CS242775B1 - A method for producing an aluminum alloy foil - Google Patents
A method for producing an aluminum alloy foil Download PDFInfo
- Publication number
- CS242775B1 CS242775B1 CS829113A CS911382A CS242775B1 CS 242775 B1 CS242775 B1 CS 242775B1 CS 829113 A CS829113 A CS 829113A CS 911382 A CS911382 A CS 911382A CS 242775 B1 CS242775 B1 CS 242775B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- silicon
- alloy foil
- weight
- aluminum alloy
- producing
- Prior art date
Links
Landscapes
- Metal Rolling (AREA)
Abstract
Řešení se týká fólie ze slitiny hliník- -křemík a způsobu její výroby, použitím plynulého odlévání směrem vzhůru polotovaru ve tvaru pasu tlouštky 5 až 15 mm, s následujícím jeho válcováním s redukcí 30 až 95 % a s mezižíháním při teplotě 200 až 560 °C po dobu 0,25 až 15 hodin pro výrobu fólie z hliníkové slitiny, s 10 až 20 % hmotnostními křemíku a s maximálně 0,1 % hmotnostního doprovodných prvků, o tlouštce 0,02 až 0,12 mm.The solution relates to an aluminum-silicon alloy foil and a method of producing it, using continuous upward casting of a waist-shaped semi-finished product with a thickness of 5 to 15 mm, followed by rolling it with a reduction of 30 to 95% and intermediate annealing at a temperature of 200 to 560 °C for 0.25 to 15 hours to produce an aluminum alloy foil with 10 to 20% by weight of silicon and a maximum of 0.1% by weight of accompanying elements, with a thickness of 0.02 to 0.12 mm.
Description
Vynález se týká způsobu výroby fólie ze slitiny hliník-křemík s obsahem křemíku od 10 do 20 % hmotnostních.The invention relates to a process for the production of an aluminum-silicon alloy film having a silicon content of from 10 to 20% by weight.
Pro elektrotechnické účely je nutné před pájením křemíkových destiček na kovové podložky užívat speciálními postupy napařované mezivrstvy. Pro tuto mezivrstvu lze používat fólie z eutektického, případně nadeutektického siluminu, což je slitina hliníku s 12 až 20 % hmotnostními křemíku. Toto je ve své podstatě běžná slévárenská slitina používaná pro výrobu odlitků.For electrotechnical purposes, it is necessary to use steamed intermediate layers before soldering silicon wafers to metal substrates. For this intermediate layer, foils made of eutectic or possibly nadutectic silumin, which is an aluminum alloy with 12 to 20% by weight of silicon, can be used. This is essentially a conventional foundry alloy used for casting.
Nedostatečné plastické vlastnosti slitiny však neumožňují běžnými způsoby válcováni vyrobit fólii o tloušEce 20 až 120 um, požadovanou elektrotechnickým průmyslem. Plastičnost této slitiny je totiž výrazně ovlivňována nevhodně vyloučenými velkými primárními krystaly křemíku a intermetalickými fázemi obsahujícími železo, které se jako doprovodný prvek vždy v této slitině vyskytuje. Vzhledem k této skutečnosti by znamenal klasický způsob výroby válcováním za tepla a za studená, z polotovarů odlitých běžnými způsoby, zcela neefektivní postup, při kterém by bylo nutno zařazovat mezioperační žíháni vždy již po nepatrné deformaci. Jinak by totiž nutně docházelo k popraskání polotovaru.However, the inadequate plastic properties of the alloy do not make it possible, by conventional rolling processes, to produce the 20 to 120 µm film desired by the electrical industry. Indeed, the plasticity of this alloy is greatly influenced by the inappropriately excluded large primary silicon crystals and the iron-containing intermetallic phases, which are always present as an accompanying element in the alloy. In view of this fact, the classical method of hot and cold rolling from semi-products cast by conventional methods would mean a completely inefficient process, in which it would be necessary to include inter-operational annealing already after slight deformation. Otherwise it would necessarily lead to cracking of the semi-finished product.
