DD210360A1 - LIGHT-SENSITIVE, POSITIVELY WORKING COPIER MATERIAL - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung betrifft ein lichtempfindliches, positiv arbeitendes Kopiermaterial fuer fotolithografische Herstellung von Druckformen, bestehend aus einem Polymeren, einem olefinischen Monomeren und einem Fotodimeren von Anthracenen, Aziniumanthracenen oder Azaanthracenen. Die bildmaessige Belichtung fuehrt zur Cycloreversion der Fotodimeren und nachgelagerter, thermischer Diels-Alder-Reaktion zwischen den fotochemisch gebildeten Anthracen-, Aziniumanthracen-oder Azaanthracenderivaten und dem olefinischen Kopiermaterialbestandteil. Die resultierende Verarmung an olefinischem Material in den belichteten Bereichen fuehrt bei der nachfolgenden Temperung nur zu einer Haertung der unbelichteten Stellen. Durch Zusatz von Polymerisationsinitiatoren und Vernetzern wird der Haertungseffekt verstaerkt. Abschliessende Entwicklung mit geeigneten Loesungsmitteln fuehrt zur Herstellung von Positiv- Reliefbildern, die als Aetzschutzschichten, Druckformen o.ae. benutzt werden koennen.The invention relates to a photosensitive, positive-working copy material for photolithographic production of printing plates, consisting of a polymer, an olefinic monomer and a photodimer of anthracenes, azinium anthracenes or azaanthracenes. The imagewise exposure leads to cycloreversion of the photodimers and subsequent thermal Diels-Alder reaction between the photogenerated anthracene, azinium anthracene or azaanthracene derivatives and the olefinic copying material component. The resulting depletion of olefinic material in the exposed areas only leads to a hardening of the unexposed areas during the subsequent heat treatment. The addition of polymerization initiators and crosslinkers intensifies the hardening effect. Final development with suitable solvents leads to the production of positive relief images which are used as etching protection layers, printing forms or the like. can be used.
Description
"T S-. » V »"T S-." V »
Lichtempfindliches, positiv arbeitendes Kopiermaterial. Anwendungsgebiet der ErfindungPhotosensitive, positive working copy material. Field of application of the invention
Die Erfindung betrifft ein lichtempfindliches, positiv arbeitendes Kopiermaterial, das zur Herstellung von Druckplatten geeignet ist.The invention relates to a photosensitive, positive-working copy material which is suitable for the production of printing plates.
Charakteristik der bekannten technischen LösungenCharacteristic of the known technical solutions
Für die Herstellung lichtempfindlicher Kopiermassen, die zur Darstellung von Druckplatten geeignet sind, verwendet man lichtempfindliche Stoffe bzw. Stoffgemische,.die,entweder ne^V gativ (Lichthärtung) oder positiv (Lichtenthärtung) arbeiten. Für die fotochemische Herstellung von Druckformen ist es in der Segel ohne Bedeutung, ob das Kopiermaterial positiv oder negativ arbeitet, da je nach angestrebter Drucktechnik die Vorlage als Positiv oder Negativ ausgewählt werden kann. Aus diesem Grunde werden in der Praxis zur Zeit sowohl negativ als auch positiv arbeitende Materialien verwendet. Die negativ arbeitenden Materialien basieren auf der Fotopolymerisation. Ausgewählte Polymeren, Oligomeren, Polymer-Monomer- oder Polymer-Oligomer-Gemische werden mit Licht ausgehärtet (W. KÖNIG, W. SOBSK u. H. TEAÜZEDDSL, Mitteilungsbl. Ghem. Ges. DDR 1981, £6} 121).For the preparation of photosensitive copying materials which are suitable for the preparation of printing plates, photosensitive substances or mixtures of substances are used, which work either negatively (light-curing) or positively (light-softening). For the photochemical production of printing plates, it is irrelevant in the sails whether the copy material works positively or negatively, since, depending on the desired printing technique, the original can be selected as positive or negative. For this reason, both negative and positive working materials are currently used in practice. The negative working materials are based on photopolymerization. Selected polymers, oligomers, polymer-monomer or polymer-oligomer mixtures are light-cured (W. KÖNIG, W. SOBSK and H. TEAÜZEDDSL, Mitteilungsbl. Ghem. Ges. DDR 1981, £ 6 } 121).
