CN220330245U - 一种用于振镜系统的激光雕刻模组 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种用于振镜系统的激光雕刻模组，包括第一激光二极管和准直聚焦模组；准直聚焦模组包括第一平凸透镜和第二平凸透镜；第一平凸透镜上的第一凸面和第二平凸透镜上的第二凸面相对设置；本实用新型通过设置第一平凸透镜和第二平凸透镜，同时第一平凸透镜上的第一凸面和第二平凸透镜上的第二凸面相对设置；可以实现更好的平衡和稳定性，由于镜片可以相互补偿振动产生的力和扭矩，系统光学畸变小，能量密度提高约2倍。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种激光雕刻模组技术领域，具体涉及一种用于振镜系统的激光雕刻模组。
背景技术
如图1所示，单镜片振镜系统具有简单、紧凑和高速响应的优点，适用于需要快速、准确和可靠的光学调节和控制的应用。它在光学工程、光学仪器和光学设备中得到广泛应用；如图2所示，单镜片振镜系统的光学畸变幅度大。
发明内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供了一种用于振镜系统的激光雕刻模组，以解决上述背景技术中提到的技术问题。
本实用新型用于振镜系统的激光雕刻模组是通过以下技术方案来实现的：包括第一激光二极管和准直聚焦模组；准直聚焦模组包括第一平凸透镜和第二平凸透镜；
第一平凸透镜上的第一凸面和第二平凸透镜上的第二凸面相对设置。
作为优选的技术方案，第一平凸透镜上的平面与激光二极管相对设置。
本实用新型用于振镜系统的激光雕刻模组是通过以下技术方案来实现的：包括第一激光二极管与第二激光二极管以及准直聚焦模组；第一激光二极管与第二激光二极管之间设置有偏振分光镜；
第一平凸透镜上的第一凸面和第二平凸透镜上的第二凸面相对设置。
作为优选的技术方案，偏振分光镜两侧形成第一反射面和第二反射面；第一平凸透镜上的平面与第二反射面呈45度设置。
作为优选的技术方案，第二反射面与第二激光二极管呈45度设置；第一激光二极管与第一反射面呈45度设置；第一激光二极管上安装有半波片。
本实用新型的有益效果是：通过设置第一平凸透镜和第二平凸透镜，同时第一平凸透镜上的第一凸面和第二平凸透镜上的第二凸面相对设置；可以实现更好的平衡和稳定性，由于镜片可以相互补偿振动产生的力和扭矩，系统光学畸变小，能量密度提高约2倍。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术中单镜片的示意图；
图2为现有技术单镜片方案焦点能量分布的示意图；
图3为实施例一：本实用新型用于振镜系统的激光雕刻模组的示意图一；
图4为实施例一：本实用新型用于振镜系统的激光雕刻模组的焦点能量分布示意图；
图5为实施例二：本实用新型用于振镜系统的激光雕刻模组的示意图二。
具体实施方式
本说明书中公开的所有特征，或公开的所有方法或过程中的步骤，除了互相排斥的特征和/或步骤以外，均可以以任何方式组合。
实施例一：
如图3和图4所示，本实用新型的一种用于振镜系统的激光雕刻模组，包括第一激光二极管1和准直聚焦模组2；准直聚焦模组2包括第一平凸透镜3和第二平凸透镜4；
第一平凸透镜3上的第一凸面3-2和第二平凸透镜4上的第二凸面4-2相对设置；第一平凸透镜3上的平面3-1与激光二极管1相对设置。
实施例二：
如图5所示，本实用新型的一种用于振镜系统的激光雕刻模组，包括第一激光二极管1与第二激光二极管5以及准直聚焦模组2；第一激光二极管1与第二激光二极管5之间设置有偏振分光镜6；
第一平凸透镜3上的第一凸面3-2和第二平凸透镜4上的第二凸面4-2相对设置。
本实施例中，偏振分光镜6两侧形成第一反射面100和第二反射面101；第一平凸透镜3上的平面3-1与第二反射面101呈45度设置。
本实施例中，第二反射面101与第二激光二极管5呈45度设置；第一激光二极管1与第一反射面100呈45度设置；第一激光二极管1上安装有半波片7。
实施例一通过设置第一平凸透镜和第二平凸透镜，同时第一平凸透镜上的第一凸面和第二平凸透镜上的第二凸面相对设置；可以实现更好的平衡和稳定性，由于镜片可以相互补偿振动产生的力和扭矩，系统光学畸变小，能量密度提高约2倍；
第一激光二极管出射光束为S偏振，通过半波片后变成P偏振，第二激光二极管出射光束为S偏振，被偏振分光镜反射，两束光由此通过偏振分光镜合成一束，合束后激光通过第一激光二极管准直，再通过第二激光二极管聚焦
实施例二相较于实施例一，使用偏振合束方式实现功率叠加，双镜片光学畸变小，能量密度提高约4倍。
如图1和凸3和凸5所示，现有技术中的平凹透镜采用F40型号，实施例一与实施例二中第一凸面3-2和第二凸面4-2分别采用F47.5型号和F171.5型号；两者光束长度一致的前提下，实施例一和实施例二光学畸变小。
以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何不经过创造性劳动想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。
Claims (5)
1.一种用于振镜系统的激光雕刻模组，其特征在于：包括第一激光二极管(1)和准直聚焦模组(2)；准直聚焦模组(2)包括第一平凸透镜(3)和第二平凸透镜(4)；
第一平凸透镜(3)上的第一凸面(3-2)和第二平凸透镜(4)上的第二凸面(4-2)相对设置。
2.根据权利要求1所述的用于振镜系统的激光雕刻模组，其特征在于：第一平凸透镜(3)上的平面(3-1)与第一激光二极管(1)相对设置。
3.一种用于振镜系统的激光雕刻模组，其特征在于：包括第一激光二极管(1)与第二激光二极管(5)以及准直聚焦模组(2)；第一激光二极管(1)与第二激光二极管(5)之间设置有偏振分光镜(6)；
第一平凸透镜(3)上的第一凸面(3-2)和第二平凸透镜(4)上的第二凸面(4-2)相对设置。
4.根据权利要求3所述的用于振镜系统的激光雕刻模组，其特征在于：偏振分光镜(6)两侧形成第一反射面(100)和第二反射面(101)第一平凸透镜(3)上的平面(3-1)与第二反射面(101)呈45度设置。
5.根据权利要求4所述的用于振镜系统的激光雕刻模组，其特征在于：第二反射面(101)与第二激光二极管(5)呈45度设置；第一激光二极管(1)与第一反射面(100)呈45度设置；第一激光二极管(1)上安装有半波片(7)。
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| CN202321964462.6U CN220330245U (zh) | 2023-07-22 | 2023-07-22 | 一种用于振镜系统的激光雕刻模组 |
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Publications (1)
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2023
- 2023-07-22 CN CN202321964462.6U patent/CN220330245U/zh active Active
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