CS253713B2 - Screen grid in line-type electron gun - Google Patents

Screen grid in line-type electron gun Download PDF

Info

Publication number
CS253713B2
CS253713B2 CS844723A CS472384A CS253713B2 CS 253713 B2 CS253713 B2 CS 253713B2 CS 844723 A CS844723 A CS 844723A CS 472384 A CS472384 A CS 472384A CS 253713 B2 CS253713 B2 CS 253713B2
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
electrode
grid
recessed portion
line
electron gun
Prior art date
Application number
CS844723A
Other languages
Czech (cs)
Other versions
CS472384A2 (en
Inventor
Hekken Frans Van
Chen Hsing-Yao
Original Assignee
Rca Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rca Corp filed Critical Rca Corp
Priority to CS844723A priority Critical patent/CS253713B2/en
Publication of CS472384A2 publication Critical patent/CS472384A2/en
Publication of CS253713B2 publication Critical patent/CS253713B2/en

Links

Landscapes

  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)

Abstract

Řešení se týká stínící mřížky elektronové trysky IN LINE. Podstatou řešení je, že stínící mřížka zahrnuje vyhloubenou část v rozmezí funkční oblasti mřížky, kde vyhloubená část je opatřena soustavou otvorů a je obklopena obvodovým lemem, umístěným v blízkosti vnějších otvorů a tím ovlivňuje elektrostatické pole v sousedství drah vnějších elektronových svazků.The solution relates to an electron shielding grid nozzles IN LINE. The essence of the solution is, that the screening grid includes a hollow part within the functional area of the grid wherein the recessed portion is provided with a system openings and is surrounded by a peripheral rim, located near the outer openings a thereby affecting the electrostatic field adjacent to the outer electron paths volumes.

Description

Vynález se týká stínící mřížky elektronové trysky IN LINE, která je opatřena soustavou otvorů, vytvořenou ve funkční oblasti mřížky, zcentrovaných s otvory v řídicí mřížce.The invention relates to a shielding grid of an electron gun IN LINE, which is provided with a set of holes formed in the functional area of the grid centered with holes in the control grid.

Elektronová tryska IN LINE je konstruována tak, aby vytvářela alespoň dva, a s výhodou tři, elektronové svazky ve společné rovině a směřovala elektronové svazky podél konvergentních drah k malé stopě na stínítku. V jednom známén typu elektronové trysky IN LINE jsou hlavní elektrostatické zaostřovací čočky pro zaostřování elektronových svazků vytvořeny mezi dvěma elektrodami nazvanými první a druhá urychlovací a zaostřovací elektroda. Tyto elektrody zahrnují dva hrníčkovité členy, které jsou uspořádány svými dny k sobě. Každé dno je opatřeno třemi otvory, umožňujícími průchod tří elektronových svazků a vytvořeni tří oddělených hlavních zaostřovacích čoček, vždy jedno pro jeden elektronový svazek. V takových elektronových tryskách se statické konvergence vnějších elektronových svazků vůči centrálnímu elektronovému svazku obvykle dosáhne posunutím vnějších otvorů ve druhé zaostřovací elektrodě vůči vnějším otvorům v první zaostřovací elektrodě.The IN LINE electron gun is designed to form at least two, and preferably three, electron beams in a common plane and direct the electron beams along the convergent paths to a small spot on the screen. In one known type of electron gun IN LINE, the main electrostatic focusing lenses for focusing electron beams are formed between two electrodes called first and second acceleration and focusing electrodes. These electrodes comprise two cup-like members which are arranged with their days together. Each bottom is provided with three openings allowing the passage of three electron beams and the creation of three separate main focusing lenses, one for each electron beam. In such electron guns, static convergence of the outer electron beams to the central electron beam is typically achieved by displacing the outer holes in the second focusing electrode with the outer holes in the first focusing electrode.

V jiné známé trysce IN LINE, kde se používají dvě elektrostatické zaostřovací čočky pro vytvoření efektivně větší hlavní zaostřovací čočky jsou třetí a pátá elektroda od katody elektricky vzájemně propojeny a stejně tak jsou elektricky vzájemně propojeny čtvrtá a šestá elektroda.In another known IN LINE nozzle where two electrostatic focusing lenses are used to form an effectively larger main focusing lens, the third and fifth electrodes from the cathode are electrically interconnected, as are the fourth and sixth electrodes.

Proti sobě uložené části páté a šesté elektrody jsou každá opatřeny obvodovým lemem a tři oddělené otvory jsou uspořádány v řadě pod úrovní lemu.The opposing portions of the fifth and sixth electrodes are each provided with a peripheral rim and three separate openings are arranged in a row below the rim level.