Bei den positiv arbeitenden Kopiermaterialien wird ausgenutzt, daß zwischen ο-Naphtnochinondiaziden und Novolaken zwischenmolekulare Wechselwirkungen stattfinden, die eine Herabsetzung der Alkalilöslichkeit des Novolaks bewirken. Die fotochemischeThe positive-working copying materials exploit the fact that intermolecular interactions take place between o-naphthoquinonediazides and novolaks, which bring about a reduction in the alkali solubility of the novolak. The photochemical
.-, - η ο α Q Q Π.-, - η ο α Q Q Π
Zersetzung des im Novolak eingebetteten o-Chinondiazids unter Bildung entsprechender Indencarbonsäuren führt zur Herstellung der ursprünglichen, das reine Polymere charakterisierenden Alkalilöslichkeit (J. KOSAR, Light Sensitive Systems. Chemistry and Application öf Nonsilver Halide Photographic Processes, John Wiley & Sons, New York-1965; J. Photogr. Sei. 1971, V8, 88). Diese Positivkopiermaterialien sind dadurch gekennzeichnet, daB ihre Lichtempfindlichkeit nicht oder nur unwesentlich durch Sensibilisatoren gesteigert werden kann und da3 wegen der ihnen eigenen starken Schichtdickenabhängigkeit der.notwendigen Belichtungsdauer die Herstellung ausreichend lichtempfindlicher dicker Positivschichten schwierig oder unmöglich ist. .Decomposition of the o-quinonediazide embedded in the novolak to give corresponding indenecarboxylic acids results in the preparation of the original alkali solubility characterizing the pure polymer (J. KOSAR, Light Sensitive Systems, Chemistry and Application, Nonsilver Halide Photographic Processes, John Wiley & Sons, New York-1965 J. Photogr. Sci. 1971, V8, 88). These positive-copy materials are characterized in that their photosensitivity can not or only insignificantly increased by sensitizers, and that the production of sufficiently thick photosensitive thicker positive layers is difficult or impossible because of the inherent strong layer thickness dependence of the necessary exposure time. ,
Ein allgemeines Ziel der Druckformenherstellung ist die Entwicklung von Systemen, die mit Materialien arbeiten, welche auf Grund einer ausreichenden Lichtempfindlichkeit direkt in der Kamera belichtet werden können. Sine derartige Arbeitstechnik erfordert nicht nur den Einsatz entsprechend empfindlicher Materialien, für die meisten Anwendungsaspekte (tonwertrichtige Wiedergabe natürlicher Vorlagen) ist auch notwendig, daiS diese: Materialien positiv arbeiten. An fotolithografisch durch Beschichten, Belichten und Entwickeln hergestellte Druckplatten werden außerdem hohe mechanische Anforderungen gestellt. Der Verschleiß derartiger Druckplatten kann deutlich herabgesetzt werden, wenn diese im Anschloß- an die fotolithografische Bearbeitung-- thermisch oder fotochemisch gehärtet werden.A general goal of printing plate making is the development of systems that work with materials that can be exposed directly in the camera due to sufficient photosensitivity. Sine such work technique requires not only the use according sensitive materials, for most application issues (tone quality natural templates) is also necessary Dais this: materials work positively. Furthermore, printing plates produced by photolithography by coating, exposure and developing are subject to high mechanical requirements. The wear of such printing plates can be significantly reduced if they are thermally or photochemically cured in the connection to the photolithographic processing.
Ziel der Erfindung .Object of the invention.