Uvedené nedostatky odstraňuje slitina hliník-křemík podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že slitina sestává v hmotnostní koncentraci z 10 až 20 % křemíku, maximálně 0,1 % doprovodných prvků, jako jsou např. železo, měd, hořčík, stroncium, zinek nebo mangan, zbytek je hliník.The above-mentioned drawbacks are eliminated by the aluminum-silicon alloy according to the invention, which consists in that the alloy consists in a concentration by weight of 10 to 20% silicon, at most 0.1% of accompanying elements such as iron, copper, magnesium, strontium, zinc or manganese, the rest being aluminum.
Podle vynálezu způsob výroby fólie z polotovaru spočívá v plynulém odléváni pasu o tloušEce 5 až 15 mm do grafitového krystalizátoru zařízení pro plynulé lití směrem vzhůru. Při plynulém lití pasu o tloušEce 5 až 15 mm do grafitového krystalizátoru je odvod tepla natolik velký, že materiál krystalizuje dostatečně rychle k tomu, aby bylo zabráněno vzniku nežádoucích hrubých krystalů primárního křemíku. Vzniklý polotovar je potom dostatečně plastický pro následnou výrobu fólie o. tloušEce 0,02 až 0,12 mm válcováním. Nízký obsah doprovodných prvků, pod hranici 0,1 % hmotnostního, vylučuje možnost nežádoucího vzniku intermetalických fází obsahujících železo a současně umožňuje použití této slitiny při výrobě polovodičových součástek. Tato slitina je potom dostatečně tvárná a je jí možno zpracovávat válcováním za tepla i za studená s redukcí 30 až 95 % a s mezižíháním při teplotě 200 až 560 °C po dobu 0,25 až 15 h.According to the invention, the method for producing a film from a preform consists in continuously casting a 5-15 mm thick waist into a graphite crystallizer of a continuous casting device upwards. By continuously casting a 5-15 mm thick waist into a graphite crystallizer, the heat dissipation is so great that the material crystallizes quickly enough to prevent the formation of unwanted coarse primary silicon crystals. The resulting preform is then sufficiently plastic for the subsequent production of a 0.02 to 0.12 mm thick film by rolling. The low content of accompanying elements, below 0.1% by weight, eliminates the possibility of undesirable formation of iron-containing intermetallic phases and at the same time allows the use of this alloy in the manufacture of semiconductor devices. The alloy is then sufficiently ductile and can be processed by hot and cold rolling with a reduction of 30 to 95% and an annealing at 200 to 560 ° C for 0.25 to 15 hours.
Přiklad 1Example 1
Slitina o složení 11,7 % hmotnostních křemíku, zbytek hliník, byla odlita plynulým litím směrem vzhůru ve formě pasů o tloušEce 10 mm rychlostí 15 m.hl. Pas byl dále válcován za tepla s celkovou redukcí 70 %, potom žíhán při 350 °C/45 min, válcován za studená s redukcí 80 %, žíhán 350 °C/45 min, dále bylo střídáno válcování za studená s redukcemi cca 80 % s mezižíháním 350 °C/45 min až na požadovanou tloušEku fólie 0,05 mm.An alloy of 11.7% by weight silicon, the remainder aluminum, was cast by continuous casting upwards in the form of 10 mm thick belts at a speed of 15 m.hl. The waist was further hot rolled with a total reduction of 70%, then annealed at 350 ° C / 45 min, cold rolled with a reduction of 80%, annealed 350 ° C / 45 min, then alternated cold rolling with reductions of about 80% s by annealing at 350 ° C / 45 min to a desired film thickness of 0.05 mm.
Příklad 2Example 2
Slitina o složení 13 % hmotnostních křemíku, zbytek hliník, byla odlita způsobem popsaným v příkladu 1. Pas byl dále žíhán 530 °C/15 h a válcován s celkovými redukcemi 50 až 90 », s mezižíháním 330 až 370 °C/0,5 až 1 h až na požadovanou tloušEku fólie 0,03 mm.The 13% silicon alloy, the rest aluminum, was cast as described in Example 1. The waist was annealed at 530 ° C / 15 h and rolled with total reductions of 50 to 90 °, with an annealing of 330 to 370 ° C / 0.5 to 1 h up to the required film thickness of 0.03 mm.
