CN220422358U - 显示设备 - Google Patents

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郑承娟
姜慧智
金寿桢
李美禾
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Abstract

本申请涉及显示设备。显示设备包括：显示面板，包括第一像素区域和第二像素区域，第一像素区域发射第一光，第二像素区域发射第二光，第二光的光发射波长与第一光的光发射波长不同；传感器层，在显示面板上；以及光控制层，在传感器层上。显示面板包括：发光元件，在基础衬底上；以及封装层，在发光元件上。光控制层包括：高折射图案，与第一像素区域重叠，不与第二像素区域重叠，并且包括第一着色剂；以及外涂层，覆盖高折射图案并且与第一像素区域和第二像素区域重叠。高折射图案的折射率高于外涂层的折射率。

Description

显示设备
相关申请的交叉引用
本申请要求于2022年6月29日在韩国知识产权局(KIPO)提交的第10-2022-0080035号韩国专利申请的优先权和权益，所述韩国专利申请的全部内容通过引用并入本文中。
技术领域
本公开涉及具有改善的显示效率的显示设备。
背景技术
正在开发应用于诸如电视机、移动电话、平板计算机和游戏设备的多媒体设备的各种显示设备。显示设备包括多种光学功能层，以向用户提供具有优异质量的彩色图像。
近来，正在对薄显示设备进行研究，以实现各种类型的显示设备，诸如包括曲化表面的显示设备、可卷曲显示设备或可折叠显示设备。通过减少光学功能层的数量并采用具有多种功能的光学功能层来实现薄显示设备。
实用新型内容
本公开提供一种能够减少外部光的反射、改善色域并且改善光学特性的显示设备。
本公开的实施方式提供了一种显示设备，其可以包括：显示面板，包括第一像素区域和第二像素区域，第一像素区域发射第一光，第二像素区域发射第二光，第二光的光发射波长与第一光的光发射波长不同；传感器层，设置在显示面板上；以及光控制层，设置在传感器层上。显示面板可以包括：发光元件，设置在基础衬底上；以及封装层，设置在发光元件上。光控制层可以包括：高折射图案，在平面图中与第一像素区域重叠，在平面图中不与第二像素区域重叠，并且包括第一着色剂；以及外涂层，覆盖高折射图案并且在平面图中与第一像素区域和第二像素区域重叠。高折射图案的折射率可以高于外涂层的折射率。
第一光可以是红光，并且第二光可以是蓝光。
显示面板还可以包括限定成与第一像素区域和第二像素区域中的每一个相邻的光阻挡区域，并且光控制层还可以包括在平面图中与光阻挡区域重叠的光阻挡部分。
高折射图案在平面图中可以不与光阻挡部分重叠。
传感器层可以包括：传感器基础层，设置在封装层上；第一导电层，设置在传感器基础层上；无机绝缘层，设置在第一导电层上；第二导电层，设置在无机绝缘层上；以及有机绝缘层，设置在第二导电层上。第一导电层和第二导电层中的每一个可以在平面图中与光阻挡部分重叠。
显示面板还可以包括发射第三光的第三像素区域，第三光具有与第一光的光发射波长和第二光的光发射波长不同的光发射波长，并且高折射图案在平面图中可以与第一像素区域和第三像素区域重叠。
高折射图案可以包括：第一高折射图案，与第一像素区域重叠并且包括第一-1着色剂；以及第二高折射图案，与第三像素区域重叠并且包括第一-2着色剂，并且第一-1着色剂和第一-2着色剂可以包括相同的材料。
高折射图案的折射率可以等于或大于约1.6且等于或小于约2。
外涂层的折射率可以等于或大于约1.3且等于或小于约1.54。
传感器层的上表面与高折射图案的侧表面之间的角度可以等于或大于约50度且等于或小于约80度。
第一着色剂可以包括黄色颜料和四氮杂卟啉基化合物中的至少一种。
高折射图案的透光率可以在等于或大于约380nm且等于或小于约480nm的波长范围内等于或小于约20％。
高折射图案还可以包括基础树脂和金属氧化物纳米颗粒。第一着色剂和金属氧化物纳米颗粒可以分散在基础树脂中。
显示面板还可以包括无机沉积层，无机沉积层设置在发光元件上并且包括无机材料，无机材料具有等于或大于约1.0的折射率以及等于或大于约0.5的光吸收系数。
发光元件可以包括：第一电极，设置在基础衬底上；空穴传输区域，设置在第一电极上；发光层，设置在空穴传输区域上；电子传输区域，设置在发光层上；第二电极，设置在电子传输区域上；以及封盖层，设置在第二电极上。
发光元件可以包括：第一发光元件，包括在平面图中与第一像素区域重叠并发射第一光的第一发光层；以及第二发光元件，包括在平面图中与第二像素区域重叠并发射第二光的第二发光层。
本公开的实施方式提供了一种显示设备，其可以包括：显示面板，包括第一像素区域和第二像素区域，第一像素区域发射第一光，第二像素区域发射第二光，第二光的光发射波长与第一光的光发射波长不同；传感器层，设置在显示面板上；以及光控制层，设置在传感器层上。显示面板可以包括：发光元件，设置在基础衬底上；无机沉积层，设置在发光元件上，包括具有等于或大于约1.0的折射率以及等于或大于约0.5的光吸收系数的无机材料，并且在平面图中与第一像素区域和第二像素区域重叠；以及封装层，设置在无机沉积层上。光控制层可以包括：高折射图案，在平面图中与第一像素区域重叠；以及外涂层，覆盖高折射图案并且在平面图中与第一像素区域和第二像素区域重叠。高折射图案的折射率可以高于外涂层的折射率。
显示面板还可以包括发射第三光的第三像素区域，第三光具有与第一光的光发射波长和第二光的光发射波长不同的光发射波长，并且高折射图案在平面图中可以与第一像素区域和第三像素区域重叠并且可以不与第二像素区域重叠。
本公开的实施方式提供了一种显示设备，其可以包括：显示面板，包括第一像素区域和第二像素区域，第一像素区域发射第一光，第二像素区域发射第二光，第二光的光发射波长与第一光的光发射波长不同；传感器层，设置在显示面板上；以及光控制层，设置在传感器层上。显示面板可以包括：发光元件，设置在基础衬底上；以及封装层，设置在发光元件上。光控制层可以包括：高折射图案，在平面图中与第一像素区域重叠，在等于或大于约380nm且等于或小于约480nm的波长范围内具有等于或小于约20％的透光率，并且包括黄色颜料和四氮杂卟啉基化合物中的至少一种；以及外涂层，覆盖高折射图案并且在平面图中与第一像素区域和第二像素区域重叠。高折射图案的折射率可以高于外涂层的折射率。
