CS245104B1 - Layers' electric resistance measuring method and device for application of this method - Google Patents
Layers' electric resistance measuring method and device for application of this method Download PDFInfo
- Publication number
- CS245104B1 CS245104B1 CS833898A CS389883A CS245104B1 CS 245104 B1 CS245104 B1 CS 245104B1 CS 833898 A CS833898 A CS 833898A CS 389883 A CS389883 A CS 389883A CS 245104 B1 CS245104 B1 CS 245104B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- resistance layer
- high resistance
- conductive material
- contact
- electrolyte
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims abstract description 13
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 claims abstract description 13
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims abstract description 11
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims abstract description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000002427 irreversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 230000009897 systematic effect Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Measurement Of Resistance Or Impedance (AREA)
Abstract
Způsob měření odporu vysokoodporových vrstev spočívá v tom, že po povrchu vysokoodporové vrstvy se pohybuje kontakt tvořený svazkem jemných vláken a nasycený elektrolytem, bodový odpor vysokooďporové vrstvy mezi pohyblivými kontakty na povrchu vysokoodporové vrstvy a na vodivém materiálu se indikuje procházejícím elektrickým signálem. Zařízení ik provádění způsobu sestává z prvního kontaktu (3) přitisknutého k vysokoodporové vrstvě (2j, který je tvořen svazkem jemných vláken a je nasycený elektrolytem (4), a z druhého kontaktu (6), který je přitisknut k vodivému materiálu (1) nesoucímu vysokoodporovou vrstvu (2j, na něž je připojen zdroj (7) stejnosměrného proudu a vyhodnocovací systém (8 j, přičemž vysokoodporová vrstva (2) nanesená na vodivém materiálu (lj se vůči kontaktům pohybuje. Vyhodnocovací systém (8) je tvořen fotonkou (10) osvětlenou světelným signálem upraveným přerušovačem (13) a do série zapojeným odporem (lij, ke kterému je paralelně připojen selektivní voltmetr (12) se zesilovačem.Method of high resistance resistance measurement Layers consist of being over the surface the high resistance layer moves the contact composed of a bundle of fine fibers and saturated electrolyte, point resistance high resistance layers between moving contacts on the surface of the high-resistance layer and the conductive material is indicated by passing electric signal. The apparatus as well as the method for carrying out the method consists of the first contact (3) pressed against the high resistance layer (2j, which is a bundle) fine fibers and is saturated with electrolyte (4), and from the second contact (6), which it is pressed against the conductive material (1) bearing high resistance layer (2j, na to which a DC source (7) is connected current and evaluation system (8j, whereby a high resistance layer (2) applied to the conductive material (it moves with respect to contacts. The evaluation system (8) is formed photocell (10) illuminated by a light signal a modified interrupter (13) and a to a series of connected resistors (to which a selective voltmeter is connected in parallel (12) with an amplifier.
Description
Způsob měření odporu vysokoodporových vrstev spočívá v tom, že po povrchu vysokoodporové vrstvy se pohybuje kontakt tvořený svazkem jemných vláken a nasycený elektrolytem, bodový odpor vysokooďporové vrstvy mezi pohyblivými kontakty na povrchu vysokoodporové vrstvy a na vodivém materiálu se indikuje procházejícím elektrickým signálem.The method of measuring the resistance of the high-resistance layers is to move the surface of the high-resistance layer with a fine-fiber bonded electrolyte contact, and the point resistance of the high-resistance layer between the movable contacts on the high-resistance layer and on the conductive material.
