIn combination with other optical glasses, the secondary spectrum can be additionally corrected by the use of BaF 2 up to the deep UV with an equivalent or reduced lens number compared to optical glass. In this case, it is easier to find favorable partner glasses with respect to the optical characteristics and to apply a processing technique comparable to the fluorspar. The correction of the secondary spectrum according to the invention extends over a wavelength range of 150 to 2000 nm, depending on the intended use. The characteristic values of an inventive
Lösung sind in Tabelle langegeben. 'Solution are long in table. '
Das Wesen der Erfindung soll anhand eines in der Zeichnung dargestellten Feinmeßobjektives 0,3/20, dessen schematischen Aufbau Fig.M zeigt, näher erläutert werden.The essence of the invention will be explained in more detail with reference to a fine-measuring objective 0.3 / 20 shown in the drawing, the schematic structure of which is shown in FIG.
Entlang der optischen Achse 0-0' sind Linsen L 1 ...L 10 in vier Kittgruppen und als einzelne Bikonkavlinse angeordnet. Die einzelnen Linsen sind durch ihre Mittendicken d„ ihre Radien η und die Brechzahlen n, gekennzeichnet, während die erforderlichen Luftabstände mit Ij bezeichnet sind. Durch den Einsatz von BaF2 als optisches Medium für Linse L 4 und L 6 kann ein Planapochromatfür den Wellenlängenbereich von 480 bis800nm berechnet werden, wobei das sekundäre Spektrum über den gesamten Bereich nahezu Null ist. ·,Along the optical axis 0-0 'lenses L 1 ... L 10 are arranged in four groups of putties and as a single biconcave lens. The individual lenses are characterized by their center thicknesses d " their radii η and the refractive indices n, while the required air spacings are denoted by Ij. By using BaF 2 as the optical medium for lens L 4 and L 6, a planapochromate can be calculated for the wavelength range from 480 to 800nm, with the secondary spectrum nearly zero over the entire range. ·,
Eine bisher bekannte Lösung war ein Planaphromat gleicher Linsenanzahl und Vergrößerung, der im Wellenlängenbereich von 480 bis 643,87 nm korrigiert war, das sekundäre Spektrum betrug 2,8λ/A2.A hitherto known solution was a Planaphromat equal number of lenses and magnification, which was corrected in the wavelength range of 480 to 643.87 nm, the secondary spectrum was 2.8λ / A 2 .
- 3 - 26U 454 JL - 3 - 26U 454 JL
Tabelle 1 . . Table 1 . ,
S = -13,691S = -13.691
S' = 144,62 mit39nmBK7und 56 mm BaK4-GIaswegS '= 144.62 with 39nmBK7 and 56mm BaK4 GIase path
Claims (3)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD26045484A DD222426B5 (en) | 1984-03-01 | 1984-03-01 | Optical system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD26045484A DD222426B5 (en) | 1984-03-01 | 1984-03-01 | Optical system |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DD222426A1 true DD222426A1 (en) | 1985-05-15 |
DD222426B5 DD222426B5 (en) | 1996-06-13 |
Family
ID=5554991
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DD26045484A DD222426B5 (en) | 1984-03-01 | 1984-03-01 | Optical system |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DD (1) | DD222426B5 (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1006373A2 (en) * | 1998-11-30 | 2000-06-07 | Carl Zeiss | Objective with crystal lenses and projection exposure apparatus for microlithography |
EP1006388A2 (en) * | 1998-11-30 | 2000-06-07 | Carl Zeiss | Reduction projection objective lens for microlithography |
WO2000075697A1 (en) * | 1999-06-04 | 2000-12-14 | Corning Incorporated | Fluoride lens crystal for optical microlithography systems |
DE19857369C2 (en) * | 1997-12-12 | 2003-04-30 | Komatsu Mfg Co Ltd | Narrow band excimer laser and optics for it |
US7075905B2 (en) | 2002-09-11 | 2006-07-11 | Qualcomm Incorporated | Quality indicator bit (QIB) generation in wireless communications systems |
-
1984
- 1984-03-01 DD DD26045484A patent/DD222426B5/en not_active IP Right Cessation
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19857369C2 (en) * | 1997-12-12 | 2003-04-30 | Komatsu Mfg Co Ltd | Narrow band excimer laser and optics for it |
EP1006373A2 (en) * | 1998-11-30 | 2000-06-07 | Carl Zeiss | Objective with crystal lenses and projection exposure apparatus for microlithography |
EP1006388A2 (en) * | 1998-11-30 | 2000-06-07 | Carl Zeiss | Reduction projection objective lens for microlithography |
EP1006373A3 (en) * | 1998-11-30 | 2000-08-02 | Carl Zeiss | Objective with crystal lenses and projection exposure apparatus for microlithography |
EP1006388A3 (en) * | 1998-11-30 | 2002-05-02 | Carl Zeiss | Reduction projection objective lens for microlithography |
WO2000075697A1 (en) * | 1999-06-04 | 2000-12-14 | Corning Incorporated | Fluoride lens crystal for optical microlithography systems |
US7075905B2 (en) | 2002-09-11 | 2006-07-11 | Qualcomm Incorporated | Quality indicator bit (QIB) generation in wireless communications systems |
US7929480B2 (en) | 2002-09-11 | 2011-04-19 | Qualcomm Incorporated | Quality indicator bit (QIB) generation in wireless communication systems |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DD222426B5 (en) | 1996-06-13 |
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Legal Events
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