高折射图案还可以包括：基础树脂，其中分散有黄色颜料和四氮杂卟啉基化合物中的至少一种；以及金属氧化物纳米颗粒，分散在基础树脂中。
根据以上内容，包括吸收特定波长范围内的光的着色剂的高折射图案可以设置成在平面图中与像素区域的一部分重叠。因此，可以在包括发光元件的显示设备中减少外部光的反射，可以改善色域，并且可以增强光学特性。
附图说明
当结合附图考虑时，通过参考以下详细描述，本公开的以上和其它优点将变得更显而易见，在附图中：
图1是示出根据本公开的实施方式的显示设备的立体图；
图2是示出根据本公开的实施方式的显示设备的分解立体图；
图3是示出根据本公开的实施方式的显示设备的平面图；
图4是示出根据本公开的实施方式的显示设备的示意性剖视图；
图5是根据本公开的实施方式的显示设备的一部分的放大示意性剖视图；
图6是根据本公开的实施方式和比较示例的显示设备的每个波长的透射光谱的曲线图；以及
图7A和图7B分别是根据本公开的实施方式、比较示例和参考示例的显示设备的每个波长的反射光谱的曲线图。
具体实施方式
当元件或层被称为在另一个元件或层“上”、“连接到”或“联接到”另一个元件或层时，它可以直接在另一个元件或层上、直接连接到或直接联接到另一个元件或层，或者可以存在居间元件或层。然而，当元件或层被称为直接在另一个元件或层“上”、“直接连接到”或“直接联接到”另一个元件或层时，不存在居间元件或层。例如，术语“直接连接”可以意味着设置两个层或两个构件而不在它们之间使用附加的粘合剂。为此，术语“连接”可以指具有或不具有居间元件的物理连接、电连接和/或流体连接。
相同的附图标记始终表示相同的元件。在附图中，为了有效地描述技术内容，夸大了组件的厚度、比例和尺寸。在说明书和权利要求书中，出于其含义和解释的目的，术语“和/或”旨在包括术语“和”和“或”的任何组合。例如，“A和/或B”可以理解为意指“A、B或者A和B”。术语“和”和“或”可以以结合或分离的意义使用，并且可以理解为等同于“和/或”。
应当理解，尽管可以在本文中使用术语第一、第二等来描述各种元件，但是这些元件不受这些术语的限制。这些术语仅用于将一个元件与另一个元件区分开。因此，在不脱离本公开的教导的情况下，下面讨论的第一元件可以被称为第二元件。如本文中所使用的，单数形式“一”、“一个”和“该”旨在也包括复数形式，除非上下文另外清楚地指示。
为了便于描述，可以在本文中使用诸如“下面”、“下方”、“下”、“上方”、“上”等的空间相对术语来描述如图中所示的一个元件或特征与另一个元件或特征的关系。
还将理解，当在本说明书中使用时，术语“包括(include)”和/或“包括(including)”指定所陈述的特征、整体、步骤、操作、元件和/或组件的存在，但不排除一个或多个其它特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或其群组的存在或添加。
在说明书和权利要求书中，出于其含义和解释的目的，短语“…中的至少一个”旨在包括“从…的群组中选择的至少一个”的含义。例如，“A和B中的至少一个”可以理解为是指“A、B或者A和B”。
除非另有定义，否则本文使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本公开所属领域的普通技术人员通常理解的含义相同的含义。还应当理解，术语，诸如在常用词典中定义的那些术语，应被解释为具有与它们在相关领域的上下文中的含义一致的含义，并且除非在本文中明确地如此定义，否则将不以理想化或过于正式的含义进行解释。
在下文中，将参考附图描述根据本公开的实施方式的显示设备。
图1是示出根据本公开的实施方式的显示设备DD的立体图。图1示出了移动电子设备作为显示设备DD的示例。然而，显示设备DD可以应用于诸如电视机、监视器、户外广告牌等大型电子产品以及诸如个人计算机、笔记本计算机、个人数字助理、汽车导航单元、游戏单元、智能电话、平板计算机、相机等中小型电子产品。然而，本公开不限于此，并且显示设备DD可以应用于其它电子设备，只要它们不偏离本公开的精神即可。
在平面图中，显示设备DD可以具有在第三方向DR3上具有厚度的立方体形状。然而，本公开不限于此，并且显示设备DD可以具有各种形状。
根据实施方式，每个构件的上表面(或前表面)和下表面(或后表面)可以相对于其中显示图像IM的方向来限定。前表面和后表面可以在第三方向DR3上彼此相对，并且上表面和下表面中的每一个的法线方向可以基本上平行于第三方向DR3。
由第一方向DR1、第二方向DR2和第三方向DR3指示的方向可以彼此相对，并且可以改变到其它方向。
显示设备DD可以通过显示表面IS显示图像IM。显示表面IS可以包括其中显示图像IM的显示区域DA和限定成与显示区域DA相邻的非显示区域NDA。图像IM不通过非显示区域NDA显示。图像IM可以包括视频图像或静止图像。图1示出了多个应用程序图标和时钟小部件作为图像IM的示例。
显示区域DA可以具有四边形形状。非显示区域NDA可以围绕显示区域DA。然而，它们不限于此或由此限制，并且显示区域DA的形状和非显示区域NDA的形状可以相对于彼此设计。非显示区域NDA可以不设置在显示设备DD的前表面上。
显示设备DD可以是柔性的。本文中使用的术语“柔性”可以指能够弯曲的性质，并且柔性显示设备可以包括从完全弯曲的结构到以几纳米的尺度弯曲的结构的所有结构。例如，显示设备DD可以是曲化显示设备或可折叠显示设备，然而，它不限于此或由此限制。根据实施方式，显示设备DD可以是刚性的。
图2是示出根据本公开的实施方式的显示设备DD的分解立体图。参考图2，显示设备DD可以包括在第三方向DR3上顺序堆叠的显示面板DP、传感器层TU和光控制层AR。
显示设备DD可以包括多个像素，并且显示面板DP可以包括在与显示区域DA对应的区域中的多个像素区域。像素可以与像素区域PXA-R、PXA-B和PXA-G(参考图3)对应。像素可以响应于电信号产生光。显示区域DA可以显示与由像素产生的光对应的图像IM。
根据实施方式，显示面板DP可以是自发光显示面板。例如，显示面板DP可以是微LED显示面板、纳米LED显示面板、有机发光显示面板或量子点发光显示面板。然而，本公开不限于此。显示面板DP不限于此或由此限制，只要显示面板DP是自发光显示面板即可。
