CS206169B1 - Spdsob ovplyvňovania koncentrácie volných nosičov náboja v objemových polovodičových materiáloch - Google Patents

Spdsob ovplyvňovania koncentrácie volných nosičov náboja v objemových polovodičových materiáloch Download PDF

Info

Publication number
CS206169B1
CS206169B1 CS8979A CS8979A CS206169B1 CS 206169 B1 CS206169 B1 CS 206169B1 CS 8979 A CS8979 A CS 8979A CS 8979 A CS8979 A CS 8979A CS 206169 B1 CS206169 B1 CS 206169B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
influencing
concentration
charge carriers
semiconductor materials
free charge
Prior art date
Application number
CS8979A
Other languages
English (en)
Slovak (sk)
Inventor
Pavel Macko
Dusan Lukasik
Original Assignee
Pavel Macko
Dusan Lukasik
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Pavel Macko, Dusan Lukasik filed Critical Pavel Macko
Priority to CS8979A priority Critical patent/CS206169B1/cs
Publication of CS206169B1 publication Critical patent/CS206169B1/cs

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

ČESKOSLOVENSKÁ SOCIALISTICKÁ REPUBLIKA (19) POPISVYNÁLEZU K AUTORSKÉMU OSVEDŮENIU 206169 (li) (Bl) i" (22) Přihlášené 03 01 79(21) (PV 89-79) (40) Zverejnené 30 05 80 (45) Vydané 30 11 82 (51) Int. Cl.3 H 01 L 21/00 ÚňAD PRO VYNÁLEZY A OBJEVY (75)
Autor vynálezu MACKO PAVEL doc. ing. CSc., BRATISLAVA a LUKÁŠIK DUŠAN ing., LIPTOVSKÝ MIKULÁŠ 54 (54) Sposob ovplyvňovania koncentrácie volných nosičov nábojav objemových polovodičových materiáloch
Vynález sa týká spósobu ovplyvňovania koncentrácie volných nosičov náboja v objemových polovodičo-vých materiáloch s ňeusporiadanou štruktúrou za účelom získania prechodov analogických k PN přechoduv krystalických polovodičoch. V súčasnej době pri výrobě polovodičových súčiastok sa používajú krystalické polovodičové materiály.Polovodičové materiály s neusporiadanou štruktúrou v objemovom tvare pre výrobu takýchto súčiastokdosal neboli použité. Oproti krystalickým polovodičom poskytujú polovodiče s neusporiadanou štruktúroumožnost’ využitia kvalitativně nových javov. Zatia! je známa jedna progresívna metoda přípravy přechoduna polovodivom Si s neusporiadanou štruktúrou — metodu dútnavého výboja. Touto technikou sa po-měrně pracné dokáže ovplyvniť objemový náboj, ale len na tenkých vrstvách kremíka. Iné přípravy precho-dov v polovodičových materiáloch s neusporiadanou štruktúrou nie sú v súčasnosti známe. Existujúcametoda má tú nevýhodu, že umožňuje ovplyvňovať objemový náboj len na tenkej vrstvě polovodiča (malévýkony).
Tuto nevýhodu odstraňuje spósob ovplyvňovania koncentrácie volných nosičov náboja v objemovýchpolovodičových materiáloch s neusporiadanou štruktúrou podlá vynálezu, ktorého podstata spočívá v tom,že sa na polovodič s neusporiadanou štruktúrou v objemovom tvare pósobí integrálnou hustotou tokurýchlych neutrónov v rozmedzí 10° až ΙΟ20 n cm'2.
Pri konštrukcii polovodičových prvkov z polovodivých materiálov s neusporiadanou štruktúrou sapoužívajú látky, ktoré prudkým ochladením z kvapalného stavu „zamrznú“ a nestačia vytvořit’ kryštalickúusporiadanú štruktúru. Takáto neusporiadaná štruktúra je charakterizovaná poriadkom na blízku vzdiale-nosť, ale usporiadanosť na velkú vzdialenosť neexistuje. Následkom bombardovania rýchlymi neutrónamidochádza k preusporiadaniu atómov v objeme materiálu, čím sa menia charakteristické elektrické parametrelátky, výrazné najma elektrická vodivost’. Jedná se tu teda o změnu elektrickej vodivosti látky v dósledkupósobenia neutrónov na polovodičové látky s neusporiadanou štruktúrou. VzhTadom na amorfnú štruktúrudefekty vytvořené rýchlymi neutrónmi sú časovo a tepelne stále a tým aj vodivostné změny sú tiež časovoa tepelne stále. 206169

Claims (1)