Ziel der Erfindung ist die Bereitstellung eines lichtempfindlichen, positiv arbeitenden Kopiermaterials, das eine aus- : reichende Schichtdicke und hohe Lichtempfindlichkeit aufweist, thermisch härtbar und danach mechanisch stabil ist und für eine fotolithografische Herstellung von Druckformen geeignet ist, .--.- ' ' The aim of the invention is to provide a light-sensitive, positive-working copying material comprising a Removing. Having extensive film thickness and high photosensitivity curable thermally and thereafter is mechanically stable and is suitable for a photolithographic production of printing forms, - .- ''
Darlegung des Wesens der ErfindungExplanation of the essence of the invention
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein lichtempfindliches, positiv arbeitendes Kopiermaterial zu entwickeln, das an unbelichteten Stellen unlöslich und thermisch härtbar, an belichteten Stellen löslich ist und bei bildmäßiger Belichtung und nachgelagertem Härtungs- und Entwicklungsvorgang eine Druckform mit klarem Bild ergibt. Die Aufgabe wird erfindungs- gemäß dadurch gelöst, da3 ein Gemisch, bestehend aus einem oder mehreren Polymeren, einem oder mehreren olefinischen Monomeren und einem oder mehreren Fotodimeren von Anthracenen, Aziniumanthracenen und/oder Azaanthracenen in einem Lösungsmittel oder -gemisch gelöst, die Lösung auf eine geeignete Unterlage , beispielsweise eine Metallfolie, Quarz, Silicium oder Siliciumdioxid aufgeschleudert oder zu einer selbsttragenden Schicht vergossen wird.The invention has for its object to develop a photosensitive, positive-working copy material which is insoluble in unexposed areas and thermally curable, soluble in exposed areas and imagewise exposure and downstream hardening and development process results in a printing plate with a clear picture. In accordance with the invention, the object is achieved by dissolving the mixture in one solvent or mixture of one or more polymers, one or more olefinic monomers and one or more photodimers of anthracenes, azinium anthracenes and / or azaanthracenes suitable backing, such as a metal foil, quartz, silicon or silica spun on or cast to a self-supporting layer.
Als Polymeren gelangen Materialien zum Einsatz, die im Ergebnis radikalischer oder ionischer Polymerisation oder Copolymerisation olefinischer Monomeren erhalten wurden. Vorzugsweise werden hierzu Polyacrylsäure und/oder -derivate, Polymethacrylsäure und/oder -derivate oder' Poiystyr^ne'' und/oder"-derivate, von denen bekannt ist, daB sie transparente Filme' und Schichten bilden, eingesetzt. Als olefinische Monomeren werden die den eingesetzten Polymeren entsprechenden Monomeren benutzt, wie Acrylsäure und/oder -derivate, Methacrylsäure und/ oder -derivate, Styren und/oder -derivate oder Vinylether oder Oligomeren der genannten Monomeren mit hohem olefinischen Anteil. Für eine ausreichende Härtung der Schichten innerhalb kurzer Zeiten ist der Zusatz olefinischer Vernetzer günstig, wie Divinylbenzen, Acrylsäure- oder Methacrylsäureallylester, Glykoldimethacrylat oder Zimtsäureallylester.