CS261260B1 - Method of substrate's accurate levelling with non-even diversely reflecting surface and optical system for realization of this method - Google Patents
Method of substrate's accurate levelling with non-even diversely reflecting surface and optical system for realization of this method Download PDFInfo
- Publication number
- CS261260B1 CS261260B1 CS873809A CS380987A CS261260B1 CS 261260 B1 CS261260 B1 CS 261260B1 CS 873809 A CS873809 A CS 873809A CS 380987 A CS380987 A CS 380987A CS 261260 B1 CS261260 B1 CS 261260B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- substrate
- optically coupled
- photodiodes
- differential
- strand
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 48
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 11
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 5
- 238000012937 correction Methods 0.000 abstract description 10
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 3
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001028 reflection method Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
Landscapes
- Measurement Of Optical Distance (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
Poloha substrátu v ose kolmé na sledovanou lokalitu jeho povrchu se opticky sleduje současným protisměrným zobrazová ním štěrbin na rozdílově zapojené diferenciální fotodiody odrazem od povrchu substrátu. Úhlová výchylka od téže osy se opticky sleduje promítáním kruhové clony odrazem od povrchu substrátu na kvadrantovou fotodiodu. Korekce se současně prová dějí změnami zdvihu piezokeramických sloupků podpírajících substrát úměrně poloze zobrazení štěrbin na fotooitlivých ploš kách diferenciálních fotodiod a posunu obrazu kruhové clony po ploše kvadrantové fotodiody. K tomu slouží dvouvětvová optická soustava sestávající z fotodiod kondenzorů, zrcadel, částečně propustných zrcadel, štěrbin, diferenciálních fotodiod, planparalelních desek, objektivů, kruhové clony a kvadrantové fotodiody, vzájemně uspořádaných v jedné rovině.Position of the substrate perpendicular to the target its surface is optically monitors the current counter display differential slits on the differential-connected differential photodiodes reflecting off the substrate surface. Angular deflection from the same axis optically monitors the projection of a circular aperture reflection from the substrate surface to the quadrant photodiode. Correction is performed simultaneously the changes in stroke of piezoceramic columns supporting the substrate proportionally displaying slits on the photo sensitive surface differential photodiodes and shifts the image of a circular aperture over a quadrant surface photodiodes. Two-branched is used for this an optical system consisting of photodiodes condensers, mirrors, partially permeable mirrors, slits, differential photodiodes, planparal plates, lenses, circular apertures and quadrant photodiodes, mutually arranged in one plane.
Description
Vynález řeší způsob přesného ustavení polohy a úhlu substrátu s nerovinným, různě reflektujícím povrchem, vzhledem k ose kolmé na sledovanou lokalitu jeho povrchu a vzájemné uspořádáni jednotlivých optických členů dvouvětvové optické soustavy k provádění tohoto způsobu.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a method for precisely positioning and angling a substrate with a non-planar, reflecting surface relative to an axis perpendicular to the surface location to be monitored and aligning the individual optical members of a dual-branch optical system to perform the method.
Dosud známá zařízení, určená pro sledování a korekci polohy povrchu substrátu, bud nedovolují přesně ustavit jednotlivé lokality nerovinného povrchu, nebo neumožňují přesné korekce zejména podélné polohy různě reflektujícího substrátu, vykazujícího i skokové změny v odrazivosti, způsobované fotometricky i geometricky nestejnorodým povrchem. Nelze jimi provádět současně podélnou polohovou a úhlovou indikaci akorekci při posuvu substrátu v rovině jeho povrchu. Tak například je známé fotoelektrické zařízení používané pro fokusaci a nivelaci exponovaného substrátu u fotolitografického zařízení, které neumožňuje úhlovou indikaci a korekci jednotlivých lokalit sledovaného povrchu. Používá se fotoelektrické zařízení v opakovači kameře pouze pro ustavení podélné polohy substrátu odraznou metodou. Ani tento princip neumožňuje korekci nestejně reflektujícího povrchu a nedovoluje úhlově korigovat substrát v jeho jednotlivých lokalitách. V optomechanických zařízeních pro fokusaci anivelaci např. u opakovačích kamer pro fotolitografii mikroelektronických prvků se používá odrazná metoda s koherentním laserovým zdrojem záření. Nevýhodou této metody jsou z jejího principu vznikající parazitní difrakční efekty dané strukturou sledovaného:povrchu, které zkreslují optickou