Obvodové lemy jsou podlouhlé ve směru řady otvorů a vytvářejí astigmatické zaostřovací pole. Toto pole může být přizpůsobeno astigmatické, elektronový svazek tvarující oblasti vytvořené prvními a druhými elektrodami od katody.The peripheral skirts are elongated in the direction of the row of apertures and form an astigmatic focusing field. This field may be adapted to the astigmatic, electron beam shaping regions formed by the first and second electrodes from the cathode.

Bylo zjištěno, že místa dopadu horizontálního elektrického svazku vnějších elektronových svazků v barevných obrazovkách opatřených výše popsanými elektronovými tryskami se mění se změnami zaostřovacího napětí přiloženého k elektronovým tryskám. Je proto žádoucí zlepšit takové elektronové trysky IN LINE pro eliminaci nebo alespoň snížení této citlivosti horizontální konvergence na změny zaostřovacího napětí.It has been found that the incidence locations of the horizontal electrical beam of the outer electron beams in the color screens provided with the electron guns described above vary with changes in the focusing voltage applied to the electron guns. It is therefore desirable to improve such IN LINE electron guns to eliminate or at least reduce this horizontal convergence sensitivity to focus voltage variations.

Jiná známá konstrukce stínící mřížky se sníženou citlivostí horizontální konvergence elektronové trysky IN LINE vůči změnám zaostřovacího napětí používá pár otvorů pro rekonvergen· ci, které jsou vytvořeny ve straně prvni urychlovací a zaostřovací elektrody elektrody stínící mřížky.Another known shield grid design with reduced sensitivity of the horizontal convergence of the IN LINE electron gun to changes in focus voltage uses a pair of reconvergence holes formed in the side of the first acceleration and focusing electrodes of the shield grid electrode.

Otvory rekovergence jsou vytvořeny blízko vnějších otvorů a směrem dovnitř k nim v elektrodě stínící mřížky a způsobují refrakci dráhy elektrostatického paprsku mezi elektrodou stínící mřížky a první urychlovací a zaostřovací elektrodou pro kompenzaci refrakce posuvu v hlavní čočce elektronové trysky.The recombination openings are formed near and inward to the outer openings in the shield grid electrode and cause the electrostatic beam path to be refracted between the shield grid electrode and the first acceleration and focus electrode to compensate for the displacement refraction in the electron gun main lens.

V alternativní konstrukci stínící mřížky pro snížení citlivosti elektronové tryskyIn an alternative design of a screening grid to reduce the sensitivity of the electron gun

IN LINE ke změnám zaostřovacího napětí jsou okolo vnějších otvorů ve straně první urychlovací a zaostřovací elektrody stínící mřížky vytvořeny symetrické prohlubně. V jednom příkladném provedení jsou prohlubně příčné štěrbiny, které také snižují vertikální přesvětlení, které se objevuje na stínítku obrazovky jako nežádoucí chvost nebo rozmazání o nízké intenzitě táhnoucí se od jádra žádoucí intenzity elektronového svazku. Přesvětlení je obvyklé v obrazovkách o úhlu vycnýlení, který přesahuje 90°.IN LINE to vary the focusing voltage, symmetrical recesses are formed around the outer openings in the side of the first acceleration and focusing electrodes of the screening grid. In one exemplary embodiment, the depressions are transverse slits that also reduce vertical backlighting that appears on the screen as unwanted tail or low intensity blurring extending from the desired electron beam intensity core. Illumination is common in screens with a protrusion angle exceeding 90 °.

Zatímco poslední dva popsané typy konstrukce stínící mřížky uspokojují, pokud jde o snížení horizontální citlivosti vnějších paprsků vůči změnám zaostřovacího napětí, je žádoucí jednodušší konstrukce, která by mohla být snadno a lacino vyráběna.While the latter two types of screening grating design satisfy in terms of reducing the horizontal sensitivity of the external beams to changes in the focusing voltage, a simpler design that is easy and inexpensive to manufacture is desirable.

