CN2778268Y - 一种湿式、干式两用足浴装置 - Google Patents

一种湿式、干式两用足浴装置 Download PDF

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杨金龙
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席小庆
杨景
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Abstract

本实用新型公开一种湿式、干式两用足浴装置,该装置包含有外壳、介质容器、水热密封室、足浴介质、及主控制单元;其中,该介质容器和主控制单元分别设置于该外壳的内部和外部,而该水热密封室则位于介质容器的底部,与该水热密封室相连通有自动排水系统和热风系统,足浴介质置于该介质容器之内。该水热密封室内设置有加热元件和测温传感器。本实用新型采用一种具有高强度、优越滚动性、良好接触感、永不磨损的陶瓷微珠作为热浴介质,可以实现干式与湿式两种热浴方式。此外还具有自动排水功能,使用方便;节水节能;避免细菌感染;具有可长时间、全方位进行足部热浴、温烤、按摩等诸多优点。

Description

一种湿式、干式两用足浴装置
技术领域
本实用新型涉及卫生保健设备,尤其是指一种湿式、干式两用足浴装置。
背景技术
足底被认为是人体的″第二心脏″,足底反射区健康法,是通过热浴、按摩、热敷等方法刺激足部的反射区,调节人体各器官功能,起到驱除疲劳、防病治病的自我保健作用,足部保健按摩也有着悠久的历史,在我国已经成为众所周知的保健治疗方法。
目前各类足浴按摩装置均在水介质中通过按摩床上各种凸起装置来刺激足底,方法单一,刺激区域仅陷于足底的区域,而且刺激区域不可以随意调整大小,对于不同体形人群的使用也受到局限。
而且这些方法中普遍采用水作为介质,这样仅仅起到单纯的浸泡及药物渗透作用,而且对于长期需要足部按摩保暖的各类病人,水中长时间的浸泡,容易引起细菌的滋生,造成交叉感染。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种湿式、干式两用足部热浴、温烤、按摩的装置。
本实用新型进一步的目的是提供一种足浴装置,在采用湿式模式时,能够实现足部沙滩浴,达到足部全方位热浴、按摩的目的。
本实用新型进一步的目的是提供一种足浴装置,能够实现干式足浴,通过装置内的介质达到足部按摩、温烤、熨烫的目的。
本实用新型进一步的目的是提供一种足浴装置,带有排水装置,能够将湿式足浴后装置内的水方便排出,从而进行干式足浴。
本实用新型进一步的目的是提供一种足浴装置,带有热风加热装置。湿式足浴时能够实现沙滩热浪浴的目的。排完水之后,热风能够快速加热、吹干陶瓷微珠介质,同时满足干式足浴时陶瓷微珠介质加热恒温的要求。
为了实现上述目的,本实用新型采用的技术方案为:
一种湿式、干式两用足浴装置,该装置包含有外壳、介质容器、水热密封室、足浴介质、及主控制单元;其中,该介质容器和主控制单元分别设置于该外壳的内部和外部,而该水人密封室则位于介质容器的底部,与该水热密封室相连通有自动排水系统和热风系统,足浴介质置于该介质容器之内。
其中:所述的水热密封室内设置有加热元件和测温传感器。
所述的自动排水系统包括排水管、排水泵、及排水阀;其中该排水泵通过排水管与所述水热密封室底部相连通;该排水泵和排水阀通过主控制单元集中控制。
所述热风系统是由凸起的热风管道和热风装置组成;该热风装置置于该外壳的侧方通过带有凸起的热风管道与水热密封室中部相连通。
所述介质容器底部有直径为0.1-0.2mm的微孔,或该介质容器的底部采用直径为0.1-0.2mm的不锈钢筛网,水可以通过该微孔与水热密封室相连通。
所述外壳的底部更可设置有直角或滑轮。
所述足浴介质采用具有高强度、优越滚动性、良好接触感、不易磨损的陶瓷微珠,其直径介于0.3-10.0mm之间。
所述陶瓷微珠是由远红外陶瓷材质或非远红外陶瓷材质制成。
所述陶瓷微珠为圆球形或椭圆球形或类花生圆柱形类球形状。
由于本实用新型采用了上述结构,故较公知足浴按摩器更具有以下有益效果:
1、本实用新型具有干式和湿式两种热浴方式,采用一种具有高强度、优越滚动性、良好接触感、永不磨损的陶瓷微珠(直径为0.3-10.0mm)作为热浴介质。该介质的表面光滑,接触感及其良好,也可以直接接触皮肤,进行穴位按摩。该介质不吸水,永不磨损,可以重复利用。
2、采用湿式热浴时,双足之间通过接触感良好的温热陶瓷微珠互相擦搓,能够起到充分的温熨、按摩作用。水中的温热陶瓷微珠,还可以随着热浪灵活滚动,刺激足部穴位,使足部充分体会到沙滩海浪浴的效果。
