CN220755484U - 抛秧盘 - Google Patents

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郑志刚
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Abstract

本实用新型涉及水稻育秧领域,公开了一种抛秧盘,包括盘体和多个钵体,多个钵体设置于盘体上,并呈矩阵排列,钵体的开口朝向盘体的正面侧,且钵体的底部开设有多个间隔布置的通孔,通孔的直径均为0.5‑2.0mm。本实用新型的抛秧盘在保证秧苗能够从土壤中吸收到足够的水分和养分的前提下,有效降低起秧的困难程度,提高工作效率和降低起秧的工作强度,起秧后的抛秧盘底部少粘泥,提高运秧和机械有序抛秧机的抛秧效率,另外,也无需在摆盘前在秧田表面铺设一层无纺布,有效降低成本和避免环境污染的问题。

Description

抛秧盘
技术领域
本实用新型属于水稻育秧领域,具体地,涉及一种抛秧盘。
背景技术
现有的抛秧盘主要有两种,一种是416孔机械有序抛秧盘,另一种是343孔人工抛秧盘。这两种抛秧盘的钵体的底部均设有一个直径较大的通孔。钵体内的秧苗的根系能够通过该通孔下扎至土壤中,进而能够吸收到足够的水分和营养。但是,在实际的应用过程中,秧苗较多的根系较深地下扎至土壤中,如此,会使得起秧较为困难,且起秧后抛秧盘底部带泥,不利于机械抛秧作业,现有的解决方式为在摆盘前在秧田表面铺设一层无纺布,以通过无纺布阻碍秧苗的根系较深地下扎到土壤中,但是,无纺布的使用会导致生产资料投入成本的增加和环境污染的问题。
实用新型内容
针对现有技术中的上述不足或缺陷,本实用新型提供一种抛秧盘,旨在解决现有的抛秧盘在实际的应用过程中,秧苗较多的根系较深地下扎至土壤中,使得起秧较为困难,且起秧后秧盘底部带泥,不利于机械抛秧作业的技术问题。
为实现上述目的,本实用新型提供了一种抛秧盘,所述抛秧盘包括:
盘体;和
多个钵体,多个所述钵体设置于所述盘体上,并呈矩阵排列,所述钵体的开口朝向所述盘体的正面侧,且所述钵体的底部开设有多个间隔布置的通孔,所述通孔的直径均为0.5-2.0mm。
可选地,多个所述通孔包括第一通孔和多个第二通孔,所述第一通孔位于所述钵体的底部的中心位置,多个所述第二通孔环绕所述第一通孔间隔布置。
可选地,多个所述第二通孔环绕所述第一通孔均匀分布。
可选地,在所述矩阵的行方向上,多个所述钵体均匀分布。
可选地,在所述矩阵的列方向上,多个所述钵体均匀分布。
可选地,所述抛秧盘还包括凸设于所述盘体的正面的多个导流凸台,在所述矩阵的行方向上,相邻的两个所述钵体之间的间隙均设置有一个所述导流凸台。
可选地,所述导流凸台包括主体部和两个端部,所述主体部位于所述间隙内,两个所述端部从所述主体部延伸至所述间隙的两端。
可选地,所述导流凸台的两个端部在所述矩阵的行方向上的宽度沿各自的延伸方向逐渐增大。
可选地,所述导流凸台设置为从中心位置至边缘位置逐渐朝所述盘体的正面倾斜。
可选地,所述抛秧盘还包括设置于所述盘体的正面的多个导流凹槽,在所述矩阵的列方向上,相邻的两个所述钵体之间均通过一个所述导流凹槽相互连通。
可选地,所述导流凹槽的两端分别与相邻的两个所述钵体连通,所述导流凹槽设置为自中心位置至两端逐渐向所述盘体的背面倾斜。
可选地,所述盘体呈矩形状,所述矩阵的行方向与所述盘体的长度方向一致,所述矩阵的列方向与所述盘体的宽度方向一致。
在本实用新型的抛秧盘中,钵体的底部开设有多个间隔布置的通孔,且通孔的直径均为0.5-2.0mm,与现有的抛秧盘相比,增加了钵体的底部的通孔的数量,同时缩减了通孔的直径,如此设置,可使得钵体内的秧苗只有少部分的根系能够通过多个通孔下扎至土壤中,通过这样,在保证秧苗能够从土壤中吸收到足够的水分和养分的前提下,有效降低起秧的困难程度,提高工作效率和降低起秧的工作强度,也使得起秧后的秧盘底部少粘泥,提高运秧和机械有序抛秧机的抛秧效率,另外,也无需在摆盘前在秧田表面铺设一层无纺布,有效降低成本和避免环境污染的问题。
本实用新型的其它特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。
附图说明
附图是用来提供对本实用新型的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与下面的具体实施方式一起用于解释本实用新型,但并不构成对本实用新型的限制。在附图中:
图1为本实用新型的一种实施方式中的抛秧盘的立体结构示意图;
图2为图1中的抛秧盘的俯视结构示意图;
图3为图1中的钵体的立体结构示意图;
图4为图3中的钵体的俯视结构示意图。
附图标记说明:
1 盘体 3 导流凸台
2 钵体 4 导流凹槽
21 通孔
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是,此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本实用新型,并不用于限制本实用新型。
需要说明的是,在不冲突的情况下,本实用新型中的实施方式及实施方式中的特征可以相互组合。
在本实用新型中,在未作相反说明的情况下,使用的方位词如“上、下、顶、底”通常是针对附图所示的方向而言的或者是针对竖直、垂直或重力方向上而言的各部件相互位置关系描述用词。
下面将参考附图并结合实施方式来详细说明本实用新型。
本实用新型首先提供了一种抛秧盘。
在一种实施方式中,参照附图1至附图4所示,抛秧盘包括盘体1和多个钵体2,多个钵体2设置于盘体1上,并呈矩阵排列,钵体2的开口朝向盘体1的正面侧,且钵体2的底部开设有多个间隔布置的通孔21,通孔21的直径均为0.5-2.0mm。