((

Uvedené nevýhody současného stavu do značné míry odstraňuje stínící mřížka elektronové trysky IN LINE, která je opatřena soustavou otvorů, vytvořenou ve funkční oblasti mřížky, zcentrovaných s otvory v řídicí mřížce, podle vynálezu, jejíž podstatou je, že v rozmezí své funkční oblasti je opatřena vyhloubenou části, v níž je vytvořena soustava otvorů a tato vyhloubená část je obklopena obvodovým lemem, který je umístěn v blízkosti vnějších otvorů. Výhodné přitom je, jestliže vyhloubená část je opatřena pravoúhle tvarovanou středovou části a trojúhelníkově tvarovanými koncovými čístmi, kde vrcholy koncových části jsou hladce zakřiveny, přičemž tvar obvodového lemu odpovídá tvaru vyhloubené části, přičemž vyhloubená část má délku 12,50 mm a šířku 3,81 mm ve své nejširší části, případně hladce zakřivené koncové části vyhloubené části mají poloměr 1,168 mm měřeno do středů vnějších otvorů, případně vyhloubená část má hloubku 0,15 mm. Výhodné rovněž je, jestliže je vyhloubená část vytvořena příčně.These disadvantages of the prior art are largely eliminated by the IN LINE electron gun shielding grid, which is provided with a plurality of orifices formed in the functional area of the grid centered with the apertures in the control grid of the present invention. a portion in which a plurality of apertures is formed, and the recessed portion is surrounded by a peripheral skirt that is located near the outer apertures. Advantageously, the recessed portion is provided with a rectangular shaped central portion and a triangular shaped end piece, wherein the apexes of the end portions are smoothly curved, the shape of the peripheral rim corresponding to the shape of the recessed portion, the recessed portion having a length of 12.50 mm and a width of 3.81 mm in its widest portion or smoothly curved end portion of the recessed portion have a radius of 1.168 mm measured to the centers of the outer holes, or the recessed portion has a depth of 0.15 mm. It is also advantageous if the recessed part is formed transversely.

Vynález bude dále podrobněji popsán podlé přiložených výkresů, kde na obr. 1 je pohled částečně v axiálním řezu, na obrazovku se stínící maskou vytvářející vynález, na obr. 2 je částečný axiální řez elektronovou tryskou, znázorněnou .čárkovaně na obr. 1, na obr. 3 je nárys elektrody G^ elektronové trysky z obr. 2 podle vynálezu, na obr. 4 je zvětšený částečný pohled na část elektrody G2 elektronové trysky vzatý podél roviny 4-4 z obr. 3, na obr. 5 je zvětšený částečný pohled na nové elektrody G2 a G3 elektronové trysky z obrázku 2 znázorňující vytvoření elektronového svazku v horizontální rovině a na obrázku 6 je částečný axiální pohled v řezu na druhé příkladné provedení elektronové trysky používající novou elektrodu G2.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The invention will now be described in more detail with reference to the accompanying drawings, in which: FIG. . 3 is an elevation of the electrode G ^ the electron gun of FIG. 2 according to the invention, FIG. 4 is an enlarged fragmentary view of a portion of the electrode G 2 of the electron gun taken along line 4-4 of FIG. 3, FIG. 5 is an enlarged partial view 2 shows the electron beam in a horizontal plane, and FIG. 6 is a partial axial sectional view of a second exemplary electron gun using a new electrode G2.

Obrázek 1 je pohled na pravoúhlou barevnou obrazovku 10 mající skleněnou baňku 11 obsahující pravoúhlý čelní panel 12 a válcové hrdlo 14 spojené pravoúhlou částí 16. Čelní panel 12 obsahuje zobrazovací čelní desku 18 a obvodovou přírubu či boční stěnu 22» která je přitavena k části _1_6. Mozaikové tříbarevné fosforové stínítko 22 je upevněno na vnitřní ploše čelní desky 18.Figure 1 is a view of a rectangular color screen 10 having a glass bulb 11 comprising a rectangular faceplate 12 and a cylindrical neck 14 connected by a rectangular portion 16. The faceplate 12 comprises a display faceplate 18 and a peripheral flange or sidewall 22 that is fused to the portion 16. The mosaic tri-color phosphor screen 22 is mounted on the inner surface of the faceplate 18.

Stínítko 22 je s výhodou čárové stínítko s fosforovými čarami táhnoucími se v podstatě kolmo k vysokofrekvenčnímu čárovému rastru obrazovky, kolmo k rovině obrázku 1. Alternativně stínítko může být bodové stínítko tak, jak je známo v oboru. Mnohaodporová elektroda selekce barev stínící maska 24 je připevněna rozebíratelně obvyklými prostředky v předem určeném prostorovém vztahu vůči stínítku 22.The screen 22 is preferably a line screen with phosphor lines extending substantially perpendicular to the high-frequency line screen of the screen, perpendicular to the plane of Figure 1. Alternatively, the screen may be a point screen as known in the art. The multi-resistance color selection electrode shielding mask 24 is attached removably by conventional means in a predetermined spatial relationship with the screen 22.