3、采用干式热浴时,双足可以长时间埋覆在温热的陶瓷微珠中,受热的陶瓷微珠产生的红外线对足底反射区进行温烤,同时小凸点刺激足底穴位,起到温烤、按摩的双重效果。由于干浴过程中可以避免长时间在水中的浸泡,所以安全卫生,清理方便,避免了细菌的滋生和交叉感染。
4、长时间的恒温干浴可以使脚部毛细血管扩张,血液循环加快,供给脚部更多的养料和氧气,改善血液循环,促进新陈代谢,起到驱除疲劳、防病治病的自我保健作用。
5、本实用新型排水方便快捷,使用操作方便,干式足浴尤是节水节能。
6、本实用新型按摩区域没有固定的踏板或者分割板,可以达到足部的各个部位,适合于不同身材的人群。
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步描述。
附图说明
图1为本实用新型湿式、干式两用足浴装置的结构剖面示意图。
具体实施方式
如图1所示,为本实用新型实施例的结构剖面示意图。该足浴装置包括:含有承重底座外壳1,置于外壳内的介质容器2、位于介质容器底部的水热密封室3、置于水热密封室3内的加热元件4和测温传感器41、与水热密封室3相连通的自动排水系统5和热风系统6、置于介质容器2内的陶瓷微珠介质7及置于外壳1顶部的主控制单元8。
其中,自动排水系统5包括排水管51、排水泵52和排水阀53,排水泵52通过排水管51与水热密封室3底部相连通。排水泵52与排水阀53由主控制单元8集中控制。排水时排水阀53自动打开同时排水泵52开始工作,介质容器2内的水经由水热密封室3全部排出。
热风系统6则是由凸起的热风管道61和热风装置62组成,热风装置62置于外壳1的侧方通过带有凸起的热风管道61与水热密封室3中部相连通。凸起的热风管道61可以防止介质容器2内的水流入热风装置62。热风装置风速、风温的调节由主控制单元8来实现。湿式足浴时,开启热风装置,热风可以经过水热密封室3和介质容器2底部的微孔鼓入水中,带动水中的陶瓷微珠介质翻滚,实现沙滩海浪浴的热浪按摩效果。排水之后,热风系统6可以快速将介质容器内陶瓷微珠吹干。在干浴过程中热风系统6又可以实现陶瓷微珠介质加热恒温的目的。
在具体实施中,为使用方便,其外壳1的底部更可设置有支脚或滑轮。介质容器2置于外壳1内,底部整齐分布数百个直径为0.1-0.2mm的微孔,水可以通过该微孔与水热密封室3相连通,而陶瓷微珠介质的直径为0.3-10.0mm,故可控制其不通过该微孔进入水热密封室3。其内部的陶瓷微珠介质7无论是在干式或湿式热浴过程中,均不会进入水热密封室3。湿式足浴时,介质容器2中的水透过底部的微孔进入水热密封室3,通过加热元件4、测温传感器41和主控单元8实现加热恒温的效果。
水热密封室3位于介质容器的底部,内置加热元件和测温传感器。加热元件采用水电隔离、加热效率高的陶瓷加热装置。加热元件和测温传感器通过主控制单元实现30~100℃内任意温度的恒温控制。水热密封室底部开口通过排水管道与自动排水泵相连通,中部开口通过凸起热风管道与热风装置相连通。
主控制单元8置于外壳1的上方,上置电源开关,水加热开关,热风开关,排水开关等功能键和可视窗口,可以显示水温、热风温度、定时状态等。同时主控制单元能够根据各系统传感器采集到的信号调节工作参数,实现各工作参数的自动控制。另外主控制单元还包括漏电保护等功能。
此外,该介质容器2的形状也可以根据不同的需要而制成各种几何形状,例如圆形、方形、心形、梯形等均可。本实用新型的主要特征是具有干式和湿式两种热浴方式,采用一种具有高强度、优越滚动性、良好接触感、永不磨损的陶瓷微珠作为热浴介质。湿式热浴时,双足之间通过温热陶瓷微珠互相擦搓,能够起到充分的温熨、按摩作用。水中的温热陶瓷微珠,还可以随着热浪灵活滚动,刺激足部穴位,使足部充分体会到沙滩海浪浴的效果。
干式足浴时,本装置不采用水作为介质,避免了传统足浴在水中长期浸泡所引起的细菌滋生,安全卫生。双足可以长时间埋覆在温热的陶瓷微珠中,起到温熨、按摩的双重效果。本装置没有固定的踏板或者分割板,适合于不同身材的人群。而且双脚可以在介质埋覆的空间可以自由活动,干洗时可以随意调整自己舒适的姿态,或坐,或站,或在介质的区域内自由走动,不会因为在洗浴时保持固定的身体位置而感到疲劳,同时站立走动可以使足底达到充分的按摩受力效果。恒温的干浴可以使脚部的毛细血管扩张,血液循环加快,供给脚部更多的养料和氧气,改善血液循环,促进新陈代谢。对于糖尿病足、失眠、脚气、老年人等因下肢血管病变引起的末梢神经炎、毛细血管病变,下肢寒冷、类风湿等体弱人群具有明显的保健疗效。
综上所述,本实用新型从使用目的上、效能上、进步性及新颖性等观点进行阐述,其具有的实用进步性,已符合新型专利法所强调的功能增进及实用要件,本实用新型以上的实施说明及附图所示,为本实用新型较佳实施例之一,并非以此局限本实用新型,是以,举凡与本实用新型的构造、装置、特征等近似、雷同者,均应属本实用新型的创设目的及申请专利范围之内。