indikaci polohy a úhlu. Konstrukční prvky, které realizují zdvih sledovaného substrátu, jsou pneumatické válce. Volba tradičních pneumatických pohonů zapříčinila, že nastavení úhlu je pomalé a neuplatní se ke sledování všech lokalit povrchu.The prior art devices for monitoring and correcting the position of the substrate surface either do not allow precise alignment of the individual locations of the non-planar surface, or do not allow accurate corrections in particular of the longitudinal position of the reflecting substrate exhibiting step changes in reflectivity caused by photometric and geometrically heterogeneous surfaces. They cannot simultaneously perform longitudinal position and angular indication of the correction when the substrate is moved in the plane of its surface. For example, a photoelectric device used for focusing and leveling an exposed substrate in a photolithographic device that does not allow angular indication and correction of individual sites of the surface of interest is known. A photoelectric device is used in the repeater camera only to establish the longitudinal position of the substrate by the reflection method. Even this principle does not allow correction of unequally reflecting surface and does not allow angular correction of the substrate in its individual locations. In optomechanical devices for focusing the leveling, for example in repeater cameras for photolithography of microelectronic elements, a reflection method with a coherent laser radiation source is used. The disadvantage of this method is the parasitic diffraction effects arising from its principle, which are caused by the structure of the observed surface, which distort the optical indication of position and angle. The components that realize the stroke of the substrate to be monitored are pneumatic cylinders. The choice of traditional pneumatic actuators has made the angle adjustment slow and does not apply to all surface locations.
Popisované nedostatky odstraňuje způsob přesného ustavení substrátu s nerovinným, různě reflektujícím povrchem a optická soustava k jeho provádění podle tohoto vynálezu. Ustavovaný substrát je podepřen třemi piezokeramickými sloupky. Podstatou způsobu ustavení polohy substrátu v ose kolmé na sledovanou lokalitu jeho povrchu je, že poloha substrátu se opticky sleduje současným protisměrným zobrazováním dvou štěrbin na dvě fotocitlivé rozdílově zapojené diferenciální fotodiody odrazem od povrchu sledované části reflektujícího substrátu. Přitom se poloha substrátu koriguje změnami zdvihu piezokeramických sloupků úměrně poloze zobrazení štěrbin na fotocitlivých ploškách diferenciálních fotodiod. Dále je podstatné, že úhlová odchylka substrátu od osy kolmé na sledovanou lokalitu jeho povrchu se současně opticky sleduje promítáním kruhové clony v ohniskové rovině objektivu odrazem od povrchu sledované části reflektujícího substrátu na fotocitlivou kvadrantovou fotodiodu v ohniskové rovině dalšího objektivu. Přitom se úhlová odchylka substrátu koriguje jeho naklápěnim kolem jpříčné a podélné osy rovněž změnami zdvihu piezokeramických sloupků úměrně posunu obrazu kruhové clony po ploše kvadrantové fotodiody. Optická soustava je rozdělená do dvou větví a sestává z fotodiod, kondenzorů, zrcadel a částečně propustných zrcadel, štěrbin, diferenciálních fotodiod, planparalelních desek, objektivů, kruhové clony a kvadrantové fotodiody, a její podstatou je to, že fotodioda levé větve je opticky spojena s kondenzorem levé větve. Kondenzor levé větve je opticky spojen s prvním zrcadlem levé větve. První zrcadlo levé větve je přes štěrbinu levé větve opticky spojeno s částečně propustným zrcadlem levé větve, částečně propustné zrcadlo levé větve je opticky spojeno s planparalelní deskou levé větve a současně s diferenciální fotodiodou levé větve. Planparalelní deska levé větve je přes kruhovou clonu opticky spojena s druhým zrcadlem levé větve. Druhé zrcadlo levé větve je opticky spojeno s objektivem levé větve. Objektiv levé větve je odrazem od reflektujícího povrchu substrátu opticky spojen s objektivem pravé větve. Objektiv pravé větve je opticky spojen s druhým zrcadlem pravé větve. Objektiv pravé větve je opticky spojen s druhým zrcadlem pravé větve. Druhé zrcadlo pravé větve je opticky spojeno s planparalelní deskou pravé větve a současně s kvadrantovou fotodiodou. Planparalelní deska pravé větve je opticky spojena s, částečně propustným zrcadlem pravé větve a současně s diferenciální fotodiodou pravé větve, částečně propustné zrcadlo pravé větve je přes štěrbinu pravé větve opticky spojeno s prvním zrcadlem pravé větve. První zrcadlo pravé větve je opticky spojeno s kondenzorem pravé větve. Kondenzor pravé větve je opticky spojen s fotodiodou pravé větve. Všechny optické členy levé i pravé větve j.gou v jedné rovině.The