- Als Fotodimeren werden Anthracen- (I), Aziniumanthracen- (H-V) oder Azaanthracenderivate (VT, VTI) eingesetzt. Darin bedeuten E = Alkyl, verzweigtes Alkyl, unsubstituiertes oder substituiertes Aryl und L sowie M linear.und/oder angular kondensiertes Aren und/oder Heteroaren, Z steht für Wasserstoff oder einen oder mehrere gleiche oder verschiedene Substituenten in möglichenAs polymers, materials are used which have been obtained as a result of free-radical or ionic polymerization or copolymerization of olefinic monomers. For this purpose, preference is given to using polyacrylic acid and / or derivatives, polymethacrylic acid and / or derivatives or "poly-styrene" and / or "derivatives which are known to form transparent films and layers the monomers corresponding to the polymers used, such as acrylic acid and / or derivatives, methacrylic acid and / or derivatives, styrene and / or derivatives or vinyl ethers or oligomers of said monomers with a high olefinic content For adequate curing of the layers within a short time the addition of olefinic crosslinkers is advantageous, such as divinylbenzene, allyl acrylate or methacrylate, glycol dimethacrylate or cinnamic allyl ester.- The photodimers used are anthracene (I), aziniumanthracene (HV) or azaanthracene derivatives (VT, VTI) where E = alkyl, branched Alkyl, unsubstituted or substituted aryl and L and M linear and / or angularly condensed arene and / or heteroarene, Z is hydrogen or one or more identical or different substituents in possible
ÜrnrnÜrnrn
Positionen, vorzugsweise für Alkyl, Aryl, substituiertes Aryl, OE mit der für R angegebenen Bedeutung, Halogen, NO2 oder CN. X"" stellt ein Anion dar, beispielsweise ein Halogenid, Perchlor at, Te traf luorobor at, Tetraphenylboranat, Tosylat, Pikrat, TCHQ" oder OH". Dem. Gemisch dieser Komponenten wird gegebenenfalls ein Polymerisationsinitiator, insbesondere Dibenzoylperoxid oder Azo-bis-isobutyronitril, zugesetzt. Das Gemisch wird in einem geeigneten Lösungsmittel-gelöst, insbesondere in einem Alkohol, Nitril, Keton, aliphatischen oder aromatischen Kohlenwässerstoff, Halogenkohlenwasserstoff, Ester oder Ether oder in einem Gemisch von mindestens zwei dieser Lösungsmittel. In Abhängigkeit von der Lösungsmittelviskosität j der Konzentration und der Schleudergeschwindigkeit (n = 2000 bis 8000 min" ) werden beim Aufschleudern Schichten der Dicke 1 bis 150M.m erhalten. Das Material wird"'bildmäßig belichtet. Als Strahluhgsquellen hierfür sind HBO-, XBO-, XHB- oder NBO-Lampen geeignet. Eine spezielle Filterung des Anregungslichtes ist nicht notwendig, bei kürzerwelliger Anregung (λ< 350 im): wird jedoch eine höhere; Reaktionsgeschwindigkeit beobachtet. ,Positions, preferably for alkyl, aryl, substituted aryl, OE with the meaning given for R, halogen, NO 2 or CN. X "" represents an anion, for example a halide, perchlorate, Te met luorobor at, tetraphenylboranate, tosylate, picrate, TCHQ "or OH". If desired, a polymerization initiator, in particular dibenzoyl peroxide or azo-bis-isobutyronitrile, is added to the mixture of these components. The mixture is dissolved in a suitable solvent, in particular in an alcohol, nitrile, ketone, aliphatic or aromatic hydrocarbon, halohydrocarbon, ester or ether, or in a mixture of at least two of these solvents. Depending on the solvent viscosity j of the concentration and the spinning speed (n = 2000 to 8000 min "), spin-on layers of thickness 1 to 150 μm are obtained and the material is exposed imagewise. Suitable beam sources for this are HBO, XBO, XHB or NBO lamps. A special filtering of the excitation light is not necessary, with shorter-wave excitation (λ <350 im): but becomes a higher; Reaction rate observed. .
