CN220197282U - 一种轴承圈双面抛光工装 - Google Patents

一种轴承圈双面抛光工装 Download PDF

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肖阳
邱晓霞
姜叔军
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Abstract

本实用新型涉及一种轴承圈双面抛光工装,包括支撑座,所述支撑座通过定位支撑件设置有能够对倒放的轴承圈的端面进行抵靠限位的下支撑环体和上压杆体,其中,所述下支撑环体与上压杆体按照相互平行的方式间隔设置在所述定位支撑件上,所述定位支撑件上还设置有能够对轴承圈的内环面进行抛光的第一控压抛光组件;在所述支撑座上还通过支撑台安装有对轴承圈的外环面进行抛光的第二控压抛光组件,所述第一控压抛光组件和第二控压抛光组件对称设于所述轴承圈的内外两侧,并且至少两个所述第一控压抛光组件、第二控压抛光组件分别按照使轴承圈受力平衡的方式沿所述定位支撑件对称分布。本实用新型能够同期完成轴承圈的内外面抛光。

Description

一种轴承圈双面抛光工装
技术领域
本实用新型涉及轴承构件抛光设备技术领域,尤其涉及一种轴承圈双面抛光工装。
背景技术
轴承是当代机械设备中一种重要零部件。它的主要功能是支撑机械旋转体,降低其运动过程中的摩擦系数,并保证其回转精度。轴承的精度关乎各种机械设备的正常运转,特别是高精度轴承的加工抛光尤为重要。
在实际生产过程中,为了使得轴承能够达到相关的使用标准,通常需要对轴承的内圈和外圈进行抛光,以去除轴承圈表面存在的毛刺等瑕疵,以提升表面的光洁度。目前,在精密轴承抛光方面,大多企业均采用人工抛光方式,生产效率低,对工人的熟练程度要求较高,也有使用机械设备进行抛光,但是抛光过程中的作用力强度存在偏差,极易导致轴承的不同位置抛光精度不同,尤其是在现有轴承抛光时需要进行内外圈双面抛光,而现有抛光设备通常是通过拆卸更换抛光工装的方式分别进行不同表面的抛光,此种加工方式存在安装误差,抛光工作的变动会导致抛光精度不准确,导致轴承生产不合格,并且多次拆装过程,增大了操作人员的负担,使得加工周期变长,加工速度慢而加工效率下降。
此外,一方面由于对本领域技术人员的理解存在差异;另一方面由于实用新型人做出本实用新型时研究了大量文献和专利,但篇幅所限并未详细罗列所有的细节与内容,然而这绝非本实用新型不具备这些现有技术的特征,相反本实用新型已经具备现有技术的所有特征,而且申请人保留在背景技术中增加相关现有技术之权利。
实用新型内容
本实用新型目的在于提供一种能够同期完成轴承圈的内外面抛光并且通过调节抛光面的抵靠压力来限定抛光强度以提升抛光精度的轴承圈双面抛光工装,以解决现有的轴承抛光设备存在单次单面抛光处理而抛光效率低下、时间成本高,抛光面作用强度不可控而抛光精度低,以及针对不同表面的抛光所进行的抛光工位调节而极易导致抛光精度低的问题。
本实用新型所采用的技术方案为:一种轴承圈双面抛光工装,包括支撑座,所述支撑座通过定位支撑件设置有能够对倒放的轴承圈的端面进行抵靠限位的下支撑环体和上压杆体,其中,所述下支撑环体与上压杆体按照相互平行的方式间隔设置在所述定位支撑件上,所述定位支撑件上还设置有能够对轴承圈的内环面进行抛光的第一控压抛光组件;在所述支撑座上还通过支撑台安装有对轴承圈的外环面进行抛光的第二控压抛光组件,所述第一控压抛光组件和第二控压抛光组件对称设于所述轴承圈的内外两侧,并且至少两个所述第一控压抛光组件、第二控压抛光组件分别按照使轴承圈受力平衡的方式沿所述定位支撑件对称分布。
根据一种优选的实施方式,所述第一控压抛光组件包括连接横槽、气囊、抛光插台、第一抛光垫和导气管,其中,所述连接横槽的开口端插设有具有U形腔的所述抛光插台,并且所述连接横槽的槽腔中还设置有能够限定所述抛光插台的插设深度的所述气囊;所述抛光插台远离所述连接横槽的工作面上可拆卸地粘连有所述第一抛光垫;所述气囊通过贯穿连接横槽的槽壁的所述导气管与外接气泵连通;所述气囊抵靠所述抛光插台的表面设置有第一压力监测单元。