described drawbacks are overcome by a method of accurately aligning a substrate with a non-planar, reflecting surface and an optical system for carrying out the present invention. The substrate is supported by three piezoceramic columns. The essence of the method of aligning the substrate in an axis perpendicular to the surface locality of interest is that the position of the substrate is optically monitored by simultaneously counter-directionally imaging two slots on two photosensitive differential-connected differential photodiodes by reflection from the surface of the monitored portion of the reflecting substrate. Here, the position of the substrate is corrected by varying the stroke of the piezoceramic columns in proportion to the position of the slot imaging on the photosensitive surfaces of the differential photodiodes. Furthermore, it is essential that the angular deviation of the substrate from an axis perpendicular to the surface locality to be monitored is simultaneously optically monitored by projecting a circular aperture in the focal plane of the lens by reflection from the surface of the surface of the reflecting substrate on the photosensitive quadrant photodiode. In this case, the angular deviation of the substrate is corrected by tilting it around the transverse and longitudinal axes also by varying the stroke of the piezoceramic columns in proportion to the displacement of the image of the circular aperture over the surface of the quadrant photodiode. The optical system is divided into two branches and consists of photodiodes, condensers, mirrors and partially transmissive mirrors, slots, differential photodiodes, planar parallel plates, lenses, an iris diaphragm and a quadrant photodiode. condenser of the left branch. The left-hand condenser is optically coupled to the first left-hand mirror. The first left-hand mirror is optically coupled to the partially-passable left-hand mirror through the left-hand slit, the partially-passable left-hand mirror is optically coupled to the left-hand planar parallel plate and the left-hand differential photodiode. The planar parallel plate of the left branch is optically connected to the second mirror of the left branch via a circular aperture. The second left-hand mirror is optically coupled to the left-hand lens. The left-side lens is optically coupled to the right-side lens by reflection from the reflecting surface of the substrate. The right branch lens is optically coupled to the second right branch mirror. The right branch lens is optically coupled to the second right branch mirror. The second mirror of the right branch is optically connected to the planar parallel plate of the right branch and simultaneously to the quadrant photodiode. The right-side planar parallel plate is optically coupled to the right-side partially transparent mirror and simultaneously to the right-side differential photodiode, the right-side partially transparent mirror is optically coupled to the first right-side mirror through the right-side slot. The first right-hand mirror is optically coupled to the right-hand condenser. The right-hand condenser is optically coupled to the right-hand photodiode. All optical elements of left and right j.gou branches in one plane.
Uvedený způsob umožňujé sledovat současně ustavení úhlu i polohy různě reflektujícího substrátu jednou a touž dvouvětvovou soustavou a indikované odchylky zároveň přesně korigovat jedinou sadou piezokeramických sloupků, podpírajících měřený substrát·, neboř pro elektronické řízení zdvihu piezokeramických sloupků je určující signál z diferenciálních fotodiod a kvadrantové fotodiody.Said method makes it possible to simultaneously monitor the alignment of the angle and position of the different reflecting substrate by one and the same two-branch system and to correct the indicated deviations simultaneously with a single set of piezoceramic columns supporting the measured substrate.
Konkrétní příklad provedení optické soustavy k „provádění způsobu přesného ustavení substrátu s nerovinným, různě reflektujícím povrchem podle tohoto vynálezu, vhodné pro kameru pro přímou expozici křemíkových desek, je zřejmý z připojených výkresů, kde na obr. 1 je znázorněno optické schéma soustavy, na obr. 2 je uspořádání piezokeramických sloupků v půdorysu a obr. 3 přibližuje uspořádání rozdílového zapojení diferenciálních fotodiod.A specific embodiment of an optical system for performing a method of accurately aligning a substrate with a non-planar, differently reflective surface according to the present invention, suitable for a direct exposure camera of silicon wafers, is apparent from the accompanying drawings. Fig. 2 is a plan view of piezoceramic columns, and Fig. 3 illustrates the arrangement of the differential connection of differential photodiodes.