Die oildmäSige Belichtung führt zur Cyclareversion der eingesetzten Fotodimeren unter Bildung der Monomeren YIII-XIY mit den angegebenen Bedeutungen für R, Z, L, M und X". Die fotochemisch gebildeten Anthracene, Aziniumanthracene und Azaanthracene reagieren als Diene mit den Olefinen in Form einer (4+2)-Cyclöaddition zu Diels-Alder-Addukten. Diese (4+2)-Gycloaddition läuft thermisch ab. Im .Verlaufe der Diels-Alder-Reaktion verarmt die Schicht an den. ehemals belichteten:Stellen an:olefinischen. Anteil und ist an diesen Positionen.nicht härtbar. Bei der nachfolgenden Temperung kommt es durch Pfropfpolymerisation und Vernetzung nur an dan unbelichteten Stellen zu einer Erhöhung des Polymerisationsgrades. Als Resultat dessen sinkt in diesen Schichtbereichen die Löslichkeit drastisch, bei entsprechender Temperung ist das Material hier praktisch unlöslich.The oildmäsige exposure leads to the cyclare version of the photodimers used to form the monomers YIII-XIY with the meanings given for R, Z, L, M and X. "The photochemically formed anthracenes, aziniumanthracenes and azaanthracenes react as dienes with the olefins in the form of a ( 4 + 2) -Cycloddition to Diels-Alder adducts.This (4 + 2) cycloaddition proceeds thermally.In the course of the Diels-Alder reaction, the layer is depleted at: formerly exposed sites: olefinic fraction and In the subsequent heat treatment, graft polymerization and crosslinking increase the degree of polymerization only at unexposed areas, as a result of which the solubility decreases dramatically in these layer areas, and the material here is practically insoluble when appropriately heat-treated.
Beim Tauchen in die für das Auflösen des Gemisches verwendeten Lösungsmittel oder solche mit ähnlicher Struktur und damit .When dipping in the solvents used for dissolving the mixture or those of similar structure and thus.
verwandten Löseeigenschaften werden die belichteten Stellen, bestehend au3 löslichem Aasgangspolymeren bzw. -oligomeren sowie Diels-Alder-Addukt, ausgewaschen, ünbelichtete Stellen bleiben bei diesem Prozeß unangegriffen. Das so behandelte Material mit Positivreliefbild wird getrocknet. Besonders geeignete Zusammensetzungen des eingesetzten Gemisches sind: Polyacrylsäure- oder Polymethacrylsäurederivate, vorzugsweise Polymerisate oder Copolymerisate der Säuren oder Methylester als Polymerbe standteil, Acrylsäure, Methacrylsäure oder deren Methylester als olefinische Monomeren, Glykoldi- methacrylat oder Methacrylsäureallylester als Vernetzer, Dibenzoylperoxid oder Azo-bis-isobutyronitril als Polymerisationsinitiator und Acridiziniumperchlorat-Diaer, 9-Methylacridiziniumperchlorat-Diiner, Acridiziniumbromid-Diiaer, Benz [b]-acridiziniumtosylat-Dimer oder N-Methylbenzo fg/jchinolinium- . tetrafluoroborat-Dimer als Fotodimeren.The exposed sites, consisting of soluble starting polymers or oligomers as well as Diels-Alder adduct, are washed out, and unexposed areas remain unaffected in this process. The thus treated positive relief image material is dried. Particularly suitable compositions of the mixture used are: polyacrylic acid or polymethacrylic acid derivatives, preferably polymers or copolymers of acids or methyl esters as polymer constituent, acrylic acid, methacrylic acid or its methyl ester as olefinic monomers, glycol dimethacrylate or methacrylic allyl ester as crosslinker, dibenzoyl peroxide or azo-bis-isobutyronitrile as a polymerization initiator and acridizinium perchlorate diaer, 9-methylacridizinium perchlorate diamine, acridizinium bromide diacid, benz [b] acridizinium tosylate dimer or N-methylbenzo fg / quinolinium. tetrafluoroborate dimer as photodimers.
Das erfindungsgemäße Material zeichnet sich durch eine hohe Stabilität gegenüber mechanischen Belastungen (Druck,-Abrieb) aus und entspricht überraschend gut den Anforderungen für eine Druckformherstellung. Es besitzt auch bei. größerer Schichtdicke 'eine:i'uherwärtet hohe· lichtempfindlichkeit. Das-* mit'die-' sem Material erhaltene Positivreliefbild stellt die Vorlage klar dar, es ist gegenüber allen nachgelagerten Arbeitsschritten wie Druckvorgängen infolge der guten Oberflächenhaftung stabil.The material according to the invention is characterized by a high stability against mechanical loads (pressure, abrasion) and surprisingly corresponds to the requirements for a printing plate production. It also owns. greater layer thickness : a high photosensitivity. That- * positive relief image obtained mit'die- 'sem material, the template is clear, it is to all downstream operations such as printing operations due to the good surface adhesion stable.