Zlepšená elektronová tryska 26 IN LINE znázorněná schematicky čárkovaně na obrázku 1 je středově upevněna v hrdle 14 pro vytvoření a směrování tří elektronových svazků 28 podél prostorově oddělených koplanárních konvergentních drah přes stínicí masku 24 na stínítko 22.The improved IN LINE electron gun 26, shown schematically in dashed lines in Figure 1, is centrally mounted in the throat 14 to form and direct three electron beams 28 along spatially spaced coplanar convergent paths through the shield mask 24 to the screen 22.

Obrazovka z obrázku 1 je konstruována pro použití s vnějším magnetickým vychylovacím jhem, jako je schematicky znázorněné jho 30, obklopující hrdlo 14 a část 16 v sousedství jejich spoje. Při aktivaci působí jho 30 na tři elektronové svazky 28 vertikálním a horizontálním magnetickým tokem, který způsobí, že elektronové svazky rastrují horizontálně, případně vertikálně v pravoúhlém rastru po stínítku 22. Původní rovina vychýlení při nulovém vychýlení je znázorněna čarou P-P na obr. 1 přibližně ve středu jha 30. Pro jednoduchost není skutečné zakřivení drah vychýleného elektronového svazku ve vychylovací zóně na obrázku 1 znázorněno.The screen of Figure 1 is designed for use with an external magnetic deflection yoke, such as the schematically illustrated yoke 30, surrounding the neck 14 and the portion 16 adjacent their joint. Upon activation, the yoke 30 acts on the three electron beams 28 by a vertical and horizontal magnetic flux, which causes the electron beams to scan horizontally or vertically in a rectangular grid over the screen 22. The original zero-deflection plane is shown by the PP line in FIG. For simplicity, the actual curvature of the deflected electron beam paths in the deflection zone is not shown in Figure 1.

Znovunastavení napětí mění poměr zaostřovacího napětí k-napětí druhé či poslední urychlo-. vací anody elektronové trysky a má za následek změnu v relativní síle nebo ohniskové délce hlavní elektrostatické zaostřovací čočky s výslednou nekonvergencí vnějších elektronových svazků vůči centrálnímu elektronovému svazku.Resetting the voltage changes the focus-to-voltage ratio of the second or last accelerated-voltage. and results in a change in the relative strength or focal length of the main electrostatic focusing lens, resulting in non-convergence of the outer electron beams to the central electron beam.

Detaily týkající se zlepšené elektronové trysky 26 jsou znázorněny na obrázku 2. Elektronová tryska obsahuje dvě skleněné nosné tyčinky 32, na nichž jsou upevněny různé elektrody.Details of the improved electron gun 26 are shown in Figure 2. The electron gun comprises two glass support rods 32 on which different electrodes are mounted.

Tyto elektrody zahrnují tři rovnoměrně od sebe vzdálené koplanárnf katody 34, jednu pro každý elektronový svazek, elektrodu 36 řídicí mřížky G1 a elektrodu 38 stínící mřížky G2, obsahující oblast tvarování elektronového svazku, a první zaostřovací elektrodu 40 G3, druhou zaostřovací elektrodu 42 G4, třetí zaostřovací elektrodu 44 G5 a čtvrtou zaostřovací elektrodu 46 G6 obsahující sestavu hlavní Čočky a umístěné podél skleněných tyčinek 32 v pořadí, ve kterém byly jmenovány. Stínící miska 48 je připevněna k elektrodě 46 G6.These electrodes include three equidistantly spaced cathode 34s, one for each electron beam, a control grid electrode 36 and a shield grid G2 electrode 38 comprising an electron beam shaping area, and a first focusing electrode 40G3, a second focusing electrode 42G4, a third a focusing electrode 44 G5 and a fourth focusing electrode 46 G6 comprising a main lens assembly and positioned along the glass rods 32 in the order in which they were named. The shielding cup 48 is attached to the electrode 46G6.

Všechny elektrody za katodou mají tři otvory v řadě, aby se umožnil průchod tří koplanárních elektronových svazků. Mřížka 36 a mřížka 38 jsou paralelní deskové členy, které mohou zahrnovat vytlačené reliéfy, které zvyšují pevnost těchto členů a mohou ovlivnit chování elektronových svazků. Navíc ke všem otvorům 50 IN LINE mřížka 36 může také zahrnovat tři štěrbiny 52 superponované na otvorech na straně mřížky 36 obrácené k mřížce 38. Účel štěrbin 52 je popsán níže. Podlouhlé rozměry štěrbin 52 se táhnou ve směru kolmém k směrům řady otvorů. Konstrukce sestavy hlavní čočky je obvyklá.All electrodes downstream of the cathode have three holes in a row to allow the passage of three coplanar electron beams. The lattice 36 and the lattice 38 are parallel plate members which may include embossed reliefs that increase the strength of the members and may affect the behavior of the electron beams. In addition to all holes 50, the IN LINE grid 36 may also include three slots 52 superimposed on the holes on the side of the grid 36 facing the grid 38. The purpose of the slots 52 is described below. The elongated dimensions of the slots 52 extend in a direction perpendicular to the directions of the row of holes. The design of the main lens assembly is conventional.

