CN220525679U - 一种检测设备以及检焦装置 - Google Patents

Abstract

一种检测设备以及检焦装置，检测设备包括运动装置、检焦装置和成像装置；运动装置具有移动平台，移动平台用于承载待测件并带动待测件沿预设运动方向进行移动；检焦装置包括检焦模块以及调节模块；检焦模块被配置为向待测件投影检焦图案；调节模块被配置为设定检焦模块产生的检焦图案的投影角度，以使得检焦图案中投影特征的预设延伸方向与移动平台的预设运动方向之间具有倾斜关系；成像装置包括探测器和光学镜组，探测器用于通过光学镜组对待测件进行取像以得到检测图像；检测图像包括投影特征对应的第一成像特征，第一成像特征被用于确定光学镜组和待测件的距离。本申请可以提高检测设备的检测精度。

Description

一种检测设备以及检焦装置

技术领域

本发明涉及检测技术领域，具体涉及一种检测设备以及检焦装置。

背景技术

随着半导体晶圆检测设备检测精度要求的提高，物镜的放大倍率不断增大、景深逐渐减小，物镜和晶圆之间距离变化造成的影响变得不可忽视。为了使晶圆保持在正确的工作距离上，需要采用自动对焦设备实时迅速、精确对物镜和晶圆之间的距离变化进行测量。检焦装置(如自动聚焦设备)采用的原理是通过投射检焦图案到晶圆上，通过测量检焦图案信息的变化，来实时监测焦面位置。由于晶圆上的大部分几何形状与扫描轴平行或垂直，检焦图案可能会受到晶圆上图案平行或垂直几何形状的影响，降低测量精度。

不仅是晶圆具有上述问题，在例如显示面板等具有阵列的显示单元，同样具有相同的问题，因此，待测件(如晶圆、显示面板等)上的加工图案(结构线、晶圆图案、切割槽、显示阵列等)都会干扰自动聚焦设备的测量精度。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是现有的检测设备采用检焦装置进行测量，待测件上的加工图案干扰检测设备的聚焦参数测量。

根据第一方面，一种实施例中提供一种检测设备，包括运动装置、检焦装置和成像装置；

运动装置具有移动平台，移动平台用于承载待测件并带动待测件沿预设运动方向进行移动；

检焦装置包括检焦模块以及调节模块；检焦模块安装在调节模块上，被配置为向待测件投影检焦图案，检焦图案用于在待测件表面形成沿预设延伸方向分布的投影特征；

调节模块被配置为设定检焦模块产生的检焦图案的投影角度，以使得检焦图案中投影特征的预设延伸方向与移动平台的预设运动方向之间具有倾斜关系；

成像装置包括探测器和光学镜组，探测器用于通过光学镜组对待测件进行取像以得到检测图像；检测图像包括投影特征对应的第一成像特征，第一成像特征被用于确定光学镜组和待测件的距离。

一种实施例中，待测件用于被加工产生标识特征，标识特征在待测件的表面沿特定加工方向分布，检测图像包括标识特征对应的第二成像特征；移动平台被配置为以预设运动方向与标识特征的特定加工方向一致的角度承载待测件，使得检测图像中第一成像特征的分布方向与第二成像特征的分布方向之间形成锐角。