需要说明的是,盘体1的正面即为盘体1在实际应用时置于秧田表面后朝向上方的面,盘体1的正面侧即为盘体1的正面面向的一侧。
在本实施方式中,钵体2的底部开设有多个间隔布置的通孔21,且通孔21的直径均为0.5-2.0mm,与现有的抛秧盘相比,增加了钵体2的底部的通孔21的数量,同时缩减了通孔21的直径,如此设置,可使得钵体2内的秧苗只有少部分的根系能够通过多个通孔下扎至土壤中,通过这样,在保证秧苗能够从土壤中吸收到足够的水分和养分的前提下,有效降低起秧的困难程度,提高工作效率和降低起秧的工作强度,也使得起秧后的抛秧盘底部少粘泥,提高运秧和机械有序抛秧机的抛秧效率,另外,也无需在摆盘前在秧田表面铺设一层无纺布,有效降低成本和避免环境污染的问题。
在本实施方式中,具体地,通孔21的数量可设置为3-12个。
在本实施方式中,具体地,多个钵体2与盘体1可为一体成型结构。
在本实施方式中,具体地,钵体2由呈圆筒状的圆筒和封设于圆筒的底部端口的圆板的构成,其中,圆筒的直径从顶部至底部逐渐缩小,多个通孔开设于圆板上。
在一种实施方式中,参照附图3和附图4所示,多个通孔21包括第一通孔和多个第二通孔,第一通孔位于钵体2的底部的中心位置,多个第二通孔环绕第一通孔间隔布置,具体地,多个第二通孔环绕第一通孔均匀分布,如此设置,有效保证秧苗能够从土壤中吸收到足够的水分和养分。
当然,在其他的一些实施方式中,多个通孔21还可以为其他的分布形式,例如呈矩阵式分布等。
在一种实施方式中,在矩阵的行方向X上,多个钵体2均匀分布,也就是说,在矩阵的行方向X上,相邻的两个钵体2之间的间隙大小均相等。
可以理解地,通过使多个钵体2在矩阵的行方向X上均匀分布,可使得抛秧盘能够满足机械有序抛秧机作业需求。
在一种实施方式中,在矩阵的列方向Y上,多个钵体2均匀分布,也就是说,在矩阵的列方向Y上,相邻的两个钵体2之间的间隙大小均相等。
可以理解地,通过使多个钵体2在矩阵的列方向Y上均匀分布,可使得抛秧盘能够满足机械有序抛秧机作业需求。
在一种实施方式中,参照附图1和附图2所示,在矩阵的行方向X上和矩阵的列方向Y上,多个钵体2均是均匀分布,如此设置,可进一步使得抛秧盘能够满足机械有序抛秧机作业需求。
具体地,在矩阵的行方向X上和矩阵的列方向Y上,相邻的两个钵体2的间隙大小为2~10mm。
在一种实施方式中,参照附图1和附图2所示,抛秧盘还包括凸设于盘体1的正面的多个导流凸台3,在矩阵的行方向X上,相邻的两个钵体2之间的间隙均设置有一个导流凸台3。
在本实施方式中,在矩阵的行方向X上,相邻的两个钵体2之间的间隙均设置有一个导流凸台3,如此设置,在播种流水线作业时,流落至盘体1的正面上的种子、基质营养土以及水在导流凸台3的导流作用下能够大部分滑落至钵体2中,通过这样,能够有效缓解种子、基质营养土以及水播放滞留在盘体1的正面的情况,从而使得种子、基质营养土以及水能够顺利的滑落至育秧钵体2中,增加机抛流水线播种机播种时的流水线中滚轮刷子刷抛秧盘的摩擦力。
在本实施方式中,具体地,导流凸台3形成于盘体1的正面,并凸起于盘体1的正面。
在一种实施方式中,导流凸台3可设置为从中心位置至边缘位置逐渐朝盘体1的正面倾斜,如此设置,可有效提高导流凸台3的导流作用,避免种子、基质营养土以及水播放滞留在导流凸台3上。
在一种实施方式中,参照附图1和附图2所示,导流凸台3包括主体部和两个端部,主体部位于间隙内,两个端部从主体部延伸至间隙的两端,如此设置,可较大范围地覆盖相邻的两个钵体2之间的间隙,进一步减少种子、基质营养土以及水在盘体1的正面上的滞留。
在一种实施方式中,参照附图1和附图2所示,导流凸台3的两个端部在矩阵的行方向X上的宽度沿各自的延伸方向逐渐增大,如此设置,使得导流凸台3的形状能够与相邻的两个钵体2之间的间隙的形状契合,使得导流凸台3能够完全覆盖邻的两个钵体2之间的间隙,进一步提高导流作用。
在一种实施方式中,参照附图1和附图2所示,抛秧盘还包括设置于盘体1的正面的多个导流凹槽4,在矩阵的列方向Y上,相邻的两个钵体2之间均通过一个导流凹槽4相互连通。
在本实施方式中,在矩阵的列方向Y上,相邻的两个钵体2之间均通过一个导流凹槽4相互连通,如此设置,在播种洒水时,洒在盘体1的正面上的水能够在导流凹槽4的导流作用下大部分滑落至钵体2中,有效缓解水滞留在盘体1的正面的情况。
在本实施方式中,具体地,导流凹槽4的槽口朝向盘体1的正面侧,且导流凹槽4的两端分别与相邻的两个钵体2连通。
在本实施方式中,具体地,导流凹槽4可形成于盘体1的正面,并可设置为自中心位置至两端逐渐向盘体1的背面倾斜,如此设置,在实际应用时,可使得落入导流凹槽4内的水能够沿着导流凹槽4在自身的重力作用下分别流向相邻的两个钵体2,有效避免水滞留在导流凹槽4内的情况。
在一种实施方式中,盘体1呈矩形状,矩阵的行方向X与盘体1的长度方向一致,矩阵的列方向Y与盘体1的宽度方向一致,如此设置,使得盘体1能够设置较多的钵体2。
以上仅为本实用新型的较佳实施方式而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
另外需要说明的是,在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征,在不矛盾的情况下,可以通过任何合适的方式进行组合,为了避免不必要的重复,本实用新型对各种可能的组合方式不再另行说明。
此外,本实用新型的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合,只要其不违背本实用新型的思想,其同样应当视为本实用新型所公开的内容。