Přilehlé uzavřené konce elektrody 44 a elektrody 46, Jak jsou znázorněny na obrázku 2, jsou opatřeny velkými prohlubeninami 54, případně 56. Prohlubeniny 54 a 56 posouvají dozadu tu část uzavřeného konce elektrody 44, která obsahuje tři otvory 58, vůči té části uzavřeného konce elektrody 46, která obsahuje tři otvory 60. Zbývající části uzavřených konců elektrody 44 a elektrody 46 vytvářejí lemy 62, případně 64, které se táhnou obvodově okolo prohlubenin 54 a 56. Lemy 62 a 64 jsou vzájemně nejbližší části dvou elektrod 44 a 46.Adjacent closed ends of electrode 44 and electrode 46, as shown in Figure 2, are provided with large depressions 54 and 56, respectively. The depressions 54 and 56 displace that portion of the closed end of the electrode 44 that contains three holes 58 relative to that portion of the closed end of the electrode. The remaining portions of the closed ends of the electrode 44 and the electrode 46 form flanges 62 and 64, respectively, that extend circumferentially about the recesses 54 and 56. The flanges 62 and 64 are the closest portions of the two electrodes 44 and 46.

Elektroda 42 je elektricky spojena vodičem 66 s elektrodou 46 a elektroda 40 je elektricky spojena vodičem 68 s elektrodou 44, jak je znázorněno na obrázku 2. Oddělené neznázorněné vodiče spojují elektrodu 40, elektrodu mřížky 38 a elektrodu mřížky 36, katody 34 a žhavení katody k na obrázku 1 znázorněné základně 100 obrazovky 10 tak, že tyto součástky mohou být elektricky vybuzeny. Elektrického vybuzení elektrody 46 se dosáhne kontaktem mezi stínící miskou 48 a vnitřním vodivým pokovením obrazovky, které je připojeno k neznázorněnému anodovému tlačítku, procházejícímu nálevkou 16.Electrode 42 is electrically connected by wire 66 to electrode 46 and electrode 40 is electrically connected by wire 68 to electrode 44 as shown in Figure 2. Separate conductors (not shown) connect electrode 40, grid electrode 38 and grid electrode 36, cathode 34 and cathode glow to The base 100 of the screen 10 shown in Figure 1 so that these components can be electrically excited. Electrical excitation of the electrode 46 is achieved by contact between the shielding plate 48 and the internal conductive metallization of the screen, which is connected to an anode button (not shown) passing through the funnel 16.

Obrázky 2, 3, 4 a 5 znázorňují detailně část elektronový svazek tvarující oblasti elektronové trysky 26. Elektroda 38 má funkční oblast 70 se třemi otvory 72, vytvořenými v elektrodě a zcentrovanými s otvory 50 v elektrodě 36.Figures 2, 3, 4 and 5 show in detail a portion of the electron beam forming region of the electron gun 26. The electrode 38 has a functional area 70 with three holes 72 formed in the electrode and centered with holes 50 in the electrode 36.

Pár zabezpečovacích členů 74 se táhne od opačných stran funkční oblasti 70 mřížky pro připojení elektrody 38 ke skleněným nosným tyčinkám 32. Funkční oblast 70 mřížky zahrnuje příčné uspořádáné vyhloubené části 76, kterými jsou vytvořeny otvory 72. Obvodový lem 78 obklopuje otvory 72 a táhne se mezi vyhloubenou částí 76 a funkční oblastí 70 mřížky elektrody 38. Vyhloubená Část 76 a obvodový lem 78 jsou symetrické vůči středovému otvoru 72, ale asymetrické vůči dvěma vnějším otvorům 72.A pair of securing members 74 extend from opposite sides of the grid functional region 70 to connect the electrode 38 to the glass support rods 32. The grid functional region 70 includes transversely arranged recessed portions 76 through which apertures 72 are formed. The peripheral rim 78 surrounds apertures 72 and extends between the recessed portion 76 and the functional area 70 of the electrode grid 38. The recessed portion 76 and the peripheral rim 78 are symmetrical with respect to the central opening 72 but asymmetric with respect to the two outer openings 72.