Ausführungsbeispieleembodiments
75 g Polymethylmethacrylat (mittleres Molekulargewicht ca.75 g of polymethylmethacrylate (average molecular weight approx.
20 000),20,000),
12 g Acrylsäure,12 g of acrylic acid,
10 g Acridiziniumperchlorat-Dimer, 10 g of acridizinium perchlorate dimer,
2,9 g Methacrylsäureallylester, 0,1 g Dibenzoylperoxid2.9 g of allyl methacrylate, 0.1 g of dibenzoyl peroxide
werden in Chloroform/Chlorbenzen/o-Dichlorbenzen (2;10:1) gelöst und auf eine mechanisch aufgerauhte Aluminiumoberflächeare dissolved in chloroform / chlorobenzene / o-dichlorobenzene (2: 10: 1) and on a mechanically roughened aluminum surface
auf ge schleudert (η = 4000 min"" }. Die Schichtdicke betrug 5. Mm. Das ausreichend getrocknete Material wurde 20 s mit dem ungefilterten Licht einer 250 W-Fotolampe bestrahlt. Anschließend wurde 30 min bei 800C getempert. Das Positivbild wurde durch Tauchen in Chloroform/Methylenchlorid (1:1) entwickelt und an der Luft getrocknet.on ge spin (η = 4000 min ""}. The layer thickness was 5 mm. The sufficiently dried material was irradiated for 20 s with the unfiltered light from a 250 W photoflood lamps. The mixture was then annealed for 30 min at 80 0 C. The positive image was developed by dipping in chloroform / methylene chloride (1: 1) and dried in air.
80 g eines 1:1-Copolymeren von Methylmethacrylat und Methacrylsäure (mittleres Molekulargewicht ca. 20 000), 8 g Acrylsäure,80 g of a 1: 1 copolymer of methyl methacrylate and methacrylic acid (average molecular weight about 20,000), 8 g of acrylic acid,
11,9 g 9-Methylacridiziniumperchlorat-Dimer, 0,1 g Azo-bis-isobutyronitril11.9 g of 9-methylacridizinium perchlorate dimer, 0.1 g of azo-bis-isobutyronitrile
werden analog Beispiel T gelöst1, auf ge schleudert, belichtet und entwickelt.are solved analogously to Example 1 , centrifuged on ge, exposed and developed.
Beispiel 3 Example 3
70 g eines 1:1-Copolymeren von Methylmethacrylat und Methacrylsäure (mittleres Molekulargewicht ca. 20 000), 8 g-Methacrylsäurey ' '. 70 g of a 1: 1 copolymer of methyl methacrylate and methacrylic acid (average molecular weight about 20,000), 8 g Methacrylsäurey ''.
10 g Glykoldimethacrylat, 11,9 g Acridiziniumbromid-Dimer, 0,1 g Dibenzoylperoxid10 g glycol dimethacrylate, 11.9 g acridizinium bromide dimer, 0.1 g dibenzoyl peroxide
werden in Chloroform/Ohlorbenzen/o-Dichlorbenzen. (2:10:1) gelöst, und . zu ,einem· Film -der Schichtdicke;. 100 Hm. vergossen. Das lufttrockene Material wurde 130 s mit dem gefilterten Licht (Interferenzfilter 31 3 ma)' einer HBO 500 bestrahlt. Anschlie-Bend wurde 30 min bei 800C getempert. Das Positivbild wurde durch Tauchen in Chloroform/Methylenchlorid (T: V) (1 min) entwickelt und an der Luft getrocknet. Die an den belichteten Stellen beobachtete Ätztiefe betrug ca. 50Mm.are in chloroform / Ohlorbenzen / o-dichlorobenzene. (2: 10: 1) solved, and. to, a · film-the layer thickness ;. 100 Hm. Shed. The air-dry material was irradiated for 130 s with the filtered light (interference filter 31 3 ma) of an HBO 500. Connecting-Bend was tempered at 80 0 C for 30 min. The positive image was developed by dipping in chloroform / methylene chloride (T: V) (1 min.) And dried in air. The etching depth observed at the exposed areas was about 50 μm.