一种实施例中，检焦图案中投影特征的预设延伸方向与移动平台的预设运动方向之间形成夹角，夹角被设置为大于0°且小于45°。

一种实施例中，检焦模块包括光源和光栅，光源用于向光栅发射光束，透过光栅的光束被传输至待测件的表面；检焦图案为光栅被投影产生的像。

一种实施例中，调节模块还被配置为调整检焦模块的光束指向，使得光束的光轴与光学镜组的光轴对准。

根据第二方面，一种实施例中提供一种检焦装置，包括检焦模块以及调节模块；

检焦模块安装在调节模块上，通过调节模块与预设载体连接；

检焦模块被配置为向待测件投影检焦图案；检焦图案用于在待测件表面形成沿预设延伸方向分布的投影特征；

调节模块被配置为设定检焦模块产生的检焦图案的投影角度，使得检焦图案中投影特征的预设延伸方向与待测件被扫描时的移动方向之间具有倾斜关系。

一种实施例中，调节模块具有第一安装面与第二安装面，第一安装面被配置为安装检焦模块；第二安装面被配置将调节模块与预设载体连接。

一种实施例中，调节模块包括模块主体，模块主体包括：第一安装板、第二安装板与倾斜侧板；

倾斜侧板具有倾斜部与固定部，第一安装板安装在倾斜部上，第二安装板安装在固定部上，以使得第一安装板相对于第二安装板倾斜；

第一安装板具有第一安装面，第二安装板具有第二安装面。

一种实施例中，调节模块还被配置为调整检焦模块的光束指向，使得光束的光轴与成像装置的光学镜组的光轴对准。

一种实施例中，调节模块包括活动组件，活动组件活动设置在第二安装面上，调节模块通过活动组件与预设载体连接；

活动组件被配置为调整第一安装面的空间姿态，以使得检焦模块的光轴与系统光轴对准。

一种实施例中，活动组件包括第一活动块与第二活动块，第一活动块与第二活动块沿检焦模块的光轴方向前后设置；

调节模块在第二安装面上具有第一调节部与第二调节部，第一活动块活动设置在第一调节部上，第二活动块活动设置在第二调节部上；

第一调节部被配置为调节第一活动块在第二安装面上的位置；第二调节部被配置为调节第二活动块在第二安装面上的位置。

依据上述实施例的检测设备以及检焦装置，通过调节模块安装检焦模块，以使得检焦模块产生的检焦图案的投影特征与待测件对应的预设运动方向之间具有倾斜关系，检焦图案的投影特征不会受到待测件表面加工图案的干扰，成像装置可以根据检焦图案精确计算光学镜组和所述待测件的距离，为后续自动聚焦提供精确数据，提高检测效果。

附图说明

图1为本申请一种实施例提供的待测件与检焦图案的示意图(一)；

图2为本申请一种实施例提供的检测设备的结构示意图(一)；

图3为本申请一种实施例提供的待测件与检焦图案的示意图(二)；

图4为本申请一种实施例提供的检测设备的结构示意图(二)；

图5为本申请一种实施例提供的检焦装置的结构示意图；

图6为本申请一种实施例提供的检焦装置的安装示意图；

图7为本申请一种实施例提供的调节模块的结构示意图(一)；

图8为本申请一种实施例提供的调节模块的结构示意图(二)；

图9为本申请一种实施例提供的活动组件的结构示意图(一)；

图10为本申请一种实施例提供的活动组件的结构示意图(二)。

附图标记：100-运动装置；110-移动平台；200-检焦装置；210-检焦模块；211-检焦图案；212-光源；213-投影光栅；220-调节模块；20-模块主体；21-第一安装板；22-第二安装板；23-倾斜侧板；30-活动组件；31-第一活动块；32-第二活动块；300-成像装置；310-探测器；320-光学镜组；321-光栅像位；400-待测件；401-标识特征。

具体实施方式

下面通过具体实施方式结合附图对本发明作进一步详细说明。其中不同实施方式中类似元件采用了相关联的类似的元件标号。在以下的实施方式中，很多细节描述是为了使得本申请能被更好的理解。然而，本领域技术人员可以毫不费力的认识到，其中部分特征在不同情况下是可以省略的，或者可以由其他元件、材料、方法所替代。在某些情况下，本申请相关的一些操作并没有在说明书中显示或者描述，这是为了避免本申请的核心部分被过多的描述所淹没，而对于本领域技术人员而言，详细描述这些相关操作并不是必要的，他们根据说明书中的描述以及本领域的一般技术知识即可完整了解相关操作。

另外，说明书中所描述的特点、操作或者特征可以以任意适当的方式结合形成各种实施方式。同时，方法描述中的各步骤或者动作也可以按照本领域技术人员所能显而易见的方式进行顺序调换或调整。因此，说明书和附图中的各种顺序只是为了清楚描述某一个实施例，并不意味着是必须的顺序，除非另有说明其中某个顺序是必须遵循的。