Ve výhodném provedení mají otvory 72 průměr 0,64 mm a jejich středy jsou od sebe příčně vzdáleny 5,08 mm. Vyhloubená část 76 má celkový rozměr boční strany neboli délku asi 12,50 mm a maximální příčný rozměr neboli šířku asi 3,81 mm. Maximální šířka vyhloubené části 76 se táhne do boku směrem ven asi 3,94 mm od opačných stran středového otvoru 72, aby vytvářela v podstatě pravoúhle tvarovanou středovou část.In a preferred embodiment, the apertures 72 have a diameter of 0.64 mm and their centers are transversely spaced 5.08 mm apart. The recessed portion 76 has an overall side dimension or length of about 12.50 mm and a maximum transverse dimension or width of about 3.81 mm. The maximum width of the recessed portion 76 extends laterally outwardly about 3.94 mm from opposite sides of the central opening 72, and would form a substantially rectangular shaped central portion.

Konec vyhloubené části 76 vytvářejí s horizontálou úhel asi 30° a jsou takto v podstatě vytvarovány do tvaru trojúhelníka, přičemž vrchol každé z trojúhelníkovitě vytvarované koncové části je hladce zakřiven a má poloměr asi 1,168 mm, měřeno od středů vnějších otvorů. Elektroda 38 má tloušfcku asi 0,71 mm a vyhloubená část 76 má hloubku asi 0,15 mm. Obvodový lem 78 má tvar, který vytváří úhel asi 63° s povrchem elektrody.The ends of the recessed portion 76 form an angle of about 30 ° to the horizontal and are thus substantially triangular shaped, with the apex of each of the triangular shaped end portions being smoothly curved and having a radius of about 1.168 mm, measured from the centers of the outer openings. The electrode 38 has a thickness of about 0.71 mm and the recessed portion 76 has a depth of about 0.15 mm. The peripheral rim 78 has a shape that forms an angle of about 63 ° with the electrode surface.

Jak je znázorněno na obrázku 5, elektrostatické ekvipotenciální siločáry 80 se táhnou mezi elektrodou 38 a elektrodou 40 elektronové trysky 26. Asymetrický tvar a hloubka vyhlubené části 76 elektrody 38 stejně jako blízkost obvodového lemu 78 k vnějším otvorům 72 ovlivňují elektrostatické pole v sousedství vnějších elektronových svazků s vychýlením siločar 80 ve vyhloubené části 76 a tak způsobí, že vnější elektronové svazky horizontálně konvergují směrem ke středovému elektronovému svazku, procházejíce přes neznázorněný středový otvor.As shown in Figure 5, electrostatic equipotential lines 80 extend between electrode 38 and electrode 40 of electron gun 26. Asymmetric shape and depth of recessed portion 76 of electrode 38 as well as proximity of peripheral rim 78 to outer apertures 72 affect electrostatic field adjacent to external electron beams. with the deflection of the field lines 80 in the recessed portion 76, and thereby causes the outer electron beams to converge horizontally towards the central electron beam, passing through the central aperture (not shown).

Tři elektronové svazky nejsou rušeny ve vertikálním směru vzhledem k vertikální symetrii vyhloubené části 76 a podstatně větší.vzdálenosti mezi otvory 72 a obvodovým lemem 78 ve vertikálním směru. Takto vyhloubená část 76 ovlivňuje pouze horizontální konvergenci vnějších elektronových svazků na změny v zaostřovacím napětí. Síla výše zníměného účinku je řízená hloubkou vyhloubení a poloměrem jeho trojúhelníkových koncových částí. Čím větší ja poloměr, tím vzdálenější je obvodový lem 78 od vnějších otvorů 72 a tím hlubší musí být vyhloubení, aby ovlivnilo dráhy elektronových svazků. V obrazovkách s úhlem vychýlení ne větším než 90° není vertikální přesvětlení problémem. Nicméně v obrazovkách s úhlem vychýlení nad 90° při dání štěrbin 52 superponovaných na otvorech 50 elektrody 36 čelně obrácené k elektrodě 38 sníží vertikální přesvětlení.The three electron beams are not disturbed in the vertical direction due to the vertical symmetry of the recessed portion 76 and the substantially greater distance between the apertures 72 and the peripheral rim 78 in the vertical direction. The recessed portion 76 only affects the horizontal convergence of the outer electron beams to changes in the focusing voltage. The force of the above-mentioned effect is controlled by the depth of the recess and the radius of its triangular end portions. The larger the radius, the further away the circumferential rim 78 is from the outer apertures 72 and the deeper the recess must be to affect the beam paths. In screens with a deflection angle not greater than 90 °, vertical backlighting is not a problem. However, in screens with a deflection angle above 90 °, giving slots 52 superimposed on the holes 50 of the electrode 36 facing the electrode 38 will reduce vertical illumination.