Zařízení ik provádění způsobu sestává z prvního kontaktu (3) přitisknutého k vysokoodporové vrstvě (2j, který je tvořen svazkem jemných vláken a je nasycený elektrolytem (4), a z druhého kontaktu (6), který je přitisknut k vodivému materiálu (1) nesoucímu vysokoodporovou vrstvu (2j, na něž je připojen zdroj (7) stejnosměrného proudu a vyhodnocovací systém (8 j, přičemž vysokoodporová vrstva (2) nanesená na vodivém materiálu (lj se vůči kontaktům pohybuje. Vyhodnocovací systém (8) je tvořen fotonkou (10) osvětlenou světelným signálem upraveným přerušovačem (13) a do série zapojeným odporem (lij, ke kterému je paralelně připojen selektivní voltmetr (12) se zesilovačem.The apparatus for carrying out the method consists of a first contact (3) pressed against the high resistance layer (2j) which is formed by a fine fiber bundle saturated with electrolyte (4), and a second contact (6) pressed against the conductive material (1) carrying the high resistance a layer (2j) connected to a direct current source (7) and an evaluation system (8j), the high-resistance layer (2) deposited on the conductive material (1j moving towards the contacts). The evaluation system (8) consists of a photocell (10) illuminated a light signal provided by the breaker (13) and a series resistor (11j) to which a selective voltmeter (12) with an amplifier is connected in parallel.
Tento vynález se týká bodového měření elektrického, odporu vrstev s vysokým elektrickým odporem.The present invention relates to spot measurement of electrical resistance of layers with high electrical resistance.
Při kontrole kvality odporu vysokoodporových tenkých vrstev používaných k reprografickým účelům je třeba zjistit, zda vrstva neobsahuje ve vysoké koncentraci poruchy s elektrickou vodivostí často o několik řádů převyšující vodivost okolní vrstvy. Tyto nahodile rozptýlené poruchy snižují kvalitu reprodukce, protože v nich a v jejich okolí dochází k poruchám v rozložení potenciálu při koronovém nabíjení povrchu.When checking the resistance quality of high-resistance thin films used for reprographic purposes, it is necessary to ascertain whether the layer contains, in high concentration, failures with electrical conductivity often several orders of magnitude higher than that of the surrounding layer. These randomly dispersed disturbances reduce the quality of reproduction because there are disturbances in potential distribution during corona charging of the surface in and around them.
Je proto třeba při zhotovování reprografických válců či desek na bázi selenu a jeho slitin nebo jiných vrstev, obdobných vlastností provádět při výrobě těchto elementů systematickou kontrolu kvality.It is therefore necessary to carry out systematic quality control in the manufacture of these elements when producing reprographic cylinders or plates based on selenium and its alloys or other layers of similar properties.
Měření je možno provádět tak, že vodivý válec či deska, na kterém je vysokoodporová vrstva nanesena, tvoří jednu elektrodu. Druhá elektroda může být na vysokoodporovou vrstvu napařena v podobě malých plošek Al, Au apod. Elektrický odpor je pak měřen mezi malou napařenou elektrodou a základním válcem či deskou, na které je vysokoodporová vrstva nanesena.The measurement can be carried out in such a way that the conductive cylinder or plate on which the high-resistance layer is applied forms a single electrode. The second electrode may be vapor deposited on the high-resistance layer in the form of small pads of Al, Au, etc. The electrical resistance is then measured between the small vaporized electrode and the base roll or plate on which the high-resistance layer is applied.
Nevýhodou způsobu je nevratné poškození zkoušeného výrobku. Provedení kontroly vysoko,odporové vrstvy bez poškození vrstvy umožňuje tento, vynález. .The disadvantage of the method is irreversible damage to the test product. The performance of the high resistance layer control without damaging the layer makes this invention possible. .
Podstata způsobu měření odporu podle vynálezu spočívá v tom, že po povrchu vysokoodporové vrstvy se pohybuje kontakt tvořený svazkem jemných vláken a nasycený elektrolytem. Bodový odpor vysokoodporové vrstvy mezi pohyblivými kontakty na povrchu vysokoodporové vrstvy a na vodivém materiálu se indikuje procházejícím elektrickým signálem. Podle průměru kontaktu dotýkajícího se vysokoodporové vrstvy může být volena velikost plošky, na které je v daném okamžiku elektrický odpor měřen.The principle of the resistance measurement method according to the invention consists in that a contact formed by a fine fiber bundle and saturated with an electrolyte moves on the surface of the high resistance layer. The point resistance of the high resistance layer between the moving contacts on the surface of the high resistance layer and on the conductive material is indicated by a passing electrical signal. Depending on the diameter of the contact contacting the high resistance layer, the size of the spot on which the electrical resistance is measured at a given moment can be selected.
