CS206169B1 - Spdsob ovplyvňovania koncentrácie volných nosičov náboja v objemových polovodičových materiáloch - Google Patents
Spdsob ovplyvňovania koncentrácie volných nosičov náboja v objemových polovodičových materiáloch Download PDFInfo
- Publication number
- CS206169B1 CS206169B1 CS8979A CS8979A CS206169B1 CS 206169 B1 CS206169 B1 CS 206169B1 CS 8979 A CS8979 A CS 8979A CS 8979 A CS8979 A CS 8979A CS 206169 B1 CS206169 B1 CS 206169B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- influencing
- concentration
- charge carriers
- semiconductor materials
- free charge
- Prior art date
Links
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
ČESKOSLOVENSKÁ SOCIALISTICKÁ REPUBLIKA (19) POPISVYNÁLEZU K AUTORSKÉMU OSVEDŮENIU 206169 (li) (Bl) i" (22) Přihlášené 03 01 79(21) (PV 89-79) (40) Zverejnené 30 05 80 (45) Vydané 30 11 82 (51) Int. Cl.3 H 01 L 21/00 ÚňAD PRO VYNÁLEZY A OBJEVY (75)
Autor vynálezu MACKO PAVEL doc. ing. CSc., BRATISLAVA a LUKÁŠIK DUŠAN ing., LIPTOVSKÝ MIKULÁŠ 54 (54) Sposob ovplyvňovania koncentrácie volných nosičov nábojav objemových polovodičových materiáloch
Vynález sa týká spósobu ovplyvňovania koncentrácie volných nosičov náboja v objemových polovodičo-vých materiáloch s ňeusporiadanou štruktúrou za účelom získania prechodov analogických k PN přechoduv krystalických polovodičoch. V súčasnej době pri výrobě polovodičových súčiastok sa používajú krystalické polovodičové materiály.Polovodičové materiály s neusporiadanou štruktúrou v objemovom tvare pre výrobu takýchto súčiastokdosal neboli použité. Oproti krystalickým polovodičom poskytujú polovodiče s neusporiadanou štruktúroumožnost’ využitia kvalitativně nových javov. Zatia! je známa jedna progresívna metoda přípravy přechoduna polovodivom Si s neusporiadanou štruktúrou — metodu dútnavého výboja. Touto technikou sa po-měrně pracné dokáže ovplyvniť objemový náboj, ale len na tenkých vrstvách kremíka. Iné přípravy precho-dov v polovodičových materiáloch s neusporiadanou štruktúrou nie sú v súčasnosti známe. Existujúcametoda má tú nevýhodu, že umožňuje ovplyvňovať objemový náboj len na tenkej vrstvě polovodiča (malévýkony).
Tuto nevýhodu odstraňuje spósob ovplyvňovania koncentrácie volných nosičov náboja v objemovýchpolovodičových materiáloch s neusporiadanou štruktúrou podlá vynálezu, ktorého podstata spočívá v tom,že sa na polovodič s neusporiadanou štruktúrou v objemovom tvare pósobí integrálnou hustotou tokurýchlych neutrónov v rozmedzí 10° až ΙΟ20 n cm'2.
Pri konštrukcii polovodičových prvkov z polovodivých materiálov s neusporiadanou štruktúrou sapoužívajú látky, ktoré prudkým ochladením z kvapalného stavu „zamrznú“ a nestačia vytvořit’ kryštalickúusporiadanú štruktúru. Takáto neusporiadaná štruktúra je charakterizovaná poriadkom na blízku vzdiale-nosť, ale usporiadanosť na velkú vzdialenosť neexistuje. Následkom bombardovania rýchlymi neutrónamidochádza k preusporiadaniu atómov v objeme materiálu, čím sa menia charakteristické elektrické parametrelátky, výrazné najma elektrická vodivost’. Jedná se tu teda o změnu elektrickej vodivosti látky v dósledkupósobenia neutrónov na polovodičové látky s neusporiadanou štruktúrou. VzhTadom na amorfnú štruktúrudefekty vytvořené rýchlymi neutrónmi sú časovo a tepelne stále a tým aj vodivostné změny sú tiež časovoa tepelne stále. 206169
Claims (1)
- 2 ......... 206169 Pokrok metody ovplyvňovania objemového náboja v polovodičoch s neusporiadanou štruktúrou ná- sledkom bombardovania rýchlymi neutrónmi je v tom, že sa rozširujú možnosti aplikácie pri výrobě polo- vodičových prvkov z materiálov s neusporiadanou štruktúrou, s novými vlastnosťami v rubovolnom objeme materiálu. Na priloženom výkrese je vynesená závislost’mernej elektrickej vodivosti σ od integrálnej hustoty neutró-nového toku Φ. Grafy sú vynesené pre materiály GeS! 5 + 0% Cu - graf 1, GeS15 + 1 % Cu - graf 2a GeSb5 + 3% Cu — graf 3. Z grafov je zrejme, že pre materiál GeSx 5 + 0% Cu pri Φ = 5.1017 n cm'2je minimum elektrickej vodivosti, pričom pre materiály GeS1>5 4- 1 % Cu a GeSli5 + 3% Cu existuje pretú istú hodnotu toku σ výrazné maximum. Rozdiel hodnot elektrickej vodivosti Δσ je až 10 rádov. Příklad 1 Pri výrobě PN, NN+, PP+ prechodov (diody) možno ako vychodzí materiál vyrobif ingot, ktorý je zjednejstrany prevážne GeS15 + 0% Cu, z druhej vodivejšej strany GeS15 -I- 3% Cu. Po ožiarení takéhoto ingoturýchlymi neutrónmi tokom Φ = 1017 n cm-2 sa získá materiál s polovodivými vlastnosťami s výraznýmgradientom koncentrácie volných nosičov náboja. Dosiahne sa změna elektrickej vodivosti o 10 rádov. Naobrázku je tento stav znázorněný vzdialenosťou A. Příklad 2 Iný spósob vytvorenia takéhoto polo vodivého přechodu je ožiarením homogénneho ingotu napr. GeS15 ++ 3 ’,, Cu tak. že jeden koniec ingotu nebude ožiarený a druhý bude ožiarený například tokom Φ == 5. 