本文中为部件所编序号本身，例如“第一”、“第二”等，仅用于区分所描述的对象，不具有任何顺序或技术含义。而本申请所说“连接”、“联接”，如无特别说明，均包括直接和间接连接(联接)。

在本申请中，如图1所示，待测件400的表面沿特定加工方向上分布有标识特征401。例如，以晶圆为例，晶圆根据其晶向会在边缘加工有定位槽(V槽或切槽)，定位槽标识后续晶圆进行加工时晶圆的方向，例如是如图1中的(A)所示的切割槽，定位槽位于图示中的正上方，切割槽的加工方向为平行或垂直定位槽的朝向。

同样的，晶圆上的每个芯片的加工方向也与定位槽关联，因此，芯片图案、切割槽等具有特定加工方向的加工图案，都可以称为待测件400的标识特征401。

此外，待测件400还可以是为显示面板等平面产品，以显示面板为例，显示面板需要在特定加工方向，此时，显示面板的特定加工方向为其长宽方向，显示单元为对应待测件400的标识特征401。

现有的检测设备，通过图像探测器采集待测件400的表面的检测图像，进行缺陷检测，不同的待测件400存在高度差，或者同一个待测件400的中间区域与边缘区域存在高度差，图像探测器需要高精度的对焦才能保证检测图像的质量，此时，如何测量光学镜组与待测件400表面的距离，成为影响检测设备检测精度的一项重要因素。

自动聚焦技术，通过检焦图案来计算与待测件400的距离，从而为自动聚焦提供调节参数，通过调节待测件400与光学镜组之间的距离，实现图像探测器的自动聚焦。

如图1中的(B)所示，现有的检焦图案211具有预设延伸方向，例如是图示中的上下方向。目前，如图1中的(C)所示，检焦图案投影在待测件400的表面时，检焦图案的延伸方向与待测件400上标识特征401的加工方向是基本平行，也就是角度一致。此时，待测件400的标识特征401会对检焦图案211造成干扰，导致根据检焦图案计算出光学镜组与待测件400表面的距离存在偏差。

如图2所示，本申请实施例提供一种检测设备，可以包括运动装置100、检焦装置200和成像装置300。

运动装置100具有移动平台110，移动平台110用于承载待测件400并带动待测件400沿预设运动方向进行移动；例如，移动平台110可以通过高精度的导轨组合进行XY轴二维方向的运动，例如是对应图1中的(A)的上下左右方向，可以将待测件400的任一区域运动至成像装置300的成像区域中。当待测件400被承载在移动平台110上时，待测件400的标识特征401的特定加工方向与预设运动方向角度一致。

检焦装置200可以包括检焦模块210以及调节模块220；检焦模块210安装在调节模块220上，被配置为向待测件400投影检焦图案211，如图1所示，检焦图案211用于在待测件400表面形成沿预设延伸方向分布的投影特征。

调节模块220被配置为设定检焦模块210产生的检焦图案211的投影角度，以使得检焦图案211中投影特征的预设延伸方向与移动平台110的预设运动方向之间具有倾斜关系。

例如，检测设备具有预设载体(如检测设备机架上的安装部位)，预设载体用于安装检焦装置200，当检焦模块210直接安装到预设载体上时，检焦模块210的检焦图案211与待测件400表面的标识特征401的角度关系可以如图1中的(C)所示。

在本申请实施例中，检焦模块210通过调节模块220安装到预设载体上，预设载体可以是光机背板或支架之类的部件，调节模块220可以使得检焦图案211发生倾斜或旋转，例如，如图1中的(C)与图3所示，调节模块220可以使得检焦图案211发生转动，以使得检焦图案211中投影特征的预设延伸方向与移动平台110的预设运动方向之间具有倾斜关系，也就是说，如图3中，预设延伸方向与待测件400上标识特征401的特定加工方向具有夹角。

成像装置300可以包括探测器310和光学镜组320，探测器310用于通过光学镜组320对待测件400进行取像以得到检测图像；检测图像可以包括检焦图案211的投影特征对应的第一成像特征，第一成像特征被用于确定光学镜组320和待测件400的距离。