有机发光显示面板的发光层可以包括有机发光材料。量子点发光显示面板的发光层可以包括量子点和/或量子杆。微LED显示面板可以包括作为微发光元件的微发光二极管元件，并且纳米LED显示面板可以包括纳米发光二极管元件。在下文中，有机发光显示面板将被描述为显示面板DP。
光控制层AR可以设置在显示面板DP上。光控制层AR可以是抗反射层，以降低从外部入射到其的外部光的反射率。光控制层AR可以使从显示面板DP出射的光选择性地通过。光控制层AR可以不包括偏振层。因此，在穿过光控制层AR之后入射到显示面板DP和传感器层TU中的光可以是非偏振光。显示面板DP和传感器层TU可以从光控制层AR接收非偏振光。
传感器层TU可以设置在显示面板DP和光控制层AR之间。传感器层TU可以响应于施加到其的外部输入而获得在显示面板DP中生成图像所需的信息。外部输入可以是用户输入。用户输入可以包括各种形式的外部输入，诸如用户的身体的一部分、光、热、笔或压力。
图3是示出根据本公开的实施方式的显示设备DD的平面图。图4是示出根据本公开的实施方式的显示设备DD的示意性剖视图。图5是根据本公开的实施方式的显示设备DD的一部分的放大示意性剖视图。图4是沿着图3的线I-I'截取的示意性剖视图。图5示出了显示设备DD的第一像素区域和与第一像素区域相邻的光阻挡区域的截面。
参考图3和图4，显示设备DD可以包括显示面板DP、设置在显示面板DP上的传感器层TU以及设置在传感器层TU上的光控制层AR。
显示面板DP可以包括依次堆叠的基础衬底BS、电路层DP-CL和显示元件层DP-ED。显示元件层DP-ED可以包括像素限定层PDL、设置在限定穿过像素限定层PDL的像素开口OH中的发光元件ED以及设置在发光元件ED上的封装层TFE。
基础衬底BS可以是刚性的或柔性的。基础衬底BS可以是聚合物衬底、塑料衬底、玻璃衬底、金属衬底或复合材料衬底。基础衬底BS可以具有单层或多层结构。基础衬底BS可以包括合成树脂膜，并且基础衬底BS可以具有多个合成树脂膜的多层结构。合成树脂膜可以包括聚酰亚胺基树脂、丙烯酸基树脂、乙烯基树脂、环氧基树脂、氨基甲酸乙酯基树脂、纤维素基树脂和二萘嵌苯基树脂，然而，用于合成树脂膜的材料不限于此或由此限制。
电路层DP-CL可以设置在基础衬底BS上。电路层DP-CL可以包括绝缘层、半导体图案、导电图案和信号线。电路层DP-CL可以包括由半导体图案、导电图案和信号线形成的多个晶体管(未示出)。晶体管(未示出)中的每一个可以包括控制电极、输入电极和输出电极。例如，电路层DP-CL可以包括开关晶体管和驱动晶体管以驱动发光元件ED。
显示元件层DP-ED可以设置在电路层DP-CL上。显示元件层DP-ED可以包括像素限定层PDL、发光元件ED和封装层TFE。
发光元件ED可以包括多个发光元件ED-1、ED-2和ED-3。发光元件ED-1、ED-2和ED-3中的每一个可以包括第一电极EL1、空穴传输区域HTR、发光层EML-R、EML-G或EML-B、电子传输区域ETR、第二电极EL2和封盖层CPL。第一发光元件ED-1可以包括与第一像素区域PXA-R重叠的第一发光层EML-R。第二发光元件ED-2可以包括与第二像素区域PXA-B重叠的第二发光层EML-B。第三发光元件ED-3可以包括在第三方向DR3上与第三像素区域PXA-G重叠的第三发光层EML-G。
像素限定层PDL可以设置在电路层DP-CL上。像素限定层PDL可以设置有限定穿过其的像素开口OH。像素开口OH可以分别对应于像素区域PXA-R、PXA-B和PXA-G。光阻挡区域NPXA可以限定在相邻的像素区域PXA-R、PXA-B和PXA-G之间，并且可以对应于像素限定层PDL。
像素限定层PDL可以包括有机树脂或无机材料。例如，像素限定层PDL可以包括聚丙烯酸酯基树脂、聚酰亚胺基树脂、氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)或氮氧化硅(SiOxNy)。
图4示出了这样的结构，其中发光元件ED-1、ED-2和ED-3的发光层EML-R、EML-B和EML-G设置在限定穿过像素限定层PDL的像素开口OH中并且空穴传输区域HTR、电子传输区域ETR、第二电极EL2和封盖层CPL公共设置在发光元件ED-1、ED-2和ED-3中。然而，本公开不限于此或由此限制。与图4中所示的结构不同，空穴传输区域HTR、电子传输区域ETR、第二电极EL2和封盖层CPL可以在图案化之后设置在限定穿过像素限定层PDL的像素开口OH中。例如，根据实施方式，发光元件ED-1、ED-2和ED-3的空穴传输区域HTR、发光层EML-R、EML-G和EML-B、电子传输区域ETR、第二电极EL2和封盖层CPL中的至少一个可以通过喷墨印刷方法被图案化。
在发光元件ED中，第一电极EL1可以设置在电路层DP-CL上。第一电极EL1可以是阳极或阴极。第一电极EL1可以是像素电极。第一电极EL1可以是透射电极、半透射半反射电极或反射电极。
空穴传输区域HTR可以设置在第一电极EL1和发光层EML之间。空穴传输区域HTR可以包括空穴注入层、空穴传输层和电子阻挡层中的至少一个。空穴传输区域HTR可以公共设置成与像素区域PXA-R、PXA-B和PXA-G重叠，并且在设置在像素区域PXA-R、PXA-B和PXA-G之间的像素限定层PDL上，然而，本公开不限于此或由此限制。根据实施方式，空穴传输区域HTR可以被图案化成与像素区域PXA-R、PXA-B和PXA-G对应的多个部分。
发光层EML可以设置在第一电极EL1上。发光层EML可以包括第一发光层EML-R、第二发光层EML-B和第三发光层EML-G。第一发光层EML-R可以与第一像素区域PXA-R重叠并且可以发射第一光。第二发光层EML-B可以与第二像素区域PXA-B重叠并且可以发射第二光。第三发光层EML-G可以与第三像素区域PXA-G重叠并且可以发射第三光。分别从发光元件ED-1、ED-2和ED-3发射的第一光、第二光和第三光可以具有彼此不同的波长范围。例如，第一光可以是在等于或大于约625nm且等于或小于约675nm的光发射波长范围内的红光。例如，第二光可以是在等于或大于约410nm且等于或小于约480nm的光发射波长范围内的蓝光。第三光可以是在等于或大于约500nm且等于或小于约570nm的光发射波长范围内的绿光。
