CN220685164U - 一种细胞培养基用易于清理的水浴锅 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种细胞培养基用易于清理的水浴锅，涉及水浴锅技术领域，包括水浴锅操作台，所述水浴锅操作台的顶端靠近正面等距开设有若干个水浴槽，所述水浴锅操作台的右侧设置有控制台，所述水浴锅操作台的顶端靠近正面且远离控制台处设置有收纳槽，所述水浴锅操作台的顶端靠近背面与若干个所述水浴槽和收纳槽相对应设置有辅助清洗机构；所述辅助清洗机构包括沿着水浴锅操作台顶端长度方向设置的直线导轨，所述直线导轨的内部设置有电动滑块，所述电动滑块的顶端安装有倒L支撑架，所述倒L支撑架的顶端安装有输出端朝向底部的电动推杆，与现有的水浴锅相比较，本实用新型通过设计提升了水浴锅的清理整体便捷性以及实用性。

Description

一种细胞培养基用易于清理的水浴锅

技术领域

本实用新型涉及水浴锅技术领域，尤其涉及一种细胞培养基用易于清理的水浴锅。

背景技术

水浴锅的作用是提供一个恒定的温度环境，以满足细胞培养或实验需要。通过控制水浴锅的加热系统，我们可以精确地调节并维持所需的温度，这样可以确保细胞在一个稳定的条件下进行培养，以获得可靠的实验结果；

对水浴锅进行清洗的原因是为了保持实验环境的洁净和细胞培养的质量，由于在实验过程中，有可能发生水浸润或污染现象，例如，当我们打开水浴锅盖子时，水蒸汽和气体可能会带入其中，导致水浴锅内部蒸汽凝结在壁上或其他表面上。这些凝结的水滴可能会带有微生物、灰尘或其他污染物质，从而可能影响到后续的细胞培养实验，此外，水浴槽内的水也会因为长时间使用而存在污垢、残留试剂或其他附着物。这些污垢可能对细胞培养产生负面影响，例如影响细胞生长、引发细菌感染或影响实验结果的准确性。

现有技术中水浴锅一般集成多个水浴槽，同时进行使用或间隔进行实验操作，在完成实验后，一般采用拆卸的方式进行清洗，由于采用的不锈钢等材质，但是这种类型的虽然具有保证洁净的清洗效果的同时，其清洁方式不够不便捷，且该类型的水浴槽搭配的加热系统没有一体式的好，但是使用一体固定类型的水浴锅，其内部一般配套排水结构，并进行人工刷洗，但是这种类型的水浴锅对于实验温度环境单一的实验流程比较虽然较为精准，但是对于多组实验同时进行或连续进行时，清理就较为麻烦，影响实验进度，因此，我们提出一种细胞培养基用易于清理的水浴锅。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，水浴锅一般集成多个水浴槽，同时进行使用或间隔进行实验操作，在完成实验后，一般采用拆卸的方式进行清洗，由于采用的不锈钢等材质，但是这种类型的虽然具有保证洁净的清洗效果的同时，其清洁方式不够不便捷，且该类型的水浴槽搭配的加热系统没有一体式的好，但是使用一体固定类型的水浴锅，其内部一般配套排水结构，并进行人工刷洗，但是这种类型的水浴锅对于实验温度环境单一的实验流程比较虽然较为精准，但是对于多组实验同时进行或连续进行时，清理就较为麻烦，影响实验进度。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种细胞培养基用易于清理的水浴锅，包括水浴锅操作台，所述水浴锅操作台的顶端靠近正面等距开设有若干个水浴槽，所述水浴锅操作台的右侧设置有控制台，所述水浴锅操作台的顶端靠近正面且远离控制台处设置有收纳槽，所述水浴锅操作台的顶端靠近背面与若干个所述水浴槽和收纳槽相对应设置有辅助清洗机构；

所述辅助清洗机构包括沿着水浴锅操作台顶端长度方向设置的直线导轨，所述直线导轨的内部设置有电动滑块，所述电动滑块的顶端安装有倒L支撑架，所述倒L支撑架的顶端安装有输出端朝向底部的电动推杆，所述电动推杆的输出端安装有输出端朝向底部的电机，所述电机的输出端安装有清洁刷，所述电机其本体的外侧安装有盖板。

作为本实用新型优选的方案，所述水浴锅操作台的正面设置有排水架，所述排水架与若干个所述水浴槽之间均设置有排水管道，所述排水架与排水管道之间且位于水浴锅操作台的正面均设置有排水阀门，所述排水架与外部污水排水管相连通。

