CN220781592U - 一种基于阵列压电系统的兆声波清洗装置 - Google Patents

一种基于阵列压电系统的兆声波清洗装置 Download PDF

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王振
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Abstract

本实用新型公开一种基于阵列压电系统的兆声波清洗装置,包括壳体和阵列压电系统,所述壳体内设有安装腔室,所述阵列压电系统设置在安装腔室的底部,所述阵列压电系统由若干块阵列式排布的压电陶瓷片组成,所述壳体的侧壁开设有连通安装腔室与外部的出线孔,所述出线孔可穿入连接线使阵列压电系统与外部电路系统连接,通过外部电路系统实现对若干块压电陶瓷片的单独控制或阵列压电系统的整体控制。本实用新型通过结构优化和创新,可具备同时满足液体表面清洁和液体内部清洁的功能,具备更好的市场适用性。

Description

一种基于阵列压电系统的兆声波清洗装置
技术领域
本实用新型涉及一种超声波清洁设备,具体涉及一种基于阵列压电系统的兆声波清洗装置。
背景技术
兆声波清洗装置是一种新型的高精度超声波清洁设备,通过压电系统发射兆赫兹级超声波信号,在清洗液内部产生极小直径的空化气泡,可以有效去除晶圆或者精密元器件等极微小部件表面的污垢或杂物等。凭借着自身应用简单,工作效率高等优势,兆声波清洗装置在精密元器件清洁工作中有着广泛的应用。
现有的兆声波清洗装置存在一定的应用问题和缺陷,其中最主要的问题在于兆声波清洗装置通常采用一体型压电陶瓷片,该类陶瓷片加工难度大,应用成本高,使用常规技术手段很难做到有效驱动和工作。且该类陶瓷片在工作的过程中存在振动效果不均匀、中心位置清洁效果好而边缘位置清洁效果差等问题,无法很好地满足精密元器件等微小物件的清洁使用。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服现有技术的不足,提供一种基于阵列压电系统的兆声波清洗装置。
本实用新型的技术方案如下:
一种基于阵列压电系统的兆声波清洗装置,包括壳体和阵列压电系统,所述壳体内设有安装腔室,所述阵列压电系统设置在安装腔室的底部,所述阵列压电系统由若干块阵列式排布的压电陶瓷片组成,所述壳体的侧壁开设有连通安装腔室与外部的出线孔,所述出线孔可穿入连接线使阵列压电系统与外部电路系统连接,通过外部电路系统实现对若干块压电陶瓷片的单独控制或阵列压电系统的整体控制。
其中,所述壳体由上盖和底壳组成。
其中,所述底壳的顶部设有环形凸起边沿,所述上盖的底部设有与环形凸起边沿相卡接的环形卡槽。
其中,所述底壳的底部设有若干个阵列式排布的压电陶瓷片容置槽,所述压电陶瓷片放置在压电陶瓷片容置槽中。
其中,所述底壳的底部周侧延伸有安装板,所述安装板上均匀设有若干个螺纹孔。
相对于现有技术,本实用新型的有益效果在于:本实用新型使用阵列压电陶瓷片取代了原有的一体型压电陶瓷片,将原有的单点振动改变为多点或全面振动,与传统的兆声波清洗装置相比,本实用新型提供的一种基于阵列压电系统的兆声波清洗装置的工作效果有明显的增强,特别是对于边缘等“清洗死角”位置的清洁效果有极为明显的改善,而且在采用阵列压电系统后,兆声波清洗装置的加工难度和应用成本有明显的降低。本实用新型通过结构优化和创新,可具备同时满足液体表面清洁和液体内部清洁的功能,具备更好的市场适用性。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型提供的一种基于阵列压电系统的兆声波清洗装置的外观结构示意图;
图2为本实用新型提供的一种基于阵列压电系统的兆声波清洗装置的内部结构示意图;
图3为本实用新型所述底壳的结构示意图;
图4为本实用新型所述上盖的结构示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
为了说明本实用新型所述的技术方案,下面通过具体实施例来进行说明。
实施例
请参阅图1~4,本实施例提供一种基于阵列压电系统的兆声波清洗装置,包括壳体1和阵列压电系统2。壳体1由上盖11和底壳12组成,底壳12的底部周侧延伸有安装板13,安装板13上均匀设有若干个螺纹孔14,通过螺丝实现装置的固定安装和使用;底壳12的顶部设有环形凸起边沿121,上盖11的底部设有与环形凸起边沿121相卡接的环形卡槽111,实现上盖11与底壳12之间的紧密连接,防渗漏。壳体1内设有安装腔室,安装腔室的底部设有若干个阵列式排布的压电陶瓷片容置槽15,阵列压电系统2由若干块阵列式排布的压电陶瓷片21组成,压电陶瓷片21放置在压电陶瓷片容置槽15中。壳体1的侧壁开设有连通安装腔室与外部的出线孔16,出线孔16可穿入连接线使阵列压电系统2与外部电路系统连接,再对出线孔16做密封处理,以实现设备在液体内部的正常使用。通过外部电路系统可实现对若干块压电陶瓷片21的单独控制或阵列压电系统2的整体控制,以满足在不同工况下的应用需求。
使用时,根据实际使用情况的不同,将该装置螺丝固定在液体表面或液体内部,连接电路系统,通过电路系统向压电陶瓷片21输送特定频率的电信号,压电陶瓷片21在电信号的激励下产生相应频率的超声波信号,超声波信号通过底壳12的传输进入液体内部,产生空化作用,达到清洁的效果。其中,可以通过电路系统单独控制某一块压电陶瓷片21的振动,也可以控制某几块或全部压电陶瓷片21的振动,以满足不同工况下的应用需求。
综上所述,该兆声波清洗装置具有以下特点:
1、本实用新型采用阵列压电陶瓷片取代了原有的整体式压电陶瓷片,并通过电路系统实现对阵列压电陶瓷片的单独或整体控制,可以将原来振动效果差的边缘等位置改善为振动起振点,从而解决了现有的兆声波清洗装置振动效果不均匀,清洁效果差等问题;
2、本实用新型通过对其外部结构的创新和优化,实现了兆声波清洗装置的良好密封,可以保证兆声波清洗装置在液体表面正常工作和在液体内部的有效工作等;
3、本实用新型可以在小功率的情况下保证兆声波清洗装置的正常工作,且清洗效果有明显的改善和提升;
4、本实用新型通过结构优化设计,不仅可以满足兆赫兹频率压电陶瓷片的使用,也可以根据工作环境的不同,对其内部的压电陶瓷片进行更换,使用低频率的压电陶瓷片达到倍频发射的效果,由于低频率的压电陶瓷片拥有更好的功率承受性,可以满足不同应用环境下的高精度清洗的需求。
以上仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用于限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (5)