Fotodioda 11 levé větve je opticky spojena s kondenzorem 71 levé větve. Kondenzor 71 levé větve je opticky spojen s prvním zrcadlem 51 levé větve. První zrcadlo 51 levé větve je přes štěrbinu Ql levé větve opticky spojeno s částečně propustným zrcadlem 31 levé větve. Částečně propustné zrcadlo 31 levé větve je opticky spojeno s planparalelní deskou 41 levé větve a současně s diferenciální fotodiodou 81 levé větve. Planparalelní deska 41 levé větve je přes kruhovou clonu 2 opticky spojena s druhým zrcadlem 53 levé větve. Druhé zrcadlo 53 levé větve je opticky spojeno s objektivem 61 levé větve. Objektiv 61 levé větve je odrazem od reflektujícího povrchu substrátu 2 opticky spojen s objektivem 62 pravé větve. Objektiv 62 pravé větve je opticky spojen s druhým zrcadlem 54 pravé větve. Druhé zrcadfo 54 pravé větve je otpicky spojeno splanparalelní deskou 42 pravé větve a současně s kvadrantovou fotodiodou 6. Planparalelní deska 42 pravé větve je opticky spojena s částečně propustným zrcadlem 32 pravé větve a současně s diferenciální fotodiodou 82 pravé větve. Částečně propustné zrcadlo 32 pravé větve je přes štěrbinu 22 pravé větve opticky spojeno s prvním zrcadlem 52 pravé větve. První zrcadlo 52 pravé větve je opticky spojeno s kondenzorem 72 pravé větve. Kondenzor 72 pravé větve je opticky spojen s fotodiodou 12 pravé větve. Všechny optické členy levé i pravé větve jsou v jedné rovině. Signály z diferenciálních fotodiod 81, 82 a z kvadrantové fotodiody Q jsou uičující pro řízení zdvihu piezokeramických sloupků 2, podpírajících měřený substrát'2·The left-hand photodiode 11 is optically coupled to the left-hand condenser 71. The left-hand condenser 71 is optically coupled to the first left-hand mirror 51. The first left-hand mirror 51 is optically coupled to the partially-passable left-hand mirror 31 via the left-hand slit 14. The partially transmitted left-side mirror 31 is optically coupled to the left-side planar parallel plate 41 and at the same time to the left-side differential photodiode 81. The left-side planar plate 41 is optically connected to the second left-side mirror 53 via a circular aperture 2. The second left-hand mirror 53 is optically coupled to the left-hand lens 61. The left-side objective 61 is optically coupled to the right-side objective 62 by reflection from the reflecting surface of the substrate 2. The right branch lens 62 is optically coupled to the second right branch mirror 54. The second right-side mirror 54 is elliptically coupled to the right-side splanparallel plate 42 and simultaneously to the quadrant photodiode 6. The right-side planar plate 42 is optically coupled to the right-side partially transparent mirror 32 and the right-side differential photodiode 82 at the same time. The partially transmitted right-side mirror 32 is optically coupled to the first right-side mirror 52 via the right-side slot 22. The first right-hand mirror 52 is optically coupled to the right-hand condenser 72. The right-hand condenser 72 is optically coupled to the right-hand photodiode 12. All optical elements of the left and right branches are flush. The signals from the differential photodiodes 81, 82 and from the quadrant photodiode Q are indicative of the stroke control of the piezoceramic columns 2 supporting the substrate to be measured.