采用上述进一步方案的技术效果是：通过排水管道和排水阀门的打开后，将实验或清理过程中的水通过排水导出至外部污水排水管。

作为本实用新型优选的方案，所述水浴槽的配套安装有加热系统，所述水浴槽的底面为半漏斗式结构且朝向排水架。

采用上述进一步方案的技术效果是：通过水浴槽的底面为半漏斗式结构且朝向排水架，使废水更快的排出。

作为本实用新型优选的方案，所述水浴槽的背面靠近顶端处与若干个所述水浴槽之间均设置有注水管道，所述水浴槽的内部顶端与注水管道相连通有注水口，所述注水管道和注水口之间且位于水浴锅操作台内部设置有电控阀。

采用上述进一步方案的技术效果是：通过电控阀的开关后，通过注水管道供水，并通过注水口注入至水浴槽内，从而为实验或清理过程中用水进行供给。

作为本实用新型优选的方案，所述电动滑块与直线导轨滑动连接。

采用上述进一步方案的技术效果是：通过电动滑块与直线导轨滑动，从而带动辅助清洗机构进行位移，从而对多个水浴槽轮流进行清理。

作为本实用新型优选的方案，所述电机的外部配套罩体，所述盖板尺寸大于水浴槽和收纳槽槽口尺寸。

采用上述进一步方案的技术效果是：通过盖板尺寸大于水浴槽和收纳槽槽口尺寸，在进行清洗的过程中，电动推杆下降带动盖板与对水浴槽和收纳槽槽口进行封闭，从而防止水花溅射出，影响台面洁净度。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

本实用新型中，通过辅助清洗机构,在实验结束后，需要对水浴槽进行清理时，通过电动滑块与直线导轨滑动，从而带动辅助清洗机构进行位移，从而对多个水浴槽或对应水浴槽进行清理，在移动至水浴槽上方时，电动推杆下降带动盖板与对水浴槽和收纳槽槽口进行封闭，从而防止水花溅射出，而电机进行运作，带动清洁刷对水浴槽内进行清理，从而快速的将内部进行清洁。

其次，在清理的过程中，电控阀和排水阀门的打开闭合，辅助清理工作的进行，使清理更加洁净便捷，不需要人为加水。

结合上述效果，本实用新型提升了水浴锅的清理便捷性。

附图说明

图1为本实用新型提供的一种细胞培养基用易于清理的水浴锅的整体结构示意图；

图2为本实用新型提供的一种细胞培养基用易于清理的水浴锅的电动推杆结构示意图；

图3为本实用新型提供的一种细胞培养基用易于清理的水浴锅的水浴锅操作台部分俯视结构解剖图。

图例说明：1、水浴锅操作台；11、排水架；12、排水管道；13、排水阀门；14、注水管道；15、注水口；16、电控阀；2、水浴槽；3、控制台；4、收纳槽；5、辅助清洗机构；51、直线导轨；52、电动滑块；53、倒L支撑架；54、电动推杆；55、电机；56、清洁刷；57、盖板。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例,基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

为了便于理解本实用新型，下面将参照相关对本实用新型进行更全面的描述,给出了本实用新型的若干实施例,但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例,相反地，提供这些实施例的目的是使对本实用新型的公开内容更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“固设于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件,当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件,本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同,本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型,本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

实施例1

如图1-3所示，本实用新型提供一种技术方案：一种细胞培养基用易于清理的水浴锅，包括水浴锅操作台1，水浴锅操作台1的顶端靠近正面等距开设有若干个水浴槽2，水浴锅操作台1的右侧设置有控制台3，控制台3用以控制整体装置运作，水浴锅操作台1的顶端靠近正面且远离控制台3处设置有收纳槽4，收纳槽4用以清洁刷的收纳，水浴锅操作台1的顶端靠近背面与若干个水浴槽2和收纳槽4相对应设置有辅助清洗机构5；辅助清洗机构5包括沿着水浴锅操作台1顶端长度方向设置的直线导轨51，直线导轨51的内部设置有电动滑块52，电动滑块52的顶端安装有倒L支撑架53，倒L支撑架53的顶端安装有输出端朝向底部的电动推杆54，电动推杆54的输出端安装有输出端朝向底部的电机55，电机55的输出端安装有清洁刷56，清洁刷56为可拆卸更换，电机55其本体的外侧安装有盖板57。