电子传输区域ETR可以设置在发光层EML和第二电极EL2之间。电子传输区域ETR可以包括电子注入层、电子传输层和空穴阻挡层中的至少一个。电子传输区域ETR可以公共地设置成与像素区域PXA-R、PXA-B和PXA-G重叠，并且在设置在像素区域PXA-R、PXA-B和PXA-G之间的像素限定层PDL上，然而，本公开不限于此或由此限制。根据实施方式，电子传输区域ETR可以被图案化成分别与像素区域PXA-R、PXA-B和PXA-G对应的多个部分。
第二电极EL2可以设置在电子传输区域ETR上。第二电极EL2可以是公共电极。第二电极EL2可以是阴极或阳极。例如，在第一电极EL1是阳极的情况下，第二电极EL2可以是阴极，并且在第一电极EL1是阴极的情况下，第二电极EL2可以是阳极。第二电极EL2可以是透射电极、半透射半反射电极或反射电极。
封盖层CPL可以设置在第二电极EL2上。封盖层CPL可以具有单层结构或多层结构。根据实施方式，封盖层CPL可以是有机层或无机层。例如，在封盖层CPL包括无机材料的情况下，无机材料可以包括SiON、SiNx、SiOy、诸如LiF的碱金属化合物、诸如MgF2的碱土金属化合物等。例如，在封盖层CPL包括有机材料的情况下，有机材料可以包括α-NPD、NPB、TPD、m-MTDATA、Alq3、CuPc、TPD15(N4,N4,N4',N4'-四(联苯-4-基)联苯-4,4'-二胺)、TCTA(4,4',4”-三(咔唑-9-基)三苯胺)等，或者可以包括环氧树脂或诸如甲基丙烯酸酯的丙烯酸酯，然而，它不限于此或由此限制。
封盖层CPL可以具有等于或大于约1.6的折射率。例如，对于波长范围等于或大于约550nm且等于或小于约660nm的光，封盖层CPL的折射率可以等于或大于约1.6。
封装层TFE可以设置在像素限定层PDL上并且可以覆盖发光元件ED。封装层TFE可以设置在封盖层CPL上并且可以填充像素开口OH的一部分。如图4中所示，在显示面板DP包括无机沉积层INF的情况下，封装层TFE可以设置在无机沉积层INF上。封装层TFE可以保护发光元件ED不受湿气和氧气的影响，并且封装层TFE可以保护发光元件ED不受诸如灰尘颗粒的异物的影响。
图4示出了作为单层的封装层TFE，然而，本公开不限于此，并且封装层TFE可以包括至少一个有机层或至少一个无机层，或者可以包括有机层和无机层。封装层TFE可以具有包括至少一个有机层和至少一个无机层的薄膜封装层结构。例如，封装层TFE可以具有其中有机层和无机层彼此交替堆叠或无机层、有机层和无机层依次堆叠的结构。
封装层TFE中包括的无机层可以包括氮化硅、氮氧化硅、氧化硅、氧化钛或氧化铝，然而，它不受特别限制。封装层TFE中包括的有机层可以包括丙烯酸基有机层，然而，它不受特别限制。
显示设备DD可以包括光阻挡区域NPXA以及像素区域PXA-R、PXA-B和PXA-G。像素区域PXA-R、PXA-B和PXA-G中的每一个可以是由发光元件ED-1、ED-2和ED-3中的相应发光元件产生的光出射的区域。在平面图中，像素区域PXA-R、PXA-B和PXA-G可以彼此间隔开。
像素区域PXA-R、PXA-B和PXA-G中的每一个可以由像素限定层PDL限定。光阻挡区域NPXA可以与相邻的像素区域PXA-R、PXA-B和PXA-G之间的区域对应，并且可以与像素限定层PDL对应。像素区域PXA-R、PXA-B和PXA-G中的每一个可以对应于像素。像素限定层PDL可以限定成将发光元件ED-1、ED-2和ED-3彼此区分开。发光元件ED-1、ED-2和ED-3的发光层EML-R、EML-B和EML-G可以设置在限定穿过像素限定层PDL的像素开口OH中以彼此区分开。
像素区域PXA-R、PXA-B和PXA-G可以根据由发光元件ED-1、ED-2和ED-3产生的光的颜色而分组为多个组。图1和图2中所示的显示设备DD可以包括分别发射红光、蓝光和绿光的三个像素区域PXA-R、PXA-B和PXA-G。例如，显示设备DD可以包括彼此区分开的第一像素区域PXA-R、第二像素区域PXA-B和第三像素区域PXA-G。根据实施方式，第一像素区域PXA-R可以是红色像素区域，第二像素区域PXA-B可以是蓝色像素区域，并且第三像素区域PXA-G可以是绿色像素区域。在显示设备DD中，包括一个第一像素区域PXA-R、一个第二像素区域PXA-B和一个第三像素区域PXA-G的组可以被称为单元像素组PXG。尽管在图中未示出，但是单元像素组PXG中包括的第一像素区域PXA-R、第二像素区域PXA-B和第三像素区域PXA-G中的至少一个可以设置成多个。例如，单元像素组PXG可以包括两个第三像素区域PXA-G、一个第一像素区域PXA-R和一个第二像素区域PXA-B。
根据实施方式，显示设备DD的发光元件ED-1、ED-2和ED-3可以发射具有彼此不同波长范围的光。例如，显示设备DD可以包括发射红光的第一发光元件ED-1、发射蓝光的第二发光元件ED-2以及发射绿光的第三发光元件ED-3。例如，显示设备DD的第一像素区域PXA-R、第二像素区域PXA-B和第三像素区域PXA-G可以分别对应于第一发光元件ED-1、第二发光元件ED-2和第三发光元件ED-3。
然而，本公开不限于此或由此限制，并且第一发光元件ED-1、第二发光元件ED-2和第三发光元件ED-3可以发射具有相同波长范围的光，或者第一发光元件ED-1、第二发光元件ED-2和第三发光元件ED-3中的至少一个可以发射具有与其他发光元件不同的波长范围的光。例如，第一发光元件ED-1、第二发光元件ED-2和第三发光元件ED-3中的全部可以发射蓝光。
根据实施方式，显示设备DD的像素区域PXA-R、PXA-B和PXA-G可以布置成条纹形式。参考图3，多个第一像素区域PXA-R、多个第二像素区域PXA-B和多个第三像素区域PXA-G中的每一个可以布置在第二方向DR2上。第一像素区域PXA-R、第三像素区域PXA-G和第二像素区域PXA-B可以交替布置在第一方向DR1上。
在图3和图4中，像素区域PXA-R、PXA-B和PXA-G示出为尺寸相似，然而，它们不限于此或由此限制。根据实施方式，取决于从其发射的光的波长范围，像素区域PXA-R、PXA-B和PXA-G的尺寸可以彼此不同。像素区域PXA-R、PXA-B和PXA-G的尺寸可以是平面图中的尺寸。
