CN220926929U - 镀膜设备及用于镀膜设备的升华装置 - Google Patents

镀膜设备及用于镀膜设备的升华装置 Download PDF

Info

Publication number
CN220926929U
CN220926929U CN202322732697.9U CN202322732697U CN220926929U CN 220926929 U CN220926929 U CN 220926929U CN 202322732697 U CN202322732697 U CN 202322732697U CN 220926929 U CN220926929 U CN 220926929U
Authority
CN
China
Prior art keywords
sublimation
coating
pipeline
coating powder
air outlet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202322732697.9U
Other languages
English (en)
Inventor
宗坚
韩辉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jiangsu Favored Nanotechnology Co Ltd
Original Assignee
Jiangsu Favored Nanotechnology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jiangsu Favored Nanotechnology Co Ltd filed Critical Jiangsu Favored Nanotechnology Co Ltd
Priority to CN202322732697.9U priority Critical patent/CN220926929U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN220926929U publication Critical patent/CN220926929U/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)

Abstract

本实用新型提供一种镀膜设备及用于镀膜设备的升华装置,所述升华装置包括:连通器,具有出气口以及多个进气口;P路升华组件,每路升华组件与对应的进气口连通,用于对镀膜粉料进行升华,升华得到的升华气体通过所述出气口输出,P为正整数。有助于实现轮替、间歇的开启或者关闭每路升华组件,达到长时间持续供料的目的。此外,通过控制每路升华组件的开启或者关闭,还可以实现在镀膜工艺过程中进行动态干预,实现镀膜工艺的动态调整,达到较优的镀膜效果。

