CS224750B1 - Rentgenově citlivý elektrografický záznamový meterlál - Google Patents
Rentgenově citlivý elektrografický záznamový meterlál Download PDFInfo
- Publication number
- CS224750B1 CS224750B1 CS540182A CS540182A CS224750B1 CS 224750 B1 CS224750 B1 CS 224750B1 CS 540182 A CS540182 A CS 540182A CS 540182 A CS540182 A CS 540182A CS 224750 B1 CS224750 B1 CS 224750B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- ray
- recording material
- electrographic recording
- layer
- ray sensitive
- Prior art date
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 6
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 5
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 2
- -1 felt Substances 0.000 claims 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 6
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 5
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- OGFYIDCVDSATDC-UHFFFAOYSA-N silver silver Chemical compound [Ag].[Ag] OGFYIDCVDSATDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000208202 Linaceae Species 0.000 description 1
- 235000004431 Linum usitatissimum Nutrition 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000002996 emotional effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000002601 radiography Methods 0.000 description 1
- 229940065287 selenium compound Drugs 0.000 description 1
- 150000003343 selenium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010025 steaming Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Radiography Using Non-Light Waves (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
Description
Vynález ee týká média opatřeného vrstvou pro elektrografický záznam rentgenového obřežu.
V radiografii se dosud převážně užívá klasického halogenstříbrného procesu pro hotovení rentgenových snímků. Stříbro se však rychle stává nedostatkovým materiálem, a proto se začínají prosazovat alternativní metody, které jsou ryze fyzikální povahy a kromě úspory stříbra vylučují nebo omezují mokré vyvolávání doprovázené chemickými reakcemi.
Téměř dvě desetiletí se již prakticky používá xeroradiografie, zvláště v medicínské radiologii. Poskytuje lepší snímky měkkých tělních částí než klasikcá fotografie. Po fyzi' kélním vyvolání suchou vývojkou se obraz přenáší na papír (většinou v opticky výhodné modré tónině) a může sloužit lékaři při zákroku jako bezprostřední pracovní pomůcka. Dnešní zařízení užívají jako rentgenově citlivých materiálů většinou fotovodivé amorfní vrstvy se lénu a slitin, resp. sloučenin selénu (chalkogenních skel). Tyto vrstvy se nanášejí ne podložní desku většinou napařovací nebo fleshovou technikou. Citlivost xeroradiografie je srovnatelná s halogenstříbrnou rentgenovou fotograf!, kontrastní podání polotónů i rozlišovací schopnost jeou velmi dobré.
Delší alternativní radiografickou metodou je ionogrsfie. Je značně rozpracovaná a má bohatou patentovou literaturu. Citlivost leží blízko použitelné hranice e vynakládá se nemálo úailí na to, aby bylo této hranice dosaženo při rozumné složitosti a ceně k.řízení.
tonografická metoda je založena na nabíjení, resp. vybíjení povrchu izolačního (tedy nefotovodivého) materiálu ionty produkovanými po průchodu zobrazovaným objektem vs vrstvě plynu o vysokém atomovém čísle e vysokém tlaku, který je umístěn v komoře nad povrchem Izolantu.
Je užíván většinou xenon o tisku jednotek U a. Dále je v komoře v těsné blízkosti na povrchem izolačního materiálu umístěna rentgenově průhledné elektroda připojené na potenciál řádu kV. Je patrné, že konstrukce komory js náročné a drahé a že existuje snadné možnost elektrického průrazu. Z tohoto důvodu nejsou dosud realizována komerční zařízení.
Rovněž je známé povrchově elektricky nabitelné a rtg zářením vybitelné záznamní médium na bázi nízkomolekulárního a vysokomolekulérního polystyrénu dopovaného nsftalénsm, sestávající z vrstev různé tloušlky nanesených na hliníkovou fólii nebo sklo opatřené vrstvou SnOg* Citlivost tohoto materiálu je dána převážně iontovým vybíjením a jen v malé míře indukovanou rtg fotovodivostí a je pro medicínské aplikace relativné nízké.
Ale i užívané selénové xeroradiografie je poměrně drahé jak vzhledem k náročně technologii výroby desek, tak i k jejich omezené životnosti. Záznam rtg obrazu je akreslovén tzv. podleptáním'' obrazu vlivem iontů vzduchu vzniklýoh během rtg expozice. K omezení tohoto vlivu je nutno užívat pomocné elektrody a vysokým napětím, umístěné nad deskou.
