CS204073B1 - Zařízení pro vzájemné nastavení polohy polovodičové tablety a pokovovací nsbo leptací masky - Google Patents

Zařízení pro vzájemné nastavení polohy polovodičové tablety a pokovovací nsbo leptací masky Download PDF

Info

Publication number
CS204073B1
CS204073B1 CS804079A CS804079A CS204073B1 CS 204073 B1 CS204073 B1 CS 204073B1 CS 804079 A CS804079 A CS 804079A CS 804079 A CS804079 A CS 804079A CS 204073 B1 CS204073 B1 CS 204073B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
tablet
semiconductor
mask
frame
etching mask
Prior art date
Application number
CS804079A
Other languages
English (en)
Inventor
Vaclav Skaba
Original Assignee
Vaclav Skaba
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Vaclav Skaba filed Critical Vaclav Skaba
Priority to CS804079A priority Critical patent/CS204073B1/cs
Publication of CS204073B1 publication Critical patent/CS204073B1/cs

Links

Landscapes

  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Description

Vynález se týká zařízení pro vzájemné nastavení polohy polovodičové tablety a pokovovací nebo leptací masky podle rastru vytvořeného na odvrácené straně tablety při výrobě polovodičových elektronických prvků.
Vynález vznikl v souvislosti s vývojem zatím unikátního polovodičového, polohově citlivého detektoru pro měření plošného rozložení radioaktivity mikroskopických objektů jako· řešení požadavku, aby sběrné elektrody, vytvářené pokovením jedné strany tablety, z níž se detektory vyrábějí, přes masku, byly s přesností 1 ,um orientovány právě proti odpovídajícím odporovým drahám detekčních oblastí, majících ve své funkční části stejný tvar jako sběrné elektrody, avšak nacházejících se na opačné straně tablety. Původně zamýšleným řešením bylo postavit složité zařízení, sestávající v podstatě ze 2 mikroskopů se společnou optickou osou, uspořádaných proti sobě tak, že každým z nich by bylo možné pozorovat jednu stranu tablety. Toto řešení je však velmi nákladné, technicky obtížné a časově náročné.
Uvedené nedostatky nemá zařízení podle vynálezu, jehož podstatou je, že pokovovací nebo leptací maska je pevně spojena s rámem, upínaným na stůl dílenského mikro2 skopu, a jo opatřena nejméně dvěma vztažnými značkami, vytvořenými jako otvory mimo obvod přiléhající tablety, připevněné ke stolku, vzhledem k rámu posuvnému ve dvou vodorovných směrech a otočnému kolem svislé osy. Tímto uspořádáním lze zařízení realizovat jako poměrně jednoduchý přípravek k dílenskému mikroskopu, který obvykle bývá ve vybavení pracovišť, zabývajících se danou problematikou.
Na výkresech je znázorněn příklad 'provedení zařízení podle vynálezu. Obr. 1 představuje svislý řez zařízením, obr. 2 odpovídající půdorys zařízení, obr. 3 tvar masky a obr. 4 provedení vztažné značky. Rám 1 má tvar čtyřhranné desky, opatřené ve 'střední části otvorem. Na rámu 1 spočívá pokovovací maska 2 z tenké kovové fólie, v jejíž střední části je vyleptán negativní rastr 3, odpovídající pokovovaným plochám. Pokovovací maska 2 je opatřena 4 vztažnými značkami 4, z nichž každá je vyleptána jako 2 otvory tvaru protilehlých kruhových výsečí, jejichž společné přímkové strany jsou rovnoběžné s osami rastru. Vztažné značky 4 jsou umístěny v rozích čtverce, jehož strany jsou rovnoběžné s osami rastru. Čtverec je symetrický podle středu obrazce rastru. Nad pokovovací maskou 2 se nachází rámeček 5, jehož dno tvoří tenká přepážka 6,
Rám 1, maska 2, rámeček 5 a přepážka 6 jsou staženy šrouby 7. Na přepážku 6 dosedá stolek 8, k jehož spodní ploše je přitmelena tableta 9, orientovaná čelní plochou s již provedenými odporovými drahami navrch. Ve stolku 8 jsou provedeny 4 otvory, jimiž jsou vztažné značky 4 pokovovací masky 2 přístupny pozorování mikroskopem. Poloha stolku 8 je definována 8 stavěcími šrouby 10 s jemným stoupáním. Objímka 11 centrovaná otvorem v rámu 1, přitlačuje při pokovování pomocí šroubů 12 masku 2 v rámci její pružnosti k tabletě.
Při nastavování vzájemné polohy masky 2 a tablety 9 je objímka 11 ze zařízení vyjmuta. Ke stolku 8 se přitmelí tableta 9 přibližně vystředšná a orientovaná tak, aby osy rastru odporových drah byly přibližně rovnoběžné s boky stolku. Stolek 8 se vloží do zařízení a šrouby 10 se nastaví hrubě jako střední poloha v zařízení. Zařízení se připevní na stůl dílenského mikroskopu. Jako první nastavení je třeba natáčením otočného stolu mikroskopu uvést osy rastru pokovovací masky 2 do polohy rovnoběžné s osami křížového stolu mikroskopu. Poloha masky se přitom kontroluje zaměřením mikroskopu na vztažné značky. Správná úhlová poloha otočného stolu mikroskopu je dosažena, když po zaměření na jednu vztažnou značku a odpovídajícím posuvu stolu mikroskopu ve směru X (nebo Y) se octne jiná vztažná značka ve středu zorného pole. Dále je třeba nastavit úhlovou polohu stolku 8 vzhledem k osám křížového stolu mikroskopu. K tomu se uvolní stavěči šrouby 10 s výjimkou jednoho zvoleného páru, nacházejícího se na společné ose na protilehlých stranách rámečku 5. Pomocí dalších dvou protilehlých šroubů na týchž stranách rámečku 5 lze v postačujícím rozsahu natáčet stolek 8. Poloha stolku se kontroluje zaměřením mikroskopu na rastr odporových drah na horní ploše tablety. Správná úhlová poloha stolku 8 je dosažena, když osy odporových drah na dvou protilehlých stranách tablety při posuvu stolu mikroskopu ve směru X nebo Y projdou středem zorného pole. Dále je třeba posuvem stolku 8 nastavit shodu os rastrů masky a odporových drah. K tomu se odečtou souřadnice vztažných značek a vypočte se žádaná poloha středu rastru odporových drah jako jejich průměr. Mikroskop se nastaví na tuto polohu a kontroluje se skutečná poloha tohoto středu. Souladu se dosáhne posuvem stolku nejprve v jednom směru, potom v druhém. Při posuvu stolku jsou vždy 4 šrouby na protilehlých stranách rámečku, rovnoběžných se směrem žádaného posuvu, dotaženy a slouží jako vedení, ostatní se povolují nebo utahují podle potřeby. Po dokončeném nastavení se zařízení sejme z mikroskopu, zamontuje se objímka 11 a šrouby 12 se dotáhne natolik, aby maska 2 dolehla k tabletě. Tím se dosáhne jejího dobrého dosednutí na přilehlou stranu tablety, i když je tato mírně vypuklá. K pokovení tablety se vloží celé zařízení do vakuové napařovačky. Po pokovení lze se zařízením opět pomocí dílenského mikroskopu ještě jednou kontrolovat před vyjmutím tablety její polohu vzhledem k masce.
Popsané zařízení, určené k rychlé realizaci na úkor pohodlné manipulace, lze zdokonalit jeho vybavením kombinací křížového a otočného stolku s jemným nastavením, avšak bez požadavku na možnost odečítání polohy.
Vynález může být použit nejen při výrobě polovodičových detektorů záření, ale i při výrobě jiných polovodičových elektronických prvků, je-li třeba polovodičovou tabletu zpracovávat z obou stran.