Description

镀膜设备及用于镀膜设备的升华装置
技术领域
本实用新型涉及镀膜技术领域,尤其涉及一种镀膜设备及用于镀膜设备的升华装置。
背景技术
派瑞林(Parylene)是六十年代中期美国Union Carbide Co.开发应用的一种新型敷形涂层材料,它采用真空气相沉积工艺制备,由活性小分子在基材表面生成敷形的聚合物薄膜涂层。派瑞林是一种保护性高分子材料,中文名聚对二甲苯,根据分子结构的不同,派瑞林可分为N型、C型、D型、F型、HT型等多种类型。因其在真空条件下制备,派瑞林活性分子的良好穿透力能在电子元件内部、底部,周围形成无针孔,厚度均匀的透明绝缘涂层,给元件提供一个完整的优质防护涂层,抵御酸碱、盐雾、霉菌及各种腐蚀性气件的侵害。
现有粉末状态的蒸发材料(如派瑞林),在CVD镀膜条件下使用每炉称重计量的定量方法,不能进行动态的调整。因此无法在工艺过程中进行动态干预,难以达到最优的镀膜效果。
实用新型内容
本实用新型解决的技术问题是现有的升华装置使用每炉称重计量的定量方法提供粉料,无法进行动态调整,进而难以达到较优的镀膜效果。
为解决上述技术问题,本实用新型实施例提供一种用于镀膜设备的升华装置,包括:连通器,具有出气口以及多个进气口;P路升华组件,每路升华组件与对应的进气口连通,用于对镀膜粉料进行升华,升华得到的升华气体通过所述出气口输出,P为正整数。
可选的,每组升华组件包括:料仓,用于容置所述镀膜粉料,并对所述镀膜粉料进行升华;第一管路,与所述料仓及所述进气口连接;阀门,设置于所述第一管路上,用于连通或者切断所述料仓和所述连通器之间的通路。
可选的,所述阀门包括电磁阀。
可选的,所述升华装置,还包括放置于所述料仓内的料盒组件,所述料盒组件包括:盒体,具有用于容置所述镀膜粉料的容置腔体,所述容置腔体的顶部开放。
可选的,所述料盒组件还包括:导热隔件,位于所述容置腔体内,所述导热隔件将所述容置腔体分隔成多个子腔体。
可选的,所述料盒组件还包括匀料板,盖于所述盒体,所述匀料板具有多个均匀分布的镂空开孔。
可选的,所述料仓的仓门设置有管路连接口;所述升华装置还包括:第二管路,与所述管路连接口连接,以与所述料仓内导通;压力检测装置,设置于所述第二管路,用于检测所述料仓内的压力。
可选的,所述连通器的顶部设置有冷阱连接端口,用于连接冷阱。
本实用新型实施例还提供一种镀膜设备,包括:上述任一种升华装置。
可选的,所述镀膜设备还包括与所述出气口连接的裂解室。
可选的,所述裂解室内的气流通道呈迷宫型、环形或者螺旋形。
与现有技术相比,本实用新型实施例的技术方案具有以下有益效果:
采用P路升华组件以及连通器,每路升华组件均可对镀膜粉料进行升华,得到的升华气体可以通过出气口输出,能够根据实际镀膜工艺需求配置升华组件的路数P的具体取值,并且当升华组件为多路时,有助于实现轮替、间歇的开启或者关闭每路升华组件,达到长时间持续供料的目的。此外,通过控制每路升华组件的开启或者关闭,还可以实现在镀膜工艺(如升华工艺)过程中进行动态干预,实现镀膜工艺的动态调整,达到较优的镀膜效果。
附图说明
图1是本实用新型实施例中的一种用于镀膜设备的升华装置的结构示意图;
图2是本实用新型实施例中的一种料盒组件的爆炸图;
图3是本实用新型实施例中的一种料盒组件的部分爆炸图;
附图标记说明:
100-升华装置;1-升华组件;2-连通器;2a-出气口;2b-进气口;2c-有冷阱连接端口;10-料盒组件;11-盒体;111-容置腔体;112-侧壁;12-导热隔件;121-孔洞;122-子腔体;123-导热壁;13-匀料板;131-镂空开孔;14-拉手;15-连接部;30-仓门;61-料仓;62-第一管路;63-阀门;64-第二管路;65-压力检测装置。
具体实施方式
为使本实用新型的上述目的、特征和有益效果能够更为明显易懂,下面结合附图对本实用新型的具体实施例做详细的说明。
图1是本实用新型实施例中的一种升华装置的结构示意图,下面结合图1对本实用新型实施例提供的一种至用于镀膜设备的升华装置(下文简称升华装置)的具体结构进行说明。
在具体实施例中,升华装置100包括:连通器2以及P路升华组件1,P为正整数。连通器2具有出气口2a以及多个进气口2b。每路升华组件1与对应的进气口2b连通,用于对镀膜粉料进行升华,升华得到的升华气体通过所述出气口2a输出。
在一些实施例中,进气口2b的数目可以大于等于P。