Zařízení podle vynálezu sestává z prvního kontaktu přitisknutého k vysokoodporové vrstvě, který je tvořen svazkem jemných vláken a je nasycen elektrolytem a z druhého kontaktu, který je přitisknut k vodivému materiálu nesoucímu vysokoodporovou vrstvu, na. něž je připojen zdroj stejnosměrného produ a vyhodnocovací systém. Vysokoodporová vrstva, nanesená na vodivém materiálu je vůči kontaktům pohyblivá. Vyhodnocovací zařízení sestává z fotonky osvětlené světelným signálem upraveným přerušovačem a do, série zapojeným odporem, ke kterému je paralelně připojen selektivní voltmetr se zesilovačem.The device according to the invention consists of a first contact pressed against the high resistance layer, which is formed by a bundle of fine fibers and is electrolyte saturated, and a second contact which is pressed against the conductive material supporting the high resistance layer, onto the electrolyte. which is connected to a DC power supply and evaluation system. The high resistance layer applied to the conductive material is movable relative to the contacts. The evaluation device consists of a photocell illuminated by a light signal provided by a breaker and a series-connected resistor to which a selective voltmeter and amplifier are connected in parallel.
Hlavní výhody uvedeného způsobu měření a zařízení k provádění tohoto způsobu vyplývají z uvedeného popisu a příkladů. Je umožněno podrobné zmapování odporu vrstvy bez jejího, poškození. Volbou stoupání závitu při kontrole napařených válců a volbou průměru prvního kontaktu je možno, předem volit, jaký díl z celkové plochy má být zmapován. Další výhodou je možnost záznamu údaje selektivního voltmetru registračním přístrojem.The main advantages of said method of measurement and the apparatus for carrying out this method result from the description and examples. Detailed mapping of the resistance of the layer is possible without damaging it. By selecting the thread pitch during the inspection of the steamed cylinders and by selecting the diameter of the first contact, it is possible to pre-select which part of the total area is to be mapped. Another advantage is the possibility of recording the data of a selective voltmeter with a recording device.
Zařízení podle vynálezu je blíže znázorněno na obr. 1, kde je schematicky znázorněno zařízení k měření elektrického odporu vysokoodporové vrstvy a na obr. 2 je schematicky znázorněn vyhodnocovací systém se zdrojem stejnosměrného napětí.The device according to the invention is shown in more detail in Fig. 1, where the device for measuring the electrical resistance of the high-resistance layer is schematically illustrated, and Fig. 2 is a schematic representation of an evaluation system with a DC voltage source.
Na obr. 1 je znázorněno schematicky zařízení k měření elektrického· odporu vysofcoodporové vrstvy 2, která je nanesena na kovovém válci 1. Zařízení sestává z prvního kontaktu 3, který je tvořen svazkem jemných vláken a je nasycen elektrolytem 4 a z druhého kontaktu 6, přitisknutého· k vodivému materiálu 1 válce a zdroje 7 stejnosměrného proudu a vyhodnocovacího systému 8. Na obr. 2 je znázorněn vyhodnocovací systém 8 se zdrojem 7 stejnosměrného proudu a přívody ke kontaktům 3, 6. Vyhodnocovací systém 8 je tvořen fotonkou 10, osvětlenou světelným signálem upraveným přerušovačem 13 a do· série zapojeným odporem 11, ke kterému je paralelně připojen selektivní voltmetr 12 se zesilovačem.1 shows schematically an apparatus for measuring the electrical resistance of a high-resistance layer 2 which is applied to a metal cylinder 1. The apparatus consists of a first contact 3 consisting of a fine fiber bundle and saturated with an electrolyte 4 and a second contact 6 pressed against it; to the conductive material 1 of the cylinder and the DC source 7 and the evaluation system 8. FIG. 2 shows the evaluation system 8 with the DC source 7 and the leads to the contacts 3, 6. The evaluation system 8 consists of a photocell 10 illuminated by a light signal 13 and a series resistor 11 connected in series to which a selective voltmeter 12 with amplifier is connected in parallel.