Druhé příkladné provedení elektrody podle vynálezu je znázorněno v bipotenciální elektronové trysce 126 IN LINE z obrázku 6. Elektronová tryska 126 obsahuje dvě skleněné nosné tyčinky 132, z nichž jedna je znázorněna, na nichž jsou připevněny různé elektrody. Tyto elektrody zahrnují tři rovnoměrně od sebe rozmístěné koplanární katodové sestavy 134.» jedna pro každý elektronový svazek, elektrodu 136 řídicí mřížky, elektrodou 138 stínící mřížky, první urychlovací a zaostřovací elektrodou 140 a druhou urychlovací a zaostřovací elektrodu 142, rozmístěné podél skleněných tyčinek 132 ve vyjmenovaném pořadí.A second exemplary embodiment of the electrode of the invention is shown in the bipotential electron gun 126 IN LINE of Figure 6. The electron gun 126 comprises two glass support rods 132, one of which is shown, on which different electrodes are mounted. These electrodes include three equally spaced coplanar cathode assemblies 134. one for each electron beam, a control grid electrode 136, a shield grid electrode 138, a first acceleration and focusing electrode 140, and a second acceleration and focusing electrode 142 spaced along the glass rods 132 in the electrodes. listed order.

Všechny tyto elektrody za katodou jsou opatřeny třemi otvory IN LINE pro umožnění průchodu tří koplanárních elektronových svazků. Hlavní elektrostatická zaostřovací čočka ve trysce 126 je vytvořena mezi elektrodou 140 a elektrodou 142. Elektroda 140 je vytvořena dvěma miskovitě tvarovanými prvky 144 a 146, jejichž otevřené konce jsou k sobě navzájem připojeny. Elektroda 142 je také miskovitě tvarována, ale má svůj otevřený konec uzavřen stínící miskou 148, Část elektrody 142 čelně obrácená k elektrodě 140 zahrnuje tři otvory 150 IN LINE, z nichž dva vnější jsou lehce posunuty směrem ven vůči odpovídajícím otvorům 152 v elektrodě 140. Účelem tohoto posunutí je, aby vnější elektronové svazky konvergovaly se středovým elektronovým svazkem. Nicméně může dojít k nekonvergaci, jestliže zaostřovací napětí elektrody 140 se značně změní oproti optimálnímu zaostřovacímu napětí použitému v průběhu připojení neznázorněného jha. Strana elektrody 140 čelně přivrácená k elektrodě 138 zahrnuje tři otvory 154, které jsou zcentrovány s otvory 156 v elektrodě 136 a s otvory 158 v elektrodě 138.All these electrodes downstream of the cathode are provided with three IN LINE holes to allow the passage of three coplanar electron beams. The main electrostatic focusing lens in the nozzle 126 is formed between the electrode 140 and the electrode 142. The electrode 140 is formed by two cup-shaped elements 144 and 146 whose open ends are connected to each other. The electrode 142 is also dish-shaped but has its open end closed by a shield dish 148. The portion of the electrode 142 facing the electrode 140 includes three IN LINE openings 150, two of which are slightly offset outwardly relative to the corresponding openings 152 in the electrode 140. this offset is that the outer electron beams converge with the central electron beam. However, non-convergence may occur if the focusing voltage of the electrode 140 varies considerably from the optimum focusing voltage used during attachment of a yoke not shown. The side of the electrode 140 facing the electrode 138 includes three apertures 154 that are centered with the apertures 156 in the electrode 136 and the apertures 158 in the electrode 138.

V alternativním provedení elektronové trysky 126 mají otvory 158 elektrody 138 průměr asi 0,64 mm a jejich středy jsou od sebe vzdáleny 6,60 mm. Elektroda 138 se podobá výše zmíněné elektrodě 138 s výjimkou toho, že délka a šířka vyhloubené Části 176 jsou zvětšeny v měřítku, aby odpovídaly větším roztečím mezi otvory elektronového svazku v bipotenciální elektronové trysce.In an alternative embodiment of the electron gun 126, the holes 158 of the electrode 138 have a diameter of about 0.64 mm and their centers are spaced 6.60 mm apart. The electrode 138 is similar to the aforementioned electrode 138 except that the length and width of the recessed portion 176 are scaled to match larger spacing between electron beam openings in the bipotential electron gun.

