CN220497046U - 一种带收集废料的清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及半导体清洁技术领域，具体为一种带收集废料的清洗装置，所述工作箱内置工作空腔，所述工作空腔顶端右侧设置进料口，所述工作空腔底端右侧设置出料口，所述出料口内置出料控制阀，所述工作空腔内清洁装置，所述清洁装置用于对物料进行清洁，所述清洁装置包括环形筛网、清洁管、清洁杆以及驱动电机，所述工作空腔顶端设置清洁管，所述清洁管侧壁顶端设置第一环形齿条，所述清洁杆侧壁均布清洁杆，所述清洁杆侧壁均布第一清洁刷毛，通过清洁装置的设置，便于通过清洁管带动清洁杆进行转动，从而通过清洁杆表面的第一清洁刷毛对半导体进行清洁，同时配合超声波发生器对半导体进行彻底的清洁。

Description

一种带收集废料的清洗装置

技术领域

本实用新型涉及半导体清洁技术领域，具体为一种带收集废料的清洗装置。

背景技术

半导体材料(semiconductor material)是一类具有半导体性能(导电能力介于导体与绝缘体之间，电阻率约在1mΩ·cm～1GΩ·cm范围内)、可用来制作半导体器件和集成电路的电子材料。

在半导体加工过程中需要对半导体材料进行清洗，通常为了不损坏材料，采用超声波清洗，但是现有的半导体材料超声波清洗装置在使用时或多或少都存在使用不便。

如现有专利(CN214133069U)公开一种半导体材料加工用超声波清洗装置，包括机体、滑块和旋转杆，所述机体的顶部固定连接有固定杆，所述固定杆的内部设置有喷头，所述滑块的一端固定连接有过滤网，所述过滤网的顶部设置有引水槽，所述机体的顶部设置有移动箱，所述卡块的内部贯穿连接有转轴，所述旋转杆一端开口处连接有转轴。该半导体材料加工用超声波清洗装置，操作者通过将滑块在滑槽的内部进行移动，带动过滤网进行移动，接着通过滑块与滑槽的滑动连接，使得过滤网在固定块的内部进行移动，使得过滤网对装置产生的废水进行过滤，操作者通过滑块与滑槽的配合，带动过滤网进行移动，从而达到便于通过过滤网将废水进行过滤的目的。然而通过该装置对半导体材料进行清洗时，半导体材料放置在装置内部无法活动，只能被动地被清洗液和超声波冲洗，这就导致了半导体材料清洗较慢，而且清洗效率较差，同时半导体内容易混杂一些小体积的废料，在清洁过程中不便于对废料进行收集，大多都是在清洁过程中对废料也清洁丢弃，从而造成资源的浪费。

实用新型内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种带收集废料的清洗装置。

(二)技术方案

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种带收集废料的清洗装置，所述工作箱内置工作空腔，所述工作空腔顶端右侧设置进料口，所述工作空腔底端右侧设置出料口，所述出料口内置出料控制阀，所述工作空腔内清洁装置，所述清洁装置用于对物料进行清洁，所述清洁装置包括环形筛网、清洁管、清洁杆以及驱动电机，所述工作空腔顶端设置清洁管，所述清洁管侧壁顶端设置第一环形齿条，所述清洁杆侧壁均布清洁杆，所述清洁杆侧壁均布第一清洁刷毛，所述工作空腔左右两侧侧壁分别设置超声波发生器，所述工作空腔顶端位于清洁管左侧转动设置驱动齿轮，所述驱动齿轮与第一环形齿条相啮合，所述工作箱顶端设置驱动电机，所述驱动电机输出端与驱动齿轮连接，所述工作空腔底端左侧设置收集口，所述收集口顶端设置第二筛网，所述收集口底端设置收集控制阀，所述工作空腔顶端设置冲洗装置。

为了便于在半导体清洁过程中对半导体表面进行冲洗，同时通过喷头喷出的水流驱动半导体进行位置调节，从而提升对于半导体的清洁效果，本实用新型改进有，所述冲洗装置包括水泵以及喷头，所述清洁杆靠近清洁管一侧侧壁设置清洁槽，所述清洁槽与清洁管连通，所述清洁管侧壁设置喷头，所述喷头与清洁槽连通，所述工作箱顶端设置水泵，所述水泵输入端与工作空腔连通，所述水泵输出端与清洁管连通。