根据一种优选的实施方式,所述第二控压抛光组件包括伸缩横轴、定向插杆、弹性限位件、抛光座和第二抛光垫,其中,所述伸缩横轴可拆卸地横置安装在所述支撑台上,并且所述伸缩横轴远离所述支撑台的一端连接有能够部分插入所述抛光座的底面上所开设的定位槽中而限定抛光座的运动方向的所述定向插杆;所述定位槽中设置有能够限定所述定向插杆的插设工位的所述弹性限位件;所述抛光座的工作面还粘连有可更换的所述第二抛光垫;所述抛光座的工作面还镶嵌安装有第二压力监测单元。
根据一种优选的实施方式,所述连接横槽远离所述抛光插台的槽体底部通过所述定位支撑件的定位液压柱与支撑主轴连接,所述支撑主轴支撑在所述支撑座上,并且所述定位液压柱按照其轴线与所述支撑主轴的轴向相垂直的方式安装在所述支撑主轴的侧壁上;所述支撑主轴的轴向上端还设置有调节伸缩杆。
根据一种优选的实施方式,所述上压杆体包括定位板、转动压杆、旋转连杆和旋转连接座,所述定位板套设在所述定位支撑件的支撑主轴上,并且所述调节伸缩杆贯穿所述定位板,所述定位板的中心与所述调节伸缩杆的轴线重合;所述定位板的板体边缘开设有安装所述转动压杆的连接槽,所述转动压杆插入所述连接槽的杆体端部通过转轴与所述定位板的板体转动连接。
根据一种优选的实施方式,所述旋转连杆的一端与所述转动压杆的中段杆体铰接,并且所述旋转连杆远离所述转动压杆的一端与支撑在所述调节伸缩杆的轴向上端面上的所述旋转连接座铰接。
根据一种优选的实施方式,所述抛光座按照其工作面能够与所述轴承圈的外环面相匹配的方式设置为外凸弧面,并且多个所述定位槽按照能够保持所述定向插杆与抛光座之间的稳定性的方式间隔布设在所述抛光座的底面上。
根据一种优选的实施方式,多个所述转动压杆按照周向间隔布设的方式与同一个所述定位板连接,并且所述转动压杆远离所述定位板的一端还设置有能够抵压在轴承圈的顶面的防滑垫体。
根据一种优选的实施方式,所述下支撑环体包括支撑环、套接管和圆板,其中,所述圆板按照共轴线的方式在其板体表面设置所述套接管,并且所述圆板与所述套接管套设在所述支撑主轴上,在所述套接管的侧壁上插设有能够限定其在所述支撑主轴上的位置的定位螺栓,所述圆板上还套设有能够支撑轴承圈的所述支撑环。
根据一种优选的实施方式,所述支撑环的上表面设置有防磨层。
本实用新型的有益效果是:
本申请所设置的下支撑环体和上压杆体能够有效且稳定地限定轴承圈的工作位置,使得轴承圈的内外环面能够在工作过程中受到均匀地作用力,从而使轴承圈能够同步发生不存在晃动且稳定性强的旋转,以使得分别定压抵靠其轴承圈的内环面和外环面上的第一控压抛光组件和第二控压抛光组件能够在轴承圈发生高稳定地绕自身轴线旋转的过程中对轴承圈的表面进行高精度和高均匀度的表面抛光处理,使得抛光后的轴承圈的表面具有高洁净度。本申请将旋转驱动结构和夹持结构进行结合,使得装置的体积减小,并且其夹持稳定性和旋转稳定性得到显著提升。此外,由于第一控压抛光组件和第二控压抛光组件均为可检测且可调节的抵靠结构,使得两者与轴承圈接触位置的作用力大小可控且分布均匀,从而轴承圈在绕自身轴线旋转过程中能够被有效抛光,以使得装置能够对轴承圈进行高精度和高均匀的打磨抛光,避免旋转晃动出现抛光不均以及抛光抵压部位作用力强度不直观而无法受力均匀,从而提升抛光质量。本申请通过控制轴承圈的旋转来实现对其表面的抛光,尤其是能够控制其发生稳定性强的旋转的下支撑环体以及对位设置上压杆体能够有效地对轴承圈进行定位,以使得其夹持结构和限位结构稳定,从而使其运动稳定,以使得其在抛光强度可控的情况下能够获得高精度的抛光处理,以获得具有高洁净面的轴承圈。
附图说明
图1是本实用新型所提出的一种优选的轴承圈双面抛光工装的结构示意图;