在一些实施例中,镀膜粉料可以为派瑞林,镀膜设备为派瑞林镀膜设备。
在一些实施例中,P的取值可以为1,也可以为大于1的2、3或者其他数目。当P的取值大于1时,多个升华组件1可以同时开启,也可以交替开启,具体根据实际镀膜工艺需求进行配置即可。当交替开启各路升华组件1时,便于向升华组件1内及时补充镀膜粉料,确保升华装置1持续得到升华气体,实现长时间供料的目的。
由上述方案可知,采用P路升华组件1以及连通器2,每路升华组件1均可对镀膜粉料进行升华,得到的升华气体可以通过出气口2a输出,能够根据实际镀膜工艺需求配置升华组件1的路数P的具体取值,并且当升华组件1为多路时,有助于实现轮替、间歇的开启或者关闭每路升华组件1,达到长时间持续供料的目的。此外,通过控制每路升华组件1的开启或者关闭,还可以实现在镀膜工艺(如升华工艺)过程中进行动态干预,实现镀膜工艺的动态调整,达到较优的镀膜效果。
在具体实施例中,每路升华组件1包括:料仓61、第一管路62及阀门63。料仓61用于容置所述镀膜粉料,并对所述镀膜粉料进行升华。第一管路62与所述料仓61及所述进气口2b连接;阀门63设置于所述第一管路62上,用于连通或者切断所述料仓61和所述连通器2之间的通路。所述阀门63可以包括电磁阀。
镀膜粉料可以直接放置于料仓1内。镀膜粉料也可以容置于料盒组件内,并随同料盒组件一起放置于料仓1内。
图2是本实用新型实施例中的一种料盒组件的爆炸图;图3是本实用新型实施例中的一种料盒组件的部分爆炸图。结合图1至图3,所述升华装置100还可以包括放置于所述料仓61内的料盒组件10,所述料盒组件10包括:盒体11以及导热隔件12。盒体11具有用于容置镀膜粉料的容置腔体111,容置腔体111的顶部开放。
进一步,所述料盒组件10还包括导热隔件12。导热隔件12位于容置腔体111内,导热隔件12将容置腔体111分隔成多个子腔体122。
通过导热隔件12将盒体的容置腔体111分隔成多个子腔体122,镀膜粉料容置于子腔体122内,由于导热隔件12导热,从而可以增加镀膜粉料的受热面积,提高镀膜粉料的受热均匀性,进而提高镀膜粉料的升华效率和升华均匀性,有助于提高镀膜品质。
在具体实施例中,导热隔件12为多孔结构件,多孔结构件具有多个孔洞121,每个孔洞121形成一个子腔体122。
每个孔洞121具有沿轴向方向延伸的多个导热壁123,多个导热壁123围成子腔体122,并作为子腔体122的壁面。多个导热壁123导热。
孔洞121的底部开口至顶部开口的方向与容置腔体111的底部至顶部的方向平行。也即,孔洞121的轴向与容置腔体111的底部至顶部的方向平行。如此,可以便于每个子腔体122内的镀膜粉料升华后得到的升华气体从容置腔体111内扩散出。
在一些实施例中,导热隔件12可以呈蜂窝状,也可以呈栅格状。
在一些实施例中,孔洞121沿径向方向的截面的形状可以为圆形,也可以为多边形,还可以为其他合适的规则或不规则形状。
导热隔件12可以为金属导热隔件,也即采用金属材质(例如铝、不锈钢等)制备而成。导热隔件12还可以采用其他导热的材质制备而成。
在一些实施例中,盒体11可以呈半圆柱体形。盒体11沿其自身的径向方向的截面呈半圆形,盒体11沿其自身的径向方向的截面的弧度等于180度。盒体11沿其自身的径向方向的截面的弧度可以小于180度。盒体11沿其自身的径向方向的截面的弧度也可以大于180度且小于360度。
在另一些实施例中,所述导热隔件12与所述盒体11热耦合。热耦合指导热隔件12与所述盒体11之间导热,可以通过导热隔件12与所述盒体11直接相接触的方式进行导热,也可以借助一些导热介质实现导热隔件12与所述盒体11的导热。如此,可以使得盒体11与导热隔件12之间进行热量传递,实现每个子腔体122内的镀膜粉料均匀受热。
在一些实施例中,导热隔件12与盒体11热耦合的外表面可以呈弧形,且与盒体11的内壁面的形状相适配,当导热隔件12与盒体11以直接相接触的方式进行导热时,可以提高导热效果。
在具体实施例中,料盒组件10还可以包括匀料板13。匀料板13盖于所述盒体11,所述匀料板13具有多个均匀分布的镂空开孔131。通过设置的镂空开孔131可以使得镀膜粉料升华后的气体均匀扩散,有助于提高镀膜品质。
所述镂空开孔131的孔径小于所述孔洞121的最小尺寸,以提高对镀膜粉料升华后的气体扩散的均匀效果。
在具体实施例中,匀料板13上设置有连接部15。连接部15用于将匀料板13连接于盒体11。
