CN2682824Y - 蔬菜周年生产粗砂栽培装置 - Google Patents

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CN2682824Y CNU2004200042275U CN200420004227U CN2682824Y CN 2682824 Y CN2682824 Y CN 2682824Y CN U2004200042275 U CNU2004200042275 U CN U2004200042275U CN 200420004227 U CN200420004227 U CN 200420004227U CN 2682824 Y CN2682824 Y CN 2682824Y
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宋卫堂
黄之栋
张树阁
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Abstract

本实用新型公开了一种蔬菜周年生产粗砂栽培装置，技术方案包括营养液罐(1)、水泵(2)、过滤器(3)、装有栽培基质(15)的栽培槽(8)、将营养液罐(1)与栽培槽(8)相连接的主管道(5)、支管道(6)、滴灌管(7)，栽培槽(8)包括槽形框架(11)，其特征在于，在该槽形框架(11)底部和两侧铺有多孔包裹物(12)，在整个栽培槽(8)的顶面、两侧面覆盖有镀铝反光膜(10)；在栽培槽(8)中铺设有三排滴灌管(7)。本实用新型具有结构简单、栽培基质粒径的分布及滴灌管的布局合理，作物产量高等优点。

Description

蔬菜周年生产粗砂栽培装置
技术领域
本实用新型涉及一种蔬菜周年生产粗砂栽培装置，该装置主要应用于粗砂栽培蔬菜作物的长季节、周年生产。
背景技术
粗砂栽培是无土栽培中基质栽培的一种主要形式。无土栽培基质还经常采用蛭石、草炭、珍珠岩、岩棉等的一种或几种的混合物。基质栽培经常采用槽状栽培方式，即在温室地面上用砖、混凝土做成栽培槽，在栽培槽底部和两侧铺上两层塑料薄膜，以防渗漏并使基质与土壤隔离，再向栽培槽内填充基质，然后定植蔬菜秧苗。基质中一般不含有植物生长所需要的营养成分，由滴灌系统向植株供给水分和养分。基质对于作物而言，主要是起支持作物根系、供给根系呼吸所需氧气等作用。目前基质栽培中存在的主要技术问题是：①栽培基质本身的结构不太合理，栽培基质粒径过小，从而使其中的能够为作物根系利用的有效氧含量较低，引起根系生长发育缓慢、易老化、根系活力降低等；②基质栽培槽结构不合理：槽宽和槽深较小，栽培槽底部和两侧的两层塑料薄膜阻碍了外界空气中的氧气与栽培基质中空气的交换，从而使栽培基质中氧含量经常处于亏缺状态。
实用新型内容
本实用新型的目的就是要提供一种全新的、应用粗砂栽培蔬菜作物的、长季节或周年生产的栽培装置，使其具有结构简单、栽培基质粒径合理、栽培槽结构合理、栽培基质中氧含量高、蔬菜周年生长良好、产量高等优点。
为达到本实用新型的目的所采取的技术方案，包括营养液罐1、水泵2、过滤器3、装有栽培基质15的栽培槽8、将营养液罐1与栽培槽8相连接的主管道5、支管道6、滴灌管7，栽培槽8包括槽形框架11，其特征在于，在该槽形框架11底部和两侧铺有多孔包裹物12，在整个栽培槽8的顶面、两侧面覆盖有镀铝反光膜10；
上述的蔬菜周年生产粗砂栽培装置中，在栽培槽8中铺设有三排滴灌管7，即除了在每排栽培作物的附近放置一排滴灌管7外，还在两排之间增加一排滴灌管7；
上述的蔬菜周年生产粗砂栽培装置中，多孔包裹物12为防虫网或纱网，其孔径为0.05～0.1mm；
上述的蔬菜周年生产粗砂栽培装置中，填装在该栽培槽8中的栽培基质15为粗砂，粗砂15采用粒径0.6～2mm的占70％～75％，其余为大于2mm的大颗粒和小于0.6mm的小颗粒；
上述的蔬菜周年生产粗砂栽培装置中，栽培槽框架11横断面尺寸为90×40cm，长度可根据温室结构和栽培需要确定；
上述的蔬菜周年生产粗砂栽培装置中，栽培槽8的一半深度处埋有电加热线16；
上述的蔬菜周年生产粗砂栽培装置中，电加热线16的间距为90mm。
本实用新型具有如下优点：
1.所选栽培基质粒径分布合理，既有较大的沙粒(＞2mm)，以提高栽培基质层的透气性，提高植株根系的氧含量，也有较小的沙粒(＜0.6mm)，使得栽培基质有一定的保水能力，栽培基质能够在一定的时间内，满足作物对水、肥的需要。作物根系可利用的有效氧含量提高，使得根系生长发育迅速、活力增强。在常规基质栽培时，一般只在每排栽培作物的附近放置一排滴灌管，而本实用新型还在两排之间增加一排滴灌管，目的是使栽培槽中间部位栽培基质也富含水分和养分，作物根系向此处生长，以形成发达的根系。
2.栽培槽结构合理：槽宽(90cm)和槽深(40cm)都较常规栽培槽尺寸大，这就为作物根系的生长发育提供了充足的空间；栽培槽底部和两侧的多孔防虫网，使得外界空气中的氧气可以与栽培基质中气体进行交换，栽培基质中氧含量高。从而避免了常规栽培槽由2层塑料薄膜围护，阻碍外界空气与栽培基质中气体进行交换，使栽培基质中氧含量经常处于亏缺状态的现象。
3.本实用新型蔬菜粗砂栽培装置，特别适合蔬菜长季节、周年生长。夏季，镀铝反光膜可以将照射到栽培槽上的太阳光反射掉，避免栽培基质的温度升高太多，以及栽培基质中水分的大量蒸发；冬季，埋在栽培基质中的电加热线，在温控器的控制下，可以将栽培基质的温度控制在根系生长适温下，使得根系生长发育良好；同时镀铝反光膜反射的太阳光，还提高了作物冠层底部的光照度。
4.本实用新型蔬菜周年生产粗砂栽培装置，结构简单、作物产量高。
附图说明
图1为本实用新型蔬菜周年生产粗砂栽培装置的结构示意图；
图2为本实用新型蔬菜周年生产粗砂栽培装置中栽培槽的结构剖面示意图。
具体实施例
下面结合图1和图2详细说明本实用新型蔬菜周年生产粗砂栽培装置。
如图1所示，1为营养液罐，2为水泵，3为过滤器，4为压力表，5为主管道，6为支管道，7为滴灌管，8为栽培槽。
营养液的供给，根据季节、环境条件、作物品种、生长阶段等的不同，采用间歇式灌溉方式，每天灌溉1～4次、每次5～15分钟。营养液的流动路线是：营养液罐1→水泵2→过滤器3→压力表4→主管道5→支管道6→滴灌管→栽培槽8。
如图2所示为栽培槽8的结构剖面示意图，其中，11为槽形框架，它由镀锌角钢焊接而成，槽形框架11搁在地面9上；12为多孔包裹物，其孔径为0.05～0.1mm，它是防虫网或纱网，铺在槽形框架11底部和两侧；15为填装在栽培槽中的栽培基质，该栽培基质为粗砂，采用粒径0.6～2mm的占70％～75％，其余为大于2mm的大颗粒和小于0.6mm的小颗粒，这种粒径的搭配既可保水又能透气；10为镀铝反光膜，其外侧为镀铝层，用于反射太阳光，内侧为灰色薄膜层，它覆盖在整个栽培槽的顶面、两侧面，处于自然下垂状态；7为滴灌管，它分为三排铺设在栽培基质15的表面；14为植株；16为埋设在栽培槽半深处的电加热线，其间距为90mm，在本实施例中一个栽培槽内设有九排电加热线。
夏季，镀铝反光膜可以将照射到栽培槽上的太阳光反射掉，从而避免了栽培基质温度升高过多，以及栽培基质中水分的过量蒸发。根据我们栽培番茄的试验，整个夏季，栽培基质的最高温度不超过26～27℃。
冬季，埋在栽培基质中的电加热线，在温控器的控制下，可以将栽培基质的温度控制在根系生长适温下，使得根系生长发育良好；我们的实验结果是：整个冬季栽培基质的温度稳定在20～21℃。
春、秋季节，栽培基质的温度一般在20～25℃。
镀铝反光膜反射的太阳光，还提高了作物冠层底部的光照度。一般情况下，可以使作物冠层底部的光照度提高3～10％。
最后所应说明的是，以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本实用新型进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本实用新型技术方案的精神和范围，其均应涵盖在本实用新型的权利要求范围当中。

