DD108559A1 - - Google Patents
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- Publication number
- DD108559A1 DD108559A1 DD175035A DD17503573A DD108559A1 DD 108559 A1 DD108559 A1 DD 108559A1 DD 175035 A DD175035 A DD 175035A DD 17503573 A DD17503573 A DD 17503573A DD 108559 A1 DD108559 A1 DD 108559A1
- Authority
- DD
- German Democratic Republic
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD17503573A DD108559B1 (de) | 1973-12-03 | 1973-12-03 | Verfahren zuer Steurung des Afdampfens von NiCr-Wiederstandsschichten |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD17503573A DD108559B1 (de) | 1973-12-03 | 1973-12-03 | Verfahren zuer Steurung des Afdampfens von NiCr-Wiederstandsschichten |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DD108559A1 true DD108559A1 (enExample) | 1974-09-20 |
| DD108559B1 DD108559B1 (de) | 1979-11-28 |
Family
ID=5493686
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DD17503573A DD108559B1 (de) | 1973-12-03 | 1973-12-03 | Verfahren zuer Steurung des Afdampfens von NiCr-Wiederstandsschichten |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DD (1) | DD108559B1 (enExample) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0067432A1 (de) * | 1981-06-12 | 1982-12-22 | Siemens Aktiengesellschaft | Anordnung zum Messen des elektrischen Widerstandes und der Temperatur von durch Aufdampfen oder Aufstäuben auf Substraten abgeschiedenen dünnen metallisch-leitenden Schichten während der Schichtherstellung |
| EP0289661A3 (de) * | 1987-03-28 | 1989-02-01 | Messerschmitt-Bölkow-Blohm Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Verfahren zur reproduzierbaren Bildung von Materialschichten und/oder zur Behandlung von Halbleiter-Materialschichten |
| WO2018229250A1 (de) * | 2017-06-15 | 2018-12-20 | Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover | Verfahren und anlage zur herstellung eines elektrischen bauteils sowie computerprogramm |
-
1973
- 1973-12-03 DD DD17503573A patent/DD108559B1/de unknown
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0067432A1 (de) * | 1981-06-12 | 1982-12-22 | Siemens Aktiengesellschaft | Anordnung zum Messen des elektrischen Widerstandes und der Temperatur von durch Aufdampfen oder Aufstäuben auf Substraten abgeschiedenen dünnen metallisch-leitenden Schichten während der Schichtherstellung |
| EP0289661A3 (de) * | 1987-03-28 | 1989-02-01 | Messerschmitt-Bölkow-Blohm Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Verfahren zur reproduzierbaren Bildung von Materialschichten und/oder zur Behandlung von Halbleiter-Materialschichten |
| WO2018229250A1 (de) * | 2017-06-15 | 2018-12-20 | Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover | Verfahren und anlage zur herstellung eines elektrischen bauteils sowie computerprogramm |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DD108559B1 (de) | 1979-11-28 |