Přerušování světelného· signálu se na odporu 11 vytváří periodické napětí, které je úměrné odporu vysokoodporové vrstvy 2. Toto napětí se indikuje selektivním voltmetrem 12 se zesilovačem.The interruption of the light signal creates a periodic voltage on the resistor 11, which is proportional to the resistance of the high resistance layer 2. This voltage is indicated by a selective voltmeter 12 with an amplifier.
Způsob měření odporu a zařízení k provádění tohoto způsobu budou vysvětleny na následujících příkladech ve spojení s výkresy.The method of measuring resistance and the apparatus for performing this method will be explained in the following examples in conjunction with the drawings.
Příklad 1Example 1
Na vodivém materiálu 1 válce (obr. 1) je nanesena vysokoodporové vrstva 2 o složení As2Se98. K vrstvě 2 je přitisknut první kontakt 3 o průměru 0i = 2 mm, tvořený svazkem vláken o průměru 02 = 0,05 mm, zasahující do buničiny se zásobou elektrolytu 4. Jako elektrolytu 4 byl použit 0,1% roztok etylalkoholu v redestilované vodě. Do buničiny zasahuje tenký platinový vodič 5. Druhý kontakt 6 přiléhá z vnitřní strany k vodivému materiálu 1 válce. Vodič 5 a vývod od druhého kontaktu 8 jsou připojeny ke zdroji 7 stejnosměrného proudu a vyhodnocovacímu systému 8. Vodivý válec je pevně spojen se šroubem, jehož otáčením je pak vodivý válec horizontálně unášen za současného otáčení. Stoupání závitu je voleno 2 mm na 1 otočku. Tím je zajištěn posun prvního kontaktu 3 po celé ploše válce.The conductive material 1 of the roll (FIG. 1) is coated with a high resistance layer 2 having the composition As2Se98. The first contact 3 having a diameter of 0 = 2 mm, consisting of a fiber bundle with a diameter of 02 = 0.05 mm, is pressed against the layer 2, reaching into the pulp with an electrolyte reserve 4. 0.1% ethyl alcohol in redistilled water was used as the electrolyte 4. A thin platinum conductor 5 extends into the pulp. The second contact 6 abuts against the conductive material 1 of the cylinder from the inside. The conductor 5 and the outlet from the second contact 8 are connected to a direct current source 7 and an evaluation system 8. The conductive cylinder is rigidly connected to the screw, by rotation of which the conductive cylinder is then horizontally entrained while rotating. The thread pitch is 2 mm per turn. This ensures the displacement of the first contact 3 over the entire surface of the cylinder.
Příklad 2Example 2
K měření elektrického odporu v uspořádání podle příkladu 1 lze s výhodou užít zapojení podle obr. 2. Fotonka 10 s velmi vysokým odporem za tmy je spojena v sérii s odporem 11, na kterém je měřeno napětí selektivním voltmetrem 12 se zesilovačem, zdrojem 7 stejnosměrného napětí a prostřednictvím kontaktů 3, S s měřenou vysokoodporovou vrstvou 2. Světelný signál dopadající na fotonku 10 je přerušován přerušovačem. 13. Amplituda napětí vkládaného na vysokoodporovou vrstvu 2 se tím periodicky mění a napětí na odporu 11 je závislé na odporu vysokoodporové vrstvy 2 a (obr. lj napětí zdroje 7 stejnosměrného proudu. Přitom je nutno splnit podmínku, že odpor fotonky 10 za tmy je vyšší nebo nejvýše roven měřenému odporu vysokoodporové vrstvy 2. Popsané zařízení podle příkladu 2 je možno ocejchovat sadou přesných odporů a při užití fotonky 10 o odporu za tmy 1014 Ω je možno spolehlivě měřit odpor vysokoodporové vrstvy 2 až do 1014 Ω. Příklad 3The wiring of FIG. 2 is preferably used to measure the electrical resistance in the arrangement of Example 1. The very high resistance photomicrograph 10 is connected in series with a resistor 11 on which the voltage is measured by a selective voltmeter 12 with an amplifier, a DC voltage source 7. and by means of the contacts 3, S with the measured high resistance layer 2. The light signal incident on the photocell 10 is interrupted by a breaker. 13. The amplitude of the voltage applied to the high-resistance layer 2 is thereby periodically varied and the voltage to the resistor 11 is dependent on the resistance of the high-resistance layer 2 and (FIG. 1j the voltage of the DC power source 7). The device of Example 2 can be calibrated with a set of precision resistors, and using a photomicrograph 10 with a resistance in the dark of 10 14 Ω, the resistance of the high resistance layer 2 can be reliably measured up to 10 14 Příklad.