例如，检焦模块210与待测件400之间的距离发生变化的时候，检焦模块210投影的检焦图案211的投影特征(如图3中的阴影部分)会发生尺寸变化或者对应的光学信息发生变化，通过成像装置300采集的检测图像，可以根据投影特征的变化来计算得到待测件400与检焦模块210的距离。再基于检焦模块210与光学镜组320的相对位置关系，可以计算得到光学镜组320与待测件400的距离，再根据这个距离，成像装置300还可以通过位移执行器等运动机构，来驱动光学镜组320中的物镜等光学组件的运动或者是光学镜组320整体运动，实现聚焦调节的功能。

一种实施例中，待测件400用于被加工产生标识特征401，标识特征401在待测件400的表面沿特定加工方向分布，检测图像可以包括标识特征401对应的第二成像特征；移动平台110被配置为以预设运动方向与标识特征401的特定加工方向一致的角度承载待测件400，使得检测图像中第一成像特征的分布方向与第二成像特征的分布方向之间形成锐角。

例如，如图1中的(A)所示，以待测件400为晶圆为例说明，晶圆表面具有纵横分布的切割道，切割道分布的加工方向对应定位槽的方向。当晶圆放置在移动平台110上时，可以通过检测晶圆放置角度和转动晶圆的方式，确保运动平台的运动方向与切割道的加工方向一致。如图3所示，此时检测图像中，晶圆上的切割道的分布方向与检焦图案211上的投影特征的分布方向之间形成了锐角。由此，检测图像中可以清楚识别出投影特征对应的第一成像特征，以此进行自动聚焦的计算。

一种实施例中，检焦图案211中投影特征的预设延伸方向与移动平台110的预设运动方向之间形成夹角，夹角被设置为大于0°且小于45°。

例如，投影特征的预设延伸方向与移动平台110的预设运动方向所成的夹角可以是40°、25°、22°、20°等，优选地，检焦图案211与运动方向所成的夹角为22.5°。在晶圆的加工图案中，也存在一些加工图案的加工方向呈45°夹角(以图1中的(A)为参考)，因此，采用22.5°最能区分开投影特征与标识特征。

一种实施例中，如图4所示，检焦模块210可以包括光源212和光栅(可以定义为投影光栅213)，光源212用于向光栅发射光束，透过光栅的光束被传输至待测件400的表面；检焦图案211为光栅被投影产生的像。

例如，检焦模块210中的光栅可以定义为投影光栅213；而成像装置300中的光学镜组320也可以包括一个光栅像位321，该光栅定义为光栅像位321。将投影光栅213投影至待测件400表面，出射光路通过对待测件表面的光栅图像进行成像至光栅像位321处。

待测件400表面处于不同高度时，投影光栅213在光栅像位321处的像的位置不同。为了提高检测精度，投影光栅213在光栅像位321处的像的刻线方向(对应预设延伸方向)与像的移动方向垂直，且投影光栅213的刻线方向与像的刻线方向相同，也即入射面方向与投影光栅213的像的刻线方向垂直。为了保证刻线方向与移动平台110的预设运动方向具有非零夹角，需要使入射面与扫描方向具有锐角夹角。

一种实施例中，调节模块220还被配置为调整检焦模块210的光束指向，使得光束的光轴与光学镜组320的光轴对准。

例如，由于机械加工与安装都存在精度误差，检焦模块210的光束的光轴与光学镜组320的光轴不一定对准，本申请实施例提供检测设备可以通过调节模块220上的活动组件30进行调节，保证光学系统上的对准精度，使得检焦图案211尽量无畸变投影到待测件400表面上，在光学镜组320中成像，提高测量精度。

上面为检测设备的相关描述，下面针对检焦装置200进行进一步说明。

如图5所示，本申请实施例还提供一种检焦装置200，可以包括检焦模块210以及调节模块220。

如图6中的(B)所示，检焦模块210安装在调节模块220上，通过调节模块220与预设载体连接。预设载体可以是光机背板或支架之类的部件。

检焦模块210被配置为向待测件400投影检焦图案211；检焦图案211用于在待测件400表面形成沿预设延伸方向分布的投影特征。

调节模块220被配置为设定检焦模块210产生的检焦图案211的投影角度，使得检焦图案211中投影特征的预设延伸方向与待测件400被扫描时的移动方向之间具有倾斜关系。