  1. 2 ......... 206169 Pokrok metody ovplyvňovania objemového náboja v polovodičoch s neusporiadanou štruktúrou ná- sledkom bombardovania rýchlymi neutrónmi je v tom, že sa rozširujú možnosti aplikácie pri výrobě polo- vodičových prvkov z materiálov s neusporiadanou štruktúrou, s novými vlastnosťami v rubovolnom objeme materiálu. Na priloženom výkrese je vynesená závislost’mernej elektrickej vodivosti σ od integrálnej hustoty neutró-nového toku Φ. Grafy sú vynesené pre materiály GeS! 5 + 0% Cu - graf 1, GeS15 + 1 % Cu - graf 2a GeSb5 + 3% Cu — graf 3. Z grafov je zrejme, že pre materiál GeSx 5 + 0% Cu pri Φ = 5.1017 n cm'2je minimum elektrickej vodivosti, pričom pre materiály GeS1>5 4- 1 % Cu a GeSli5 + 3% Cu existuje pretú istú hodnotu toku σ výrazné maximum. Rozdiel hodnot elektrickej vodivosti Δσ je až 10 rádov. Příklad 1 Pri výrobě PN, NN+, PP+ prechodov (diody) možno ako vychodzí materiál vyrobif ingot, ktorý je zjednejstrany prevážne GeS15 + 0% Cu, z druhej vodivejšej strany GeS15 -I- 3% Cu. Po ožiarení takéhoto ingoturýchlymi neutrónmi tokom Φ = 1017 n cm-2 sa získá materiál s polovodivými vlastnosťami s výraznýmgradientom koncentrácie volných nosičov náboja. Dosiahne sa změna elektrickej vodivosti o 10 rádov. Naobrázku je tento stav znázorněný vzdialenosťou A. Příklad 2 Iný spósob vytvorenia takéhoto polo vodivého přechodu je ožiarením homogénneho ingotu napr. GeS15 ++ 3 ’,, Cu tak. že jeden koniec ingotu nebude ožiarený a druhý bude ožiarený například tokom Φ == 5. 10’ n cm'2. Tým sa dosiahne změna elektrickej vodivosti v objeme vzorky o 6 rádov. Na obrázkuje tento stav znázorněný vzdialenosťou B. PREDMET VYNÁLEZU Spósob ovplyvňovania koncentrácie volných nosičov náboja v objemových polovodičových materiáločhs neusporiadanou štruktúrou vyznačujúci sa tým, že sa na polovodič s neusporiadanou štruktúrou v obje-movom tvare pósobí integrálnou hustotou toku rýchlych neutrónov v rozmedzí 10° až 102° n cm'2. 1 výkres
CS8979A 1979-01-03 1979-01-03 Spdsob ovplyvňovania koncentrácie volných nosičov náboja v objemových polovodičových materiáloch CS206169B1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS8979A CS206169B1 (cs) 1979-01-03 1979-01-03 Spdsob ovplyvňovania koncentrácie volných nosičov náboja v objemových polovodičových materiáloch

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS8979A CS206169B1 (cs) 1979-01-03 1979-01-03 Spdsob ovplyvňovania koncentrácie volných nosičov náboja v objemových polovodičových materiáloch

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS206169B1 true CS206169B1 (cs) 1981-06-30

Family

ID=5332414

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS8979A CS206169B1 (cs) 1979-01-03 1979-01-03 Spdsob ovplyvňovania koncentrácie volných nosičov náboja v objemových polovodičových materiáloch

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS206169B1 (cs)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
de Visser et al. Number fluctuations of sparse quasiparticles in a superconductor
Yu et al. Electric-field dependent spin diffusion and spin injection into semiconductors
Prakash et al. Evidence for bulk superconductivity in pure bismuth single crystals at ambient pressure
Meservey et al. Properties of very thin aluminum films
Armici et al. A new pseudo-one-dimensional superconductor: Tℓ2Mo6Se6
Kim et al. Application of metallic magnetic calorimeter in rare event search
Swartz Low-temperature Hall coefficient and conductivity in heavily doped silicon
Cohen et al. Resistance noise near the Anderson transition
Olaya et al. High-speed Nb/Nb–Si/Nb Josephson junctions for superconductive digital electronics
CS206169B1 (cs) Spdsob ovplyvňovania koncentrácie volných nosičov náboja v objemových polovodičových materiáloch
Rhoderick Nuclear Magnetic Resonance in Indium Antimonide I. The Effect of Impurities
Gamari-Seale et al. The superconducting transition temperatures of some dilute lead alloys
Kaibe et al. Studies on the holes of p-TYPE Bi2Te2. 85Se0. 15 single crystal
Yamaoka et al. Bulk electronic properties of Fe Si 1− x Ge x investigated by high-resolution x-ray spectroscopies
Gallagher et al. Transverse Magnetoresistance in n-Type Germanium
Sites et al. Surface and bulk charge carrier transport in InAs epilayers
Quaranta et al. Temperature-induced hysteretic behavior of resistivity and magnetoresistance of electrodeposited bismuth films for X-ray transition-edge sensor absorbers
Andersson et al. Thermal conductivity of polycrystalline YBa 2 Cu 4 O 8
Slifkin et al. Evidence for Vacancy Mechanism in Intermetallic Diffusion
Abd El-Salam et al. Thickness and temperature dependence of the electrical resistivity of amorphous Sb2Se3 films
Cabrera Bolometric sensors for elementary particle detectors
Xi et al. Studies on Cr electrode of CdZnTe detector for high energy radiation detection
Mentink et al. Analysis of bulk and thin film model samples intended for investigating the strain sensitivity of niobium-tin
Brammertz Development of low critical temperature superconducting tunnel jucntions for application as photon detectors in astronomy
Bandler et al. Micro-fabricated magnetic microcalorimeter development for X-ray astronomy