Optické sledování polohy substrátu 2 spočívá v zobrazování štěrbin 21, 22 jejich prosvětlením fotodiodou 11, 12 prostřednictvím kondenzoru 71, 72 a pomocí částečně propustného zrcadla 32, 31 na fotocitlivou diferenciální fotodiodu 82, 81. Funkci jednoho z odrazných členů soustavy vykonává slédovaná část reflektujícího povrchu substrátu 2» na nějž se promítá meziobraz Q štěrbin 21, 22. V případě, že není třeba korigovat polohu substrátu 2 v ose kolmé na sledovanou část substrátu 2» promítá se meziobraz 5 středu štěrbin 21, 22 do roviny reflektujícího povrchu substrátu 2 a výsledné zobrazení štěrbin 21, 22 je symetrické k fotocitlivým ploškám diferenciálních fotodiod 82, 81. Kompenzace různě reflektujícího povrchu substrátu 2» zapříčiňující rozdílnou odrazovost meziobrazu 2 promítaných štěrbin 21, 22, je provedena pomocí dvouvětvové optické soustavy tak, že štěrbina 21 levé větve je promítána na diferenciální fotodiodu 82 pravé větve a štěrbina 22 pravé větve je promítána na diferenciální fotodiodu 81 levé větve. Meziobrazy 5 obou štěrbin 21, 22 se vzájemně překládají na povrchu substrátu 2 tehdy, jestliže průsečík sledované lokality s osou kolmou na její povrch leží v místě, kde není třeba polohu substrátu 2 korigovat. Rozdílově zapojení diferenciální fotodiody 81, 82 podmiňují správnou funkci kompenzace různé odrazivostí meziobrazu 2 štěrbin 21, 22. K nastaveni přesné koincidence těchto meziobrazů 2 slouží natočitelné planparalelní desky 21» 42, umístěné po jedné v každé indikační větvi soustavy. Zrcadla 51, 52, 53, 54 upravují Chod světelného svazku tak, aby dostatečná vzdálenost obou větví optické soustavy umožňovala zabudovat do ní funkční skupiny, např. tubus s projekčním objektivem, těleso mikroskopu, měřicí zařízení aj.Optical monitoring of the position of the substrate 2 consists in imaging the slots 21, 22 by illuminating them with a photodiode 11, 12 via a condenser 71, 72 and by means of a partially transmissive mirror 32, 31 to a photosensitive differential photodiode 82, 81. substrate 2 »onto which is projected intermediate image Q of the slots 21, 22. in case it is not necessary to correct the position of the substrate 2 along an axis perpendicular to the monitored portion of the substrate 2» intermediate image 5 projected center of the slots 21, 22 in the plane of the reflecting surface of the substrate 2 and the resulting the imaging of the slits 21, 22 is symmetrical to the photosensitive areas of the differential photodiodes 82, 81. The compensation of the differently reflecting surface of the substrate 2 causing different reflectance of the projected 2 of the projected slits 21, 22 It is applied to the right-side differential photodiode 82 and the right-side slot 22 is projected to the left-side differential photodiode 81. The intermediate images 5 of the two slots 21, 22 overlap each other on the surface of the substrate 2 if the intersection of the monitored locality with the axis perpendicular to its surface lies at a point where it is not necessary to correct the position of the substrate 2. Differential connection of the differential photodiodes 81, 82 condition the correct function of the compensation of the different reflectance of the intermediate images 2 of the slots 21, 22. To adjust the exact coincidence of these intermediate images 2, rotatable planar parallel plates 21, 42 are provided. The mirrors 51, 52, 53, 54 adjust the operation of the light beam so that a sufficient distance between the two branches of the optical system makes it possible to incorporate functional groups, such as a projection lens tube, microscope body, measuring device, etc.
Bez závislosti na funkci systému pro sledování polohy je řešena indikace kolmosti sledované lokality substrátu 2 k ose, procházející sledovanou lokalitou. K tomuto účelu je v ohniskové rovině objektivu 61 levé větve umístěna kruhová clona 2, promítaná do ohniskové roviny objektivu 62 pravé větve, v níž je zabudována fotocitlivá kvadrantová fotodioda 2· Úhlová odchylka lokality povrchu substrátu 2 od kolmé osy způsobí odchýlení paprskového svazku mezi oběma objektivy 61? 62 a tedy i posunutí obrazu kruhové clony 2 po ploše kvadrantové fotodiody 6.Regardless of the function of the position monitoring system, an indication of the perpendicularity of the monitored locality of the substrate 2 to the axis passing through the locality is solved. For this purpose, in the focal plane of the lens 61 of the left branch is located a circular aperture 2, projected to the focal plane of the lens 62 of the right branch in which is incorporated a photosensitive quadrant photodiode 2 · Angular site surface of the substrate 2 from the perpendicular axis causes deflection jet beam between the two lenses 61 ? 62 and thus the displacement of the image of the circular aperture 2 on the surface of the quadrant photodiode 6.