Zmíněné nevýhody odstraňuje rentgenově citlivý elektrografický záznamový materiál podle vynálezu. Jeho podstata spočívá ve složení a charakteru rentgenově citlivé vrstvy a jejím uložení během expozice v kazetě, dovolující nerušený přístup vzduchu.
Rentgenově citlivá vrstva je vytvořena fotovodivým anorganickým materiálem, β výhodou chalkogenním Aa/Se v hmotnostním poměru složek 3/7, ve formě prášku a pojivém z organického izolantu, a výhodou polystyrénu o molekulové hmotnosti 10^ až 10®. Nejmenší velikost částio anorganické složky je 0,8^m největší 20 Obsah pojivá v suché vrstvě činí 3 až 50 % hmot., přičemž horní mez je dána zachováním matového vzhledu citlivé vrstvy. Vrstva je. nanesena ne podložní materiál, například kovové desky a fólie, plastové desky e fólie, skleněné desky, papír. Tloušťka suché vrstvy činí minimálně 20 f^zm.
Nabité vrstva na podložním materiálu aa exponuje rentgenovým zářením procházejícím «
přes objekt v kazetě. Kazeta je z materiálu o nízké rtg absorpci a světlotšsné, přičemž je na svém obvodu opatřena řadou otvorů pro přístup vzduchu, které tvoří minimálně 5 % plochy obvodových stěn kazety. Vzdálenost víka od povrchu citlivé vrstvy js min. 2 mm.
Funkci citové vrstvy lze popsat následujícím způsobem: Díky matovému povrchu vznikají mezi čéstioemi fotovodiče a izolačním pojidlem v jejich bezprostředním okolí během expozice relativně silné elektrické lokální gradienty, které přitahují ionty příslušné polarity vznik lé ionizací vzduchu nad citlivou vrstvou. Tyto lonty kompenzují původní elektrický náboj, s tak přispívají ke tvorbě obrazu způsobem analogickým ionogrefií. Kazeta pro tento způsob práce musí být tedy opatřena ventilačními otvory pro nerušený přístup vzduchu, který musí být v nadbytku proti počtu vzniklých iontů. Aditivní využiti objemové fotovodivostí .a iontové kompenzace vede u materiálu popsaného typu k dosažení citlivosti srovnatelné s materiály selénového typu. Citlivou vrstvu lze přitom vyrábět jako emulzi a nanášet na podložky standardními a relativně jednoduchými zařízeními. Další výhodou je, že matový povrch citlivé vrstvy vytváří rastr, a tak má vzniklý obraz přirozeným způsobem zajištěno dobré podání polotónů.. lonty přispívají aktivním způsobem ke tvorbě obrazu a nezpůsobují nežádoucí podleptání. Proti ionografii odpadá nutnost tlakové kazety plněné xenonem a zdroj vysokého napětí pro ionografickou elektrodu.
Dále uvádíme příklady na složení a přípravu citlivé vrstvy.
Příklad 1
Chalkogenní sklo Aa/Se ve hmotném poměru složek 30/70 bylo mleto 24 hodin v kulovém porcelánovém mlýnu pod toluenem. Pak byl přidán granulovaný polystyrén o mol. hmot. 10® v množství 5 % hmot. obsahu Aa/Se a mleto další 4 hodiny. Vzniklá emulze byla upravena na viskozitu pro nanášení raklí a nanesena na hliníkovou podložku síly 1 mm, mechanicky očištěnou e omytou acetonem, alkoholem a destilovanou vodou. Vrstva pak byla ponechána 24 hodin schnout v exikátoru s otevřeným kohoutkem, nečež byla dosušena 2 hodiny ve vakuu rotační vývěvy. Vznikl jemně matový povrch, schopný udržet povrchový potenciál *600 V.
Citlivost: Citlivý materiál byl ve shora uvedené kazetě exponován 1 sec zářením z rentgenky napájené 50 kV, při proudu 4 mě, ve vzdálenosti 12 cm od ohniska, bez pomocné elektrody. Expozice a pomocnou elektrodou tvořenou tenkou hliníkovou fólií ve vzdálenosti 2 mm od citlivého povrchu, s gradientem 6 kV/om byla 2 a. Iontový příspěvek tedy činil 50 %. Obrázek byl kontrastní a s dobrým podáním polotónů.
