CS204073B1 - Zařízení pro vzájemné nastavení polohy polovodičové tablety a pokovovací nsbo leptací masky - Google Patents
Zařízení pro vzájemné nastavení polohy polovodičové tablety a pokovovací nsbo leptací masky Download PDFInfo
- Publication number
- CS204073B1 CS204073B1 CS804079A CS804079A CS204073B1 CS 204073 B1 CS204073 B1 CS 204073B1 CS 804079 A CS804079 A CS 804079A CS 804079 A CS804079 A CS 804079A CS 204073 B1 CS204073 B1 CS 204073B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- tablet
- semiconductor
- mask
- frame
- etching mask
- Prior art date
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 title claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 title description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
Vynález se týká zařízení pro vzájemné nastavení polohy polovodičové tablety a pokovovací nebo leptací masky podle rastru vytvořeného na odvrácené straně tablety při výrobě polovodičových elektronických prvků.
Vynález vznikl v souvislosti s vývojem zatím unikátního polovodičového, polohově citlivého detektoru pro měření plošného rozložení radioaktivity mikroskopických objektů jako· řešení požadavku, aby sběrné elektrody, vytvářené pokovením jedné strany tablety, z níž se detektory vyrábějí, přes masku, byly s přesností 1 ,um orientovány právě proti odpovídajícím odporovým drahám detekčních oblastí, majících ve své funkční části stejný tvar jako sběrné elektrody, avšak nacházejících se na opačné straně tablety. Původně zamýšleným řešením bylo postavit složité zařízení, sestávající v podstatě ze 2 mikroskopů se společnou optickou osou, uspořádaných proti sobě tak, že každým z nich by bylo možné pozorovat jednu stranu tablety. Toto řešení je však velmi nákladné, technicky obtížné a časově náročné.
Uvedené nedostatky nemá zařízení podle vynálezu, jehož podstatou je, že pokovovací nebo leptací maska je pevně spojena s rámem, upínaným na stůl dílenského mikro2 skopu, a jo opatřena nejméně dvěma vztažnými značkami, vytvořenými jako otvory mimo obvod přiléhající tablety, připevněné ke stolku, vzhledem k rámu posuvnému ve dvou vodorovných směrech a otočnému kolem svislé osy. Tímto uspořádáním lze zařízení realizovat jako poměrně jednoduchý přípravek k dílenskému mikroskopu, který obvykle bývá ve vybavení pracovišť, zabývajících se danou problematikou.
Na výkresech je znázorněn příklad 'provedení zařízení podle vynálezu. Obr. 1 představuje svislý řez zařízením, obr. 2 odpovídající půdorys zařízení, obr. 3 tvar masky a obr. 4 provedení vztažné značky. Rám 1 má tvar čtyřhranné desky, opatřené ve 'střední části otvorem. Na rámu 1 spočívá pokovovací maska 2 z tenké kovové fólie, v jejíž střední části je vyleptán negativní rastr 3, odpovídající pokovovaným plochám. Pokovovací maska 2 je opatřena 4 vztažnými značkami 4, z nichž každá je vyleptána jako 2 otvory tvaru protilehlých kruhových výsečí, jejichž společné přímkové strany jsou rovnoběžné s osami rastru. Vztažné značky 4 jsou umístěny v rozích čtverce, jehož strany jsou rovnoběžné s osami rastru. Čtverec je symetrický podle středu obrazce rastru. Nad pokovovací maskou 2 se nachází rámeček 5, jehož dno tvoří tenká přepážka 6,
Rám 1, maska 2, rámeček 5 a přepážka 6 jsou staženy šrouby 7. Na přepážku 6 dosedá stolek 8, k jehož spodní ploše je přitmelena tableta 9, orientovaná čelní plochou s již provedenými odporovými drahami navrch. Ve stolku 8 jsou provedeny 4 otvory, jimiž jsou vztažné značky 4 pokovovací masky 2 přístupny pozorování mikroskopem. Poloha stolku 8 je definována 8 stavěcími šrouby 10 s jemným stoupáním. Objímka 11 centrovaná otvorem v rámu 1, přitlačuje při pokovování pomocí šroubů 12 masku 2 v rámci její pružnosti k tabletě.
