CS241578B1 - Svetlocitlivý roztok na predsenzibilizáciu ofsetových tlačových platní - Google Patents
Svetlocitlivý roztok na predsenzibilizáciu ofsetových tlačových platní Download PDFInfo
- Publication number
- CS241578B1 CS241578B1 CS842543A CS254384A CS241578B1 CS 241578 B1 CS241578 B1 CS 241578B1 CS 842543 A CS842543 A CS 842543A CS 254384 A CS254384 A CS 254384A CS 241578 B1 CS241578 B1 CS 241578B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- weight
- aromatic
- bis
- azidobenzal
- offset printing
- Prior art date
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
241578
Vy n Služ sa týká svetíocitlivého roztokuurčeného ha - predsenzibilizáciu platní preofsetové tlač naz-báze scitliveného polyrné-ru alebo zimesi po-lymér-ov, ktoré po nane-sení iv tenkej vrstvě na vhodné podložku avysušení možno použit na kopírovanie ob-razu kopírovacej předlohy.
Princípom fotochemického spóisobu zho-tovenia kopie v polygrafické] reprodukcii jezáznam svetelnej informácie kopírovacejpředlohy do vrstvy ácitlivenej nízkomoleku-lovými, alebo polyróiérnymi svetlocitlivýmilátkami. Na zaznamenávanie svetelnej in-formácie sa používajú organické fotopoly-méry, soli šesťmocněho chrómu, soli strieb-ra, diazozlúčeniny, organické azidy alebodiazidy, nitróny atď.
Ako polymérny substrát sa vo fotochemie -kej reprodukcii využívajú prírodné alebosyntetické polyméry, ktoré po scitlivenísvetlocitlivými látkami menia na miestachdopadu žiarenia fyzikálnochemické vlastnos-ti, najčastejšie rozpustnost V súčasnosti sa pri vývoji svetlocitlivýohkompozícií sleduje predovšetkým zvýšeniesvetelnej citlivosti, ekologické ,hledisko astandard,nosť kvality predsenzibilizovanejplatné. Z hfadiska ochrany životného prostrediasa vývoj orientuje predovšeťkým na vodo-rozpustné isvetl-ocitlivé vrstvy, resp. na vrst-vy, pri kterých hlavnú zložku vývojky tvořívoda. Z hfadiska štandardnosti a kvality idepredovšetkým o predsenzibilizované tlačovéplatné, ktoré sa vyznačujú dlhodobou skl-a-dovatefnostou a -možnosťou strojového spra-covania, beiz zhoršenia reprodukčných atlačových vlastností.
Využitie svetlocitlivých nitřónov- vo foto-chemickej reprodukcii uvádza US patentč. 3 416 922. Nevýhodou týchto systémov je,že sa na expozíciu musia používat světelnézdroje s bohatým obsahom ultrafialovéhožiarenia.
Tento: nedostatek rieši svetlocitlivý roz-tok podlá vynálezu, ktorého podstata je vtom, že na hmotnost polymérneho substrá-tu obsahuje 0,5 až 50 % hmotnosti C-(4-azi-dofenyl)-N-fenylnitrónu a 0,5 až 50 % hmot-nosti aromatického diazidu. Alko polymérnysubstrát sa používá metakrézolformaldehy-dová živice, alebo zmes metakrezolformal-dehydovej živice s polymérmi rozpustnýmivo vodě alebo- v zásaditom vodnom roztoku,s výhodou s étermi celulózy. Ako aromatic-ký diazid sa používá 2,6-bis (4‘--azidoben-zalj-4-metylcyklohexanón alebo 2,6-bis(4--azidobenzal j -cyklohexanó-n. -Použitím aromatického nitrónu s azido- skuipinou na -aromatickom jadre ako svetlo-citlivej látky, sa doslahne zv-ýšenle citlivos-ti v modrej oblasti spektra. Ďalšou výhodou navrhovaného systémuje, že pri kopírovaní obrazu kopírovacejpředlohy do tenkej svetlocitlivej vrstvy do-chádza sú-Časne k vizualizácii vzniknutéholatentného obrazu. Příklad 1
Svetlocitlivý roztok obsahujúci 6 hmot-nostných -dielov metakrezolformaldehydovejživice, 3 hmotnostně diely C-(4-azidofenyl)--N-fenylnitrónu, 60 hmotnostných dielov e-tylceloisolvu a 3Í1 hmotnostných dielov ace-tonu s-a v odstredivke nanesie na anodickyoxidované hliníkové plátnu v -rénožstve 2gramy/m2 a vysuší sa. Na takto připravenépredscitlivené plátnu sa kontaktně kopírujekopírovucia předloha zo vzdialenosti 1,5 m.Použitý zdroj — 5000 W halogenidová vý-bojka. Expozičný čas — 5 minut. Získaný 1-atentný obr-az sa vyvolá v 0,5% roztokuhydroxidu sodného. P r í ik 1 a d 2 -- Svetlocitlivým roiztokom obsahujócim 7hmotnostných dielov metakrezolformaldehy-dovej živice, 3 hmot-nost-né diely C-(4-azido-fenyl j-N-íenylnitrónu, 1 hmotnostný diel2,6-bis (4‘-azidobenzal) -cyklohexanónu, 59hmotnostných -dielov metyleelosolvu a 30hmotnostných dielov acetonu sa ov-rství a-nodicky oxidovaná hliníková pl-atňa v množ-stvo 1,8 g/m2. Exponováním 5 -000 W h-alo-genidovou výbojkou cez kopírovaciu před-lohu sa po vyvolaní v- 0,5% roztoku hydro-xidu sodného získá dobré viditelný pozitiv-ny obraz. Expozičný čas — 3 mlnéty. P r í k 1 a d 3
Svetlocitlivý roztok zloženia ako v- příkla-de 2 s tým, že ako diazid sa použije 1 thmoí-nostný diel 2,6-bis(4‘-.azidobenzal j-4-metyl-cyklohex-anónu. Exponováním 5 000 W halo-genídoivou výbojkou sa získá po vyvolanípozitivny obraz výborné) kvality. P r í k 1 -a -d 4
Svetlocitlivý roztok zloženia ako v příkla-de 2 s tým,-^e sa do svetlocitlivej kompozí-cle pridajé ešte 2 hmotnostně diely 2-hyd-roxypropylcelulózy. Po nanesení svetlocitli-v-ej vrstvy na -anodicky oxidované hliníkovéplátnu sa expozícia skrátl na 2 aninéty. .