为了便于控制环形筛网进行转动，从而便于通过环形筛网表面的第二清洁刷毛对半导体进行进一步的清洁，本实用新型改进有，所述环形筛网内壁顶端设置第二环形齿条，所述工作空腔顶端位于驱动齿轮左侧设置辅助齿轮，所述辅助齿轮与第二环形齿条相啮合，所述工作箱顶端设置辅助电机，所述辅助电机输出端与辅助齿轮连接，所述环形筛网内壁均布第二清洁刷毛。

为了便于对工作空腔内清洁水进行更换，本实用新型改进有，所述工作空腔右侧侧壁底端设置排水管，所述排水管内设置排水控制阀。

为了便于提升工作箱在工作过程中的稳定性，本实用新型改进有，所述工作箱底端设置支撑腿。

为了便于将半导体通过进料口添加到工作空腔内进行清洁，本实用新型改进有，所述进料口设置为漏斗状。

(三)有益效果

与现有技术相比，本实用新型提供了一种带收集废料的清洗装置，具备以下有益效果：

该带收集废料的清洗装置，通过清洁装置的设置，便于通过清洁管带动清洁杆进行转动，从而通过清洁杆表面的第一清洁刷毛对半导体进行清洁，同时配合超声波发生器对半导体进行彻底的清洁。

通过冲洗装置的设置，便于在半导体清洁过程中对半导体表面进行冲洗，同时通过喷头喷出的水流驱动半导体进行位置调节，从而提升对于半导体的清洁效果。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型剖视结构示意图；

图3为本实用新型清洁装置处结构示意图；

图4为本实用新型清洁杆结构示意图。

图中：1、工作箱；2、进料口；3、出料口；4、环形筛网；5、清洁管；6、清洁杆；8、第一环形齿条；9、第一清洁刷毛；10、超声波发生器；11、驱动电机；12、驱动齿轮；13、第二筛网；14、水泵；15、喷头；16、第二环形齿条；17、辅助齿轮；18、辅助电机；19、排水管；20、支撑腿。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-4，一种带收集废料的清洗装置，所述工作箱1内置工作空腔，所述工作空腔顶端右侧设置进料口2，所述工作空腔底端右侧设置出料口3，所述出料口3内置出料控制阀，所述工作空腔内清洁装置，所述清洁装置用于对物料进行清洁，所述清洁装置包括环形筛网4、清洁管5、清洁杆6以及驱动电机11，所述工作空腔顶端设置清洁管5，所述清洁管5侧壁顶端设置第一环形齿条8，所述清洁杆6侧壁均布清洁杆6，所述清洁杆6侧壁均布第一清洁刷毛9，所述工作空腔左右两侧侧壁分别设置超声波发生器10，所述工作空腔顶端位于清洁管5左侧转动设置驱动齿轮12，所述驱动齿轮12与第一环形齿条8相啮合，所述工作箱1顶端设置驱动电机11，所述驱动电机11输出端与驱动齿轮12连接，所述工作空腔底端左侧设置收集口，所述收集口顶端设置第二筛网13，所述收集口底端设置收集控制阀，所述工作空腔顶端设置冲洗装置。在使用时，操作人员通过进料口2将半导体放置入工作空腔且位于环形筛网4内，之后操作人员通过进料口2向工作空腔内注入清洁水，之后操作人员控制超声波发生器10发射超声波对半导体进行清洁，同时操作人员控制驱动电机11工作，从而通过驱动齿轮12与第一环形齿条8的啮合带动清洁管5进行转动，进而带动清洁杆6绕清洁管5进行移动，从而便于推动半导体进行位置调节同时通过清洁杆6表面的第一清洁刷毛9对半导体表面进行刷洗，从而提升对于半导体的清洁效果，同时在清洁过程中，半导体内小体积的废料可以通过第二筛网13进入收集口，之后在清洁完成后打开收集控制阀对废料进行收集。

为了便于在半导体清洁过程中对半导体表面进行冲洗，本实施例中，所述冲洗装置包括水泵14以及喷头15，所述清洁杆6靠近清洁管5一侧侧壁设置清洁槽，所述清洁槽与清洁管5连通，所述清洁管5侧壁设置喷头15，所述喷头15与清洁槽连通，所述工作箱1顶端设置水泵14，所述水泵14输入端与工作空腔连通，所述水泵14输出端与清洁管5连通，在清洁过程中，操作人员控制水泵14工作，从而将清洁水通过喷头15向外进行喷出，从而便于在半导体清洁过程中对半导体表面进行冲洗，同时通过喷头15喷出的水流驱动半导体进行位置调节，从而提升对于半导体的清洁效果。

