CS270989B1 - Lattice measuring device - Google Patents
Lattice measuring device Download PDFInfo
- Publication number
- CS270989B1 CS270989B1 CS881248A CS124888A CS270989B1 CS 270989 B1 CS270989 B1 CS 270989B1 CS 881248 A CS881248 A CS 881248A CS 124888 A CS124888 A CS 124888A CS 270989 B1 CS270989 B1 CS 270989B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- grid
- waveguide layer
- metering device
- planar
- plenary
- Prior art date
Links
Landscapes
- Optical Transform (AREA)
Abstract
Description
Vynález se týká mřížkového odměřovacího zařízení, sestávajícího z koherentního osvětlovače, zkřížené optické difrakční mřížky a z interferometrického detektoru. Vynález řeší problém přesného odměřování polohy ve dvou souřadnicích a týká se oboru přesného délkového měření.BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a grid metering device comprising a coherent illuminator, an optical diffraction grating and an interferometric detector. The invention solves the problem of accurate position measurement in two coordinates and relates to the field of precision length measurement.
Dosud známá mřížkové odměřovací zařízení obsahují interferometrický detektor, složený z diskrétních součástek, zejména zrcátek, polopropustných destiček a detektorů optického záření, které jsou vestavěny do nosného skeletu, ve kterém mohou být v jistých mezích nastaveny do nejvýhodnější polohy. Možnost následného přesného nastavení je potřebná z toho důvodu, že složitá prostorová struktura interferometrického detektoru nedovoluje vyrobit skelet s náležitou přesností. Koherentní osvětlovač je obvykle tvořen plynovým laserem. Dosavadní interferometrický detektor je složen ze dvou totožných interferometrických jednotek s rozložením součástek tak, že jejich středy leží v rovině symetrie, přičemž obě roviny jsou orientovány navzájem kolmo. Každá jednotka se skládá ze dvou zrcátek, polopropustné destičky a detektoru záření. Funkci každé z obou jednotek lze popsat následně.The prior art grid metering devices comprise an interferometric detector composed of discrete components, in particular mirrors, semipermeable plates and optical radiation detectors, which are embedded in a support skeleton in which they can be adjusted to the most advantageous position within certain limits. The possibility of subsequent accurate adjustment is needed because the complex spatial structure of the interferometric detector does not allow the skeleton to be manufactured with appropriate accuracy. The coherent illuminator is usually a gas laser. The prior art interferometric detector is composed of two identical interferometric units with the distribution of components so that their centers lie in the plane of symmetry, both planes being oriented perpendicular to each other. Each unit consists of two mirrors, a semi-transparent plate and a radiation detector. The function of each of the two units can be described as follows.
Na odměřovací mřížku se soustavou zkřížených vrypů dopadá úzký světelný svazek z koherentního osvětlovače. Na mřížkové soustavě svazek difraktuje do dvakrát dvou difrakční ch řádů, z nichž každá dvojice postupuje podél jedné z rovin symetrie. Každý svazek z dvojice se na příslušném zrcátku odráží tak, aby dopadal na stejné místo polopropustné destičky, která jeden svazek propustí a druhý odrazí. Polopropustné destička je natočena tak, aby se oba zvazky dostaly do jednoho kanálu, ve kterém potom dopadají na detektor záření. Při posouvání mřížkou v její rovině ve směru rovnoběžném s rovinou interferometrické jednotky vznikají interferencí mezi oběma svazky, interferenční maxima a minima v závislosti na poloze mřížky, přičemž pro elektrickou odezvu platí vztah I cos2(27Íχ/Λ ), kde A je perioda mřížky a x je odměřovaná vzdálenost, protože mřížka má zkřížené vrypy, lze odměřovat vzdálenosti v obou kolmých směrech.A narrow light beam from a coherent illuminator falls on the metering grid with a set of crossed scratches. On a lattice system, the beam diffracts into twice two diffraction orders, each pair advancing along one of the planes of symmetry. Each beam of the pair is reflected on the respective mirror so that it hits the same spot of a semipermeable plate that passes one beam and the other bounces. The semipermeable plate is rotated so that both bundles are in one channel, where they then impinge on the radiation detector. When moving the grating in its plane parallel to the plane of the interferometer units are formed by interference between two beams, interference maxima and minima, depending on the position of the grid, whereby the electrical response following relationship applies I cos 2 (27Íχ / Λ) where A is the grating period ax is the measured distance because the grid has crossed notches, it is possible to measure distances in both perpendicular directions.