像素区域PXA-R、PXA-B和PXA-G的布置不限于图3中所示的布置，并且第一像素区域PXA-R、第二像素区域PXA-B和第三像素区域PXA-G所布置的顺序可以根据显示设备DD所需的显示质量的特性设置成各种组合。例如，像素区域PXA-R、PXA-B和PXA-G可以布置成pentile形式(诸如)或钻石形式(诸如Diamond/>)。
像素区域PXA-R、PXA-B和PXA-G可以具有彼此不同的尺寸。例如，第三像素区域PXA-G的尺寸可以小于第二像素区域PXA-B的尺寸，然而，它不限于此或由此限制。
再次参考图4，显示面板DP可以包括设置在发光元件ED-1、ED-2和ED-3上的无机沉积层INF。
无机沉积层INF可以设置在封盖层CPL上。无机沉积层INF可以直接设置在封盖层CPL上。无机沉积层INF可以防止外部光由发光元件ED-1、ED-2和ED-3的第二电极EL2反射。例如，在由无机沉积层INF的表面反射的光和由第二电极EL2反射的光之间可发生相消干涉，并且因此，可以减少由第二电极EL2的表面反射的外部光的量。可以控制无机沉积层INF的厚度和封盖层CPL的厚度，以允许在由无机沉积层INF的表面反射的光和由第二电极EL2反射的光之间发生相消干涉。
无机沉积层INF可以包括具有等于或大于约1.0的折射率以及等于或大于约0.5的光吸收系数的无机材料。无机沉积层INF可以通过热沉积工艺形成，并且可以包括具有等于或小于约1000℃的熔点的无机材料。无机沉积层INF可以包括例如选自由铋(Bi)和镱(Yb)组成的群组中的至少一种。用于无机沉积层INF的材料可以包括铋(Bi)、镱(Yb)或者Yb和Bi的沉积材料(例如，混合物(YbxBiy))。封装层TFE可以直接设置在无机沉积层INF的至少一部分上。
光控制层AR可以设置在显示面板DP上。光控制层AR可以吸收从显示面板DP发射的光的一部分并且可以透射从显示面板DP发射的光的另一部分，并且因此可以改善色域。色域可以是可以由显示设备DD表现的颜色的范围。例如，可以通过选择性地吸收特定波长范围内的光来改善色域。
光控制层AR可以设置在显示元件层DP-ED的整个区域上。光控制层AR可以在第三方向DR3上与第一发光元件ED-1、第二发光元件ED-2和第三发光元件ED-3中的每一个完全重叠。光控制层AR可以覆盖显示面板DP的前表面以保护显示面板DP。设置在显示面板DP上的光控制层AR可以不包括偏振层，并且可以包括通过将着色剂(诸如染料和/或颜料)分散在基础树脂中而获得的高折射图案YR。由于光控制层AR不包括偏振层，因此在穿过光控制层AR之后入射到显示面板DP和传感器层TU中的光可以是非偏振光。显示面板DP和传感器层TU可以从光控制层AR接收非偏振光。
光控制层AR可以包括高折射图案YR和外涂层OC。外涂层OC可以设置在高折射图案YR上并且可以覆盖高折射图案YR。
高折射图案YR可以设置成与第一像素区域PXA-R重叠。高折射图案YR可以在第三方向DR3上与第一发光元件ED-1完全重叠。高折射图案YR可以在第三方向DR3上与第一发光元件ED-1中包括的第一发光层EML-R完全重叠。
高折射图案YR可以包括第一着色剂。高折射图案YR可以通过将第一着色剂分散在基础树脂中而获得。高折射图案YR可以通过将染料和/或颜料分散在基础树脂中而获得。
高折射图案YR可以在特定波长范围内具有高光吸收率。高折射图案YR中包括的第一着色剂可以在特定波长范围内具有光吸收率。第一着色剂可以在至少一个波长范围内具有光吸收率。因此，包括第一着色剂的高折射图案YR可以在特定波长范围内具有低透光率。根据实施方式，第一着色剂可以吸收波长范围等于或大于约380nm且等于或小于约480nm的光。第一着色剂可以在等于或大于约380nm且等于或小于约480nm的波长范围内具有高光吸收率。第一着色剂还可以在等于或大于约500nm且等于或小于约600nm的波长范围内具有高光吸收率。在以下描述中，表述“着色剂在特定波长范围内具有高光吸收率”可以意味着着色剂在吸收光谱中的特定波长范围内具有至少一个吸收峰。由于高折射图案YR中包括的第一着色剂吸收特定波长范围内的光并透射其它波长范围内的光，所以可以防止外部光的反射，并且可以调节从显示面板DP发射的光的颜色。
高折射图案YR可以在特定波长范围内具有低透光率，并且可以在其它波长范围内具有高透光率以透射光。根据实施方式，高折射图案YR可以在约460nm的波长下具有小于约5％的透光率。高折射图案YR可以在约550nm的波长下具有等于或大于约60％且等于或小于约80％的透光率。高折射图案YR可以在约650nm的波长下具有等于或大于约70％且等于或小于约100％的透光率。
第一着色剂可以包括染料和颜料中的至少一种。
根据实施方式，第一着色剂可以包括黄色着色剂。高折射图案YR中包括的第一着色剂可以包括黄色颜料和黄色染料中的至少一种。例如，高折射图案YR中包括的第一着色剂可以包括黄色颜料和四氮杂卟啉基化合物中的至少一种。高折射图案YR中包括的第一着色剂可以包括黄色颜料和四氮杂卟啉基化合物两者。
根据实施方式，高折射图案YR可以包括C.I.颜料黄(黄色着色剂)1、2、3、4、5、6、10、11、12、13、14、15、16、17、18、20、24、31、32、34、35、35:1、36、36:1、37、37:1、40、42、43、53、55、60、61、62、63、65、73、74、77、81、83、86、93、94、95、97、98、100、101、104、106、108、109、110、113、114、115、116、117、118、119、120、123、125、126、127、128、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、155、156、161、162、164、166、167、168、169、170、171、172、173、174、175、176、177、179、180、181、182、185、187、188、193、194、199、213和214中的至少一种黄色颜料。例如，高折射图案YR可以包括C.I.颜料黄138、C.I.颜料黄185或C.I.颜料黄231。
基于高折射图案YR的总重量，高折射图案YR可以包括约0.01wt％或更多且约5.00wt％或更少的第一着色剂。在高折射图案YR包括少于约0.01wt％的第一着色剂的情况下，特定波长范围内的光可无法被充分吸收，并且因此，色域可不会得到改善。在高折射图案YR包括大于约5.00wt％的第一着色剂的情况下，可发生第一着色剂的聚集。