为了便于控制环形筛网4进行转动，从而便于通过环形筛网4表面的第二清洁刷毛对半导体进行进一步的清洁，本实施例中，所述环形筛网4内壁顶端设置第二环形齿条16，所述工作空腔顶端位于驱动齿轮12左侧设置辅助齿轮17，所述辅助齿轮17与第二环形齿条16相啮合，所述工作箱1顶端设置辅助电机18，所述辅助电机18输出端与辅助齿轮17连接，所述环形筛网4内壁均布第二清洁刷毛，操作人员控制辅助电机18工作，从而通过辅助齿轮17与第二环形齿条16的啮合带动环形筛网4进行转动，从而便于通过环形筛网4表面的第二清洁刷毛对半导体进行进一步的清洁。

在清洁完成后不便于对工作空腔内清洁水进行更换，为此，所述工作空腔右侧侧壁底端设置排水管19，所述排水管19内设置排水控制阀，便于对工作空腔内清洁水进行更换。

工作箱1在工作过程中容易发生晃动，为此，所述工作箱1底端设置支撑腿20，便于提升工作箱1在工作过程中的稳定性。

所述进料口2设置为漏斗状，便于将半导体通过进料口2添加到工作空腔内进行清洁。

在该文中的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接，可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在该文中的描述中，需要说明的是，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (6)

1.一种带收集废料的清洗装置，包括工作箱(1)，其特征在于：所述工作箱(1)内置工作空腔，所述工作空腔顶端右侧设置进料口(2)，所述工作空腔底端右侧设置出料口(3)，所述出料口(3)内置出料控制阀，所述工作空腔内清洁装置，所述清洁装置用于对物料进行清洁，所述清洁装置包括环形筛网(4)、清洁管(5)、清洁杆(6)以及驱动电机(11)，所述工作空腔顶端设置清洁管(5)，所述清洁管(5)侧壁顶端设置第一环形齿条(8)，所述清洁杆(6)侧壁均布清洁杆(6)，所述清洁杆(6)侧壁均布第一清洁刷毛(9)，所述工作空腔左右两侧侧壁分别设置超声波发生器(10)，所述工作空腔顶端位于清洁管(5)左侧转动设置驱动齿轮(12)，所述驱动齿轮(12)与第一环形齿条(8)相啮合，所述工作箱(1)顶端设置驱动电机(11)，所述驱动电机(11)输出端与驱动齿轮(12)连接，所述工作空腔底端左侧设置收集口，所述收集口顶端设置第二筛网(13)，所述收集口底端设置收集控制阀，所述工作空腔顶端设置冲洗装置。

2.根据权利要求1所述的一种带收集废料的清洗装置，其特征在于：所述冲洗装置包括水泵(14)以及喷头(15)，所述清洁杆(6)靠近清洁管(5)一侧侧壁设置清洁槽，所述清洁槽与清洁管(5)连通，所述清洁管(5)侧壁设置喷头(15)，所述喷头(15)与清洁槽连通，所述工作箱(1)顶端设置水泵(14)，所述水泵(14)输入端与工作空腔连通，所述水泵(14)输出端与清洁管(5)连通。

3.根据权利要求2所述的一种带收集废料的清洗装置，其特征在于：所述环形筛网(4)内壁顶端设有第二环形齿条(16)，所述工作空腔顶端位于驱动齿轮(12)左侧设置辅助齿轮(17)，所述辅助齿轮(17)与第二环形齿条(16)相啮合，所述工作箱(1)顶端设置辅助电机(18)，所述辅助电机(18)输出端与辅助齿轮(17)连接，所述环形筛网(4)内壁均布第二清洁刷毛。

4.根据权利要求3所述的一种带收集废料的清洗装置，其特征在于：所述工作空腔右侧侧壁底端设置排水管(19)，所述排水管(19)内设置排水控制阀。

5.根据权利要求4所述的一种带收集废料的清洗装置，其特征在于：所述工作箱(1)底端设置支撑腿(20)。

6.根据权利要求5所述的一种带收集废料的清洗装置，其特征在于：所述进料口(2)设置为漏斗状。