Beispiel 4 . -Example 4. -
70 g'.Polymethylmethacrylat-, ,; 70 g'.polymethyl methacrylate,, ;
12 g Acrylsäure, .12 g of acrylic acid,.
14 g Benz["b]acridiziniumtosylat-Dimerj14 g of Benz ["b] acridizinium tosylate dimer
3,9 g p-Divinylbenzen, 0,1 g Azo-bis-isobutyronitril3.9 g of p-divinylbenzene, 0.1 g of azo-bis-isobutyronitrile
werden analog Beispiel 3 gelöst, vergossen, belichtet (.Interferenzfilter 365 ma), getempert und entwickelt. Die an den belichteten Stellen beobachtete Ätztiefe betrug ca. 70 /im.be solved analogously to Example 3, potted, exposed (.Interferenzfilter 365 ma), annealed and developed. The etching depth observed at the exposed areas was about 70 / im.
75 g eines Gopolymeren von Methacrylsäure/Styren (2:1) (mittleres Molekulargewicht ca. 12 000),75 g of a copolymer of methacrylic acid / styrene (2: 1) (average molecular weight about 12,000),
5 g Acrylsäure,5 g of acrylic acid,
6 g itf-Methylstyren,6 g of itf-methylstyrene,
13,9 g N-Methylbenzo[g]chinoliniumtetrafluoroborat-Dimer, 0,1 g AzQ-bis-isobutyronitril13.9 g of N-methylbenzo [g] quinolinium tetrafluoroborate dimer, 0.1 g of AzQ-bis-isobutyronitrile
werden analog Beispiel 3 gelöst, vergossen, bestrahlt (Interferenzfilter 333 nm), getempert und. entwickelt^ Die an den belichteten Stellen beobachtete Atztiefe Betrug ca. 40 Km* be solved analogously to Example 3, potted, irradiated (interference filter 333 nm), annealed and. The etching depth observed at the exposed areas was approximately 40 km *
»nc-«αQO*09.fi380"Nc" αQO * 09.fi380
XEXE
,, ι η ιη,ι.ι,.ηηί?ΟΟΛ ,, ι η ιη, ι.ι, ηηίί ΟΟΛ
Claims (2)
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DD24218282A DD210360A1 (en) | 1982-08-02 | 1982-08-02 | LIGHT-SENSITIVE, POSITIVELY WORKING COPIER MATERIAL |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD24218282A DD210360A1 (en) | 1982-08-02 | 1982-08-02 | LIGHT-SENSITIVE, POSITIVELY WORKING COPIER MATERIAL |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DD24218282A DD210360A1 (en) | 1982-08-02 | 1982-08-02 | LIGHT-SENSITIVE, POSITIVELY WORKING COPIER MATERIAL |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1086156A1 (en) * | 1998-04-14 | 2001-03-28 | Arch Specialty Chemicals, Inc. | Production of acetal derivatized hydroxyl aromatic polymers and their use in radiation sensitive formulations |
US20190125652A1 (en) * | 2016-06-15 | 2019-05-02 | Mycone Dental Supply Co., Inc | One Part Acrylic Nail Formulation |
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1982
- 1982-08-02 DD DD24218282A patent/DD210360A1/en unknown
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EP1086156A4 (en) * | 1998-04-14 | 2005-02-02 | Arch Spec Chem Inc | Production of acetal derivatized hydroxyl aromatic polymers and their use in radiation sensitive formulations |
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