如图6中的(A)所示，若直接将检焦模块210安装到预设载体上，如图1中的(C)所示，其投影的投影特征的预设延伸方向与待测件400被扫描时的运动方向角度一致，对应投影在待测件400上时，与待测件400上的标识特征401的特定加工方向角度一致。如图6中的(B)所示，本申请通过调节模块220将检焦模块210安装到预设载体上，如图3所示，其投影的投影特征的预设延伸方向与待测件400被扫描时的运动方向具有倾斜关系，对应投影在待测件400上时，与待测件400上的标识特征401的特定加工方向具有夹角。

一种实施例中，如图7所示，调节模块220具有第一安装面与第二安装面，第一安装面被配置为安装检焦模块210；第二安装面被配置将调节模块220与预设载体连接。其中，第一安装面与第二安装面的相对位置关系，可以根据实际检焦装置200与预设载体的位置进行调整。

一种实施例中，如图8所示，调节模块220可以包括模块主体20，模块主体20可以包括：第一安装板21、第二安装板22与倾斜侧板23。

倾斜侧板23具有倾斜部与固定部，倾斜部相对于固定部具有预设的倾斜关系。第一安装板21安装在倾斜部上，第二安装板22安装在固定部上，以使得第一安装板21相对于第二安装板22倾斜；第一安装板21具有第一安装面，第二安装板22具有第二安装面。

其中，如图8中的(A)与(B)所示，更换不同倾斜角度的倾斜侧板23可以调节第一安装板21与第二安装板22的空间位置关系，实现调节第一安装面与第二安装面的夹角的调整，最终可以调节检焦模块的光轴的倾斜角度。

一种实施例中，调节模块220还被配置为调整检焦模块210的光束指向，使得光束的光轴与成像装置300的光学镜组320的光轴对准。

例如，如图5与图9所示，调节模块220可以包括活动组件30，活动组件30活动设置在第二安装面上，调节模块220通过活动组件30与预设载体连接。

活动组件30被配置为调整第一安装面的空间姿态，以使得检焦模块210的光轴与系统光轴对准。其中，可以通过活动组件30实现检焦模块210的光轴在第一调节方向与第二调节方向的位移对准与倾斜对准。

例如，如图5与图9所示，活动组件30可以包括第一活动块31与第二活动块32，第一活动块31与第二活动块32沿检焦模块210的光轴方向前后设置。

调节模块220在第二安装面上具有第一调节部与第二调节部，第一活动块31活动设置在第一调节部上，第二活动块32活动设置在第二调节部上。

第一调节部被配置为调节第一活动块31在第二安装板22上的位置；第二调节部被配置为调节第二活动块32在第二安装板22上的位置。例如，第一调节部与第二调节部可以采用调节槽或多个安装孔的实现方式，通过螺栓等方式将第一活动块31与第二活动块32进行安装，同时，两个活动块上同样可以具有调节槽或多个安装孔，更加灵活的将活动块安装在第二安装面上需要的位置。

例如，如图9中的(A)所示，预设载体上具有对应第一活动块31与第二活动块32的安装位，如图9中的(B)与(C)所示，通过沿第一调节方向同时调节第一活动块31与第二活动块32相同距离，可以实现检焦模块210的光轴沿第一调节方向位移，例如是如图9中的(B)与(C)中的左右方向，实现检焦模块210的光轴与光学镜组320的光轴在第一调节方向的位移对准。

又例如，如图9中的(B)与(D)所示，通过沿第一调节方向调节第一活动块31与第二活动块32不相同的距离，可以使得检焦模块210的光轴沿第一调节方向倾斜，例如是如图9中的(B)与(C)中的左右方向，实现检焦模块210的光轴与光学镜组320的光轴在第一调节方向的倾斜对准。