高折射图案YR可以包括其中分散有第一着色剂的基础树脂。基础树脂可以是其中分散有第一着色剂的介质，并且可以包括通常被称为结合剂的各种树脂组合物。例如，基础树脂可以是丙烯酸基树脂、氨基甲酸乙酯基树脂、硅树脂基树脂、卡多(cardo)基树脂或环氧基树脂。基础树脂可以是透明树脂。在本公开中，如本文中所使用的，术语“α基树脂”可以是包括α的官能团的树脂。
高折射图案YR还可以包括金属氧化物纳米颗粒以增加折射率。金属氧化物纳米颗粒可以分散在基础树脂中。金属氧化物纳米颗粒可以包括例如TiO2、ZnO和ZrO2中的至少一种。金属氧化物纳米颗粒可以包括TiO2、ZnO和ZrO2中的至少一种或者可以通过将选自TiO2、ZnO和ZrO2中的两种或更多种材料混合而获得。根据实施方式，金属氧化物纳米颗粒可以包括TiO2、ZnO和ZrO2中的至少一种前体。
高折射图案YR可以具有高折射率。高折射图案YR可以具有比设置在其上的外涂层OC的折射率更高的折射率。高折射图案YR可以具有等于或大于约1.6的折射率。高折射图案YR的折射率可以等于或大于约1.6并且等于或小于约2。由于高折射图案YR的折射率满足等于或大于约1.6且等于或小于约2的范围，因此可以改善在顺序穿过高折射图案YR和外涂层OC之后发射到外部的光的正向光发射效率。
高折射图案YR可以与从其发射第一光的第一像素区域PXA-R重叠，并且可以不与从其发射第二光的第二像素区域PXA-B重叠。高折射图案YR可以与从其发射第三光的第三像素区域PXA-G重叠。高折射图案YR可以包括与第一像素区域PXA-R重叠的第一高折射图案YR1和与第三像素区域PXA-G重叠的第二高折射图案YR2。第一高折射图案YR1和第二高折射图案YR2可以被图案化以分别设置在第一像素区域PXA-R和第三像素区域PXA-G中，并且可以在第一方向DR1上彼此间隔开。
第一高折射图案YR1可以包括第一-1着色剂，并且第二高折射图案YR2可以包括第一-2着色剂。第一-1着色剂和第一-2着色剂中的每一个可以吸收波长范围等于或大于约380nm且等于或小于约480nm的光。如以上所描述的第一着色剂的情况那样，第一-1着色剂和第一-2着色剂中的每一个可以包括黄色颜料和黄色染料中的至少一种。
第一-1着色剂和第一-2着色剂可以包括相同的材料。根据实施方式，第一-1着色剂和第一-2着色剂可以包括相同的黄色颜料。第一-1着色剂和第一-2着色剂可以包括相同的四氮杂卟啉基化合物。第一高折射图案YR1中包括的第一-1着色剂的浓度可以等于第二高折射图案YR2中包括的第一-2着色剂的浓度。根据实施方式，由于显示设备DD的第一高折射图案YR1和第二高折射图案YR2通过相同的掩模工艺由相同的材料形成，因此分别包括在第一高折射图案YR1和第二高折射图案YR2中的第一-1着色剂和第一-2着色剂可以包括相同的材料并且可以具有相同的浓度。
外涂层OC可以设置在高折射图案YR上并且可以覆盖高折射图案YR。外涂层OC可以与显示元件层DP-ED完全重叠。外涂层OC的上表面可以限定光控制层AR的上表面并且可以覆盖显示面板DP的前表面以保护显示面板DP。
外涂层OC的折射率可以低于高折射图案YR的折射率。外涂层OC可以具有等于或小于约1.54的折射率。外涂层OC的折射率可以等于或大于约1.3并且等于或小于约1.54。由于外涂层OC的折射率满足等于或大于约1.3且等于或小于约1.54的范围，所以可以改善在顺序穿过高折射图案YR和外涂层OC之后发射到外部的光的正向光发射效率。
外涂层OC可以包括基础树脂和分散在基础树脂中的低折射纳米颗粒。低折射纳米颗粒可以包括用于降低外涂层OC的折射率的材料。根据实施方式，外涂层OC可以包括丙烯酸基树脂、硅树脂基树脂或环氧基树脂作为基础树脂。外涂层OC可以包括二氧化硅颗粒或中空二氧化硅颗粒作为低折射纳米颗粒。根据实施方式，外涂层OC可以包括二氧化硅颗粒的前体或中空二氧化硅颗粒的前体作为低折射纳米颗粒。
根据实施方式，光控制层AR可以包括在第三方向DR3上与光阻挡区域NPXA重叠的光阻挡部分BM。光阻挡部分BM可以与光阻挡区域NPXA重叠，并且可以不与第一像素区域PXA-R、第二像素区域PXA-B和第三像素区域PXA-G重叠。例如，光阻挡部分BM可以设置有分别与第一像素区域PXA-R、第二像素区域PXA-B和第三像素区域PXA-G对应的光阻挡开口。光阻挡部分BM可以防止像素区域之间的光泄漏。光阻挡部分BM可以是光阻挡构件。光阻挡部分BM可以包括有机光阻挡材料、黑色颜料或黑色染料。
如图4中所示，高折射图案YR可以设置在光阻挡部分BM之间。高折射图案YR可以设置在限定穿过光阻挡部分BM的光阻挡开口中。在平面图中，高折射图案YR可以不与光阻挡部分BM重叠。例如，高折射图案YR可以与像素区域PXA-R、PXA-B和PXA-G中的一些重叠，并且可以不与光阻挡区域NPXA重叠，然而，它不限于此或由此限制。根据实施方式，高折射图案YR可以与光阻挡部分BM的一部分重叠。例如，高折射图案YR可以与第一像素区域PXA-R和第三像素区域PXA-G以及光阻挡区域NPXA的分别与第一像素区域PXA-R和第三像素区域PXA-G相邻的部分重叠。
外涂层OC可以填充在彼此间隔开的光阻挡部分BM之间以及高折射图案YR和光阻挡部分BM之间。外涂层OC的一部分可以设置在光阻挡开口中。外涂层OC可以设置在光阻挡部分BM上，并且可以填充在光阻挡部分BM之间以及高折射图案YR和光阻挡部分BM之间。
参考图4，传感器层TU可以设置在显示面板DP和光控制层AR之间。传感器层TU可以包括传感器基础衬底BS-TU、第一导电层SP1、无机绝缘层IL、第二导电层SP2和有机绝缘层OL。第一导电层SP1可以设置在传感器基础衬底BS-TU上。无机绝缘层IL可以覆盖第一导电层SP1，并且可以设置在传感器基础衬底BS-TU和第一导电层SP1上。第二导电层SP2可以设置在无机绝缘层IL上。有机绝缘层OL可以覆盖第二导电层SP2，并且可以设置在无机绝缘层IL和第二导电层SP2上。
传感器基础衬底BS-TU可以是无机层，并且可以包括氮化硅、氮氧化硅和氧化硅中的一种。根据实施方式，传感器基础衬底BS-TU可以是包括环氧树脂、丙烯酸树脂或酰亚胺基树脂的有机层。传感器基础衬底BS-TU可以具有单层结构或在第三方向DR3上堆叠的层的多层结构。传感器基础衬底BS-TU可以直接设置在封装层TFE上。