Claims (1)

  1. Zařízení pro vzájemné nastavení polohy polovodičové tablety a pokovovací nebo leptací masky podle rastru vytvořeného na odvrácené straně tablety,, vyznačené tím, že pokovovací maska (2) je pevně spojena s rámem (1), upínaným na stůl dílenského
    VYNALEZU mikroskopu a je opatřena nejméně dvěma vztažnými značkami (4), vytvořenými jako otvory mimo obvod přiléhající tablety (9), připevněné ke stolku (8), vzhledem k rámu (1) posuvnému ve dvou vodorovných směrech a otočnému kolem svislé osy.
CS804079A 1979-11-22 1979-11-22 Zařízení pro vzájemné nastavení polohy polovodičové tablety a pokovovací nsbo leptací masky CS204073B1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS804079A CS204073B1 (cs) 1979-11-22 1979-11-22 Zařízení pro vzájemné nastavení polohy polovodičové tablety a pokovovací nsbo leptací masky

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS804079A CS204073B1 (cs) 1979-11-22 1979-11-22 Zařízení pro vzájemné nastavení polohy polovodičové tablety a pokovovací nsbo leptací masky

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS204073B1 true CS204073B1 (cs) 1981-03-31

Family

ID=5430457

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS804079A CS204073B1 (cs) 1979-11-22 1979-11-22 Zařízení pro vzájemné nastavení polohy polovodičové tablety a pokovovací nsbo leptací masky

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS204073B1 (cs)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4784481A (en) Transmitted and/or incident light microscope
US3876883A (en) Method and system for focusing and registration in electron beam projection microfabrication
US3326176A (en) Work-registration device including ionic beam probe
US4452532A (en) Beam alignment tool and method
US4335313A (en) Method and apparatus for aligning an opaque mask with an integrated circuit wafer
EP0752715B1 (en) Charged particle beam apparatus
EP0333098B1 (en) A silicon grid as a reference and calibration standard in a particle beam lithography system
US4126376A (en) Manipulation device for precision adjustments including a double microscope having adjustable optical axes
CN102459687A (zh) 具有可互换掩模的脉冲式激光沉积
GB2209847A (en) An object mount for a microscope
US4534047A (en) Mask ring assembly for X-ray lithography
US4557568A (en) Guide rail apparatus for positioning flat objects for microscopic examination
US7485887B2 (en) Passive alignment of photodiode active area in three axes using microscopic focus
JPS60201626A (ja) 位置合わせ装置
CS204073B1 (cs) Zařízení pro vzájemné nastavení polohy polovodičové tablety a pokovovací nsbo leptací masky
US5153441A (en) Electron-beam exposure apparatus
EP0335398B1 (en) Scanning electron microscope for observing and measuring minute pattern of samples
US2709752A (en) Method of aligning an X-ray diffraction goniometer and apparatus therefor
US7817262B2 (en) Device for measuring positions of structures on a substrate
CN212844589U (zh) 用于聚焦离子束制样的样品台和具有其的制样设备
US3631239A (en) Specimen alignment reference apparatus for back reflection x-ray camera
GB1247793A (en) Step and repeat cameras
US3421000A (en) Workpiece support and mask assemblies for radiation backscatter measuring instruments
US3456115A (en) Workpiece support and mask assemblies for radiation backscatter measuring instruments
US5515410A (en) Irradiation device for deep x-ray lithography