Claims (9)

1、一种湿式、干式两用足浴装置,其特征在于:该装置包含有外壳、介质容器、水热密封室、足浴介质、及主控制单元;其中,该介质容器和主控制单元分别设置于该外壳的内部和外部,而该水热密封室则位于介质容器的底部,与该水热密封室相连通的有自动排水系统和热风系统,足浴介质置于该介质容器之内。
2、如权利要求1所述的湿式、干式两用足浴装置,其特征在于:所述的水热密封室内设置有加热元件和测温传感器。
3、如权利要求1所述的湿式、干式两用足浴装置,其特征在于:所述的自动排水系统包括排水管、排水泵、及排水阀;其中该排水泵通过排水管与所述水热密封室底部相连通;该排水泵和排水阀通过主控制单元集中控制。
4、如权利要求1所述的湿式、干式两用足浴装置,其特征在于:所述热风系统是由凸起的热风管道和热风装置组成;该热风装置置于该外壳的侧方通过带有凸起的热风管道与水热密封室中部相连通。
5、如权利要求1所述的湿式、干式两用足浴装置,其特征在于:所述介质容器底部有直径为0.1-0.2mm的微孔,或该介质容器的底部采用直径为0.1-0.2mm的不锈钢筛网,水可以通过该微孔与水热密封室相连通。
6、如权利要求1所述的湿式、干式两用足浴装置,其特征在于:所述外壳的底部更可设置有直角或滑轮。
7、如权利要求1所述的湿式、干式两用足浴装置,其特征在于:所述足浴介质采用具有高强度、优越滚动性、良好接触感、不易磨损的陶瓷微珠,其直径介于0.3-10.0mm之间。
8、如权利要求7所述的湿式、干式两用足浴装置,其特征在于:所述陶瓷微珠是由远红外陶瓷材质或非远红外陶瓷材质制成。
9、如权利要求7所述的湿式、干式两用足浴装置,其特征在于:所述陶瓷微珠为圆球形或椭圆球形或类花生圆柱形类球形状。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103007436A (zh) * 2012-12-07 2013-04-03 清华大学 运动员力竭运动后快速恢复系统
CN103046774A (zh) * 2013-01-22 2013-04-17 天津瑞特医疗保健用品开发有限公司 节水悬浮体及其悬浮调节操作方法和应用
CN105402884A (zh) * 2013-12-25 2016-03-16 衢州市易凡设计有限公司 一种浴室空间和浴池专用的循环加热设备
CN105919794A (zh) * 2016-04-12 2016-09-07 王新凤 一种新型中药熏药装置
CN108378736A (zh) * 2018-03-02 2018-08-10 许昌百昌纳米科技有限公司 内循环式加热足浴盆

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103007436A (zh) * 2012-12-07 2013-04-03 清华大学 运动员力竭运动后快速恢复系统
CN103007436B (zh) * 2012-12-07 2015-07-08 清华大学 运动员力竭运动后快速恢复系统
CN103046774A (zh) * 2013-01-22 2013-04-17 天津瑞特医疗保健用品开发有限公司 节水悬浮体及其悬浮调节操作方法和应用
CN103046774B (zh) * 2013-01-22 2016-08-03 天津瑞特医疗保健用品开发有限公司 节水悬浮体及其悬浮调节操作方法和应用
CN105444409A (zh) * 2013-12-25 2016-03-30 衢州市易凡设计有限公司 一种浴池专用的水电隔离的加热设备
CN105423545A (zh) * 2013-12-25 2016-03-23 衢州市易凡设计有限公司 一种浴室空间和浴池的专用加热设备
CN105402892A (zh) * 2013-12-25 2016-03-16 衢州市易凡设计有限公司 一种浴室空间和浴池进行加热的多功能浴池
CN105485914A (zh) * 2013-12-25 2016-04-13 衢州市易凡设计有限公司 一种浴室空间和浴池进行循环加热的多功能浴池
CN105546816A (zh) * 2013-12-25 2016-05-04 衢州市易凡设计有限公司 一种水电隔离的浴池专用循环加热设备
CN105605775A (zh) * 2013-12-25 2016-05-25 衢州市易凡设计有限公司 一种循环加热的多功能浴池
CN105402884A (zh) * 2013-12-25 2016-03-16 衢州市易凡设计有限公司 一种浴室空间和浴池专用的循环加热设备
CN105919794A (zh) * 2016-04-12 2016-09-07 王新凤 一种新型中药熏药装置
CN108378736A (zh) * 2018-03-02 2018-08-10 许昌百昌纳米科技有限公司 内循环式加热足浴盆
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