Příklad 3Example 3
Slitina o složeni 12 % hmotnostních křemíku, zbytek hliník, byla odlita způsobem popsaným v příkladu 1. Pas byl dále válcován za studená s redukcí 40 %. Následovalo mezižíhání 400 °C/30 min a dále byl pas střídavě válcován za studená s redukcemi 5.5 až 80 % s mezižíháním 400 °C/30 min až na konečnou požadovanou tloušEku fólie 0,025 mm.An alloy of 12% by weight silicon, the remainder aluminum, was cast as described in Example 1. The waist was further cold rolled with a 40% reduction. An intermediate annealing of 400 ° C / 30 min followed by alternating cold rolling with reductions of 5.5 to 80% with an annealing of 400 ° C / 30 min to a final desired film thickness of 0.025 mm.
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS829113A CS242775B1 (en) | 1982-12-14 | 1982-12-14 | A method for producing an aluminum alloy foil |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS829113A CS242775B1 (en) | 1982-12-14 | 1982-12-14 | A method for producing an aluminum alloy foil |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CS911382A1 CS911382A1 (en) | 1985-08-15 |
CS242775B1 true CS242775B1 (en) | 1986-05-15 |
Family
ID=5442452
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CS829113A CS242775B1 (en) | 1982-12-14 | 1982-12-14 | A method for producing an aluminum alloy foil |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CS (1) | CS242775B1 (en) |
-
1982
- 1982-12-14 CS CS829113A patent/CS242775B1/en unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CS911382A1 (en) | 1985-08-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0084571B1 (en) | Process for producing superplastic aluminium alloy plate | |
KR20020028890A (en) | Copper sputtering target assembly and method of making same | |
CN103397235B (en) | A kind of magnesium-aluminum-zinc-manganese-copper alloy and preparation method thereof | |
JPS5964735A (en) | Light metal base alloy and manufacture | |
US2841512A (en) | Method of working and heat treating aluminum-magnesium alloys and product thereof | |
ES475808A1 (en) | Al-Mn Alloy and process of manufacturing semifinished products having improved strength properties | |
WO2019238509A1 (en) | Method of manufacturing a 7xxx-series aluminium alloy plate product having improved fatigue failure resistance | |
CN104616897B (en) | Electrolytic capacitor aluminium alloy material and its manufacture method | |
CN106702234A (en) | 7085 aluminum alloy doped with rare earth element erbium and preparation method of 7085 aluminum alloy | |
US4305762A (en) | Copper base alloy and method for obtaining same | |
EP0093178A1 (en) | Production of superplastic aluminum alloy strips | |
US3958987A (en) | Aluminum iron cobalt silicon alloy and method of preparation thereof | |
US2940881A (en) | Method for making cbe-on-face magnetic steel | |
CS242775B1 (en) | A method for producing an aluminum alloy foil | |
US3960607A (en) | Novel aluminum alloy, continuously cast aluminum alloy shapes, method of preparing semirigid container stock therefrom, and container stock thus prepared | |
JP2970852B2 (en) | Manufacturing method of aluminum alloy foil for cathode of electrolytic capacitor | |
US3960606A (en) | Aluminum silicon alloy and method of preparation thereof | |
US4397696A (en) | Method for producing improved aluminum conductor from direct chill cast ingot | |
RU2583567C1 (en) | METHOD FOR PRODUCING HIGHLY THIN SHEET OF TITANIUM ALLOY Ti-6,5Al-2,5Sn-4Zr-1Nb-0,7Mo-0,15Si | |
US3843416A (en) | Superplastic zinc/aluminium alloys | |
JPS6059982B2 (en) | Method for manufacturing aluminum foil for electrolytic capacitor electrodes | |
JPS601947B2 (en) | Manufacturing method for aluminum alloy forgings | |
RU2579861C1 (en) | Method for production of deformed semi-finished products of aluminium-based alloy | |
US12325900B2 (en) | Aluminum alloy material suitable for use in the food industry and production method thereof | |
US5026433A (en) | Grain refinement of a copper base alloy |