实施例2

如图1-3所示，水浴锅操作台1的正面设置有排水架11，排水架11与若干个水浴槽2之间均设置有排水管道12，排水架11与排水管道12之间且位于水浴锅操作台1的正面均设置有排水阀门13，排水架11与外部污水排水管相连通，水浴槽2的配套安装有加热系统，有加热系统，可以提供恒定的热源，根据使用情况选择电热管或热板等，水浴槽2的底面为半漏斗式结构且朝向排水架11，水浴槽2的背面靠近顶端处与若干个水浴槽2之间均设置有注水管道14，水浴槽2的内部顶端与注水管道14相连通有注水口15，注水管道14和注水口15之间且位于水浴锅操作台1内部设置有电控阀16，电控阀16的开关后，通过注水管道14供水，并通过注水口15注入至水浴槽2内，电动滑块52与直线导轨51滑动连接，电机55的外部配套罩体，盖板57尺寸大于水浴槽2和收纳槽4槽口尺寸。

本实用新型工作流程：在使用一种细胞培养基用易于清理的水浴锅对完成实验需要进行清洁的水浴槽2进行清洁时，通过控制台3控制电动滑块52在直线导轨51内位移，从而带动辅助清洗机构5进行位移，在移动至水浴槽2或收纳槽4上方时，电动推杆54下降带动盖板57与对水浴槽2和收纳槽4槽口进行封闭，从而防止水花溅射出，在水浴槽2内时，接着电机55进行运作，带动清洁刷56对水浴槽2内进行刷洗，在刷洗的过程中，对应的电控阀16打开对水浴槽2内进行注水，在刷洗一会后，打开排水阀门13，将污水排出，接着通过一端进水一端排水并不断刷洗的方式进行清理，在达到设定时间后，完成清洗，接着排水阀门13关闭，电机55带动清洁刷56旋转的过程中讲水花甩出，从而避免有水渍在后续进行位移的过程中滴落，从而辅助清洗机构5移动至下个水浴槽2内，以此类推，进行多个水浴槽2的清理，与现有的水浴锅相比较，本实用新型通过设计提升了水浴锅的清理整体便捷性以及实用性。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (6)

1.一种细胞培养基用易于清理的水浴锅，包括水浴锅操作台(1)，其特征在于：所述水浴锅操作台(1)的顶端靠近正面等距开设有若干个水浴槽(2)，所述水浴锅操作台(1)的右侧设置有控制台(3)，所述水浴锅操作台(1)的顶端靠近正面且远离控制台(3)处设置有收纳槽(4)，所述水浴锅操作台(1)的顶端靠近背面与若干个所述水浴槽(2)和收纳槽(4)相对应设置有辅助清洗机构(5)；

所述辅助清洗机构(5)包括沿着水浴锅操作台(1)顶端长度方向设置的直线导轨(51)，所述直线导轨(51)的内部设置有电动滑块(52)，所述电动滑块(52)的顶端安装有倒L支撑架(53)，所述倒L支撑架(53)的顶端安装有输出端朝向底部的电动推杆(54)，所述电动推杆(54)的输出端安装有输出端朝向底部的电机(55)，所述电机(55)的输出端安装有清洁刷(56)，所述电机(55)其本体的外侧安装有盖板(57)。

2.根据权利要求1所述的一种细胞培养基用易于清理的水浴锅，其特征在于：所述水浴锅操作台(1)的正面设置有排水架(11)，所述排水架(11)与若干个所述水浴槽(2)之间均设置有排水管道(12)，所述排水架(11)与排水管道(12)之间且位于水浴锅操作台(1)的正面均设置有排水阀门(13)，所述排水架(11)与外部污水排水管相连通。

3.根据权利要求1或2所述的一种细胞培养基用易于清理的水浴锅，其特征在于：所述水浴槽(2)的配套安装有加热系统，所述水浴槽(2)的底面为半漏斗式结构且朝向排水架(11)。

4.根据权利要求1所述的一种细胞培养基用易于清理的水浴锅，其特征在于：所述水浴槽(2)的背面靠近顶端处与若干个所述水浴槽(2)之间均设置有注水管道(14)，所述水浴槽(2)的内部顶端与注水管道(14)相连通有注水口(15)，所述注水管道(14)和注水口(15)之间且位于水浴锅操作台(1)内部设置有电控阀(16)。

5.根据权利要求1所述的一种细胞培养基用易于清理的水浴锅，其特征在于：所述电动滑块(52)与直线导轨(51)滑动连接。

6.根据权利要求1所述的一种细胞培养基用易于清理的水浴锅，其特征在于：所述电机(55)的外部配套罩体，所述盖板(57)尺寸大于水浴槽(2)和收纳槽(4)槽口尺寸。