Po vysokoodporové vrstvě 2 o složení AsdSe96 nanesené na hliníkové desce je mechaniky posunován první kontakt 3 průměru 0i = 1 mm, tvořený svazkem vláken průměru 02 = 0,04 mm, nasycený elektrolytem 4 podle příkladu 1. Druhý kontakt 6 je připojen k hliníkové desce. Oba kontakty 3, 4 jsou zapojeny do obvodu popsaném v příkladu 2.After the high resistance layer 2 of AsdSe96 deposited on the aluminum plate, the first contact 3 of diameter 0i = 1 mm, consisting of a fiber bundle of diameter 02 = 0.04 mm, saturated with electrolyte 4 according to Example 1, is advanced by the drive. Both contacts 3, 4 are connected to the circuit described in Example 2.
Claims (3)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS833898A CS245104B1 (en) | 1983-05-31 | 1983-05-31 | Layers' electric resistance measuring method and device for application of this method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS833898A CS245104B1 (en) | 1983-05-31 | 1983-05-31 | Layers' electric resistance measuring method and device for application of this method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS389883A1 CS389883A1 (en) | 1985-12-16 |
| CS245104B1 true CS245104B1 (en) | 1986-08-14 |
Family
ID=5380391
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS833898A CS245104B1 (en) | 1983-05-31 | 1983-05-31 | Layers' electric resistance measuring method and device for application of this method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS245104B1 (en) |
-
1983
- 1983-05-31 CS CS833898A patent/CS245104B1/en unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CS389883A1 (en) | 1985-12-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3096478A (en) | Apparatus with conductive gas electrodes for detecting non-uniformity in electrically insulating and electrically semi-conducting materials | |
| US5038178A (en) | Image transfer member including an electroconductive layer | |
| Louis et al. | An experimental investigation of through-thickness electrical resistivity of CFRP laminates | |
| ATE93320T1 (en) | METHOD OF DETECTING AND/OR IDENTIFYING A BIOLOGICAL SUBSTANCE BY ELECTRICAL MEASUREMENTS AND DEVICE FOR PERFORMING SUCH PROCEDURE. | |
| US20030062919A1 (en) | Method and apparatus for detecting pinhole defects in a dielectric layer | |
| Davies | Surface charge and the contact of elastic solids | |
| US3384815A (en) | Moisture content measuring method and apparatus including a roller for periodically contacting a flexible travelling sheet member | |
| CS245104B1 (en) | Layers' electric resistance measuring method and device for application of this method | |
| US4443764A (en) | Method for non-destructive detection and characterization of flaws | |
| CA2492101C (en) | Device and method for testing a membrane electrode assembly | |
| Stratmann et al. | Monitoring of blistering of organic coatings by a contact‐free measurement | |
| CN208833600U (en) | A thin film testing device | |
| JPS5934573A (en) | image forming device | |
| JPS606517B2 (en) | Method and apparatus for recording and erasing recorded images on thermoplastic recording materials | |
| Lustfeld et al. | Magnetotomography and electric currents in a fuel cell | |
| McHenry | Generator insulation testing by continuous time-function application of direct voltage | |
| JPS5964860A (en) | Control apparatus and method for corona generator | |
| RU2086995C1 (en) | Method for detection of electric strength of solid dielectric materials | |
| JP3911635B2 (en) | Plated substrate bonding method and plated substrate bonding apparatus | |
| Dziedzic et al. | Stability of electrical properties for mechanically exposed thick-and thin-film resistors on flexible substrates | |
| SU1571488A1 (en) | Method of determining temperature of vitrification of polymers | |
| Kao | A new electrode system for the measurement of surface resistance | |
| JP2013160646A (en) | Methods for inspecting and manufacturing semiconductive belt, and inspection apparatus | |
| JPS62503052A (en) | hardness measurement | |
| KR840004186A (en) | Plating control inspection method and device |