Claims (7)

1、一种蔬菜周年生产粗砂栽培装置，包括营养液罐(1)、水泵(2)、过滤器(3)、装有栽培基质(15)的栽培槽(8)、将营养液罐(1)与栽培槽(8)相连接的主管道(5)、支管道(6)、滴灌管(7)，栽培槽(8)包括槽形框架(11)，其特征在于，在该槽形框架(11)底部和两侧铺有多孔包裹物(12)，在整个栽培槽(8)的顶面、两侧面覆盖有镀铝反光膜(10)。
2、根据权利要求1所述的蔬菜周年生产粗砂栽培装置，其特征在于，在栽培槽(8)中铺设有三排滴灌管(7)。
3、根据权利要求1或2所述的蔬菜周年生产粗砂栽培装置，其特征在于，多孔包裹物(12)为防虫网或纱网，其孔径为0.05～0.1mm。
4、根据权利要求1或2所述的蔬菜周年生产粗砂栽培装置，其特征在于，填装在该栽培槽(8)中的栽培基质(15)为粗砂，粗砂(15)采用粒径0.6～2mm的占70％～75％，其余为大于2mm的大颗粒和小于0.6mm的小颗粒。
5、根据权利要求1或2所述的蔬菜周年生产粗砂栽培装置，其特征在于，栽培槽框架(11)横断面尺寸为90×40cm。
6、根据权利要求1或2所述的蔬菜周年生产粗砂栽培装置，其特征在于，栽培槽(8)的一半深度处埋有电加热线(16)。
7、根据权利要求6所述的蔬菜周年生产粗砂栽培装置，其特征在于，电加热线(16)的间距为90mm。
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