Příklad 2
Emulze byle mleta podobným způsobem jako v příkladu 1, byl však přidán přesrážený polystyrén o.mol. hmot. 3.10^ v množství 10 % hmot. obeahu As/Se. Nanešeno máčením na dvě sklíčka opetřsná vodivou vrstvou Sn02* přiložená proti sobě s obvodem chráněným lepicí páskou. Sušení bylo stejné jako v příkladu 1. Vznikl jemně matový povrch, který byl nabit na +650 V.
Citlivost: Ze stejných podmínek jako v příkladu 1 byla expozice stejného objektu bez pomocné elektrody 1 s., s pomocnou elektrodou 1,6 s. Iontový příspěvek tedy činil 40 %. Obrázek byl kontrastní s velmi dobrým podáním polotónů.
Claims (1)
- Rentgenově citlivý elektrografický záznamový materiál, sestávající z citlivé vrstvy na podložce z kovu, plsstu, skle nebo papíru, vyznačený tím, že podložka je opatřena vrat-’ vou matového vzhledu složenou z fotovodivého materiálu v práškové formě s velikostí částio 0,8 až 20^/u.m, a výhodou z chalkogenního skla Aa/Se v hmotnostním poměru 3/7, β z pojivá tvořeného organickou izolační složkou, s výhodou polystyrénem o molekulové hmotnostií10 ež 10®, přičemž obsah pojivá činí 3 až 50 % hmotnosti.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS540182A CS224750B1 (cs) | 1982-07-14 | 1982-07-14 | Rentgenově citlivý elektrografický záznamový meterlál |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS540182A CS224750B1 (cs) | 1982-07-14 | 1982-07-14 | Rentgenově citlivý elektrografický záznamový meterlál |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS224750B1 true CS224750B1 (cs) | 1984-01-16 |
Family
ID=5398855
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS540182A CS224750B1 (cs) | 1982-07-14 | 1982-07-14 | Rentgenově citlivý elektrografický záznamový meterlál |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS224750B1 (cs) |
-
1982
- 1982-07-14 CS CS540182A patent/CS224750B1/cs unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2866903A (en) | Process for photoelectric reproductions and apparatus therefor | |
| JPS6113222B2 (cs) | ||
| US2937944A (en) | Xerographic light-sensitive member and process therefor | |
| US4018602A (en) | Method for in situ fabrication of photoconductive composite | |
| US3712810A (en) | Ambipolar photoreceptor and method | |
| US3609359A (en) | X-ray image intensifier with electron michrochannels and electron multiplying means | |
| CS224750B1 (cs) | Rentgenově citlivý elektrografický záznamový meterlál | |
| Donovan | Xeroradiographic properties of amorphous selenium | |
| US3010884A (en) | Electrophotosensitive copy-sheet | |
| US3988583A (en) | Electrostatic imaging process using X-rays | |
| US4183748A (en) | Method of removing surface ionic impurities on inorganic photoconductive material | |
| Donovan | X‐ray sensitivity of selenium | |
| US3597072A (en) | Electrode configuration for electrophotography | |
| CA1097973A (en) | Photosensitive material having a specific surface portion of a photoconductive layer contacting a transparent insulating layer | |
| US4298670A (en) | Photosensitive element for electrophotography | |
| US3975635A (en) | Xeroradiographic plate | |
| US3543025A (en) | Electroradiographic x-ray sensitive element containing tetragonal lead monoxide | |
| US2856535A (en) | Increasing speed in xeroradiography | |
| US3794842A (en) | Generation of radiographs | |
| US4482619A (en) | X-Ray electro-photographic recording material and method for generating an electrical charge image in such material | |
| US3577272A (en) | Method of making x-ray sensitive electroradiographic elements | |
| US3595646A (en) | Method of treating photoconductors of the cadmium series to form electrophotosensitive material manifesting persistent internal polarization | |
| US3898458A (en) | X-ray sensitive elements and process of forming an image therefrom | |
| US3149059A (en) | Reproduction process | |
| US4331753A (en) | Method for providing an electrical charge pattern on the insulative layer of an insulative layer-photoconductive layer-conductive layer structure |