10’ n cm'2. Tým sa dosiahne změna elektrickej vodivosti v objeme vzorky o 6 rádov. Na obrázkuje tento stav znázorněný vzdialenosťou B. PREDMET VYNÁLEZU Spósob ovplyvňovania koncentrácie volných nosičov náboja v objemových polovodičových materiáločhs neusporiadanou štruktúrou vyznačujúci sa tým, že sa na polovodič s neusporiadanou štruktúrou v obje-movom tvare pósobí integrálnou hustotou toku rýchlych neutrónov v rozmedzí 10° až 102° n cm'2. 1 výkres
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS8979A CS206169B1 (cs) | 1979-01-03 | 1979-01-03 | Spdsob ovplyvňovania koncentrácie volných nosičov náboja v objemových polovodičových materiáloch |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS8979A CS206169B1 (cs) | 1979-01-03 | 1979-01-03 | Spdsob ovplyvňovania koncentrácie volných nosičov náboja v objemových polovodičových materiáloch |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS206169B1 true CS206169B1 (cs) | 1981-06-30 |
Family
ID=5332414
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS8979A CS206169B1 (cs) | 1979-01-03 | 1979-01-03 | Spdsob ovplyvňovania koncentrácie volných nosičov náboja v objemových polovodičových materiáloch |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS206169B1 (cs) |
-
1979
- 1979-01-03 CS CS8979A patent/CS206169B1/cs unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| de Visser et al. | Number fluctuations of sparse quasiparticles in a superconductor | |
| Yu et al. | Electric-field dependent spin diffusion and spin injection into semiconductors | |
| Meservey et al. | Properties of very thin aluminum films | |
| Armici et al. | A new pseudo-one-dimensional superconductor: Tℓ2Mo6Se6 | |
| Nikolaeva et al. | Diameter-dependent thermopower of bismuth nanowires | |
| Auth et al. | Spin polarization of magnetoresistive materials by point contact spectroscopy | |
| Swartz | Low-temperature Hall coefficient and conductivity in heavily doped silicon | |
| Cohen et al. | Resistance noise near the Anderson transition | |
| Häuser et al. | Response of YBaCuO thin‐film microbridges to microwave irradiation | |
| Wagner et al. | Ambient and high temperature experiments on boron-doped polycrystalline graphites | |
| Morelli et al. | Thermal conductivity and thermopower of graphite at very low temperatures | |
| Tsuchiya et al. | Evidence for structural inhomogeneity in liquid In2Te3 | |
| Stirn et al. | Weak-Field Magnetoresistance in n-Type Aluminum Antimonide | |
| Thio et al. | Giant magnetoresistance in zero-band-gap Hg 1− x Cd x Te | |
| CS206169B1 (cs) | Spdsob ovplyvňovania koncentrácie volných nosičov náboja v objemových polovodičových materiáloch | |
| Kim et al. | Compact phonon-scintillation detection system for rare event searches at low temperatures | |
| Kaibe et al. | Studies on the holes of p-TYPE Bi2Te2. 85Se0. 15 single crystal | |
| Andersson et al. | Thermal conductivity of polycrystalline YBa 2 Cu 4 O 8 | |
| Sites et al. | Surface and bulk charge carrier transport in InAs epilayers | |
| Quaranta et al. | Temperature-induced hysteretic behavior of resistivity and magnetoresistance of electrodeposited bismuth films for X-ray transition-edge sensor absorbers | |
| Turrell et al. | Nuclear spin-lattice relaxation in metals at low temperatures | |
| Matzui et al. | Phonon drag in GIC based on disordered graphite | |
| Cabrera | Bolometric sensors for elementary particle detectors | |
| Mentink et al. | Analysis of bulk and thin film model samples intended for investigating the strain sensitivity of niobium-tin | |
| Brammertz | Development of low critical temperature superconducting tunnel jucntions for application as photon detectors in astronomy |