连接部15可以为朝向盒体11延伸的弹片,弹片设置于匀料板13的两端,具体而言,设置于匀料板13沿盒体11的轴向方向相对设置的两端,每端可以设置一个弹片,也可以设置两个或多个弹片。弹片抵持盒体11的侧壁112,以将匀料板13连接于盒体11。
连接部15也可以为卡扣或者其他连接部件,此处不再一一举例。
在具体实施例中,所述导热隔件12与所述容置腔体111的顶部齐平或者低于所述容置腔体111的顶部。
在具体实施例中,所述盒体11的侧壁112上设置有拉手14。用户通过拉手14将料盒组件10推入料仓61内,或者从料仓61内取出,提高用户的操作便捷性。拉手14可以为各种合适的样式,如拉簧拉手、箱环拉手等。
在具体实施例中,所述料仓61的仓门30设置有管路连接口。所述升华装置1还包括:第二管路64以及压力检测装置65。第二管路64与所述管路连接口连接,以与所述料仓61内导通;压力检测装置65设置于所述第二管路64,用于检测所述料仓61内的压力。
所述连通器2的顶部设置有冷阱连接端口2c,用于连接冷阱。冷阱是在冷却的表面上以凝结方式捕集气体的阱,用于进行吸附升华气体中混杂的气体杂质,确保镀膜品质。
本实用新型实施例还提供一种镀膜设备,镀膜设备包括:上述任一种升华装置。关于升华装置的具体介绍参见上述实施例中的描述,此处不再赘述。
在一些实施例中,所述镀膜设备还包括与所述出气口连接的裂解室。升华气体在裂解室内裂解,以为后续的镀膜做准备。
在一些实施例中,所述裂解室内的气流通道可以呈迷宫型、环形或者螺旋形。如此,采用迷宫型、环形或者螺旋形的气流通道,可以充分利用空间,有效地减小裂解室的占地面积。
在一些实施例中,镀膜设备还可以包括防护罩以及冷却组件。防护罩具有容纳腔。冷却组件位于所述容纳腔内,用于每次镀膜工艺结束或者异常断电时,对所述升华装置进行降温。所述冷却组件可以包括冷却风扇。可以在每次镀膜工艺结束或者异常断电时,通过冷却装置对升华装置进行快速冷却,有效的缩短降温工艺的时长或者下一工艺的准备时长,减小镀膜粉料在降温工艺过程或者下一工艺的准备过程中的升华概率,进而减小镀膜产品被污染的概率,确保镀膜品质。
在一些实施例中,所述防护罩的顶部设置有第一开口,用于保持所述容纳腔的内部与外部之间的气流流通。通过提高容纳腔的内部与外部的气流流通可以提高换热效率,进而提高对升华装置的冷却效率。
第一开口的数目可以为一个,也可以为多个,具体根据第一开口的尺寸、防护罩的尺寸等因素进行配置即可。
进一步,第一开口上还可以设置有镂空的滤网,通过设置的滤网可以对流经第一开口的气流进行过滤,减小杂质进入容纳腔的概率,确保冷却组件的正常工作。
滤网可以通过螺钉等紧固件连接于第一开口。可以理解的是,还可以采用粘接、焊接或者其他合适的方式连接于第一开口。
在一些实施例中,所述镀膜设备还包括支架,所述支架用于支撑所述防护罩以及所述升华装置。
所述容纳腔的底部朝向所述支架开放,并被所述支架的支撑板封住。
进一步,所述支撑板上设置有第二开口,所述第二开口用于保持所述容纳腔的内部与外部之间的气流流通。通过支撑板上设置有第二开口与容纳腔的顶部设置的第一开口相配合,有助于空气对流,进一步提高换热效率以及提高对升华装置的冷却效率。
支架还可以包括支撑腿部,支撑腿部用于支撑所述支撑板,并与支撑板相连接。支撑腿部的数目可以为一个,也可以为多个,具体可以根据镀膜设备中的其他部件进行设置。
在一些非限制性实施例中,所述冷却组件位于所述升华装置的下方。可以理解的是,可以根据容纳腔的实际空间情况,将冷却组件布局于容纳腔的侧壁或者顶部等合适位置。
在具体实施例中,所述镀膜设备还包括用于将所述升华装置连接于所述支撑板的支撑组件。所述支撑组件包括:套环、支撑柱以及支座。套环套设于所述升华装置中的料仓,支撑柱与所述套环连接;支座与所述支撑板以及所述支撑柱连接。
进一步,所述升华装置的进口位于所述防护罩的外部。所述裂解仓位于所述防护罩的外部,用于对所述升华气体进行裂解。
需要说明的是,镀膜设备还可以包括沉积室等,关于沉积室的介绍具体参见现有技术即可,此处不再详细说明。
虽然本实用新型披露如上,但本实用新型并非限定于此。任何本领域技术人员,在不脱离本实用新型的精神和范围内,均可作各种更动与修改,因此本实用新型的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。