Claims (12)

1.一种抛秧盘,其特征在于,所述抛秧盘包括:
盘体(1);和
多个钵体(2),多个所述钵体(2)设置于所述盘体(1)上,并呈矩阵排列,所述钵体(2)的开口朝向所述盘体(1)的正面侧,且所述钵体(2)的底部开设有多个间隔布置的通孔(21),所述通孔(21)的直径均为0.5-2.0mm。
2.根据权利要求1所述的抛秧盘,其特征在于,多个所述通孔(21)包括第一通孔和多个第二通孔,所述第一通孔位于所述钵体(2)的底部的中心位置,多个所述第二通孔环绕所述第一通孔间隔布置。
3.根据权利要求2所述的抛秧盘,其特征在于,多个所述第二通孔环绕所述第一通孔均匀分布。
4.根据权利要求1所述的抛秧盘,其特征在于,在所述矩阵的行方向(X)上,多个所述钵体(2)均匀分布。
5.根据权利要求1所述的抛秧盘,其特征在于,在所述矩阵的列方向(Y)上,多个所述钵体(2)均匀分布。
6.根据权利要求1所述的抛秧盘,其特征在于,所述抛秧盘还包括凸设于所述盘体(1)的正面的多个导流凸台(3),在所述矩阵的行方向(X)上,相邻的两个所述钵体(2)之间的间隙均设置有一个所述导流凸台(3)。
7.根据权利要求6所述的抛秧盘,其特征在于,所述导流凸台(3)包括主体部和两个端部,所述主体部位于所述间隙内,两个所述端部从所述主体部延伸至所述间隙的两端。
8.根据权利要求7所述的抛秧盘,其特征在于,所述导流凸台(3)的两个端部在所述矩阵的行方向(X)上的宽度沿各自的延伸方向逐渐增大。
9.根据权利要求6所述的抛秧盘,其特征在于,所述导流凸台(3)设置为从中心位置至边缘位置逐渐朝所述盘体(1)的正面倾斜。
10.根据权利要求1所述的抛秧盘,其特征在于,所述抛秧盘还包括设置于所述盘体(1)的正面的多个导流凹槽(4),在所述矩阵的列方向(Y)上,相邻的两个所述钵体(2)之间均通过一个所述导流凹槽(4)相互连通。
11.根据权利要求10所述的抛秧盘,其特征在于,所述导流凹槽(4)的两端分别与相邻的两个所述钵体(2)连通,所述导流凹槽(4)设置为自中心位置至两端逐渐向所述盘体(1)的背面倾斜。
12.根据权利要求1所述的抛秧盘,其特征在于,所述盘体(1)呈矩形状,所述矩阵的行方向(X)与所述盘体(1)的长度方向一致,所述矩阵的列方向(Y)与所述盘体(1)的宽度方向一致。
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