CS259980B1 - Dvojitý systém vinutí vyohylovaoíoh a kompenzačních cívek, uspořádaný ve dvou patrech - Google Patents

Abstract

Podstatou dvoupatrového systému je, že spodní kompenzační qívky přečnívají ve sme$u ke spodnímu pelovému nástavci alespoň o 10 až 15 % délky spodních vyohylovacích cívek a Jejich šířka v radiálním směru je alespoň o 10 až 20 # menší než šířka horních kompenzačních cívek.

Description

Vynález se týká dvojitého systému vinutí vychylovacích a kompenzačních cívek; uspořádaný ve dvou patrech a umístěný uvnitř elektronové čočky ve směru ke spodnímu pólovému nástavci objektivu.

Pro ovládání elektronového svazku pro rychlé vychylovací systémy s vysokými frekvencemi vychylování elektronového svazku, zejména pro elektronové litografy určené pro přímou expozici elektronovým svazkem, se používají vychylovací systémy s kompenzovaným rozptylovým polem v obvodu čočky. Tyto požadavky výhodně řeší dvojitý systém vinutí vychylovacích cívek ve dvou patrech pro ovládání svazku v osách x, y u elektronově optických zařízení podle AO č. 235.795, které zamezuje vzniku vířivých proudů v magnetickém obvodu čočky. V tomto systému se každá z toroidálních vychylovacích cívek nahradí dvojicí toroidálních cívek zapojených tak, že vnitřní vychylovací cívky jsou zapojeny stejně jako původní jednoduché toroidální cívky a vnější kompenzační cívky jsou zapojeny opačně, vnější rozměry celého dvojitého systému vinutí jsou stejné jako u původních jednoduchých vychylovacích cívek a zbývající radiální rozměry cívek se volí tak, aby v místě magnetického obvodu na jeho vnitřním poloměru se vyruSila pole vytvářená zde oběma vinutími. Toto uspořádání řeší tedy vznik vířivých proudů zejména v magnetickém materiálu horního pólového nástavce válcového tvaru ve vychylovacím objektivu, tj. v objektivu s přesným a rychlým vychylovacím systémem. Druhé spodní patro vychylovacího systému se ale nachází zpravidla v blízkosti spodního pólového nástavce objektivu, který má tvar desky s kruhovým otvorem na ose systému a v blízkosti mezery mezi pólovými nástavci. Vířivé proudy, která vznikají ve spodním pólovém nástavci v původním identickém uspořádání kompenzovány nejsou, a naopak v mezeře mezi pólovými nástavci, kde se nenachází magnetické materiály, je vnější pole překompenzováno. Zůstávají tedy stále ještě magnetická protipóle, která při vychylování vysokými frekvencemi zhoršují frekvenční charakteristiku systému.

Tyto dosavadní nevýhody odstraňuje dvojitý systém vinutí vychylovacích a kompenzačních cívek uspořádaný ve dvou patrech a umístěný uvnitř elektronové čočky ve směru ke spodnímu pólovému nástavci, jehož podstatou je, že spodní kompenzační cívky přečnívají ve směru ke spodnímu pólovému nástavci alespoň o 10 až 15 % délky spodních vychylovacích cívek a jejich Šířka v radiálním směru je alespoň o 10 až 20 % menší než šířka horních kompenzačních cívek.

Hlavní výhodou tohoto uspořádání je, že se jen velmi jednoduchou konstrukční změnou jediné cívky dosáhne výrazného zlepšení kompenzace vířivých proudů u rychlých vychylovacích systémů pro přímou expozici elektronovým svazkem. Přitom se vychylovací pole spodního vychylovacího patra změní jen velmi málo proti předchozí situaci,, to znamená, že se citlivost vychylovacího systému prakticky nezmění, a zůstane v platnosti i postup výroby, nastavení a buzení, vychylovacího systému.

Vynález blíže objasní přiložený výkres, kde je v řezu schematicky naznačen dvojitý systém vinutí vychylovacích a kompenzačních cívek.

Systém je umístěn uvnitř elektronové čočky £ s horním pólovým nástavcem £, odděleným nemagnetickou mezerou 8 od spodního pólového nástavce £. Horní patro A vychylovacího systému sestává z dvojitého systému vinutí, tvořeného horními vychylovacími cívkami £ a horními kompenzačními cívkami 2 buzenými opačně vůči horním vychylovacím cívkám £. Spodní patro B vychylovacího systému sestává rovněž z dvojitého systému vinutí tvořeného spodními vychylovacími cívkami £ s spodními kompenzačními cívkami 6, které ve směru ke spodnímu pólovému nástavci £ přečnívají aiesioň^o 0 až 15'%^r3éXký'spodních vychylo259980 vacích cívek Šířka spodních kompenzačních cívek 6 v radiálním směru je alespoň o 10 až 20 % menší než šířka horních kompenzačních cívek 2.

Dvojitý systém vinutí podle vynálezu pracuje za provozu takto: Horní vychylovací cívky 2 v horním patře A vyvolávají v horním pólovém nástavci J rozptylové pole, které se kompenzuje horními kompenzačními cívkami 2. Spodní vychylovací cívky £ ye spodním patře B vyvolávají rozptylová pole jak v horním pólovém nástavci J, tak i ve spodním pólovém nástavci v jehož blízkosti jsou umístěny. Vzhledem k tomu, že spodní kompenzační cívky 6 jsou blíže spodnímu pólovému nástavci 2 a přitom její radiální šířka je menší než horních kompenzačních cívek 2, kompenzují spodní kompenzační cívky 6 rozptylová pole v horním pólovém nástavci 2 ^a současně ve spodním polovám nástavci 7. Průběh vychylovacího pole na ose elektronové Čočky 4 se prakticky nezmění.

Toto uspořádání dvojitých vychylovacích cívek je určeno pro rastrovací elektronově optické přístroje, zejména pro elektronový litograf.

Claims (1)

1. Dvojitý systém vinutí vychylovacích a kompenzačních cívek, uspořádaný ve dvou patrech a umístěný uvnitř elektronové čočky ve směru ke spodnímu pólovému nástavci, vyznačený tím, že spodní kompenzační cívky (6) přečnívají ve směru ke spodnímu pólovému nástavci (7) alespoň o 10 až 15 % délky spodních vychylovacích cívek (5) a jejich šířko, v radiálním směru je alespoň o 10 až 20 % menší než šířka horních kompenzačních cívek (2).