第一导电层SP1和第二导电层SP2中的每一个可以具有单层结构或在第三方向DR3上堆叠的层的多层结构。具有单层结构的第一导电层SP1和第二导电层SP2可以包括金属层或透明导电层。金属层可以包括钼、银、钛、铜、铝或其合金。透明导电层可以包括透明导电氧化物，诸如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)或氧化铟锌锡(IZTO)。透明导电层可以包括导电聚合物(例如，PEDOT)、金属纳米线或石墨烯。
具有多层结构的第一导电层SP1和第二导电层SP2可以包括多个金属层。金属层可以具有钛(Ti)/铝(Al)/钛(Ti)的三层结构。多层结构的第一导电层SP1和第二导电层SP2可以包括至少一个金属层和至少一个透明导电层。
无机绝缘层IL可以包括氧化铝、氧化钛、氧化硅、氮氧化硅、氧化锆和氧化铪中的至少一种。
无机绝缘层IL可以设置有限定穿过其的接触孔CN。第一导电层SP1和第二导电层SP2可以通过接触孔CN彼此电连接。接触孔CN可以填充有第二导电层SP2的材料。图4示出了限定穿过无机绝缘层IL的一个接触孔CN，然而，接触孔CN的数量不限于一个。根据实施方式，多个接触孔CN可以限定穿过无机绝缘层IL。
有机绝缘层OL可以覆盖无机绝缘层IL和第二导电层SP2。有机绝缘层OL可以包括丙烯酸基树脂、甲基丙烯酸基树脂、聚异戊二烯基树脂、乙烯基树脂、环氧基树脂、氨基甲酸乙酯基树脂、纤维素基树脂、硅氧烷基树脂、聚酰亚胺基树脂、聚酰胺基树脂和二萘嵌苯基树脂中的至少一种。
将参考图5更详细地描述高折射图案的形状和从发光元件发射的光的路径。将基于图5中的第一高折射图案YR1来描述高折射图案的形状，并且关于高折射图案的形状的描述可以应用于图4中的第二高折射图案YR2。例如，图4中所示的高折射图案YR1和YR2可以具有相同的形状。作为示例，图5示出了从第一像素区域PXA-R中的第一发光层EML-R发射到第一高折射图案YR1的光的路径，并且关于从第一发光层EML-R发射到第一高折射图案YR1的光的路径的描述可以应用于图4中所示的从第三像素区域PXA-G中的第三发光层EML-G发射到第二高折射图案YR2的光的路径。
参考图5，在根据实施方式的显示设备中，从第一发光层EML-R发射的光中的在相对于竖直方向(例如，第三方向DR3)倾斜的方向上行进而不是在竖直方向上行进的第一光L1可以行进通过第一高折射图案YR1。第一光L1可以在第一高折射图案YR1和外涂层OC之间的界面处折射，并且可以在第二光L2行进的方向上行进。第二光L2可以相对于第三方向DR3以小于第一光L1的倾斜程度的程度倾斜。例如，由于从第一发光层EML-R发射并且在相对于竖直方向倾斜的方向上行进的光可以在第一高折射图案YR1和外涂层OC之间的界面处折射，因此可以减小光的路径的倾斜度，并且因此可以改善正向光发射效率。
第一高折射图案YR1可以包括相对于参考表面(例如，传感器层TU的上表面)以第一锥角θ1倾斜的侧表面YR-S。第一锥角θ1可以等于或大于约50度并且等于或小于约80度。第一锥角θ1可以是例如约60度。由于第一锥角θ1满足上述范围，因此可以改善在依次穿过高折射图案YR和外涂层OC之后行进到外部的光的正向光发射效率。
根据实施方式，可以根据第一高折射图案YR1的厚度以及第一着色剂的类型和含量来控制特定波长范围的透光率。第一高折射图案YR1可以具有等于或大于约2微米且等于或小于约4微米的厚度。
基于第一高折射图案YR1的总重量，第一高折射图案YR1可以包括大于或等于约0.01wt％并且小于或等于约5.00wt％的第一着色剂。在第一高折射图案YR1包括少于约0.01wt％的第一着色剂的情况下，特定波长范围内的光可无法被充分吸收，并且因此，色域可无法得到改善。在第一高折射图案YR1包括大于约5.00wt％的第一着色剂的情况下，可发生第一着色剂的聚集。
如上所述，第一高折射图案YR1可以包括黄色颜料和四氮杂卟啉基化合物两者。基于第一高折射图案YR1中包括的总固体含量，第一高折射图案YR1可以包括大于或等于约5wt％并且小于或等于约30wt％的黄色颜料。基于第一高折射图案YR1中包括的总固体含量，第一高折射图案YR1可以包括大于或等于约0.01wt％并且小于或等于约5wt％的四氮杂卟啉基化合物。
在根据实施方式的显示设备中，由于光控制层的高折射图案包括吸收特定波长范围的光的第一着色剂，因此可以改善显示设备的色域，并且可以防止外部光的反射。例如，根据显示设备的实施方式，包括着色剂的高折射图案可以设置成与发射红光的第一像素区域和发射绿光的第三像素区域重叠，并且可以不与发射蓝光的第二像素区域重叠。因此，与其中包括着色剂的层形成为与整个像素区域重叠的情况相比，显示设备可以具有高显示效率和优异的外部光反射率。根据显示设备的实施方式，包括在等于或大于约380nm且等于或小于约480nm的波长范围内具有高光吸收率的着色剂的高折射图案可以被图案化并且设置在红色像素区域和绿色像素区域中。因此，短波长区域中的光可以被吸收，以防止目标范围外的光泄漏，并且提供关于红光和绿光的高透射率。因此，可以改善色域，并且可以获得高显示效率。
图6是根据本公开的实施方式和比较示例的显示设备的每个波长的透射光谱的曲线图。图7A和图7B是根据本公开的实施方式、比较示例和参考示例的显示设备的每个波长的反射光谱的曲线图。图6、图7A和图7B的实施方式示例示出了包括光控制层(如图4中所示，其包括分别与第一像素区域和第三像素区域中的每一个重叠的高折射图案和覆盖高折射图案的外涂层)的显示设备的透射光谱和反射光谱。与实施方式示例不同，图6、图7A和图7B中的比较示例示出了其中包括着色剂的高折射图案形成为与第一像素区域、第二像素区域和第三像素区域完全重叠的显示设备的透射光谱和反射光谱。在图7A和图7B中，与实施方式示例不同，参考示例示出了其中未在传感器层上形成光控制层的显示设备的反射光谱。图7A示出了根据实施方式示例、比较示例和参考示例的显示设备中的与第一像素区域对应的部分的每个波长的反射光谱。图7B示出了根据实施方式示例、比较示例和参考示例的显示设备中的与第三像素区域对应的部分的每个波长的反射光谱。