还例如，如图10中的(A)与(B)所示，可以同时沿第二调节方向同时更换相同厚度的第一活动块31与第二活动块32，可以实现检焦模块210的光轴沿第二调节方向位移，例如是如图10中的(A)与(B)中的上下方向，实现检焦模块210的光轴与光学镜组320的光轴在第二调节方向的位移对准。

再例如，可以同时沿第二调节方向更换不同厚度的第一活动块31与第二活动块32，可以实现检焦模块210的光轴沿第二调节方向位移，例如是如图10中的(A)与(B)中的上下方向，实现检焦模块210的光轴与光学镜组320的光轴在第二调节方向的倾斜对准。

此外，还可以在第三调节方向上调节(如图9中的上下方向)，实现检焦模块210与待测件400之间距离的调整。

综上所述，本申请实施例通过调节模块220实现检焦图案211与移动平台110的运动方向发生倾斜，使在待测件400上的标识特征401与检焦图案211的投影特征构成一定角度，避免标识特征401对检焦图案211的投影特征产生干扰，确保自动聚焦的效果，提升检测精度。本申请的实施例并不限制检焦模块210的具体实现方式，可以提高检测设备面对不同几何形状的待测件400的适用性。

本申请提供的检焦装置200，采用可调节活动组件30实现检焦模块210的光轴与光学镜组320的光轴的精确对准。该调节方法具有调节结构占用体积小、调节方向灵活、对准精度高等特点，最终实现高精度的自动聚焦调节，提高检测精度。

本文参照了各种示范实施例进行说明。然而，本领域的技术人员将认识到，在不脱离本文范围的情况下，可以对示范性实施例做出改变和修正。例如，各种操作步骤以及用于执行操作步骤的组件，可以根据特定的应用或考虑与系统的操作相关联的任何数量的成本函数以不同的方式实现(例如一个或多个步骤可以被删除、修改或结合到其他步骤中)。

虽然在各种实施例中已经示出了本文的原理，但是许多特别适用于特定环境和操作要求的结构、布置、比例、元件、材料和部件的修改可以在不脱离本披露的原则和范围内使用。以上修改和其他改变或修正将被包含在本文的范围之内。

前述具体说明已参照各种实施例进行了描述。然而，本领域技术人员将认识到，可以在不脱离本披露的范围的情况下进行各种修正和改变。因此，对于本披露的考虑将是说明性的而非限制性的意义上的，并且所有这些修改都将被包含在其范围内。同样，有关于各种实施例的优点、其他优点和问题的解决方案已如上所述。然而，益处、优点、问题的解决方案以及任何能产生这些的要素，或使其变得更明确的解决方案都不应被解释为关键的、必需的或必要的。本文中所用的术语“包括”和其任何其他变体，皆属于非排他性包含，这样包括要素列表的过程、方法、文章或设备不仅包括这些要素，还包括未明确列出的或不属于该过程、方法、系统、文章或设备的其他要素。此外，本文中所使用的术语“耦合”和其任何其他变体都是指物理连接、电连接、磁连接、光连接、通信连接、功能连接和/或任何其他连接。

具有本领域技术的人将认识到，在不脱离本发明的基本原理的情况下，可以对上述实施例的细节进行许多改变。因此，本发明的范围应仅由权利要求确定。

Claims (11)

1.一种检测设备，其特征在于，包括运动装置(100)、检焦装置(200)和成像装置(300)；

所述运动装置(100)具有移动平台(110)，所述移动平台(110)用于承载待测件(400)并带动所述待测件(400)沿预设运动方向进行移动；

所述检焦装置(200)包括检焦模块(210)以及调节模块(220)；所述检焦模块(210)安装在所述调节模块(220)上，被配置为向所述待测件(400)投影检焦图案(211)，所述检焦图案(211)用于在所述待测件(400)表面形成沿预设延伸方向分布的投影特征；

所述调节模块(220)被配置为设定所述检焦模块(210)产生的所述检焦图案(211)的投影角度，以使得所述检焦图案(211)中投影特征的预设延伸方向与所述移动平台(110)的预设运动方向之间具有倾斜关系；