图2是本实用新型所提出的一种优选的轴承圈双面抛光工装在拆装轴承圈时的结构示意图;
图3是本实用新型所提出的一种优选的轴承圈双面抛光工装的A部位的结构示意图;
图4是本实用新型所提出的一种优选的轴承圈双面抛光工装的下支撑环体的部位平面示意图。
附图标记列表
1:支撑座;2:定位支撑件;3:下支撑环体;4:上压杆体;5:第一控压抛光组件;6:第二控压抛光组件;7:支撑台;21:支撑主轴;22:定位液压柱;23:调节伸缩杆;24:轴承套筒;31:支撑环;32:套接管;33:圆板;34:定位螺栓;35:旋转电机;36:防磨层;41:定位板;42:转动压杆;43:旋转连杆;44:旋转连接座;45:防滑垫体;51:连接横槽;52:气囊;53:抛光插台;54:第一抛光垫;55:导气管;56:第一压力监测单元;57:外接气泵;61:伸缩横轴;62:定向插杆;63:弹性限位件;64:抛光座;65:第二抛光垫;66:第二压力监测单元;411:连接槽;412:转轴;641:定位槽。
具体实施方式
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将结合附图和实施例或现有技术的描述对本实用新型作简单地介绍,显而易见地,下面关于附图结构的描述仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
以下将参照附图,通过实施例方式详细地描述本实用新型提供的技术方案。在此需要说明的是,对于这些实施例方式的说明用于帮助理解本实用新型,但并不构成对本实用新型的限定。在一些例子中,由于一些实施方式属于现有或常规技术,因此并没有描述或没有详细的描述。
此外,本文中记载的技术特征,或公开的所有方法或过程中的步骤,除了互相排斥的特征和/或步骤以外,还可以在一个或多个实施例中以任意合适的方式组合。对于本领域的技术人员来说,易于理解与本文提供的实施例有关的方法的步骤或操作顺序还可以改变。附图和实施例中的任何顺序仅仅用于说明用途,并不暗示要求按照一定的顺序,除非明确说明要求按照某一顺序。
本文中为部件所编序号本身,例如“第一”、“第二”等,仅用于区分所描述的对象,不具有任何顺序或技术含义。而本申请所说“连接”、“联接”,在合理情况下(不构成自相矛盾的情况下),均包括直接和间接连接(联接)。
下面结合附图进行详细说明。
实施例1
本申请提供一种轴承圈双面抛光工装,其包括支撑座1、定位支撑件2、下支撑环体3、上压杆体4、第一控压抛光组件5、第二控压抛光组件6和支撑台7。
根据图1、2和3示出的一种具体的实施方式,支撑座1通过定位支撑件2设置有能够对倒放的轴承圈的端面进行抵靠限位的下支撑环体3和上压杆体4。下支撑环体3与上压杆体4按照相互平行的方式间隔设置在定位支撑件2上。下支撑环体3和上压杆体4所限定的两个平面之间安置待加工的轴承圈,上压杆体4能够将轴承圈抵压在下支撑环体3上。在定位支撑件2上还设置有能够对轴承圈的内环面进行抛光的第一控压抛光组件5。在支撑座1上还通过支撑台7安装有对轴承圈的外环面进行抛光的第二控压抛光组件6。第一控压抛光组件5和第二控压抛光组件6对称设于轴承圈的内外两侧,并且至少两个第一控压抛光组件5、第二控压抛光组件6分别按照使轴承圈受力平衡的方式沿定位支撑件2对称分布。本申请所设置的下支撑环体3和上压杆体4能够有效且稳定地限定轴承圈的工作位置,使得轴承圈的内外环面能够在工作过程中受到均匀地作用力,从而使轴承圈能够同步发生不存在晃动且稳定性强的旋转,以使得分别定压抵靠其轴承圈的内环面和外环面上的第一控压抛光组件5和第二控压抛光组件6能够在轴承圈发生高稳定地绕自身轴线旋转的过程中对轴承圈的表面进行高精度和高均匀度的表面抛光处理,使得抛光后的轴承圈的表面具有高洁净度。本申请将旋转驱动结构和夹持结构进行结合,使得装置的体积减小,并且其夹持稳定性和旋转稳定性得到显著提升。此外,由于第一控压抛光组件5和第二控压抛光组件6均为可检测且可调节的抵靠结构,使得两者与轴承圈接触位置的作用力大小可控且分布均匀,从而轴承圈在绕自身轴线旋转过程中能够被有效抛光,以使得装置能够对轴承圈进行高精度和高均匀的打磨抛光,避免旋转晃动出现抛光不均以及抛光抵压部位作用力强度不直观而无法受力均匀,从而提升抛光质量。