参考图6，在根据实施方式示例的其中图案化的高折射图案设置在第一像素区域和第三像素区域中的每一个中的显示设备的情况下，观察到，与比较示例不同，在约380nm至约480nm的波长范围内，透光率小于约20％。在其中包括着色剂的光控制层形成在第一像素区域、第二像素区域和第三像素区域的整个区域中的比较示例的情况下，由于发射蓝光的第二像素区域的透光率需要高于特定水平，因此光控制层中包括的着色剂可以在约380nm至约480nm的波长范围内不具有过低的透光率。然而，由于在实施方式示例中，高折射图案被图案化成仅与第一像素区域和第三像素区域重叠，因此高折射图案可以包括在约380nm至约480nm的波长范围内具有高光吸收率的着色剂。因此，短波长区域内的光可以在第一像素区域和第三像素区域中被吸收，以防止目标范围之外的光泄漏，并且提供关于红光和绿光的高透射率。因此，可以改善色域，并且可以获得高显示效率。
参考图7A和图7B，与不包括光控制层的根据参考示例的显示设备相比，根据实施方式示例的显示设备在等于或大于约380nm且等于或小于约780nm的波长范围内显示出低反射率，并且与根据比较示例的显示设备相比，根据实施方式示例的显示设备在等于或大于约380nm且等于或小于约500nm的波长范围内显示出低反射率。由于包括在大于或等于约380nm且小于或等于约480nm的波长范围内具有高光吸收率的着色剂的高折射图案在第一像素区域和第三像素区域中被图案化，因此根据实施方式示例的显示设备可以在约380nm至约480nm的波长范围内具有低反射率。在第一像素区域和第三像素区域发射光的波长范围内，反射率可以相对高，并且因此，红光和绿光可以被更有效地反射和再现。因此，实施方式示例的包括高折射图案的显示设备可以实现高色域。例如，根据实施方式示例的显示设备可以具有这样的结构，其中包括在大于或等于约380nm且小于或等于约480nm的波长范围内具有高光吸收率的着色剂的高折射图案在第一像素区域和第三像素区域中被图案化，并且因此，显示设备可以具有诸如低反射率、优异的色域以及高显示效率的特性。
以上描述是本公开的技术特征的示例，并且本公开所属领域的技术人员将能够进行各种修改和变化。因此，以上所描述的公开的实施方式可以单独实现或彼此组合实现。
因此，本公开中公开的实施方式不旨在限制本公开的技术精神，而是描述本公开的技术精神，并且本公开的技术精神的范围不受这些实施方式的限制。

Claims (10)

1.显示设备，其特征在于，所述显示设备包括：
显示面板，包括第一像素区域和第二像素区域，所述第一像素区域发射第一光，所述第二像素区域发射第二光，所述第二光的光发射波长与所述第一光的光发射波长不同；
传感器层，设置在所述显示面板上；以及
光控制层，设置在所述传感器层上，其中，
所述显示面板包括：
发光元件，设置在基础衬底上，
所述光控制层包括：
高折射图案，在平面图中与所述第一像素区域重叠，在所述平面图中不与所述第二像素区域重叠，并且包括第一着色剂；以及
外涂层，覆盖所述高折射图案并且在所述平面图中与所述第一像素区域和所述第二像素区域重叠，以及
所述高折射图案的折射率高于所述外涂层的折射率。
2.根据权利要求1所述的显示设备，其特征在于，
所述显示面板还包括限定成与所述第一像素区域和所述第二像素区域中的每一个相邻的光阻挡区域，以及
所述光控制层还包括在所述平面图中与所述光阻挡区域重叠的光阻挡部分。
3.根据权利要求2所述的显示设备，其特征在于，所述高折射图案在所述平面图中不与所述光阻挡部分重叠。
4.根据权利要求1所述的显示设备，其特征在于，
所述显示面板还包括发射第三光的第三像素区域，所述第三光具有与所述第一光的所述光发射波长和所述第二光的所述光发射波长不同的光发射波长，以及
所述高折射图案在平面图中与所述第一像素区域和所述第三像素区域重叠。
5.根据权利要求4所述的显示设备，其特征在于，
所述高折射图案包括：
第一高折射图案，与所述第一像素区域重叠并且包括第一-1着色剂；以及
第二高折射图案，与所述第三像素区域重叠并且包括第一-2着色剂，以及
所述第一-1着色剂和所述第一-2着色剂包括相同的材料。
6.根据权利要求1所述的显示设备，其特征在于，所述显示面板还包括无机沉积层，所述无机沉积层设置在所述发光元件上并且包括无机材料，所述无机材料具有等于或大于1.0的折射率以及等于或大于0.5的光吸收系数。
7.显示设备，其特征在于，所述显示设备包括：
显示面板，包括第一像素区域和第二像素区域，所述第一像素区域发射第一光，所述第二像素区域发射第二光，所述第二光的光发射波长与所述第一光的光发射波长不同；
传感器层，设置在所述显示面板上；以及
光控制层，设置在所述传感器层上，其中，
所述显示面板包括：
发光元件，设置在基础衬底上；以及
无机沉积层，设置在所述发光元件上，包括具有等于或大于1.0的折射率以及等于或大于0.5的光吸收系数的无机材料，并且在平面图中与所述第一像素区域和所述第二像素区域重叠，
所述光控制层包括：
高折射图案，在所述平面图中与所述第一像素区域重叠；以及
外涂层，覆盖所述高折射图案并且在所述平面图中与所述第一像素区域和所述第二像素区域重叠，以及
所述高折射图案的折射率高于所述外涂层的折射率。
8.根据权利要求7所述的显示设备，其特征在于，
所述显示面板还包括发射第三光的第三像素区域，所述第三光具有与所述第一光的所述光发射波长和所述第二光的所述光发射波长不同的光发射波长，以及
所述高折射图案在所述平面图中与所述第一像素区域和所述第三像素区域重叠并且不与所述第二像素区域重叠。
9.显示设备，其特征在于，所述显示设备包括：
显示面板，包括第一像素区域和第二像素区域，所述第一像素区域发射第一光，所述第二像素区域发射第二光，所述第二光的光发射波长与所述第一光的光发射波长不同；
传感器层，设置在所述显示面板上；以及
光控制层，设置在所述传感器层上，其中，
所述显示面板包括：
发光元件，设置在基础衬底上，
所述光控制层包括：
高折射图案，在平面图中与所述第一像素区域重叠，在等于或大于380nm且等于或小于480nm的波长范围内具有等于或小于20％的透光率，并且包括黄色颜料和四氮杂卟啉基化合物中的至少一种；以及
外涂层，覆盖所述高折射图案并且在所述平面图中与所述第一像素区域和所述第二像素区域重叠，以及
所述高折射图案的折射率高于所述外涂层的折射率。
10.根据权利要求9所述的显示设备，其特征在于，所述高折射图案还包括：
基础树脂，其中分散有所述黄色颜料和所述四氮杂卟啉基化合物中的至少一种；以及
金属氧化物纳米颗粒，分散在所述基础树脂中。
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