所述成像装置(300)包括探测器(310)和光学镜组(320)，所述探测器(310)用于通过所述光学镜组(320)对所述待测件(400)进行取像以得到检测图像；所述检测图像包括所述投影特征对应的第一成像特征，所述第一成像特征被用于确定所述光学镜组(320)和所述待测件(400)的距离。

2.如权利要求1所述的检测设备，其特征在于，所述待测件(400)用于被加工产生标识特征(401)，所述标识特征(401)在所述待测件(400)的表面沿特定加工方向分布，所述检测图像包括所述标识特征(401)对应的第二成像特征；所述移动平台(110)被配置为以所述预设运动方向与所述标识特征(401)的特定加工方向一致的角度承载所述待测件(400)，使得所述检测图像中所述第一成像特征的分布方向与所述第二成像特征的分布方向之间形成锐角。

3.如权利要求1所述的检测设备，其特征在于，所述检焦图案(211)中投影特征的预设延伸方向与所述移动平台(110)的预设运动方向之间形成夹角，所述夹角被设置为大于0°且小于45°。

4.如权利要求1所述的检测设备，其特征在于，所述检焦模块(210)包括光源(212)和光栅，所述光源(212)用于向所述光栅发射光束，透过所述光栅的光束被传输至所述待测件(400)的表面；所述检焦图案(211)为所述光栅被投影产生的像。

5.如权利要求4所述的检测设备，其特征在于，所述调节模块(220)还被配置为调整所述检焦模块(210)的光束指向，使得光束的光轴与所述光学镜组(320)的光轴对准。

6.一种检焦装置，其特征在于，包括检焦模块(210)以及调节模块(220)；

所述检焦模块(210)安装在所述调节模块(220)上，通过所述调节模块(220)与预设载体连接；

所述检焦模块(210)被配置为向待测件(400)投影检焦图案(211)；所述检焦图案(211)用于在所述待测件(400)表面形成沿预设延伸方向分布的投影特征；

所述调节模块(220)被配置为设定所述检焦模块(210)产生的检焦图案(211)的投影角度，使得所述检焦图案(211)中投影特征的预设延伸方向与所述待测件(400)被扫描时的移动方向之间具有倾斜关系。

7.如权利要求6所述的检焦装置，其特征在于，所述调节模块(220)具有第一安装面与第二安装面，所述第一安装面被配置为安装所述检焦模块(210)；所述第二安装面被配置将所述调节模块(220)与所述预设载体连接。

8.如权利要求7所述的检焦装置，其特征在于，所述调节模块(220)包括模块主体(20)，所述模块主体(20)包括：第一安装板(21)、第二安装板(22)与倾斜侧板(23)；

所述倾斜侧板(23)具有倾斜部与固定部，所述第一安装板(21)安装在所述倾斜部上，所述第二安装板(22)安装在所述固定部上，以使得所述第一安装板(21)相对于所述第二安装板(22)倾斜；

所述第一安装板(21)具有所述第一安装面，所述第二安装板(22)具有所述第二安装面。

9.如权利要求7所述的检焦装置，其特征在于，所述调节模块(220)还被配置为调整所述检焦模块(210)的光束指向，使得光束的光轴与成像装置(300)的光学镜组(320)的光轴对准。

10.如权利要求9所述的检焦装置，其特征在于，所述调节模块(220)包括活动组件(30)，所述活动组件(30)活动设置在所述第二安装面上，所述调节模块(220)通过所述活动组件(30)与预设载体连接；

所述活动组件(30)被配置为调整所述第一安装面的空间姿态，以使得所述检焦模块(210)的光轴与系统光轴对准。

11.如权利要求10所述的检焦装置，其特征在于，所述活动组件(30)包括第一活动块(31)与第二活动块(32)，所述第一活动块(31)与第二活动块(32)沿所述检焦模块(210)的光轴方向前后设置；

所述调节模块(220)在所述第二安装面上具有第一调节部与第二调节部，所述第一活动块(31)活动设置在所述第一调节部上，所述第二活动块(32)活动设置在所述第二调节部上；

所述第一调节部被配置为调节所述第一活动块(31)在所述第二安装面上的位置；所述第二调节部被配置为调节所述第二活动块(32)在所述第二安装面上的位置。