优选地,定位支撑件2包括支撑主轴21、定位液压柱22和调节伸缩杆23。优选地,支撑主轴21支撑在支撑座1上,并且定位液压柱22按照其轴线与支撑主轴21的轴向相垂直的方式安装在支撑主轴21的侧壁上。进一步优选地,支撑主轴21的轴向上端还设置有调节伸缩杆23。
如图4所示,下支撑环体3包括支撑环31、套接管32和圆板33。优选地,圆板33按照共轴线的方式在其板体表面设置套接管32。进一步优选地,圆板33与套接管32按照能够进行轴向高度调节的方式套设在支撑主轴21上。优选的,支撑主轴21上设置有轴承套筒24,圆板33的面心位置开设有贯穿式的通孔,以将固定连接在一起的圆板33和套接管32套接至支撑主轴21外壁上所套接的轴承套筒24上,以使得限定安装高度的圆板33能够绕竖向轴线进行旋转。优选地,在套接管32的侧壁上插设有能够限定其在支撑主轴21上的位置的定位螺栓34。在套接管32和圆板33移动至特定高度时,通过调节定位螺栓34的旋拧深度来限定套接管32在支撑主轴21上的位置,从而圆板33的安装高度被限定。优选地,圆板33上还套设有能够支撑轴承圈的支撑环31。具体地,支撑环31为矩形条体弯折所形成圆环体,其能够用于支撑待抛光加工的轴承圈。优选地,支撑环31的上表面设置有防磨层36。进一步优选地,防磨层36可以是避免摩擦划伤的XR-S涂层,以使得放置在其上表面的轴承圈不会在出现相对移动时划伤,并且还能够提升两者之间的摩擦力,以保证放置位置的固定,使得轴承圈能够在抛光过程中均匀受力,使得其表面的不同区域的抛光精度得到提升。优选地,支撑环31的径向外侧面上还设置有齿口,以使得其能够与旋转电机35的输出端所设置的齿轮啮合,从而在旋转电机35的驱动下发生同步旋转。进一步优选地,下支撑环体3能够带动轴承圈以及上压杆体4发生旋转,以使得被限定位置的第一控压抛光组件5和第二控压抛光组件6能够对绕中轴线旋转的轴承圈的内外环面进行同步抛光。本申请通过控制轴承圈的旋转来实现对其表面的抛光,尤其是能够控制其发生稳定性强的旋转的下支撑环体3以及对位设置上压杆体4能够有效地对轴承圈进行定位,以使得其夹持结构和限位结构稳定,从而使其运动稳定,以使得其在抛光强度可控的情况下能够获得高精度的抛光处理,以获得具有高洁净面的轴承圈。
优选地,上压杆体4包括定位板41、转动压杆42、旋转连杆43和旋转连接座44。优选地,定位板41旋转套设在定位支撑件2的支撑主轴21上。具体地,调节伸缩杆23贯穿定位板41,定位板41的中心与调节伸缩杆23的轴线重合。进一步优选地,定位板41的板体边缘开设有安装转动压杆42的连接槽411。转动压杆42插入连接槽411的杆体端部通过转轴412与定位板41的板体转动连接。优选地,旋转连杆43的一端与转动压杆42的中段杆体铰接。进一步优选地,旋转连杆43远离转动压杆42的另一个杆体端部与支撑在调节伸缩杆23的轴向上端面上的旋转连接座44铰接,从而使其能够跟随调节伸缩杆23在轴向上的伸缩能够带动旋转连杆43偏转,以带动转动压杆42绕其与定位板41的连接位置转动。优选地,调节伸缩杆23是能够跟随定位板41绕轴线进行旋转的。优选地,多个转动压杆42按照周向间隔布设的方式与同一个定位板41连接。进一步优选地,转动压杆42远离定位板41的一端还设置有能够抵压在轴承圈的顶面的防滑垫体45。本申请的转动压杆42能够跟随旋转连杆43发生旋转以解除对轴承圈的上表面的限位下压作用力,通过转动收束后的转动压杆42与竖向轴线夹角变小,从而方便将轴承圈穿过上压杆体4的进行取放,从而实现轴承圈的装载。此外,多个周向间隔布设的转动压杆42是能够多轴承圈进行多点位固定,从而保证下压定位的稳定性。多个转动压杆42能够跟随同一个旋转连接座44的升降发生收束和扩展运动的,从而实现装置的调节便捷性,降低装置的操作难度,从而方便操作人员快速地进行轴承圈的拆装。
