CS260613B1 - A method for storing implanted mococrystalline germanium particles - Google Patents
A method for storing implanted mococrystalline germanium particles Download PDFInfo
- Publication number
- CS260613B1 CS260613B1 CS87369A CS36987A CS260613B1 CS 260613 B1 CS260613 B1 CS 260613B1 CS 87369 A CS87369 A CS 87369A CS 36987 A CS36987 A CS 36987A CS 260613 B1 CS260613 B1 CS 260613B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- implanted
- storing
- mococrystalline
- minus
- samples
- Prior art date
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
Způsob se provádí tak, že se bezprostředně po implantaci umístí vzorky implantovaného germania v evakuované komůrce a nchladí na teplotu minus 20 °C až minus 170 stupňů Celsia. Tím se zabrání zhoršení vlastností implantované vrstvičky, ke kterému dochází je-li vzorek uchováván za normálních podmínek.The method is carried out by placing the implanted germanium samples in an evacuated chamber immediately after implantation and cooling them to a temperature of minus 20°C to minus 170°C. This prevents the deterioration of the properties of the implanted layer that occurs when the sample is stored under normal conditions.
Description
Vynález se týká způsobu uchovávání implantovaných vzorků monokrystalů germania pro přípravu detektorů nízkoenergetického záření gama, aniž by došlo k zhoršení vlastností implantovaných vrstev.The invention relates to a method of storing implanted samples of germanium single crystals for the preparation of low energy gamma detectors without deteriorating the properties of the implanted layers.
Detektory záření gama z velmi čistého germania se připravují tak, že se na destičce monokrystalu germania zhotoví jeden závěrný a jeden ohmický kontakt. V některých případech, zejména při přípravě detektorů nízkoenergetického záření se s výhodou používá pro zhotovení jednoho nebo obou kontaktů technologie iontové implantace.The gamma radiation detectors from very pure germanium are prepared by making one closing and one ohmic contact on the germanium single crystal plate. In some cases, especially in the preparation of low energy radiation detectors, ion implantation technology is preferably used to make one or both contacts.
To znamená, že jsou do tenké povrchové vrstvičky germaniového monokrystalu implantovány na speciálních přístrojích urychlené ionty atomů, které mají vhodné dopující vlastnosti. Takové přístroje jsou techniky i finančně velmi náročné a jsou obvykle používány pro řadu externích pracovišť pro práce za různých podmínek a jejich seřízení pro implantace požadovaného dopantu s požadovanými parametry je obvykle dosti obtížné a časově náročné.This means that accelerated atom ions having suitable doping properties are implanted on special devices on a thin surface layer of germanium single crystal. Such devices are both technically and financially demanding and are usually used for a variety of external workstations to work under different conditions and their adjustment for implanting the desired dopant with the desired parameters is usually quite difficult and time consuming.
Pro přípravu detektorů je v literatuře doporučováno provést technologické úpravy a zapouzdření detektoru bezprostředně po im1· plantaci. Při delším skladování implantovaných vzorků dochází ke zhoršení vlastností závěrných nebo ohmických kontaktů, posléze k jejich nepoužitelnosti pro přípravu detektorů vůbec. Je tedy nutno vždy provádět na implantačních zařízení implantace jen takového množství vzorků, které je možno zpracovat během jednoho až dvou týdnů.For the preparation of detectors is recommended in the literature done to the treatment and immediately after encapsulation of the detector 1 · im plantation. Long-term storage of implanted specimens worsens the properties of the closing or ohmic contacts, and eventually makes them unusable for detector preparation at all. Therefore, it is always necessary to implant only an amount of specimens that can be processed within one to two weeks.
Nedostatky tohoto způsobu spočívají v tom, že není možno provádět technologické práce na přípravě implantovaných detektorů průběžně, ale jen bezprostředně po implantaci vzorků. Implantované vrstvy je třeba připravovat na implantačním zařízení často, což vede jednak k velkým časovým prostojům, protože zařízení není používáno jen pro tyto účely a často je třeba čekat, až bude dokončena jiná práce, kromě toho časté požadavky na implantační práce prodražují, vzhledem k složitým úpravám zařízení, používanou technologií.The disadvantages of this method are that it is not possible to carry out technological work on the preparation of implanted detectors continuously, but only immediately after the implantation of the samples. Implanted layers need to be prepared frequently on the implant device, leading to high downtime as the device is not only used for these purposes and often has to wait for other work to be completed, in addition to the frequent demands on implantation work, the equipment used by the technology.
Tyto nedostatky odstraňuje postup podle vynálezu, při kterém se čerstvě implantované vzorky okamžitě umístí v evakuované komůrce a ochladí na teplotu minus 20 °C až minus 170 °C.These drawbacks are overcome by the process of the invention in which freshly implanted samples are immediately placed in an evacuated chamber and cooled to a temperature of minus 20 ° C to minus 170 ° C.