Nevýhodou tohoto řeěení je předevěím složitá prostorová struktura interferometrického detektoru, vyžadující při výrobě celou řadu rozličných úkonů, materiálů a mechanických a optických součástek. Výroba je dále silnou měrou závislá na odbornosti a zručnosti řemeslníků a pracovníků zajištujících nastavení celého zařízení. Z těchto důvodů je velmi obtížná nebo zcela vyloučená automatizace výroby, nebo dokonce jen snaha po zjednodušení výroby na základě stávající technologie.The disadvantage of this solution is, above all, the complex spatial structure of the interferometric detector, which requires a wide range of operations, materials and mechanical and optical components. Furthermore, production is heavily dependent on the expertise and craftsmanship of the craftsmen and the staff involved in setting up the entire equipment. For this reason, automation of production, or even an attempt to simplify production based on existing technology, is very difficult or eliminated.
Tyto nevýhody odstraňuje mřížkové odměřovací zařízení podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že interferometrický detektor je vytvořen v plenárním optickém provedení tak, že na podkladní destičce je upravena planární vlnovodná vrstva se Čtyřmi vazebními mřížkami uspořádanými v rozích myšleného čtyřúhelníka. Dále jsou na vrstvě uvnitř nebo vně myšleného čtyřúhelníka upraveny dva planární mřížkové děliče а к vyleštěné boční stěně destičky jsou přiloženy dva detektory optického záření. Materiálem podkladní destičky může být také polovodič a detektory potom mohou být upraveny jako planární elementy přímo na destičce. Kromě toho může být koherentní zdroj záření přiložen к boční stěně destičky a na vlnovodné vrstvě upraven planární mřížkový kolimátor a vazební mřížkový element.These drawbacks are overcome by the grid metering device according to the invention, which is based on the fact that the interferometric detector is designed in a plenary optical design by providing a planar waveguide layer with four bonding grids arranged in the corners of the intended quadrilateral. In addition, two planar grid dividers are provided on the layer inside or outside the intended quadrilateral and two optical radiation detectors are attached to the polished side wall of the plate. The backing plate material may also be a semiconductor, and the detectors may then be provided as planar elements directly on the wafer. In addition, a coherent radiation source may be applied to the side wall of the plate and a planar grid collimator and a coupling grid element may be provided on the waveguide layer.
Výhoda zařízení podle vynálezu spočívá v tom, že při výrobě je podstatně omezeno spektrum technologických úkonů a materiálů a sjednoceny optické součástky na bázi plenárních difrakčních struktur.The advantage of the device according to the invention lies in the fact that during production the spectrum of technological operations and materials is considerably reduced and optical components based on plenary diffractive structures are unified.
CS 270 989 BlCS 270 989 Bl
Kromě toho je zařízení plně integrováno v plenárním vidu a umožňuje náležitý etupeň automatizace výroby bez potřeby nastavování konečného provedení.In addition, the device is fully integrated in the plenary mode and allows for a proper stage of production automation without the need to adjust the final design.
Příklad provedení zařízení podle vynálezu je znázorněn na připojeném výkresu» který představuje schematický náčrtek zařízení.An exemplary embodiment of the device according to the invention is shown in the attached drawing, which is a schematic drawing of the device.
Na podkladní destičce χ je upravena plenární vlnovodná vrstva 2. se čtyřmi vazebními mřížkami 41« 42« 43« 44 uspořádanými v rozích myšleného čtverce 10Λ Uvnitř myšleného čtverce 10 jsou upraveny dva planární mřížkové děliče 51« 52 а к vyleštěné boční stěnš planární vlnovodné vrstvy 2. jsou přiloženy dva detektory 61< 62 optického záření. Na planární vlnovodné vrstvě 2. uvnitř myšleného Čtverce 10 je upravena vyvažovači vazební mřížka 8 а к vyleštěné boční stěně planární vlnovodné vrstvy £ je připevněn polovodičový zdroj £ koherentního světla. Mezi polovodičovým zdrojem £ koherentního světla a vyvažovači vazební mřížkou 8 je upraven planární mřížkový kolimační element £. Nad podkladní destičkou χ je upravena zkřížená optická difrakční mřížka £.On the base plate χ is provided a plenary waveguide layer 2 with four bond gratings 41 «42 43 43 44 44 arranged at the corners of the imaginary square 10 Λ Inside the imaginary square 10 are provided two planar grid dividers 51 52 52 а and a polished side wall of the planar waveguide layer 2. two optical radiation detectors 61 < 62 are provided. A balancing coupling grid 8 is provided on the planar waveguide layer 2 within the intended square 10 and a semiconductor light source 6 is fixed to the polished side wall of the planar waveguide layer. A planar grid collimation element 6 is provided between the semiconductor light source 8 and the balancing coupling grid 8. A crossed optical diffraction grating 6 is provided above the base plate χ.