优选地,第一控压抛光组件5包括连接横槽51、气囊52、抛光插台53、第一抛光垫54和导气管55。优选地,连接横槽51的开口端插设有具有U形腔的抛光插台53。进一步优选地,连接横槽51的槽腔中还设置有能够限定抛光插台53的插设深度的气囊52,以限定自连接横槽51的槽腔中延伸至外部的抛光插台53的抵靠压力。优选地,在抛光插台53远离连接横槽51的工作面上可拆卸地粘连有第一抛光垫54。优选地,气囊52通过贯穿连接横槽51的槽壁的导气管55与外接气泵57连通。优选地,气囊52抵靠抛光插台53的表面设置有第一压力监测单元56。优选地,第一压力监测单元56为压力传感器,其能够监测气囊52与抛光插台53直接的挤压力,从而实现抛光插台53抵靠在轴承圈的内环面上的作用力大小。优选地,连接横槽51远离抛光插台53的槽体底部通过定位支撑件2的定位液压柱22与支撑主轴21连接。
优选地,第二控压抛光组件6包括伸缩横轴61、定向插杆62、弹性限位件63、抛光座64和第二抛光垫65。优选地,伸缩横轴61可拆卸地横置安装在支撑台7上。进一步优选地,伸缩横轴61远离支撑台7的一端连接有能够部分插入抛光座64的底面上所开设的定位槽641中而限定抛光座64的运动方向的定向插杆62。优选地,在定位槽641中设置有能够限定定向插杆62的插设工位的弹性限位件63。抛光座64的工作面还粘连有可更换的第二抛光垫65。优选地,抛光座64的工作面还镶嵌安装有第二压力监测单元66。具体地,优选地,第二压力监测单元66为压力传感器,其能够监测抛光座64抵靠在轴承圈的外环面上时两者之间的相互作用力大小,从而通过调节抵靠压力的方式来改变抛光强度,从而保证抛光精度和洁净度。进一步优选地,抛光座64按照其工作面能够与轴承圈的外环面相匹配的方式设置为外凸弧面,并且多个定位槽641按照能够保持定向插杆62与抛光座64之间的稳定性的方式间隔布设在抛光座64的底面上。
本实用新型不局限于上述可选实施方式,任何人在本实用新型的启示下都可得出其他各种形式的产品,但不论在其形状或结构上作任何变化,凡是落入本实用新型权利要求界定范围内的技术方案,均落在本实用新型的保护范围之内。本领域技术人员应该明白,本实用新型说明书及其附图均为说明性而并非构成对权利要求的限制。本实用新型的保护范围由权利要求及其等同物限定。在全文中,“优选地”所引导的特征仅为一种可选方式,不应理解为必须设置,故此申请人保留随时放弃或删除相关优选特征之权利。

Claims (10)

1.一种轴承圈双面抛光工装,包括支撑座(1),其特征在于,所述支撑座(1)通过定位支撑件(2)设置有能够对倒放的轴承圈的端面进行抵靠限位的下支撑环体(3)和上压杆体(4),其中,所述下支撑环体(3)与上压杆体(4)按照相互平行的方式间隔设置在所述定位支撑件(2)上,
所述定位支撑件(2)上还设置有能够对轴承圈的内环面进行抛光的第一控压抛光组件(5);
在所述支撑座(1)上还通过支撑台(7)安装有对轴承圈的外环面进行抛光的第二控压抛光组件(6),所述第一控压抛光组件(5)和第二控压抛光组件(6)对称设于所述轴承圈的内外两侧,并且至少两个所述第一控压抛光组件(5)、第二控压抛光组件(6)分别按照使轴承圈受力平衡的方式沿所述定位支撑件(2)对称分布。
2.如权利要求1所述的轴承圈双面抛光工装,其特征在于,所述第一控压抛光组件(5)包括连接横槽(51)、气囊(52)、抛光插台(53)、第一抛光垫(54)和导气管(55),其中,