Při nastavování vzájemné polohy masky 2 a tablety 9 je objímka 11 ze zařízení vyjmuta. Ke stolku 8 se přitmelí tableta 9 přibližně vystředšná a orientovaná tak, aby osy rastru odporových drah byly přibližně rovnoběžné s boky stolku. Stolek 8 se vloží do zařízení a šrouby 10 se nastaví hrubě jako střední poloha v zařízení. Zařízení se připevní na stůl dílenského mikroskopu. Jako první nastavení je třeba natáčením otočného stolu mikroskopu uvést osy rastru pokovovací masky 2 do polohy rovnoběžné s osami křížového stolu mikroskopu. Poloha masky se přitom kontroluje zaměřením mikroskopu na vztažné značky. Správná úhlová poloha otočného stolu mikroskopu je dosažena, když po zaměření na jednu vztažnou značku a odpovídajícím posuvu stolu mikroskopu ve směru X (nebo Y) se octne jiná vztažná značka ve středu zorného pole. Dále je třeba nastavit úhlovou polohu stolku 8 vzhledem k osám křížového stolu mikroskopu. K tomu se uvolní stavěči šrouby 10 s výjimkou jednoho zvoleného páru, nacházejícího se na společné ose na protilehlých stranách rámečku 5. Pomocí dalších dvou protilehlých šroubů na týchž stranách rámečku 5 lze v postačujícím rozsahu natáčet stolek 8. Poloha stolku se kontroluje zaměřením mikroskopu na rastr odporových drah na horní ploše tablety. Správná úhlová poloha stolku 8 je dosažena, když osy odporových drah na dvou protilehlých stranách tablety při posuvu stolu mikroskopu ve směru X nebo Y projdou středem zorného pole. Dále je třeba posuvem stolku 8 nastavit shodu os rastrů masky a odporových drah. K tomu se odečtou souřadnice vztažných značek a vypočte se žádaná poloha středu rastru odporových drah jako jejich průměr. Mikroskop se nastaví na tuto polohu a kontroluje se skutečná poloha tohoto středu. Souladu se dosáhne posuvem stolku nejprve v jednom směru, potom v druhém. Při posuvu stolku jsou vždy 4 šrouby na protilehlých stranách rámečku, rovnoběžných se směrem žádaného posuvu, dotaženy a slouží jako vedení, ostatní se povolují nebo utahují podle potřeby. Po dokončeném nastavení se zařízení sejme z mikroskopu, zamontuje se objímka 11 a šrouby 12 se dotáhne natolik, aby maska 2 dolehla k tabletě. Tím se dosáhne jejího dobrého dosednutí na přilehlou stranu tablety, i když je tato mírně vypuklá. K pokovení tablety se vloží celé zařízení do vakuové napařovačky. Po pokovení lze se zařízením opět pomocí dílenského mikroskopu ještě jednou kontrolovat před vyjmutím tablety její polohu vzhledem k masce.
Popsané zařízení, určené k rychlé realizaci na úkor pohodlné manipulace, lze zdokonalit jeho vybavením kombinací křížového a otočného stolku s jemným nastavením, avšak bez požadavku na možnost odečítání polohy.
Vynález může být použit nejen při výrobě polovodičových detektorů záření, ale i při výrobě jiných polovodičových elektronických prvků, je-li třeba polovodičovou tabletu zpracovávat z obou stran.
Claims (1)
- Zařízení pro vzájemné nastavení polohy polovodičové tablety a pokovovací nebo leptací masky podle rastru vytvořeného na odvrácené straně tablety,, vyznačené tím, že pokovovací maska (2) je pevně spojena s rámem (1), upínaným na stůl dílenskéhoVYNALEZU mikroskopu a je opatřena nejméně dvěma vztažnými značkami (4), vytvořenými jako otvory mimo obvod přiléhající tablety (9), připevněné ke stolku (8), vzhledem k rámu (1) posuvnému ve dvou vodorovných směrech a otočnému kolem svislé osy.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS804079A CS204073B1 (cs) | 1979-11-22 | 1979-11-22 | Zařízení pro vzájemné nastavení polohy polovodičové tablety a pokovovací nsbo leptací masky |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS804079A CS204073B1 (cs) | 1979-11-22 | 1979-11-22 | Zařízení pro vzájemné nastavení polohy polovodičové tablety a pokovovací nsbo leptací masky |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS204073B1 true CS204073B1 (cs) | 1981-03-31 |
Family
ID=5430457
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS804079A CS204073B1 (cs) | 1979-11-22 | 1979-11-22 | Zařízení pro vzájemné nastavení polohy polovodičové tablety a pokovovací nsbo leptací masky |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS204073B1 (cs) |
-
1979
- 1979-11-22 CS CS804079A patent/CS204073B1/cs unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4784481A (en) | Transmitted and/or incident light microscope | |
| US3876883A (en) | Method and system for focusing and registration in electron beam projection microfabrication | |
| US3326176A (en) | Work-registration device including ionic beam probe | |
| US4452532A (en) | Beam alignment tool and method | |
| US4335313A (en) | Method and apparatus for aligning an opaque mask with an integrated circuit wafer | |
| EP0752715B1 (en) | Charged particle beam apparatus | |
| EP0333098B1 (en) | A silicon grid as a reference and calibration standard in a particle beam lithography system | |
| US4126376A (en) | Manipulation device for precision adjustments including a double microscope having adjustable optical axes | |
| CN102459687A (zh) | 具有可互换掩模的脉冲式激光沉积 | |
| GB2209847A (en) | An object mount for a microscope | |
| US4534047A (en) | Mask ring assembly for X-ray lithography | |
| US4557568A (en) | Guide rail apparatus for positioning flat objects for microscopic examination | |
| US7485887B2 (en) | Passive alignment of photodiode active area in three axes using microscopic focus | |
| JPS60201626A (ja) | 位置合わせ装置 | |
| CS204073B1 (cs) | Zařízení pro vzájemné nastavení polohy polovodičové tablety a pokovovací nsbo leptací masky | |
| US5153441A (en) | Electron-beam exposure apparatus | |
| EP0335398B1 (en) | Scanning electron microscope for observing and measuring minute pattern of samples | |
| US2709752A (en) | Method of aligning an X-ray diffraction goniometer and apparatus therefor | |
| US7817262B2 (en) | Device for measuring positions of structures on a substrate | |
| CN212844589U (zh) | 用于聚焦离子束制样的样品台和具有其的制样设备 | |
| US3631239A (en) | Specimen alignment reference apparatus for back reflection x-ray camera | |
| GB1247793A (en) | Step and repeat cameras | |
| US3421000A (en) | Workpiece support and mask assemblies for radiation backscatter measuring instruments | |
| US3456115A (en) | Workpiece support and mask assemblies for radiation backscatter measuring instruments | |
| US5515410A (en) | Irradiation device for deep x-ray lithography |