Korekci pro úpravu úhlového nastavení sledované’ lokality povrchu substrátu JL stejně jako korekci polohy provádějí piezokeramické sloupky T_. V případě potřeby korekce polohy v kolmé ose posunou piezokeramické sloupky T_ substrátu 1^ rovnoběžně úměrně poloze obrazu štěrbin 21, 22 na diferenciálních fotodiodách 82, 81. V případě potřeby korekce úhlových odchylek je zdvih každého piezokeramiokého sloupku T_ úměrný poloze obrazu kruhové clony 2 na kvadrantové fotodiodě £. Korekce těchto odchylek je prováděna naklápěním substrátu i kolem příčné osy 3 a podélné osy £.The piezoceramic columns T_ are used to correct the angular adjustment of the monitored surface of the substrate JL as well as the position correction. If necessary, the perpendicular axis position correction shifts the piezoceramic columns T1 of the substrate 1 parallel to the image position of the slots 21, 22 on the differential photodiodes 82, 81. If the angular offset correction is required, the stroke of each piezoceramic column T_ is proportional to the photodiode £. The correction of these deviations is performed by tilting the substrate 1 about the transverse axis 3 and the longitudinal axis 6.
Claims (2)
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS873809A CS261260B1 (en) | 1987-05-26 | 1987-05-26 | Method of substrate's accurate levelling with non-even diversely reflecting surface and optical system for realization of this method |
| SU887774720A SU1702210A1 (en) | 1987-05-26 | 1988-03-30 | Device for adjusting an object having non-planar surface reflecting in different ways |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS873809A CS261260B1 (en) | 1987-05-26 | 1987-05-26 | Method of substrate's accurate levelling with non-even diversely reflecting surface and optical system for realization of this method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS380987A1 CS380987A1 (en) | 1988-06-15 |
| CS261260B1 true CS261260B1 (en) | 1989-01-12 |
Family
ID=5379268
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS873809A CS261260B1 (en) | 1987-05-26 | 1987-05-26 | Method of substrate's accurate levelling with non-even diversely reflecting surface and optical system for realization of this method |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS261260B1 (en) |
| SU (1) | SU1702210A1 (en) |
-
1987
- 1987-05-26 CS CS873809A patent/CS261260B1/en unknown
-
1988
- 1988-03-30 SU SU887774720A patent/SU1702210A1/en active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CS380987A1 (en) | 1988-06-15 |
| SU1702210A1 (en) | 1991-12-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100471524B1 (en) | Exposure method | |
| JP3064433B2 (en) | Positioning apparatus and projection exposure apparatus having the same | |
| US20180024445A1 (en) | Projection exposure system for microlithography with a measurement device | |
| JP4023695B2 (en) | Alignment apparatus and lithographic apparatus provided with the apparatus | |
| KR100370680B1 (en) | Projection Exposure Method and Projection Exposure Device | |
| US8411249B2 (en) | Surface position detecting apparatus, exposure apparatus, surface position detecting method, and device manufacturing method | |
| US8223345B2 (en) | Surface position detecting apparatus, exposure apparatus, surface position detecting method, and device manufacturing method | |
| US8760624B2 (en) | System and method for estimating field curvature | |
| WO2008007765A1 (en) | Surface position detecting apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method | |
| KR19980042321A (en) | Lighting apparatus, exposure apparatus provided with lighting apparatus, and semiconductor device manufacturing method | |
| US20090296062A1 (en) | Method of measuring position error of beam of exposure apparatus and exposure apparatus using the same | |
| TW201137530A (en) | Optical system, in particular in a microlithographic projection exposure apparatus | |
| JPH08179202A (en) | UV imaging optical system | |
| JPH083576B2 (en) | Optical imaging device and mask pattern imaging device | |
| CN106814547B (en) | A kind of detecting and correcting device and survey calibration method | |
| CS261260B1 (en) | Method of substrate's accurate levelling with non-even diversely reflecting surface and optical system for realization of this method | |
| US20060007554A1 (en) | Method and apparatus for maintaining focus and magnification of a projected image | |
| JP2580651B2 (en) | Projection exposure apparatus and exposure method | |
| JP5401770B2 (en) | Surface position detection apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
| US11243480B2 (en) | System for making accurate grating patterns using multiple writing columns each making multiple scans | |
| JPH097915A (en) | Surface tilt detector | |
| JPH11135428A (en) | Projection exposure method and projection exposure apparatus | |
| WO2009093594A1 (en) | Surface position detecting device, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
| JPH10209029A (en) | Exposure apparatus with alignment system | |
| JP3211246B2 (en) | Projection exposure apparatus and element manufacturing method |