所述连接横槽(51)的开口端插设有具有U形腔的所述抛光插台(53),并且所述连接横槽(51)的槽腔中还设置有能够限定所述抛光插台(53)的插设深度的所述气囊(52);
所述抛光插台(53)远离所述连接横槽(51)的工作面上可拆卸地粘连有所述第一抛光垫(54);
所述气囊(52)通过贯穿连接横槽(51)的槽壁的所述导气管(55)与外接气泵(57)连通;
所述气囊(52)抵靠所述抛光插台(53)的表面设置有第一压力监测单元(56)。
3.如权利要求2所述的轴承圈双面抛光工装,其特征在于,所述第二控压抛光组件(6)包括伸缩横轴(61)、定向插杆(62)、弹性限位件(63)、抛光座(64)和第二抛光垫(65),其中,
所述伸缩横轴(61)可拆卸地横置安装在所述支撑台(7)上,并且所述伸缩横轴(61)远离所述支撑台(7)的一端连接有能够部分插入所述抛光座(64)的底面上所开设的定位槽(641)中而限定抛光座(64)的运动方向的所述定向插杆(62);
所述定位槽(641)中设置有能够限定所述定向插杆(62)的插设工位的所述弹性限位件(63);
所述抛光座(64)的工作面还粘连有可更换的所述第二抛光垫(65);
所述抛光座(64)的工作面还镶嵌安装有第二压力监测单元(66)。
4.如权利要求3所述的轴承圈双面抛光工装,其特征在于,所述连接横槽(51)远离所述抛光插台(53)的槽体底部通过所述定位支撑件(2)的定位液压柱(22)与支撑主轴(21)连接,
所述支撑主轴(21)支撑在所述支撑座(1)上,并且所述定位液压柱(22)按照其轴线与所述支撑主轴(21)的轴向相垂直的方式安装在所述支撑主轴(21)的侧壁上;
所述支撑主轴(21)的轴向上端还设置有调节伸缩杆(23)。
5.如权利要求4所述的轴承圈双面抛光工装,其特征在于,所述上压杆体(4)包括定位板(41)、转动压杆(42)、旋转连杆(43)和旋转连接座(44),
所述定位板(41)套设在所述定位支撑件(2)的支撑主轴(21)上,并且所述调节伸缩杆(23)贯穿所述定位板(41),所述定位板(41)的中心与所述调节伸缩杆(23)的轴线重合;
所述定位板(41)的板体边缘开设有安装所述转动压杆(42)的连接槽(411),所述转动压杆(42)插入所述连接槽(411)的杆体端部通过转轴(412)与所述定位板(41)的板体转动连接。
6.如权利要求5所述的轴承圈双面抛光工装,其特征在于,所述旋转连杆(43)的一端与所述转动压杆(42)的中段杆体铰接,并且所述旋转连杆(43)远离所述转动压杆(42)的一端与支撑在所述调节伸缩杆(23)的轴向上端面上的所述旋转连接座(44)铰接。
7.如权利要求6所述的轴承圈双面抛光工装,其特征在于,所述抛光座(64)按照其工作面能够与所述轴承圈的外环面相匹配的方式设置为外凸弧面,并且多个所述定位槽(641)按照能够保持所述定向插杆(62)与抛光座(64)之间的稳定性的方式间隔布设在所述抛光座(64)的底面上。
8.如权利要求7所述的轴承圈双面抛光工装,其特征在于,多个所述转动压杆(42)按照周向间隔布设的方式与同一个所述定位板(41)连接,并且所述转动压杆(42)远离所述定位板(41)的一端还设置有能够抵压在轴承圈的顶面的防滑垫体(45)。
9.如权利要求8所述的轴承圈双面抛光工装,其特征在于,所述下支撑环体(3)包括支撑环(31)、套接管(32)和圆板(33),其中,
所述圆板(33)按照共轴线的方式在其板体表面设置所述套接管(32),并且所述圆板(33)与所述套接管(32)套设在所述支撑主轴(21)上,在所述套接管(32)的侧壁上插设有能够限定其在所述支撑主轴(21)上的位置的定位螺栓(34),所述圆板(33)上还套设有能够支撑轴承圈的所述支撑环(31)。
10.如权利要求9所述的轴承圈双面抛光工装,其特征在于,所述支撑环(31)的上表面设置有防磨层(36)。
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