Claims (6)

PŘEDMĚT VYNÁLEZUSUBJECT OF THE INVENTION 1. Stínící mřížka elektronové trysky IN LINE, která je opatřena soustavou otvorů, vytvořenou ve funkční oblasti mřížky, zcentrovaných s otvory v řídicí mřížce, vyznačená tím, že v rozmezí své funkční oblasti (70) je opatřena vyhloubenou částí (76, 176) v níž je vytvořena soustava otvorů (72, 158) a tato vyhloubená část (76, 176) je obklopena obvodovým lemem (78), který je umístěn v blízkosti vnějších otvorů.A shielding grid of an electron gun IN LINE having a plurality of apertures formed in a functional area of the grid centered with apertures in the control grid, characterized in that it has a recessed portion (76, 176) in the functional area (70) within the functional area (70). wherein a recess (72, 158) is formed and the recessed portion (76, 176) is surrounded by a circumferential rim (78) located near the outer apertures. 2. Stínící mřížka podle bodu 1, vyznačená tím, že vyhloubená část (76, 176) je opatřena pravoúhle tvarovanou středovou částí a trojúhelníkově tvarovanými koncovými částmi, kde vrcholy koncových částí jsou hladce zakřiveny, přičemž tvar obvodového lemu (78) odpovídá tvaru vyhloubené části (76, 176).2. A screening grid according to claim 1, characterized in that the recessed portion (76, 176) is provided with a rectangular shaped central portion and triangular shaped end portions, wherein the apexes of the end portions are smoothly curved, the peripheral rim (78) corresponding to the recessed portion. (76,176). 3. Stínící mřížka podle bodu 2, vyznačující se tím, že vyhloubená část (76) má délku 12,50 mm a šířku 3,81 mm ve své nejširší části.Shielding grid according to claim 2, characterized in that the recessed part (76) has a length of 12.50 mm and a width of 3.81 mm in its widest part. 4. Stínící mřížka podle bodu 3, vyznačující se tím, že hladce zakřivené koncové části (76) mají poloměr 1,168 mm měřeno od středů vnějších otvorů (72).Shielding grid according to claim 3, characterized in that the smoothly curved end portions (76) have a radius of 1.168 mm measured from the centers of the outer openings (72). 5. Stínící mřížka podle bodu 4, vyznačující se tím, že vyhloubená část (76) má hloubku 0,15 mm.Shielding grid according to Claim 4, characterized in that the recessed part (76) has a depth of 0.15 mm. 6. Stínící mřížka podle bodu 1 vyznačená tím, že vyďloubená část (76, 176) je vytvořena příčně.6. A screening grid according to claim 1, characterized in that the recessed portion (76, 176) is transverse.
CS844723A 1984-06-21 1984-06-21 Screen grid in line-type electron gun CS253713B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS844723A CS253713B2 (en) 1984-06-21 1984-06-21 Screen grid in line-type electron gun

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS844723A CS253713B2 (en) 1984-06-21 1984-06-21 Screen grid in line-type electron gun

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CS472384A2 CS472384A2 (en) 1987-05-14
CS253713B2 true CS253713B2 (en) 1987-12-17

Family

ID=5390640

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS844723A CS253713B2 (en) 1984-06-21 1984-06-21 Screen grid in line-type electron gun

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS253713B2 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
CS472384A2 (en) 1987-05-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR890001605B1 (en) Color picture tube having an improved inline electron gun with an expanded focus lens
US4388552A (en) Color picture tube having an improved expanded focus lens type inline electron gun
KR920007180B1 (en) Color picture tube having an inline electron gun with built-in stigmator
KR920005903B1 (en) Cathode-ray tube
KR950005112B1 (en) Collar water tube with inline electron gun with astigmatism prefocus lens
CA1182163A (en) Color picture tube having an improved expanded focus lens type inline electron gun
KR970008567B1 (en) Color picture tube having an inline electron gun with three astigmatic lenses
CA1181793A (en) Color picture tube having an expanded focus lens type inline electron gun with an improved stigmator
US4608515A (en) Cathode-ray tube having a screen grid with asymmetric beam focusing means and refraction lens means formed therein
KR910001416B1 (en) Color picture tube having an expanded focus lens type in line electron gun with an improved stigmator
RU2093919C1 (en) Process of manufacture of electron gun
CS253713B2 (en) Screen grid in line-type electron gun
US4730144A (en) Color picture tube having inline electron gun with coma correction members
US4388553A (en) Color picture tube having an expanded focus lens type inline electron gun with an improved stigmator
KR930007365B1 (en) Color receiver tube with inline electron gun with improved magnification
GB2144903A (en) Cathode-ray tube with electron gun having an astigmatic beam forming region
JPH0226338B2 (en)
JPH0542097B2 (en)
KR19990043823A (en) Color gun