Funkce zařízení podle vynálezu je tato. Světlo vyzařované polovodičovým zdrojem £ koherentního světla se naváže do planární vlnovodné vrstvy £ a šíří se v ní jako vlnovodný vid· V příčném směru se rozbíhavý světelný svazek kolimuje mřížkovým elementem £» takže га ním se Síří jako svazek 15 rovnoběžných paprsků. Tento svazek 15 rovnoběžných paprsků se vyvažuje do volného prostoru vazební mřížkou 8 a dopadá kolmo na plochu zkřížené optické difrakční mřížky £. Na této zkřížené optické difrakční mřížce 2 svazek 15 difraktuje a vytvoří po dvou svazcích 11 < 12 plus prvního řádu a po dvou svazcích 13« 14 minus prvního řádu. Dvojice svazků 11« 13 a 12« 14 plus a minus prvního řádu leží každá v rovině kolmé ke zkřížené optické difrakční mřížce £» přičemž obě roviny jsou také navzájem kolmé. Difraktované svazky 11« 13 а 12« 14 se vazebními mřížkami 41« 42 · 43« 44 navazují do planární vlnovodné vrstvy £ tak» aby se šířily směrek к plenárním mřížkovým děličům 51« 52« kde se ve dvojicích spojí do jednoho směru a dopadají na detektory 61< 62» které přijímají signál vzniklý interferencí mezi dvojicemi svazků 11« 13 a 12 < 11·The function of the device according to the invention is this. The light emitted by the coherent light semiconductor source 6 is bound to the planar waveguide layer 6 and propagated therein as a waveguide mode. This parallel beam 15 is balanced into the free space by the coupling grid 8 and impinges perpendicularly to the area of the crossed optical diffraction grid 6. On this crossed optical diffraction grating 2, the beam 15 diffractes and forms after two beams 11 < 12 plus first order and after two beams 13 ' 14 minus first order. The pairs of beams 11 «13 and 12 «14 plus and minus first order each lie in a plane perpendicular to the crossed optical diffraction grating 60, and both planes are also perpendicular to each other. Diffracted bundles 11 13 13 and 12 14 14 with bonding grids 41 42 42 43 43 44 44 are bonded to the planar waveguide layer tak so as to propagate the direction towards the plenary grating divider 51 52 52 kde where they join in pairs in one direction and impinge on detectors 61 <62 »that receive a signal due to interference between pairs of beams 11« 13 and 12 <11 ·
Zařízení podle vynálezu je možno s výhodou využít pro odměřování poloh stolků» například projekčních krokových kamer nebo elektronových litografických přístrojů mikroelektronické maskovací techniky» dále držáků obráběcích a jiných nástrojů v přesné strojírenské technice a podobně.The device according to the invention can be advantageously used for measuring the positions of the tables »for example projection step cameras or electron lithographic devices of microelectronic camouflage technique», for tool holders and other tools in precision engineering and the like.
Claims (6)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS881248A CS270989B1 (en) | 1988-02-26 | 1988-02-26 | Lattice measuring device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS881248A CS270989B1 (en) | 1988-02-26 | 1988-02-26 | Lattice measuring device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CS124888A1 CS124888A1 (en) | 1990-01-12 |
CS270989B1 true CS270989B1 (en) | 1990-08-14 |
Family
ID=5346369
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CS881248A CS270989B1 (en) | 1988-02-26 | 1988-02-26 | Lattice measuring device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CS (1) | CS270989B1 (en) |
-
1988
- 1988-02-26 CS CS881248A patent/CS270989B1/en unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CS124888A1 (en) | 1990-01-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7864336B2 (en) | Compact Littrow encoder | |
US7130056B2 (en) | System and method of using a side-mounted interferometer to acquire position information | |
CN106289336B (en) | Bilateral interferometry encoder system | |
US7561280B2 (en) | Displacement measurement sensor head and system having measurement sub-beams comprising zeroth order and first order diffraction components | |
EP0250306B1 (en) | Angle measuring interferometer | |
KR102671210B1 (en) | Displacement measurement device, displacement measurement method, and photolithography device | |
CN108801158B (en) | Grating scale calibration device and calibration method | |
EP0244275B1 (en) | Angle measuring interferometer | |
US4955718A (en) | Photoelectric measuring system with integrated optical circuit including and illuminating system | |
CN108519053A (en) | A kind of device and method for measuring sports platform six degree of freedom | |
WO2018019264A1 (en) | Grating measurement apparatus | |
CN108731601B (en) | Grating scale calibration device and calibration method for spatial light path | |
JPH0482175B2 (en) | ||
JP2779102B2 (en) | Multi-wavelength interferometer | |
US4787747A (en) | Straightness of travel interferometer | |
US20080225262A1 (en) | Displacement Measurement System | |
US5898486A (en) | Portable moire interferometer and corresponding moire interferometric method | |
CN104006884A (en) | Spatial modulation spectrometer based on grid beam splitter and manufacturing method | |
US11940349B2 (en) | Plane grating calibration system | |
JPS58191907A (en) | Method for measuring extent of movement | |
Xu et al. | Rotatable single wedge plate shearing interference technique for collimation testing | |
JP3395339B2 (en) | Fixed point detector | |
CN209485273U (en) | A kind of grating scale caliberating device of space optical path | |
CS270989B1 (en) | Lattice measuring device | |
US3419331A (en) | Single and double beam interferometer means |