Claims (3)
1. Svetlocitlivý roztok ,na predsenzibilizá-ciu ofsetových tlačových platní vyznaĎujúcisa tým, že na hmotnost polymérneho sub-strátu obsahuje 0,5 až 50 % hmotnosti C-(4--azidofenyl J-N-fenylnitrónu a 0,5 až 50 %hmotnosti aromatického diazidu.
2. Svetlocitlivý roztok podlá bodu 1 vy-značujúci sa tým, že ako ipolymérny sub-strát sa používá ímetakrezolformaldehydová VYNÁLEZU živica, alebo zmeš metakrezolformaldehydo-vej živice s polymérom rozpustným vo voděalebo v zásaditom vodnom roztoku, s výho-dou s étermi celulózy.
3. Svetlocitlivý roztok podlá bodov 1 a 2vyznaĎujúci sa tým, že ako aromatický di-azid sa (používá 2,6-bis(4‘-azidobenzal)-4-me-tylcyklohexanón alebo 2,6-bis(4‘-azidoben-zal) -cyklohexanón.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS842543A CS241578B1 (sk) | 1984-04-03 | 1984-04-03 | Svetlocitlivý roztok na predsenzibilizáciu ofsetových tlačových platní |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS842543A CS241578B1 (sk) | 1984-04-03 | 1984-04-03 | Svetlocitlivý roztok na predsenzibilizáciu ofsetových tlačových platní |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS254384A1 CS254384A1 (en) | 1985-08-15 |
| CS241578B1 true CS241578B1 (sk) | 1986-03-13 |
Family
ID=5362870
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS842543A CS241578B1 (sk) | 1984-04-03 | 1984-04-03 | Svetlocitlivý roztok na predsenzibilizáciu ofsetových tlačových platní |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS241578B1 (cs) |
-
1984
- 1984-04-03 CS CS842543A patent/CS241578B1/cs unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CS254384A1 (en) | 1985-08-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4350753A (en) | Positive acting composition yielding pre-development high visibility image after radiation exposure comprising radiation sensitive diazo oxide and haloalkyl-s-triazine with novolak and dyestuff | |
| US4160670A (en) | Lithographic printing plate material | |
| US3785825A (en) | Light-sensitive quinone diazide compounds,compositions,and presensitized lithographic plate | |
| CA1103508A (en) | Radiation-sensitive copying composition | |
| US2649373A (en) | Paper printing foils for lithographic purposes and a process of preparing them | |
| US3640718A (en) | Spectral sentization of photosensitive compositions | |
| US4536465A (en) | Positive-working photosensitive composition with o-quinone diazide and admixture of resins | |
| GB2057154A (en) | Process for the production of lithographic printing plates | |
| US4786577A (en) | Photo-solubilizable composition admixture with radiation sensitive acid producing compound and silyl ether group containing compound with either urethane, ureido, amido, or ester group | |
| EP0507008B1 (en) | Lithographic printing plate based on a resin comprising aryldiazosulfonates | |
| US3984250A (en) | Light-sensitive diazoketone and azide compositions and photographic elements | |
| JPH0519460A (ja) | 水現像しうるジアゾベース平版印刷版 | |
| JP2599007B2 (ja) | ポジ型感光性組成物 | |
| US4990429A (en) | Process for the production of negative relief copies utilizing reversal processing | |
| US3778274A (en) | Spectrally sensitized diazo material | |
| CA1262109A (en) | Method for making multilayer coating | |
| US4341856A (en) | Photosensitive lithographic printing plate precursors | |
| US4307172A (en) | Imaging light-sensitive material with etchable opaque polyamide underlayer and light-sensitive resist overlayer | |
| US4299893A (en) | Photosensitive article for making visual aids with diazonium compounds and liquid epoxy resin | |
| US5122442A (en) | Method for forming an image from a high speed screen printing composition on a screen mesh | |
| US3526503A (en) | Photoresist composition | |
| US5402725A (en) | Lithographic base with a modified dextran or pullulan hydrophilic layer | |
| CS241578B1 (sk) | Svetlocitlivý roztok na predsenzibilizáciu ofsetových tlačových platní | |
| US5776652A (en) | Aromatic hexafluoropropanesulfonate diazonium salts and their use in radiation-sensitive mixtures | |
| US4446218A (en) | Sulfur and/or amide-containing exposure accelerators for light-sensitive coatings with diazonium compounds |