Výhodou postupu podle vynálezu je to, že vzorky implantovaných destiček z germaniového monokrystalu je možno uchovávat výše uvedeným způsobem na pracovišti, aniž dojde k zhoršení vlastností implantovaných vrstev. Destičky jsou pak ke stálé dispozici pro další technologický proces. Není nutné časté provádění implantací a tak zbytečné zvyšování finančních nákladů.An advantage of the process according to the invention is that the samples of implanted platelets of germanium single crystal can be stored in the above manner in the workplace without deteriorating the properties of the implanted layers. The plates are then permanently available for the next technological process. Frequent implants are not required, and thus unnecessary cost increases.
Výše popsaným způsobem byly uchovávány implantované vzorky monokrystalického germania po dobu delší než půl roku a pak byly zhotoveny kvalitní detektory ionizujícího záření s implantovaným závěrným kontaktem. Při uchovávání vzorků za normálních podmínek je implantovaný vzorek obvykle po dvou týdnech nepoužitelný.Implanted monocrystalline germanium samples were stored as described above for more than half a year, and then high-quality ionizing radiation detectors were implanted with implanted closing contact. When stored under normal conditions, the implanted specimen is usually unusable after two weeks.
Vynález je možno využít v provozech, kde se průběžně používá technologie iontové implantace pro přípravu povrchových přechodů. Umožní úspornější provoz a racionálnější využití implantačních zařízení.The invention can be used in operations where ion implantation technology is continuously used to prepare surface transitions. It will allow more efficient operation and more rational use of implant devices.
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS87369A CS260613B1 (en) | 1987-01-20 | 1987-01-20 | A method for storing implanted mococrystalline germanium particles |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS87369A CS260613B1 (en) | 1987-01-20 | 1987-01-20 | A method for storing implanted mococrystalline germanium particles |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CS36987A1 CS36987A1 (en) | 1988-05-16 |
CS260613B1 true CS260613B1 (en) | 1989-01-12 |
Family
ID=5335653
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CS87369A CS260613B1 (en) | 1987-01-20 | 1987-01-20 | A method for storing implanted mococrystalline germanium particles |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CS (1) | CS260613B1 (en) |
-
1987
- 1987-01-20 CS CS87369A patent/CS260613B1/en unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CS36987A1 (en) | 1988-05-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Csepregi et al. | Regrowth behavior of ion‐implanted amorphous layers on< 111> silicon | |
Chern et al. | The defect structure of CdTe: Hall data | |
JP3434852B2 (en) | Diamond doping | |
Wittmer et al. | Epitaxial regrowth of Ne‐and Kr‐implanted amorphous silicon | |
Wendler et al. | Three-step amorphisation process in ion-implanted GaN at 15 K | |
GB1599668A (en) | Semiconductors | |
Reddi et al. | Channeling and dechanneling of ion‐implanted phosphorus in silicon | |
CS260613B1 (en) | A method for storing implanted mococrystalline germanium particles | |
Linnarsson et al. | Surface erosion of ion-implanted 4H-SiC during annealing with carbon cap | |
Edmond et al. | High temperature implantation of single crystal beta silicon carbide thin films | |
Thomas et al. | Diffusion of boron, phosphorus, and arsenic implanted in thin films of cobalt disilicide | |
Mehrer | Implantation of radioisotopes at ISOLDE a novel source production technique for diffusion studies in solids | |
Atkinson et al. | The evaluation of radio-frequency sputtering as a microsectioning technique for the tracer diffusion studies in oxides | |
Sielanko et al. | The influence of radiation damage on the sputtering yield of silicon | |
Forkel et al. | Pac studies of ion implanted silicon | |
Goldberg et al. | The production and use of ultralow energy ion beams | |
JPS637022B2 (en) | ||
Xiao et al. | Channeling lattice location of Se implanted into InP by RBS and PIXE | |
Wood | LXII. Lattice distortion in nitrided steels and theory of hardness | |
Sawicki et al. | Mössbauer study of57Co implanted into heated diamond crystals | |
Langguth et al. | Lattice Disorder and Outdiffusion in Ion Implanted InSb and CdTe | |
Large | Ion implantation: A new method of doping semiconductors—II | |
Chadderton et al. | On the annealing of damage produced by copper ion implantation of silicon single crystals | |
Correia et al. | Hyperfine interactions and Rutherford backscattering studies of Cd and Hg in CdTe single crystals and thin films | |
Kalbitzer et al. | The environment of lattice sites during thermal epitaxial regrowth of ion beam amorphized silicon |