1.一种基于阵列压电系统的兆声波清洗装置,其特征在于:包括壳体和阵列压电系统,所述壳体内设有安装腔室,所述阵列压电系统设置在安装腔室的底部,所述阵列压电系统由若干块阵列式排布的压电陶瓷片组成,所述壳体的侧壁开设有连通安装腔室与外部的出线孔,所述出线孔可穿入连接线使阵列压电系统与外部电路系统连接,通过外部电路系统实现对若干块压电陶瓷片的单独控制或阵列压电系统的整体控制。
2.根据权利要求1所述的一种基于阵列压电系统的兆声波清洗装置,其特征在于:所述壳体由上盖和底壳组成。
3.根据权利要求2所述的一种基于阵列压电系统的兆声波清洗装置,其特征在于:所述底壳的顶部设有环形凸起边沿,所述上盖的底部设有与环形凸起边沿相卡接的环形卡槽。
4.根据权利要求2所述的一种基于阵列压电系统的兆声波清洗装置,其特征在于:所述底壳的底部设有若干个阵列式排布的压电陶瓷片容置槽,所述压电陶瓷片放置在压电陶瓷片容置槽中。
5.根据权利要求2所述的一种基于阵列压电系统的兆声波清洗装置,其特征在于:所述底壳的底部周侧延伸有安装板,所述安装板上均匀设有若干个螺纹孔。
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