Claims (11)

1.一种用于镀膜设备的升华装置,其特征在于,包括:
连通器,具有出气口以及多个进气口;
P路升华组件,每路升华组件与对应的进气口连通,用于对镀膜粉料进行升华,升华得到的升华气体通过所述出气口输出,P为正整数。
2.如权利要求1所述的升华装置,其特征在于,每组升华组件包括:
料仓,用于容置所述镀膜粉料,并对所述镀膜粉料进行升华;
第一管路,与所述料仓及所述进气口连接;
阀门,设置于所述第一管路上,用于连通或者切断所述料仓和所述连通器之间的通路。
3.如权利要求2所述的升华装置,其特征在于,所述阀门包括电磁阀。
4.如权利要求2所述的升华装置,其特征在于,还包括放置于所述料仓内的料盒组件,所述料盒组件包括:盒体,具有用于容置所述镀膜粉料的容置腔体,所述容置腔体的顶部开放。
5.如权利要求4所述的升华装置,其特征在于,所述料盒组件还包括:
导热隔件,位于所述容置腔体内,所述导热隔件将所述容置腔体分隔成多个子腔体。
6.如权利要求4所述的升华装置,其特征在于,所述料盒组件还包括匀料板,盖于所述盒体,所述匀料板具有多个均匀分布的镂空开孔。
7.如权利要求2所述的升华装置,其特征在于,所述料仓的仓门设置有管路连接口;所述升华装置还包括:
第二管路,与所述管路连接口连接,以与所述料仓内导通;
压力检测装置,设置于所述第二管路,用于检测所述料仓内的压力。
8.如权利要求1所述的升华装置,其特征在于,所述连通器的顶部设置有冷阱连接端口,用于连接冷阱。
9.一种镀膜设备,其特征在于,包括如权利要求1至8任一项所述的升华装置。
10.如权利要求9所述的镀膜设备,其特征在于,还包括与所述出气口连接的裂解室。
11.如权利要求10所述的镀膜设备,其特征在于,所述裂解室内的气流通道呈迷宫型、环形或者螺旋形。
CN202322732697.9U 2023-10-11 2023-10-11 镀膜设备及用于镀膜设备的升华装置 Active CN220926929U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202322732697.9U CN220926929U (zh) 2023-10-11 2023-10-11 镀膜设备及用于镀膜设备的升华装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202322732697.9U CN220926929U (zh) 2023-10-11 2023-10-11 镀膜设备及用于镀膜设备的升华装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN220926929U true CN220926929U (zh) 2024-05-10

Family

ID=90940985

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202322732697.9U Active CN220926929U (zh) 2023-10-11 2023-10-11 镀膜设备及用于镀膜设备的升华装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN220926929U (zh)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20230230858A1 (en) Heating device and semiconductor processing apparatus
CN111074239B (zh) 一种lpcvd双材质真空反应室
US20020100417A1 (en) Heating-type trap device and film-deposition apparatus
CN220926929U (zh) 镀膜设备及用于镀膜设备的升华装置
CN109589626A (zh) 防结垢降膜蒸发器
CN111063603B (zh) 半导体工艺设备
CN220926928U (zh) 镀膜设备及用于镀膜设备的升华装置
JPH07201956A (ja) ウエハ冷却装置
RU2711569C1 (ru) Вихревой теплообменный аппарат
US20190186003A1 (en) Ampoule vaporizer and vessel
CN220926930U (zh) 用于镀膜设备的料盒组件及升华装置
CN216639707U (zh) 一种四坩埚蒸发源
CN106323038A (zh) 热交换器
CN210001919U (zh) 布气结构及具有其的反应腔体组件
CN214148963U (zh) 扰流件、管型换热器及燃气热水设备
CN221117604U (zh) 镀膜设备
CN112251737A (zh) 加热腔结构和硅片处理设备
CN109423631B (zh) 气相沉积均匀加热装置及气相沉积炉
CN208333185U (zh) 一种聚四氟乙烯列管式换热器
CN221206851U (zh) 一种催化蒸馏塔反应段结构
CN210544203U (zh) 多功能吸附塔
CN211233612U (zh) 一种用于保存全保护戊糖中间体的温控系统
CN221197005U (zh) 固态源气化装置及系统
RU2336112C1 (ru) Десублимационный аппарат
CN214665174U (zh) 一种饮水装置的热交换结构

Legal Events

Date Code Title Description
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant